KR20080007558A - 이미지화된 정규 패턴의 밴딩을 보정하기 위한 방법 및장치 - Google Patents

이미지화된 정규 패턴의 밴딩을 보정하기 위한 방법 및장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20080007558A
KR20080007558A KR1020077023610A KR20077023610A KR20080007558A KR 20080007558 A KR20080007558 A KR 20080007558A KR 1020077023610 A KR1020077023610 A KR 1020077023610A KR 20077023610 A KR20077023610 A KR 20077023610A KR 20080007558 A KR20080007558 A KR 20080007558A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
sub
features
imaging
imaged
color
Prior art date
Application number
KR1020077023610A
Other languages
English (en)
Inventor
발렌틴 카라시우크
해리 알. 즈윅커
윌슨 디. 청
조나단 브이. 카스파
시나 아프루제
Original Assignee
코닥 그래픽 커뮤니케이션즈 캐나다 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코닥 그래픽 커뮤니케이션즈 캐나다 캄파니 filed Critical 코닥 그래픽 커뮤니케이션즈 캐나다 캄파니
Publication of KR20080007558A publication Critical patent/KR20080007558A/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/40—Picture signal circuits
    • H04N1/401—Compensating positionally unequal response of the pick-up or reproducing head
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/024—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
    • H04N1/028—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
    • H04N1/02815—Means for illuminating the original, not specific to a particular type of pick-up head
    • H04N1/0288—Means for illuminating the original, not specific to a particular type of pick-up head using a two-dimensional light source, e.g. two-dimensional LED array
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/40—Picture signal circuits
    • H04N1/407—Control or modification of tonal gradation or of extreme levels, e.g. background level
    • H04N1/4076—Control or modification of tonal gradation or of extreme levels, e.g. background level dependent on references outside the picture
    • H04N1/4078—Control or modification of tonal gradation or of extreme levels, e.g. background level dependent on references outside the picture using gradational references, e.g. grey-scale test pattern analysis
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • H04N25/67—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response
    • H04N25/671—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response for non-uniformity detection or correction
    • H04N25/672—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response for non-uniformity detection or correction between adjacent sensors or output registers for reading a single image

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

다중-채널 이미지화 헤드는 소정의 정규 패턴에 따라 보정되어 정규 패턴의 이미지화 동안에 스와쓰-대-스와쓰 및 인터-스와쓰 변화를 최소화한다. 이미지화 헤드의 이미지화 파라메터는 소정의 정규 패턴에 따라 최적화된다.
이미지화된 정규 패턴, 다중 채널 이미지화 헤드, 스와쓰, 광학 특성

Description

이미지화된 정규 패턴의 밴딩을 보정하기 위한 방법 및 장치{Method and apparatus for correcting banding of imaged regular patterns}
관련 출원의 교차 참조
본 출원은 본원에서 참조문헌으로 삽입된, 2005년 4월 6일자로 출원된 미국 특허원 제60/668,799호의 우선권을 주장한다. 미국에 있어서, 본 특허원은 35 U.S.C. §119하의 미국 특허원 60/668,799호의 이익을 청구한다.
기술분야
본 발명은 이미지화 시스템 및 정규 패턴의 이미지화로부터 수득되는 밴딩을 평가 및 보정하는 방법에 관한 것이다.
디스플레이 및 반도체 전자 장치를 제작하는 일반적인 기술은 수 개의 이미지화 단계들을 포함한다. 전형적으로, 각각의 단계에서, 내식막 또는 기타 감광성 물질로 피복된 기판은 광-도구 마스크(Pphoto-tool mask)를 통해 방사선에 노출시켜 일부 변화가 일어나도록 한다. 각각의 단계는 한정된 실패 위험을 지닌다. 각 단계에서의 실패 가능성은 전체 공정 수율을 저하시키고 가공된 제품의 비용을 증가시킨다.
구체적인 예는 액정 디스플레이와 같은 평판 디스플레이를 위한 컬러 필터의 제작이다. 컬러 필터 제작은 고가의 재료 및 낮은 공정 수율 때문에 매우 고가의 공정일 수 있다. 전통적인 석판인쇄술적 공정은 스핀-코팅(spin-coating), 슬릿(slit) 및 스핀 또는 무-스핀 코팅과 같은 코팅 기술을 사용하여 컬러 내식막 물질을 기판에 도포함을 포함한다. 이 물질은 이후에 광-도구 마스크를 통해 노출되고 현상된다.
디스플레이 및 특히 컬러 필터의 제작에 사용하기 위한 직접 이미지화가 제안되어 왔다. 염료-수용성 소자(dye-receiving element)로도 공지된 컬러 필터 기판은 염료 공여체 소자(dye donor element)로 오버레이(overlay)된다. 염료 공여체 소자는 이미지 방식으로 가열되어 공여체 소자로부터의 염료를 수용성 소자로 선택적으로 이동시킨다. 이미지 방식의 가열은 전형적으로 레이저 비임을 사용하여 수행한다. 다이오드 레이저가 조작의 용이성, 저비용 및 작은 크기 때문에 특히 바람직하다.
"염료 이동" 공정은 특별한 유형의 "열 이동" 공정이다. 기타 열 이동 공정은 레이저-유도된 용융 이동, 레이저-유도된 에이블레이션 이동(ablation transfer), 및 레이저-유도된 질량 이동을 포함한다. 용어 "열 이동 공정"은 염료의 이미지 방식 이동에 제한되지 않는다. 본원에 사용된 바와 같은, 용어 "열 이동 공정"은 안료 또는 기타 착색제 조성물로 코팅된 이미지 방식 이동을 포함한다.
직접 이미지화 시스템은 전형적으로 완전한 이미지를 취하기 위한 시간을 절감하기 위해 개개의 변조된 비임 수백개를 사용한다. 다수의 이러한 "채널"을 사용하는 이미지화 헤드는 쉽게 입수할 수 있다. 예를 들면, 캐나다 브리티쉬 컬럼 비아 소재의 코닥 그래픽 커뮤니케이션즈 캐나다 캄파니(Kodak Graphic Communications Canada Company)에서 제조한 SQUAREspot
Figure 112007073646759-PCT00001
열 이미지화 헤드의 한 가지 모델은, 각각 25 mW 초과의 전력을 갖는 960개의 독립적인 이미지화 채널을 갖는다. 이미지화 채널의 배열은, 이미지가 근접하게 접하여 연속 이미지를 형성하는 일련의 스와쓰(swath)로 기록되도록 조절할 수 있다.
다중 채널 이미지화 시스템이 갖는 한 가지 문제점은, 모든 채널이 동일한 이미지화 특성을 지니도록 하는 것이 매우 힘들다는 점이다. 채널들 중에서 상이한 이미지화 특성들은, 채널이 이미지화된 매체에 투영되는 출력 방사선에서의 차이로부터 수득될 수 있다. 이미지화 채널에 의해 방출된 출력 방사선의 변화는 전력, 비임 크기, 비임 형상 및/또는 초점에서의 채널-대-채널 변화로부터 기원할 수 있다. 이들 변화는 밴딩(banding)으로 공지된 일반적인 이미지화 아티팩트(artifact)에 기여한다. 밴딩은 종종 2개의 연속적인 이미지화 스와쓰들 사이의 영역에서 특히 현저하다. 이는 주로 최종 이미지화된 스와쓰의 말단과 다음의 이미지화된 스와쓰의 시작이 대개 다중-채널 배열(multi-channel array)의 반대편 말단들에서 채널에 의해 판독되기 때문이다. 채널로부터 채널로의 스폿(spot) 크기의 점진적 증가는 스와쓰 자체 내에서 가시적이거나 가시적이 아닐 수 있지만, 스와쓰가 또 다른 스와쓰와 함께 근접하는 경우, 스와쓰 경계에서의 스폿 크기의 불연속성은 이미지에 있어서 현저한 아티팩트를 생성할 수 있다. 밴딩은 연속적인 스와쓰의 특정한 중첩 또는 분리의 기능일 수 있을 뿐 아니라 각각의 스와쓰 내의 채널 변수일 수도 있다.
정확한 스와쓰 위치조정은 밴딩을 이동시키기 위해 필요하지만, 그 자체로는 밴딩을 완전히 제거할 수 없다. 따라서, 스와쓰 자체 내에 채널을 조정함으로써 밴딩의 나머지 수준을 감소시키거나 마스킹할 필요가 있다. 이는 배열 내의 채널의 주의깊은 정렬(alignment) 및 보정(calibration)을 필요로 한다. 당업자는 고유한 채널-대-채널 차이를 최소화시키기 위한 이미지화 배열에 있어서 모든 채널을 가로질러 균일한 전력 분포를 설정하기 위한 시도를 할 수 있다. 그러나, 앞에서 언급한 기타 기여사항들(예: 비임 크기, 비임 형태, 및 초점)의 역할 때문에, 배열의 이미지화 채널을 가로지르는 전력 분균일성은 감소된 밴딩을 보장하지 않는다.
밴딩은 이미지화 시스템에 단독으로 기여할 수 있는 것은 아니다. 이미지화된 매체는 또한 밴딩에 기여할 수 있다. 밴딩을 평가하는 각종 방법은 이미지화된 매체의 검사 또는 특성화를 포함한다.
열 이동 공정이 컬러 필터의 제조에 적용되는 경우 수 개의 문제점들이 발생할 수 있다. 일부 일반적인 컬러 필터는 이격된 컬러 소자 라인의 반복 패턴을 갖는다. 이러한 라인 각각은 1 내지 3개의 컬러에 상응한다. 각각의 라인은 전형적으로 너비가 이미지화 헤드에 의해 이미지화된 스와쓰 보다 더 작다. 결과적으로, 인터-스와쓰 밴딩(inter-swath banding)이 수득될 수 있으며, 여기서 가변성 컬러 이동 효율은 컬러 소자 라인들 중의 상이한 것들 상이의 변화를 유발한다. 당해 라인이 반복 패턴을 형성하기 때문에, 사람 눈으로 쉽게 감지할 수 있는 육안 비팅(visual beating)이 발생하여, 결과적으로 컬러 필터의 품질을 감소시킨다.
일부 선행기술의 다중-채널 이미지화 시스템은 배열에서의 이미지화 채널 모 두에 의해 방사된 출력 방사선에서의 불균일성을 창출하거나, 또는 대안적으로, 배열에서의 이미지화 채널 모두에 의해 이미지화된 이미지에서의 스와쓰의 전체 너비를 가로지르는 광학 특성에서의 불균일성을 창출하기 위해 시도하는 보정 방법을 사용하였다. 본 발명자들은 전형적으로, 이러한 보정 방법이, 각각의 특징(feature)들이 너비에 있어서 이미지화된 스와쓰의 너비 보다 더 작기 때문에 인터-스와쓰 밴딩이 존재하는 반복 패턴을 이미지화하기에 매우 적합하지 않은 것으로 판단하였다.
이미지화 분야의 특허 및 특허 출원은 다음을 포함한다:
Figure 112007073646759-PCT00002
US 4,965,242 (De Boer 등);
Figure 112007073646759-PCT00003
US 4,804,975 (Yip);
Figure 112007073646759-PCT00004
US 6,146,792 (Blanchard-Fincher 등);
Figure 112007073646759-PCT00005
EP 434,449 (Sprague 등);
Figure 112007073646759-PCT00006
US 6,832,552 (Patten 등);
Figure 112007073646759-PCT00007
US 5,546,165 (Rushing 등);
Figure 112007073646759-PCT00008
US 6,618,158 (Brown 등); 및
Figure 112007073646759-PCT00009
US 5,278,578 (Back 등).
특히 컬러 필터에 의해 요구되는 것과 같은 정규 패턴의 이미지화에서, 스와쓰-대-스와쓰 및 인터-스와쓰 밴딩의 가시성을 감소시키는 이미지화 방법에 대한 필요성이 잔존한다.
발명의 요약
본 발명의 한 가지 양태는 다중-채널 이미지화 헤드를 보정하는 방법 및 장치를 제공한다. 본 발명의 양태에 따르는 방법에서, 다중 채널 이미지화 헤드를 사용하여 특징의 정규 패턴을 이미지화 헤드에 의해 이미지화된 하나 이상의 스와쓰 내에 이미지화한다. 특징의 정규 패턴은 적어도 부-스캔 방향으로 반복하며, 다중 이미지화 채널의 제1 부분에 의해 이미지화되는 하나 이상의 제1 특징, 및 다중 이미지하 채널의 제2 부분에 의해 이미지화되는 제2 특징을 포함한다. 제1 특징과 제2 특징 둘 다는 하나 이상의 스와쓰의 동일한 스와쓰 내에서 이미지화된다. 스캐너는 제1 특징 및 제2 특징 각각의 광학 특성을 결정한다. 이미지 데이타 프로세서는 이러한 스캔된 데이타를 분석하며 적어도 부분적으로 광학 특성을 기준으로 한 교정 지시(correction instruction)을 제공한다. 이러한 교정 지시사항은 하나 이상의 이미지화 채널을, 제1 특징 각각 및 적어도 제2 특징과 관련된 광학 특성이 특징들의 정규 패턴을 후속적으로 이미지화하는 경우 실질적으로 동일게 하도록 하는 다수의 이미지화 채널의 제1 부분 및 다수의 이미지화 채널의 제2 부분 중의 하나 이상 내에 조정하기 위해 사용된다.
본 발명의 비제한적 양태는 첨부한 도면을 참조로 하여 하기에 기술한다:
도 1A는 선행기술의 컬러 필터 형태의 일부의 평면도이다.
도 1B는 또 다른 선행기술의 컬러 필터 형태의 일부의 평면도이다.
도 2는 선행기술의 다중 채널 이미지화 헤드의 광학 시스템의 사시도이다.
도 3은 기판을 이미지화하고 선행기술의 이미지화 방법을 설명하는 것과 관련하여 나타낸 광 밸브의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 실시예 양태에 따르는 이미지화 및 보정 시스템의 개략적 블록 다이아그램이다.
도 5는 본 발명의 실시예 양태에 따르는 이미지화 및 보정 방법의 순서를 나타내는 유동 다이아그램이다.
도 6은 스캔된 컬러 필터의 부분을 나타낸다.
도 7은 도 6의 컬러 필터의 적색 특징에 상응하는 분리된 스캔된 데이타를 나타낸다.
도 8은 이미지의 m번째 부-스캔 라인 공간 전력 스펙트럼(m-th sub-scan line spatial power spectrum)이다.
도 9A는 스캔 라인의 함수로서 필요한 축의 그래프이다.
도 9B는 도 9A의 그래프의 부분의 상세한 도면이다.
도 10A는 변환(shift)을 적용하기 전의 첫번째 및 M번째 부-스캔 라인에 대한 부-스캔 화소 지수의 함수로서의 스캔된 신호 수준의 그래프이다.
도 10B는 변환을 적용하기 전의 첫번째 및 M번째 부-스캔 라인에 대한 부-스캔 화소 지수의 함수로서의 변환되고 스캔된 신호 수준의 그래프이다.
도 11은 주-스캔 평균화된 라인 프로파일(profile)의 그래프이다.
도 12는 도 11의 그래프의 확대 부분이다.
도 13은 이미지화된 스와쓰의 서명 소자(signature element)의 특징 지수(feature index)의 함수로서의 평균 응답(average response)의 그래프이다.
설명
다중-채널 이미지화기(multi-channel imager)를 사용하여, 스트라이프(stripe), 블록 등과 같은 반복 특징으로 이루어진 패턴을 이미지화하는 방법 및 장치는 개개의 채널을 조정하여 밴딩을 감소시킬 수 있다. 이러한 방법 및 장치는, 예를 들면, 컬러 필터의 제작에 적용할 수 있다. 이 채널들은 이미지화된 패턴의 광학 특성을 기준으로 하여 조정된다.
LCD 디스플레이 패널용 컬러 필터는 다수의 형상들 중의 어느 하나로 배열될 수 있는 컬러 소자를 갖는다. 스트라이프 형상은 적색, 녹색 및 청색의 교호 컬럼을 갖는다. 모자이크 형상(mosaic configuration)은, 양 방향으로 교호하는 컬러 소자를 갖는다. 델타 형상은 삼각형 패턴으로 배열되는 적색, 녹색 및 청색 필터 소자를 갖는다.
도 1A는 스트라이프 형상 컬러 필터(10)의 부분을 나타낸다. 컬러 필터(10)는 기판(18)에 교호 컬럼으로 형성된 다수의 적색, 녹색 및 청색 소자(12), (14) 및 (16)를 포함한다. 컬러 소자(12), (14), (16)는 검정색 매트릭스 층(black matrix alyer; 20)의 부분으로 윤곽을 지으며, 이는 소자들을 분리하고 어떠한 백라이트도 소자들 사이에서 누출되는 것을 방지한다. 이 컬럼들은 신장된 스트라이프에서 공동으로 이미지화된 다음, 검정색 매트릭스(20)에 의해 개개의 컬러 소 자(12), (14), (16)로 세분된다. 검정색 매트릭스(20)는 구동 트랜지스터(나타내지 않았음)를 마스킹하기 위한 영역(22)을 포함할 수 있다.
도 1B는 모자이크 형상을 갖는 컬러 필터(24)를 나타낸다. 필터(10)과 필터(24) 사이의 유일한 차이는 컬러 소자(12), (14) 및 (16)의 레이아웃(layout)이며, 이들은 필터(24)에서의 컬럼들을 가로질러서 뿐만 아니라 컬럼 하부의 색상에서도 교호적이다. 컬러 필터는 적색, 녹색 및 청색으로 제한되지는 않는다. 컬러 필터는 또한 기타 색상 조합을 지닐 수 있다.
전형적으로, 컬러 필터(10)의 제조 동안에, 각각의 컬러 소자(12), (14), (16)은 각각의 컬러 소자의 윤곽을 나타내는 검정색 매트릭스(20)의 각각의 부분들과 부분적으로 또는 완전히 중첩될 수 있다. 검정색 매트릭스와의 중첩을 허용하면, 색상 소자를 정확히 묘사하는 검정색 매트릭스(20)의 부분들의 정확히 경계 내에 각각의 컬러 소자를 이미지화하도록 하는 경우 직면하게 되는 등록 이슈(registration issue)를 상당히 감소시킨다.
열 이동 공정을 사용하여 컬러 소자를 제조하는 경우, 상응하는 컬러 공여체가 후-이미지화(post-imaging) 후에 제거되는 경우 에지 불연속성 및, 핀홀과 같은 각종 아티팩트가 발생할 수 있다. 에지에서 이동된 공여체 물질이 컬러 공여체가 박리되는 경우 접수 소자에 부착되어 잔류하기에 충분한 접착성 발리 강도가 결핍되는 경우 이러한 아티팩트가 전형적으로 발생한다. 검정색 매트릭스(20)을 중첩시키면 이러한 에지 불연속성을 숨기는 추가의 이점을 가지며, 각각의 컬러 소자들 사이의 목적하는 콘트라스트가 컬러 소자들 자체내의 클리어 영역(clear area) 및 보이드(void)의 발생을 감소시킴으로써 보장되도록 보장하는 것을 돕는다.
본 발명의 양태에서, 컬러 필터는 레이저-유도된 열 이동 공정에 의해 제작된다. 이 공정은 수용체 기판(receiver substrate)과 근접하게 접촉되어 위치한 컬러 수용체 소자를 직접 이미지화함을 포함한다. 이 수용체 기판은 전형적으로 이에 형성된 검정색 매트릭스를 갖는다. 검정색 매트릭스는 열 이동 공정에 의해 자체로 제조될 수 있지만, 이는 전형적으로 검정색 매트릭스 내에 어떠한 에지 가공품 및 불연속성도 피할 뿐만 아니라 필요한 정확도도 제공할 수 있는 석판인쇄술적 기술에 의해 형성된다. 착색제는 다중-채널 광-밸브-계 이미지화 시스템을 사용하여 기판 위로 이미지 방식으로 이동된다.
필터의 적색, 녹색 및 청색 부분은 별도의 단계로 이미지화된다. 각각의 이미지화 단계는 선행 컬러 공여체를 이미지화되는 다음 컬러 공여체로 대체시킴을 포함한다. 필터의 각각의 적색, 녹색 및 청색 부분은 수용체 기판으로 이동되어, 각각의 컬러 부분이 각각의 컬러 소자들을 묘사하는 검정색 매트릭스의 각각의 부분으로 등록되도록 한다. 모든 컬러 소자들이 기판으로 이동된 후에, 컬러 필터는 전형적으로 이동된 컬러 필터 소자를 경화시키기 위한 추가의 어닐링 단계(annealing step)를 수행한다.
도 2는 선행기술의 광-밸브-계 이미지화 헤드를 나타낸다. 다수의 변형 가능한 미러 소자(mirror element; 101)를 포함하는 선형 광 밸브 배열(100)는 규소 기판(102)에 제조된다. 레이저(104)는 원통형 렌즈(108) 및 (110)을 포함하는 왜상 비임 확장기(anamorphic beam expander)를 사용하는 조명 라인(106)을 발생시킨 다. 겔바트(Gelbart)에게 허여된 미국 특허 제5,517,359호에는 조명 라인을 형성시키기 위한 방법이 기술되어 있다. 조명 라인(106)은 다수의 소자(101)를 가로질러 측방향으로 확산되어 각각의 소자(101)가 조명 라인(106)의 부분에 의해 조명되도록 한다.
렌즈(112)는 천공 스톱(116) 속의 천공(114)를 통해 소자(101)로부터 레이저 조명을 초점화한다. 어떠한 특별한 소자(101)가 활성화되지 않는 경우, 천공(114)은 이러한 소자로부터 광을 전송한다. 활성화된 소자로부터의 광은 천공 스톱(116)에 의해 차단된다. 렌즈(118)는 광 밸브(100)를 이미지화하여 이미지화 스와쓰(120)를 형성시킨다. 이미지화 스와쓰(120)는 다수의 개개 이미지-방식으로 조절된 비임을 포함하며, 이는 이미지를 형성하기 위해 기판의 영역 위에 스캐닝될 수 있다.
디스플레이 패널을 제작하는 데 일반적인 바와 같이, 강성 기판을 이미지화하는 경우, 사용된 이미지화기는 대개 수용체 기판을 편평한 배향으로 고정시키는 편평상(flatbed) 이미지화기이다. 수용체 기판, 또는 이미지화 비임의 배열, 또는 이들 둘 다의 조합물은 스와쓰를 이미지화하기 위해 변환된다. 겔바트에게 허여된 미국 특허 제6,957,773호는 디스플레이 패널 이미지화를 위해 적합한 고속 편평상 이미지화기의 예를 기술하고 있다. 또한, 가요성 기판은 스와쓰의 이미지화에 영향을 미치기 위한 드럼 이미지화기의 외부 또는 내부 표면 중의 하나에 고정될 수 있다. 유리와 같이, 기판이 충분히 얇고 드럼의 직경이 충분히 큰 경우 강성의 것으로서 전통적으로 고려되는 기판까지도 드럼 이미지화기에 이미지화될 수 있다.
컬러 필터을 직접 이미지화하는 선행기술의 방법은 도 3에 개략적으로 도시되어 있다. 컬러 필터 기판(18)의 부분은 열 이동 공정에서 다수의 적색 스트라이프(30-36)와 함께 패턴화된다. 각각의 적색 스트라이프의 너비는 컬러 소자의 가시적 너비만큼 넓을 뿐만 아니라 각각의 스트라이프 내의 각각의 적색 소자를 묘사하는 검정색 매트릭스 수직 단편(나타내지 않음)을 부분적으로 중첩하기에 충분한 너비일 수도 있다. 광 밸브(100)[예를 들면, 다중 채널 이미지화 헤드에서 발견되는 바와 같음]는 다수의 개개-어드레싱 가능한 이미지화 채널(40)을 가지며, 제1 위치(38)에 위치한다. 도 3은 이미지화 채널(40)과, 점선(41)에 의한 이동된 패턴 사이의 대응(correspondence)을 묘사한다. 광 밸브(100)는 이미지화된 패턴과 동일한 축척으로 도 3에 나타내었지만, 도 3은 단지 개략적이다. 도 3은 이미지화 채널(40)과, 기록되지만 물리적 관계일 필요는 없는 패턴(30-36) 사이의 대응을 나타낸다. 실제로, 도 2에 나타낸 바와 같이, 광 밸브(100)은 렌즈(118)에 의해 기판 위로 이미지화될 수 있으며, 이는 기판의 평면에서 이미지화 스와쓰의 크기와 형태를 구성할 수 있다.
광 밸브(100)에 의해 발생된 비임은 기록되는 패턴에 따라 이미지 방식으로 조절되는 주-스캔 방향(42)에서 기판 위에 이미지화된다. 채널 부-그룹(48)과 같은 채널의 부-그룹은 적절하게 구동되어 특징을 형성하는 것이 바람직한 곳은 어디에서나 하나 이상의 이미지화 비임을 생성하는 반면, 패턴에 상응하지 않는 기타 채널은 제외될 것이다. 모든 채널(40)들이 구동되어 상응하는 화소를 생성하는 경우, 광 밸브(100)는 배열에서 제1 채널에 의해 이미지화된 제1 화소와 배열에서 최 종 채널에 의해 이미지화된 최종 화소 사이의 거리와 관련된 너비를 갖는 이미지화된 스와쓰를 생성할 수 있다.
수용체 기판(18)은 대개 너무 커서 단일 스와쓰 내에서 이미지화될 수 없기 때문에, 이미지화를 완료하기 위해서는 다중 스와쓰가 마찬가지로 필요할 것이다. 이 경우, 광 밸브(100)는, 각각의 스와쓰가 이미지화된 후에 부-스캔 방향(44)으로 변형되어, 후속적인 이미지화된 스와쓰는 일반적으로 앞서 이미지화된 스와쓰와 함께 정렬될 것이다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 부-스캔 방향(42)을 따른 광 밸브(100)의 운동은 주-스캔 방향(42)에서의 각각의 스와쓰의 이미지화가 완료된 후에 발생한다. 달리는, 수용체 기판(18)은 광 밸브(100)에 대하여 주-스캔 방향(42)으로 이동할 수 있다. 달리는, 광 밸브는 주-스캔 운동과 동시에 부-스캔 방향으로 변형되어, 이미지화 시스템에 의해 영향을 받는 주-스캔 방향과, 수용체 기판에 대한 이미지의 목적하는 위치 사이의 잠재적 사륜(skew)을 보상하도록 한다. 달리는, 드럼형 스캐너에 있어서, 이미지화하는 동안 주-스캔 및 부-스캔 방향 둘 다로 동시에 스캔하여 이미지를 나선형으로 기록할 수 있다.
앞서 이미지화된 스와쓰를 후속적으로 이미지화된 스와쓰로 정렬하기 위한 수개의 선택사항이 있다. 이러한 선택사항은 스와쓰 에지 효과를 제거하기 위한 제1 단계로서 하나 이상의 채널 너비를 사용하여 앞서 및 후속적으로 이미지화된 스와쓰를 중첩시킴을 포함할 수 있다. 달리는, 후속적인 이미지화된 스와쓰의 제1 이미지화된 채널은 광 밸브 상의 인접한 채널들 상이의 공간에 상응하는 거리로 앞서 이미지화된 스와쓰의 최종 이미지화된 채널로부터 이격될 수 있다. 달리는, 일 부 이미지화된 패턴에 있어서, 후속적이 이미지화된 스와쓰의 제1 이미지화된 채널은 광 밸브 상의 인접한 채널들 사이의 간격과 상이한 거리로 최종 이미지화된 채널로부터 이격될 수 있다.
도 3과 관련하여, 적색 스트라이프(30) 및 (32) 및 스트라이프(34)의 부분(34')는, 비임이 주 스캔 방향(42)에서 기판(18)에 대하여 이미지화 비임을 이동시킴으로써 제1 스와쓰를 이미지화하는 동안 기록된다. 제1 스와쓰의 완료시, 광 밸브(100)는 위치(38)로부터, 점선으로 나타낸, 새로운 위치(38')로의 부-스캔 방향(44)로 변환된다. 부-스캔 변환은 광 밸브(100)에서 이용가능한 채널의 수[본 실시예에서, 35개의 채널]에 상응한다. 부-스캔 변환 후에, 광 밸브(100)는 위치(38')에 존재하며, 이의 최종 채널(45)의 앞선 위치에 인접하는 이의 제1 채널(46)을 갖는다. 광 밸브(100)의 비임은 이후에 스트라이프(34)의 부분(34")를 포함하는 또 다른 스와쓰를 이미지화할 수 있다. 부분(34')와 부분(34") 사이의 경계에서 선(47)로 나타낸 바와 같은, 가시적 불연속성의 외관을 피하는 것은 매우 힘들다. 이미지화 채널의 출력 전력에서의 매우 작은 전력 변화(1% 정도)도 이동되는 컬러의 양을 변화시킴으로써, 또는 이동된 물질내에 작은 포켓 또는 버블을 유도함으로써 이동된 컬러의 광학 밀도에 영향을 미칠 수 있다. 인접한 이미지화된 스와쓰들 사이의 가시적 불연속성은 "스와쓰-대-스와쓰" 밴딩의 예이다.
스와쓰-대-스와쓰 밴딩은 컬러 필터와 같은 정규 패턴이 열 이동 방법에 의해 생성되는 경우 강조될 수 있다. 이동된 컬럼에서의 밀도 변화는, 적은 열이 전형적으로 스와쓰의 중앙 영역에 대하여 반대편에 있는 스와쓰의 에지 둘레의 영역 을 이미미지화하는 데 있어서 부착될 것이다. 전형적으로, 적은 착색제는 적은 열을 접수하는 영역으로 이동될 것이며, 더 많은 착색제는 많은 열을 접수하는 영역으로 이동될 것이다. 열 이동 공정 및 매질에 기여할 수 있는 기타 현상(즉, 이동된 열 에너지의 양 이외의 현상)은 또한 각각의 스와쓰 내에 광학 밀도 변화를 유발할 수 있다. 밀도 변화는 또한, 앞서 이미지화된 영역과 접촉하는 스와쓰의 에지가 비-영상화된 영역과 접촉하는 스와쓰의 에지와 상이하게 거동하는 특정한 조건하에 관찰될 수 있다.
열 이동의 변화는, 제2 컬러 공여체가 앞서 이미지화된 컬러 공여체에 의해 수용체 기판에서 이미지화된 패턴 위에서 오버레이되는 경우 발생할 수 있다. 이러한 상황은 제2 컬러 공여체와 수용체 기판 사이의 간격의 변화를 일으켜서 이동도에 영향을 미칠 수 있다. 컬러 필터의 열 이동 제작을 위한 전형적인 컬러 공여체는 제한된 이미지화 범위를 지니며, 이에 따라 비-선형 이미지화 특성을 갖는 것으로 고려된다. 더구나, 영상화된 스와쓰 내의 소정의 특성의 존재 또는 부재가 스와쓰 내의 어느 곳에서도 특성의 밀도에 영향을 미칠 수 있는 비-국부적 효과가 존재할 수 있다.
밴딩은 또한 개개의 스와쓰 내에서 컬러 이동의 변화의 결과로서 발생할 수 있다. 스와쓰를 이미지화하기 위해 사용된 채널의 배열이 미리 보정되어 작동된 모든 채널을 갖는 스와쓰의 전체 너비를 가로질러 균일한 광학 특성(예: 광학 밀도)를 포함하는 스와쓰를 생성하는 경우에도 컬러 이동의 불균일성은 이미지화된 스와쓰 내에서 일치하지 않을 수 있다.
도 3과 관련하여, 바깥쪽의 스트라이프(30)는 안쪽 스트라이프(32)가 채널 부-그룹(49)에 의해 이미지화되는 동안 채널 부-그룹(47)에 의해 이미지화된다. 컬러 공여체로부터 수용체 기판(18)으로 이동된 컬러의 불균일성은, 소정의 스트라이프를 이미지화하거나 열 이동 공정의 비선형 이미지화 특성에 기여할 수 있는 기타 메카니즘에 의해 생성된 온도의 변화 때문에 소정의 영상화된 스와쓰 내에서 일치하지 않을 수 있다.
또한, 이동된 컬럼의 불균일성은 배열 내의 각각의 채널이 보정되어 각각의 채널에서 실질적으로 동일한 출력 방사선 조건을 생성하는 경우에도 스와쓰 내에서 일치되지 않을 수 있다. 구체적으로, 스트라이프(30)는 스와쓰의 에지 근처에서 이미지화되기 때문에, 이는 스와쓰의 중앙 부분 내에서 이미지화되는 스트라이프(32)보다 더 이의 위치로 인한 적은 열 에너지를 접수할 수 있다. 결과적으로, 열 이동 공정 자체는 스와쓰 내에서 이미지화되는 스트라이프의 정규 패턴 내에서 밀도 변화를 일으킬 수 있다. 스트라이프는 정규 패턴으로 이미지화되기 때문에, 스트라이프들 중의 광학 밀도의 어떠한 변화도 컬러 필터의 품질을 열화시키는 가시적 비팅(visual beating)을 일으킬 수 있다. 스와쓰 내의 가시적 비팅은 인터-스와쓰 밴딩(inter-swath banding)의 예이다.
광학 밀도 변화는 또한 개개의 영상화된 스트라이프 내에서 자체로 명백할 수 있다. 예를 들면, 스트라이프(32)는 상응하는 채널 부-그룹(48)에 의해 이미지화된다. 스트라이프(32)는 양쪽에서 비-이미지화된 영역에 의해 둘러싸이며, 열 이동 공정의 비선형 이미지화 특성이 강조될 것이다. 컬러의 감소된 양은 스트라 이프(32)의 에지(32A) 및 (32B)를 따르는 이미지화된 영역으로 이동될 수 있는데, 그 이유는 이들 영역이 채널 부-그룹(48)의 외장 부재에 의해서만큼 가열되지 않기 때문이다. 채널 부-그룹(48)의 안쪽 부재는 전형적으로 인접한 이미지화된 채널로부터의 과도한 가열의 결과로서 스트라이프(32)의 내부 부분으로 더 많은 컬러를 이동시킬 것이다. 이러한 관점에서, 스트라이프(32)는 이의 너비를 가로질러 변하는 광학 밀도를 가질 수 있다. 스트라이프화된 패턴의 정규 주기성과 조합된 이러한 변화는 사람 눈에 쉽게 띄는 가시적 비팅을 일으킬 수 있다. 이들 아티팩트는 이미지화 배열에서의 모든 채널을 가로지르는 균일한 전력 분해를 단순히 생성시키는 선행기술의 방법에 의해 개선될 수 없다. 또한, 열 이동 공정의 비선형 이미지화 특성은 이미지화 동안에 이동된 열의 양 이외의 현상으로부터 생성될 수 있음을 주목해야 한다.
본 발명의 실시예 양태에서, 이미지화 채널의 배열(예: 레이저 비임의 배열)을 포함하는 이미지화 헤드는 이미지화되는 정규 패턴에 따라 보정된다. 보정은 이미지화되는 정규 패턴(예를 들면, 컬러 필터을 위한 컬러 소자의 패턴일 수 있음)에 대하여 특수한 것일 수 있다. 이미지화되는 정규 패턴은, 각각의 특징(예를 들면, 컬러 필터 내의 스트라이프의 정렬에서의 각각의 스트라이프)가 채널의 배열에 의해 이미지화된 스와쓰의 너비 보다 너비가 더 작은 특징들의 정규 반복 시리즈를 포함한다. 이미지화 채널의 배열 내의 채널의 부-그룹은 인접한 스와쓰들 사이의 스와쓰-대-스와쓰 밴딩 뿐만 아니라, 정규 패턴 자체의 이미지화로부터 수득되는 인터-스와쓰 밴딩도 최소화하도록 보정된다.
특징들의 정규 패턴은 컬러 필터(예: 도 1A 및 1B 중의 하나에 설명된 유형의 필터)에 사용된 바와 같은 일련의 연속 또는 차단된 스트라이프를 포함할 수 있다. 본 발명의 일부 양태에 따라, 컬러 필터는, 이미지화 헤드가 래스터 스캔 방식(raster scan fashion)으로 수용체 기판을 가로질러 이미지화됨에 따라 컬러화된 공여체를 수용체 기판 위로 이미지 방식으로 이동시킴을 포함하는 열 이동방법에 의해 생성된다. 다수의 (예: 적색, 녹색 및 청색) 색상 공여체는 이들 각각의 컬러를 수용체 기판 위로 이미지 방식으로 이동시키기 위해 후속적으로 이미지화할 수 있다. 개개의 컬러 소자는 검정색 매트릭스에 의해 묘사될 수 있다. 개개의 컬러 소자는, 검정색 매트릭스에 의해 묘사되는 바와 같이, 길이 300㎛ x 너비 100㎛의 정도일 수 있다.
컬러 필터가 스트라이프 형태로 제조되는 경우, 특징들의 정규 패턴은 전형적으로 주어진 컬러의 컬러 소자의 연속 열(row)이 제조되도록 검정색 매트릭스 상으로 이미지화된 일련의 연속 스트라이프 또는 라인을 포함하게 된다. 모자이크 또는 델타 형태가 사용되는 경우, 특징들의 정규 패턴은 전형적으로, 각각의 컬러에 대하여 컬러 소자의 불연속적 열들이 생성되도록 검정색 매트릭스 상으로 이미지화되는 일련의 차단된 스트라이프를 포함하게 된다.
SQUAREspot
Figure 112007073646759-PCT00010
열 이미지화 헤드와 같은 선행기술의 이미지화 헤드는 부-스캔 방향으로 5㎛의 분해능 및 대략 5mm의 스와쓰 너비를 갖는 이미지화 채널을 포함할 수 있다. 스트라이프 형태를 포함하는 전형적인 컬러 필터에 있어서, 이러한 이미지화 헤드는 대략 16개의 스트라이프/컬러/스와쓰를 이미지화할 수 있으며, 여기서 각각의 스트라이프는 대략 20개의 채널에 의해 이미지화된다. 각각의 상이한 컬러 공여체는 이의 대응부분과 상이한 컬러 이동 특성을 지닐 수 있다. 사용된 채널의 수가 기타 컬러의 스트라이프를 이미지화하기 위해 사용된 채널의 수를 약간 변화시키기 위해 하나의 컬러의 스트라이프를 이미지화하는 것은 일반적인 것이다.
도 4는 본 발명의 실시예 양태에 따르는 이미지화 및 보정 시스템의 개략적 블록 다이아그램이다. 이러한 시스템은 컬러 필터와 같은 정규 패턴을 이미지화하기 위해 사용될 수 있다. 이 시스템은 예를 들면, 열 이동 방법으로 이미지화를 수행할 수 있다. 이 시스템은 이미지화 장치(200)을 포함하며, 이는 다시 레이저(104), 광 밸브 배열(100) 및 운동 시스템(210)을 포함한다. 다중 이미지화 채널을 발생시키기 위한 기타 메카니즘을 사용할 수도 있다. 다중 채널 이미지화 헤드를 위한 기타의 많은 설계가 존재한다. 본 발명에 따르는 시스템은 특정의 적합한 다중 채널 이미지화 시스템으로 작동할 수 있다.
이동 시스템(210)은 적어도 주 스캔-방향(42) 및, 수용체 기판(18)과 광 밸브 배열(100) 사이의 부-스캔 방향(44)에서 조절된 상대 운동을 설정하기 위해 작동하여, 수용체 기판(18)이, 이미지화되는 정규 패턴을 나타내는 이미지 데이타에 따라 정규 패턴으로 이미지화될 수 있다.
이 시스템은 수용체 기판(18) 상으로 이미지화되는 정규 패턴의 광학 특성을 특성화할 수 있는, 스캐너 시스템(220)을 추가로 포함한다. 이러한 광학 특성은 수용체 기판(18)으로 이미지화되는 정규 패턴의 광학 밀도 또는 반사성을 포함할 수 있다. 기록된 정규 패턴의 광학 밀도를 측정하여 개개 채널의 출력의 변화 뿐 만 아니라 열 이동 방법 자체에 기여할 수 있는 임의의 비선형 이미지화 특성과 관련된 변화도 확인하기 위한 수단을 제공한다. 이미지화된 정규 패턴을 가로질러 측정된 광학 밀도의 변화는 인접한 스와쓰들 사이의 스와쓰-대-스와쓰 밴딩의 정도 뿐만 아니라 정규 패턴 자체의 이미지화로부터 각각의 스와쓰 내에서 생성되는 인터-스와쓰 밴딩의 정도도 정량화하기 위한 수단들 제공한다. 이상적으로 이러한 시스템은 특정의 수득한 밴딩의 대상인 사람의 해석을 위한 필요성을 제거하거나 최소화한다. 밴딩 및 기타 아티팩트를 평가하기 위한 사람의 눈에 좌우되는 것은 컬러 필터와 같은 필요 적용에서 만족스러운 결과를 제공하지 않는다.
본 발명의 실시예 양태에서, 스캐너 시스템(220)은 편평한 베드 스케너를 포함한다. 또 다른 실시예 양태에서, 스캐너 시스템(220)은 이미지화 장치(200) 내에서 혼입된다. 농도계(densitometer)와 같은 기타 이미지 습득 및 측정 장치는 스캐너 시스템(220)으로서 사용하기에 적합할 수 있지만, 정밀한 등록, 일정한 기학학적 스캐일, 조명 균일성 및 대량의 평행 데이타 습득 능력으로 인하여 고 분해능 스캐너가 바람직하다.
스캐너 시스템(220)의 분해능을 선택함에 있어서 트레이드-오프(trade-off)가 존재한다. 고 분해능은 전형적으로 스캐닝 시간을 증가시키게 된다. 저 분해능은 대개 인접한 특성들을 복합하게 분리시키게 된다. 바람직하게는, 스캐너 시스템(220)은 정규 패턴의 특징, 예를 들면, 컬러 필더의 스트라이프의 너비보다 약간 더 작은 인접한 스캐닝 소자들 사이의 피치를 갖는다. 전형적으로, 적합한 스캐너 피치는 대략 컬러 필터 특징물의 너비의 대략 1/4 내지 1/10이다.
삽입된(interleaved) 적색, 녹색 및 청색 정규 패턴을 포함하는 컬러 필터 적용에 있어서, 스캐너 시스템(220)은 적색, 녹색 및 청색 채널을 포함할 수 있다. 스캐너 시스템(220)에 의해 생성된 스캔된 데이타는 전형적으로 매우 큰 파일을 생성하게 된다.
스캔된 데이타는, 임의의 광학 밀도 변화를 측정하기 위한 스캔된 데이타를 평가하기 위해 적어도 작동가능한 하나 이상의 시스템 조절기를 포함하는 적합한 이미지 데이타 프로세서(230)으로 제공된다. 이미지 데이타 프로세서(230)는 적어도 부분적으로 스캔된 데이타를 기준으로 하는 이미지화 채널 각각에 대한 보정 인자를 설정할 수 있다. 이미지 데이타 프로세서(230)의 출력은 전형적으로 광 밸브 배열(100)을 위한 조정된 전력 프로파일이다. 스캔된 데이타 프로세싱은 컬러 필터 컬러 각각에 대하여 반복한다.
도 5는 본 발명의 양태에 따르는 단계들의 순서를 나타낸다. 단계(300)에서, 열 이동 방법을 사용하여 하나 이상의 시험 팻치를 이미지화한다. 각각의 시험 패치는 목적하는 정규 패턴을 포함한다. 시험 패치는 시스템(200)을 "더미(dummy)" 수용체 기판 위로 이미지화함으로써 이미지화한다. 달리는, 시험 패턴은 컬러 필터의 생산에 사용되는 수용체 기판의 사용되지 않은 부분으로 이미지화될 수 있다.
본 발명의 실시예 양태에서, 각각의 시험 패치는 대략 너비(즉, 부-스캔 방향)가 50 mm이고 길이(즉, 주-스캔 방향)가 50mm이다. 이러한 치수는, 이미지화 조건에서의 산발성 변화에 의해 유도된 노이즈의 효과를 허용되는 수준으로 감소시 키고 적어도 수개의 이미지화된 스와쓰를 시험 패치 내에 포함시키기에 충분히 큰 면적을 덮도록 선택된다. SQUAREspot
Figure 112007073646759-PCT00011
열 이미지화 헤드로 이미지화되는 경우, 이러한 시험 패치는 대략 10개의 스와쓰를 포함하게 된다. 기타 치수들은 또한 본 발명에 사용하기에 적합할 수 있다.
각각의 시험 패치는 보정 플롯(calibration plot)에 따라 이미지화한다. 동일한 이미지화 공정 파라메터를 시험 패치 내의 매 이미지화된 스와쓰에 적용할 수 있다. 다수의 이미지화 공정 파라메터가 존재한다. 하나 이상의 중요한 것들 중의 하나는 다수의 이미지화 채널에 의해 이미지화되는 스와쓰를 가로지르는 균일한 수준의 노출을 설정하는 것이다. 노출은 이미지화 동안 기록된 표면에서 작용하는 단위 면적당 방사선 에너지의 양으로 정의된다. 이러한 균일한 노출을 설정하는 것은 각각의 채널의 전력 출력을 균형맞춤으로써 전형적으로 성취된다.
바람직하게는 보정 전에, 각각의 이미지화 채널을 실질적으로 동일한 전력 출력을 제공하도록 조정한다. 이는 필수적인 것은 아니지만 전체 스와쓰의 평균 출력 전력에 대한 기준선을 만들고 극한의 개개 채널 전력 수준을 피함으로써 후속적인 보정을 촉진시키는 데 도움을 준다. 또한, 바람직하게는 보정 전에, 이미지화되는 매체는 덜 노출된 상태나 과 노출된 상태가 아닌 적합한 노출 조건을 측정하기 위해 특성화된다. 각각의 시험 패치는, 각각의 이미지화 채널의 출력 전력이 시험 패치에서 시험 패치로 0.5%로 변하는 보정 플롯에 따라 이미지화될 수 있다. 이 경우, 전력 변화에 있어서 10% 색조 범위(tonal range)는 21개의 시험 패치를 필요로 하게 된다. 각각의 스와쓰의 작은 부분은 또한 시험 패치에서 시험 패치로 일정한 전력으로 유지되어 수득되는 보정 데이타의 정규분포를 위해 사용될 수 있는 이미지화 응답을 위한 참조를 제공하도록 할 수 있다.
각각의 시험 패치는 단일 컬러를 포함하는 특징들의 정규 패턴에 국한될 필요가 없다. 컬러 필터의 경우, 각각의 시험 패치는 컬러 필터에 사용된 각각의 컬러의 정규 패턴 모두를 포함할 수 있다. 각각의 특수한 컬러의 특징들의 정규 패턴은 바람직하게는 실제 컬러 필터를 제조하는 데 사용되는 동이한 순서로 각각의 기타 컬러의 정규 패턴으로 삽입된다. 바람직하게는, 시험 패치를 이미지화하는 데 사용된 각각의 특수한 컬러 공여체는 실제 컬러 필터를 이미지화하는 데 사용되는 동일한 순서로 이미지화된다. 실제 컬러 필터가 제조되는 동일한 방법으로 시험 패치를 이미지화함으로써, 상이하게 착색된 정규 패턴들 사이의 가시적 밀도 차이가 확인될 수 있다. 이들 가시적 밀도 차이는, 컬러의 수용체 기판(앞서 이미지화된 컬러 공여체에 대한 바와 같음)으로의 선행 이동이 수용체 기판으로부터의 후속적으로 이미지화된 공여체의 부분들을 추가로 이격시키는 작용을 하기 때문에 발생할 수 있다. 가시적 간격은 열 이동 공정에서 가변적 밀도를 생성시킬 수 있다. 검정색 매트릭스는 또한 이의 자체의 두께가 연속적으로 이미지화된 컬러 공여체와 수용체 기판 사이의 틈을 변화시킬 수 있기 때문에 시험 패치 각각에 제공되는 것이 바람직하다.
각각의 시험 패치 내에 이미지화된 특수한 착색된 정규 패턴 각각에 사용된 특수한 보정 플롯은 동일하거나 동일하지 않을 수 있다. 각각의 플롯은 사용된 각각의 특수한 컬러 공여체의 이미지화 정도에 좌우되게 된다. 시험 패치의 첫번째 것에서 각각의 컬러에 사용된 기준선 채널 레이저 전력은 컬러에서 컬러로 상이할 수 있다. 각각의 시험 패치에서 이미지화된 각각의 특수한 컬러는 특수한 컬럼의 이미지화 단계가 완결되는 경우 제거되고 다른 컬러 공여체로 대체되는 특수한 컬러 공여체를 사용하는 별도의 이미지화 단계에서 이미지화된다.
각각의 시험 패치 내에서 특수한 컬러에 상응하는 정규 패턴을 이미지화하는 데 사용된 채널의 부-그룹은 시험 패치 내에서 또 다른 컬러를 이미지화하는 데 사용된 채널의 부-그룹과 동일하거나 상이할 수 있다. 분명히, 시험 패치에서 특수한 착색된 정규 패턴을 이미지화하는 데 사용된 채널의 부-그룹은 실제 컬러 필터에서 특수한 착색된 정규 패턴을 이미지화하는 데 사용된 채널의 동리한 부-그룹이어야 한다.
대안적인 방법들이 또한 채널의 대안적인 부-그룹을 추가로 이미지화하고 교정할 수 있다. 이들 대안적인 부-그룹을 사용하여 우발성 또는 긴급 기준에서 컬러 필터를 이미지화할 수 있다. 우발적 기준은, 채널의 주 보정된 부-그룹에서의 특수한 채널이 불등화되고, 용이하게 정정될 수 없는 경우의 상황을 포함할 수 있다. 채널의 또 다른 보정된 부-그룹은, 비록 느린 출력일지라도, 컬러 필터 생산이 계속되도록 할 것이다.
단계(310)에서, 스캐너 시스템(220)은 하나 이상의 시험 패치 각각을 스캔한다. 스캐너(220)는, 스와쓰-대-스와쓰 및 인터-스와쓰 밴딩이 분석될 수 있는 시험 패치 내에 존재하는 각각의 시험 패치의 2차원(2D) 이미지를 나타내는 스캐너 데이타를 출력한다.
시험 패치 내에서 가시적인 특정한 밴딩 패턴은, 기하 및 노출 특성이 정규 패턴이 주-스캔 방향을 따라 이미지화디는 경우 실질적으로 변하지 않기 때문에 부-스캔 방향에서만 실질적으로 주기적으로 될 것이다. 특정한 밴딩 패턴은 부-스캔 방향에서 실질적으로 주기적이기 때문에, 시험 패치내에 존재하는 밴딩 정도를 나타내는 동일한 수치 정보는 부-스캔 방향에서 취해진 다수의 1차원(1D) 공간 스펙트럼의 주-스캔 방향 위의 평균으로부터 추출할 수 있다. 특정의 주어진 이미지화 채널에 의해 기록괸 이미지화된 화소는 관련 정보의 어떠한 손실 없이 주-스캔 방향을 따라 평균화될 수 있으며, 단 스캐너-대-시험 피치 등록은, 스캐너의 데이타 출력이 주-스캔 방향을 따라 주어진 이미지화 채널에 의해 기록된 실제 이미지화된 화소에 상응하는 것을 보장하기에 충분히 정확하다.
단계(310)은 스캐너 시스템(220)을 사용하여 각각의 시험 패치를 스캐닝함을 포함하며, 여기서 각각의 스캔은 실질적으로 부-스캔 방향을 따라 수행된다. 이미지화된 시험 패치의 부-스캔 축은 바람직하게는 스캐너 시스템(220)의 스캔 방향의 5도 내로 정렬된다. 이 형태에서, 샘플링 속도(sampling rate)는 스캐너 내에서의 이동 시스템에 의해 조절될 수 있다. 이 배향은 1차원 스캐너 센서를 따라 조명 및/또는 검출기 응답에 있어서의 비-균일성의 충격을 최소화할 수 있다.
또 다른 양태에서, 이미지화된 시험 패치의 주-스캔 축은 바람직하게는 스캐너 시스템(220)의 스캔 방향의 5도 내로 정렬된다. 이 형태는 상이한 조명 조건을 제공할 수 있기 때문에, 특정 스캐너 디자인으로 사용하기 위해 유리할 수 있다.
시험 패치는 3개의 상이한 컬러의 삽입된 100㎛ 스트라이프를 포함하는 컬러 필터 패턴의 경우에서와 같이 고 공간 주기(high spatial frequency)를 갖는 정규 패턴을 포함할 수 있다. 시험 패치는 스캐너 시스템(220)의 초점 밖에 위치하여 광학 분해능을 스캐너 시스템(200) 샘플링 속도의 대략 반으로 제한할 수 있다. 이는 고 공간 진동수를 포함하는 정규 패턴에 대한 항-위신호 저-통과 필터(anti-aliasing low-pass filter)를 허용한다. 초점 밖에서의 작업은 또한 사람 눈의 공간 분해능을 암시하여 수득한 밴딩 측정이 밴딩의 가시적 지각과 일치하게 된다.
스캐너 시스템(220)에 의해 출력된 스캔된 데이타는 M 스캐너 화소(즉, 주-스캔 방향(42)를 따름) 및 N 스캐너 화소(즉, 부-스캔 방향(44)를 따름)로 이루어진 2차원 비트맵(bitmap)을 포함할 수 있다. 이 문맥에서, 스캐너 화소는 스캐너에 의해 출력된 화소를 나타낸다. 컬러 필터 적용을 위해 제조된 시험 패치의 경우, 비트맵은 사용된 3개 컬러를 나타내는 데이타를 포함하는 컬러 비트맵일 수 있다. 부-스캔 방향(44)를 따라 서로에 대하여 다음에 위치한 N 스캐너 화소의 각각의 그룹은 본원에서 부-스캔 라인이라고 언급될 것이다. 스캔된 데이타는, 스캔된 매트릭스에서 부-스캔 라인의 순서를 반영하는, 지수 m = 1, 2, ..., M으로 할당되는 M-부 스캔 라인을 포함한다. mm로 측정된 각각의 부-스캔 라인에서 인접한 스캔된 화소들 사이의 분리는 △ = 25.5/dpi와 동일하고, 여기서 "dpi"는 인치당 도트(dot)의 스캐너 샘플링 속도이다. 각각의 스캔된 화소의 부-스캔 좌표는 xn = n*△이며, 여기서 n = 1, 2, ..., M이다.
도 6은 적색, 녹색 및 청색 스트라이프의 3개의 삽입된 정규 패턴을 포함하 는 컬러 필터의 스캔된 이미지(505)의 부분을 나타낸다. 검정색 매트릭스는 나타내지 않았다. 스캔 한계는 주-스캔 방향(42)에서 연장되고 비-스캔 좌표 시스템의 출발부에 위치한 비-이미지화된 여백(510)을 포함할 수 있다. 비-이미지화된 여백(510)을 사용하여 스트라이프의 정규 패턴을 제공하는 이미지화된 이미지화 채널의 특정한 부-그룹에 대한 시험 패치 내의 주어진 정규 패턴의 시작을 참조할 수 있다. 기타 실시예 양태는, 지표를 창출하기 위한 연속적으로 이미지화된 특징들 중의 하나의 이미지화된 노출을 증가시키는 것을 포함하지만, 이에 제한되지 않는, 대안적인 참조 시스템을 사용할 수 있다. 이러한 고 노출 수준에서 작동되는 이미지화 채널의 상응하는 부-그룹은 이러한 지표로 언급될 수 있었으며, 이에 따라 이들을 이미지화하는 이미지화 채널의 상응하는 부-그룹에 대하여 기타 정규 패턴을 등록할 수 있도록 하였다.
다시 도 5와 관련하여, 스캔된 데이타는 단계(320)에서 분석을 위해 데이타 프로세서(230)을 이미지화하기 위해 공급된다. 정규 패턴으로 배열된 특징들의 다수의 삽입된 세트를 포함하는 컬러 필터의 경우, 특징들의 각각의 세트를 분리하고 단계(330)에서 별도로 분석한다. 반복 컬러화된 스트라이프의 3개의 삽입된 세트를 포함하는 컬러 필터에 대한 시험 패치의 경우, 특정의 주어진 컬러 스트라이프를 나타내는 스캔된 데이타의 부분은 모두 3개의 컬러 성분(즉, 적색, 녹색 및 청색)의 성분들을 포함할 수 있다. 당업자는 스캔된 데이타의 단일 컬러화된 채널을 관찰하고 스트라이프의 주어진 컬러화된 정규 패턴의 스캔된 이미지를 완전히 구별할 수 없다.
상이한 방법들을 사용하여 시험 패치에서 특수한 컬러의 영역에 상응하는 스캔된 데이타의 부분들을 확인할 수 있다. 예를 들면, 적색, 녹색 및 청색 스트라이프는 주로 각각 적색, 녹색 및 청색 스캐너 채널 우세성을 제공할 것이다. 예로서 적색 스트라이프를 고려하면, 기타 컬러화된 스크라이프 이미지에서 존재하는 적색 스캐너 채널 성분은 청색 및 적색 스캐너 채널에 대한 적색 스캐너 채널의 비를 측정하고, 녹색 및 청색 스캐너 채널에 대한 적색 스캐너 채널의 비가 적색 스트라이프의 확인을 위한 소정의 한계 세트 이하에 있는 이미지의 부분들을 제거함으로서 필터링 아웃(filtering out)할 수 있다.
예를 들면, 3차원 컬러 공간에서 상이한 컬러 필터 소자들에 대한 데이타 분석하여, 적색, 녹색 및 청색 컬러 필터 소자에 상응하는 스캐너 출력의 상세한 조사를 기준으로 하여 적합한 한계를 선택할 수 있다. 이 경우, 적색 스캐너 채널의 청색, 녹색 및 원하지 않는 부분에 상응하는 스캔된 데이타의 신호 수준을 제로(0)로 설정하여 도 7에 나타낸 바와 같은 분리되고 스캔된 정규 패턴(515)(즉, 이 경우 적색 스트라이프에 상응하는 분리되고 스캔된 데이타)를 제공한다. 이 공정은 시험 패치에서 기타 컬러의 스트라이프에 대하여 반복할 수 있다.
본 발명의 기타 실시예 양태는 스캔된 데이타로부터의 정규 패턴의 적합한 컬러 이미지를 추출하는 또 다른 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 적색 스트라이프의 컬러의 적색, 녹색 및 청색 성분을 상기 실시예에서 측정할 수 있으며, 적색, 녹색 및 청색 성분의 제곱의 합의 제곱근으로 각각의 성분을 나누어서 정규분포시킬 수 있다. 이후에, 동일한 정규분포를 이미지 데이타 내의 각각의 화소에 적용하고, 화소 컬러를 적색 스트라이프 컬러 상으로 사영(projection)하여 이미지 화소 및 측정된 적색 스트라이프 컬러를 위한 상응하는 정규분포된 컬러 성분의 곱(product)들의 합으로서 컴퓨터화할 수 있다. 이 경우, 적색 스캐너 채널의 청색, 녹색 및 원하지 않는 부분에 상응하는 스캔된 데이타 화소의 신호 수준은, 상기한 사영이 소정의 한계보다 작은 경우 0으로 설정된다.
정규 패턴의 단일 세트만을 포함하는 적용에 있어서, 이러한 분리 단계는 필요하지 않으며, 단일 채널 스캐너를 사용할 수 있다. 추가로 주목할 사항 중에서, 시험 패치가 검정색 매트릭스를 도입하는 경우, 검정색 매트릭스 크로스-바(cross-bar)의 이미지를 포함하는 스캔된 데이타의 부분은 용이하게 검출되며 평균 스캐너 신호 수준을 기준으로 하여 폐기한다.
스캐너 시스템(220)은, 5도 공차가 허용되었기 때문에, 믿기지 않게 시험 패치의 부-스캔 방향으로 완전히 정렬될 것이다. 어떠한 상당한 오-등록(mis-registration)도 교정되어, 정규 패턴의 각각의 특징에 상응하는 스캔된 데이타가 이러한 특징을 이미지화하는 이미지화 채널의 특수한 부-그룹에 대하여 참조할 수 있다. 또한, 추가의 오-등록 효과가, 스캔된 이미지가 부-스캔 방향에서 앞과 뒤로 흔들리도록 할 수 있는 정규 패턴의 이미지화 동안에 스티지된 스와쓰(stitched swath)에서의 진동으로부터 발생할 수 있다.
도 5와 관련하여, 분리된 스캔된 데이타에서의 각각의 부-스캔 라인은 단계(340)에서 참조 위치로 변환된다. 본 발명의 한 가지 양태에서, 이러한 변환은 다음 수학식으로 주어진 핸닝 윈도우 함수(Hanning window function)와 같은 윈도 우 함수로 부-스캔 라인의 각각에서 데이타를 먼저 곱하여 달성된다:
H(n)= 0.5(1 - cos(2π(n-l)/(N-l))
이후에, 1차원 패스트 퓨리에 변환(one-dimensional Fast Fourier Transform; 1D FFT)이 소정의 정규 패턴(즉, 컬러 필터의 경우 컬러화된 스트라이프 세트들 중의 하나)에 상응하는 분리되고 스캔된 데이타에서의 각각의 부-스캔 라인에 대하여 산출할 수 있다.
1D FFT 각각은 상응하는 부-스캔 라인 공간 스펙트럼의 복잡한 퓨리에 변환 진폭을 나타내는 N개의 복소수를 포함할 것이다. 첫번째 N/2 복소수 진폭은 mm-1로 측정된 양성 공간 진동수에 상응하고, (n-l)/(N*Δ)과 동일하다. m번째 부-스캔 라인 공간 전력 스펙트럼은 도 8에 나타내며, 복소수 진폭의 실제 및 가상 성분들의 제곱의 합과 동일하다. "우세한 피크"(520)는 공간 진동수 1/L의 근방에서 조사하며, 여기서 L은 정규 패턴의 주기와 동일하다. 컬러 필터의 경우, L은 각각의 컬러의 신장된 스트라이프의 공간 주기와 동일하게 된다. m번째 부-스캔 라인의 상 각(phase angle) Φm은 우세한 피크의 복소수 진폭의 가상 및 실제 성분의 비의 역 탄젠트(아크탄젠트)로서 계산된다.
도 9A에서의 그래프는 필요한 m번쩨 부-스캔 라인 변환 dxm을 나타내고, dxm = L(Φm/2π)로 계산되며, 여기서 m = 1,2,...,M이다. 스캔된 데이타에서의 노이즈는 도 9B의 그래프에서 나타낸 바와 동일한 산란기(scatter)를 생성할 수 있다. 도 9B는 도 9A에서 그래프의 작은 부분을 나타낸다. m 번째 부-스캔 라인 변 환 dxm의 "최적 맞춤(best fit)"은, 예를 들면, 5번째 도 다항식(5th degree polynomial) p(m)= a0 + a1*m + a2*m2 + a3*m3 + a4*m4 + a5*m5로 근사화할 수 있으며, 여기서 계수 a0,a1, a2, a3, a4, 및 a5는 dxm ㄷ대 m에 대한 최소 제곱근 맞춤으로부터 측정한다. 본 발명의 기타 양태들은 다른 "최적-맞춤" 알고리즘을 사용할 수 있다.
각각의 2D 이미지의 공간 스펙트럼이 2차원 패스트 퓨리에 변환(2D FFT)을 사용하여 계산된 경우, 이러한 작동을 위해 필요한 컴퓨터화 가능한 시간은 N x M 화소 이미지에 대한 (Nlog2N)(Mlog2M)으로서 증가하는 경향이 있게 된다. 그러나, 컴퓨터화 가능한 시간은 M 1D FFT 스케일을 M(N*log2N)로서 가공할 필요가 있다. 이는 2D FFT를 사용하는 것과 비교하여 log2M 컴퓨터화 가능한 속도 증진의 인자로 이동시킨다. 종종 수천의 범위 내에서 M을 사용하는 경우, 본 발명의 당해 양태에서 사용된 1D FFT는 2D FFT 접근법에 비하여 상당한 공정 속도 증진을 제공한다.
도 10A는 첫번째 및 M번째 부-스캔 라인 둘 다를 위한 부-스캔 화소 지수(즉, n = 1 내지 N)의 함수로서 스캔된 신호 수준을 나타낸다. 기타 부-스캔 라인 데이타는 명확성을 위해 제거하였다. 인지할 수 있는 변환이 명확히 존재한다. 각각의 부-스캔 라인 m에서, 스캔된 신호 수준은 수학식 σξm(k) = s(xn) + s(xn+1)(ξk-xn)/(xn +1-xn)에 따르는 변환된 그리드(shifted grid) ξk = k*Δ + p(m) (여기서, k = 1, 2,..., N)에서 외삽되며, 여기서 n은 xn이 ξk 보다 작은 최대 x가도록 한다. 변환된 그리드에서의 이러한 외삽은 주-스캔 축을 따라 컬러 필터 특징들을 정렬하는 이미지 전단(image shear)을 성취한다. 도 1OB는 첫번째 및 M번째 부-스캔 라인에 대한 교정된 스캔된 신호 수준을 나타낸다. 변환된 프로파일은 각각의 부-스캔 라인에 대한 스캔된 신호 수준을 중첩시키며, 스캔된 정규 패턴의 부재들 각각을 따른 주-스캔 방향에서의 신호 밀도 변화를 나타낸다.
도 5와 관련하여, 변환된 부-스캔 라인 각각으로부터의 데이타는 단계(350)에서 평균을 구한다. 동일한 지수 k를 갖는 외삽된 신호 수준은 스캐너 라인 중에서 평균을 구한다:
Figure 112007073646759-PCT00012
상기 수학식에서,
k는 1, 2, ..., N이다.
이 결과는 도 11에 도시된 바와 같은 플롯 프로파일로 언급되며, 분석되는 특수한 정규 패턴의 주-스캔을 따라 평균을 낸 이미지 특성을 나타낸다. 여기서, 프로파일은 제로-신호 영역(기타 컬러에 상응하는 스트라이프 영역)에 의해 분리된 특수한 컬러 필터 특징(즉, 특수한 컬러에 상응하는 스트라이프)에 상응하는 비-제로 신호의 연속 영역으로 구성된다. 각각의 비-제로 신호 영역은 가상화된 라인(525)로 나타낸 바와 같은 특징들의 정규 패턴의 각각의 부재들 사이의 변화를 나타낸 다. 이들 변화는 스와쓰-대-스와쓰 및 인터-스와쓰 밴딩 또는 불균일성에 기여할 수 있다. 특히 컬러 필터의 경우, 이러한 변화는 바람직하지 않은 가시적 결과를 일으킬 수 있다.
연속적인 비-제로 영역의 총 수는, 플롯 Ns에서 이미지화된 스와쓰의 수로 나눈, 스와쓰 당 이미지화된 특수한 정규 패턴의 특징들의 수, Nf와 동일하다. 주어진 스와쓰에서 이미지화된 정규 패턴의 특징들 각각은 후속적인 스와쓰에서 반복될 것이다. 각각의 비-제로 연속 영역은 2개의 지수 nf = l,...,Nf 및 ns = 1,...,Ns로 할당될 수 있으며, 여기서 nf는 각각의 스와쓰 내의 개개의 특징들을 ㅎ확인하며, ns는 개개의 스와쓰를 나타낸다.
서명 소자 sig(nf)는 측정된 평균 신호 수준의 지수 nf를 갖는 모든 비-제로 연속 영역의 평균으로 컴퓨터화한다. 신호 수준의 평균은 노이즈 효과 및/또는 가공품을 최소화하기 위해 단지 도 12에 나타낸 각각의 영역의 중앙 부분(530)으로부터 컴퓨터화할 수 있다. 도 12는 도 11에 나타낸 영역들 중의 하나의 상세한 뷰(view)를 나타낸다. 컬러 필터의 경우, 이는 컬러 필터 라인의 에지가 라인 에지로부터의 광 산란과 관련된 아티팩트에 기여하는 경향이 있음을 실험적으로 측정하였다. 각각의 영역의 중심을 샘플링함으로써, 당업자는 에지 데이타를 피할 수 있고 서명 소자의 품질을 증가시킬 수 있다.
각각의 스와쓰로부터의 다수의 서명 소자의 평균은 도 13에 나타낸 "서 명"(540)에 나타낸다. 도 13은 광 밸브(100)에 의해 이미지화된 각각의 스와쓰에서 기록된 정규 패턴(이 경우, 16)의 다수의 특징들에 대한 평균 응답을 나타낸다.
도 5와 관련하여, 단계(360)에서, 이미지 프로세서(230)는 이미지 채널의 부-그룹을 조정하기 위한 교정 지시를 출력하여 이미지화되는 정규 패턴의 부재에 상응하는 개개의 서명 소자들 사이의 차이를 감소시킨다. 컬러 필터의 경우, 이 공정은 필터 내의 각각의 컬러에서 수행할 수 있다. 하나 이상의 추가의 시험 패치는 이후에 결과를 확인하기 위해 발생시킬 수 있다.
추가로, 정확도는 단일 평균 밸브 보다는 각각의 서명 소자에 대한 값들의 범위를 제공함으로서 사용할 수 있다. 수의 범위는 채널의 상응하는 부-그룹 내의 특별한 이미지화 채널에 의해 이미지화되는 정규 패턴의 수의 부분에 상응하게 된다.
교정 지시는 다중-채널 이미지화 시스템의 출력 방사선 특성, 특히 채널의 부-그룹에 의해 이미지화된 정규 패턴의 특수한 특징에 상응하는 채널의 부-그룹의 전력을 조정할 수 있다. 이러한 교정은 가장 균일한 서명을 갖는 패치에 대한 각종 이미지화된 시험 패치 중에서 검색하여 발생시킬 수 있다. 각종 시험 패치로부터의 서명은 각각의 시험 패치를 이미지화하는 데 사용된 출력 방사선 특성에서의 변화와 상관관계가 있을 수 있다. 이는 당해 분야의 숙련가에게 익히 공지된 측정된 광학 밀도에 대한 출력 방사선 특성의 이동 함수의 추정과 같은, 기술을 사용하여 수행할 수 있다.
본 발명의 실시예 양태에서, 이미지화 채널의 주어진 부-그룹의 평균 전력은 상응하는 이미지화된 특징의 부분의 광학 밀도의 평균을 기준으로 하여 조정한다. 본 발명의 또 다른 실시예 양태에서, 이미지화 채널의 부-그룹의 첫번째 세트의 평균 전력은 일정한 수준으로 유지시키면서 부-그룹의 제2 세트의 평균 전력을 변화시켜, 부-그룹의 제1 세트가 참조로서 작용하도록 한다. 본 발명의 또 다른 실시예 양태에서, 광학 방사선 특성은, 바람직하게는 2개의 전력 수준 및 2개의 전력 수준에 대하여 평균한 상응하는 광학 밀도에서, 주어진 시험 패치 내에서, 주 스캔 방향에서 주기적으로 변화시켜서, 전력 수준과 광학 밀도 사이의 이동 함수의 추정을 가능하게 할 수 있다. 주어진 시험 패치 내에서 이러한 조작 계획을 사용하는 것은 이동 함수의 추정의 정확도를 증진시킬 수 있다. 이러한 점에서, 특징 자체의 광학 밀도 내에서의 어떠한 변화도 교정할 수 있다.
본원에 기술된 방법은 특징들의 목적하는 정규 패턴을 이미지화하기 위한 이미지화 체널의 부-그룹의 채널을 이미지화하기 위한 셋팅을 최적화하기 위해 적용할 수 있다. 화소의 각각의 부-그룹은 정규 패턴의 특수한 특징에 상응하며, 이러한 특징의 광학 밀도가 스와쓰 내에서 이러한 특징의 위치로부터 발생할 수 있는 어떠한 변화와 무관하게 각각의 스와쓰 내의 기타 특징들의 것과 실질적으로 동일하게 될 것임을 보장하도록 조정한다. 컬러 필터의 경우, 컬러 소자들 중에서의 균일성이 보증되며, 이에 따라 유리하게는 컬러 필터가 배열에서 이미지화 채널 모두의 균일한 출력 방사선 수준을 제공하거나 작동된 배열내의 이미지화 채널 모두로 이미지화된 스와쓰의 전체 너비를 가로지르는 기록된 이미지의 균일한 광학 특성을 제공하기 위해 보정되는 레이저 배열로 이미지화되는 경우 성취되는 것 보다 더 양호한 가시적 특성을 생성시킨다.
본 발명의 기타 양태들은 상기 기술된 공정에서의 변형을 사용할 수 있다. 예를 들면:
* 단계(350)는 총 M 부-스캔 라인의 작은 부세트를 평균할 수 있다. 이러한 작은 부세트는 발생할 수 있는 노이즈 효과를 감소시키기에 충분하도록 커야한다.
* 컬러 필터 적용의 경우, 정규 패턴은 "스트라이프 형태"로 국한될 필요는 없다. 모자이크 또는 델타 형태를 포함하는 정규 패턴을 또한 시험 패치로서 사용할 수 있다. 이들 양태에서, 분석된 부-스캔 라인의 수는 M(즉, 시험 패치의 전체 길이)과 동일할 수 없으며, 차라리 주-스캔 방향의 대상 컬러 소자의 길이에 상응할 수 있다. 분석은 결과를 평균하기 위한 다중 컬러 소자들을 위해 수행할 수 있다. 이들 형태는 그러나 각각의 소자의 비교적 짧은 길이로 인하여 노이즈 제한에 적용될 수 있다.
* 시험 패치를 직접 분석하는 대신에, 이미지화된 컬러 공여체를 분석할 수 있다. 바람직하게는, 시험 패치를 이미지화하는 데 사용된 컬러 공여체는 컬러 필터의 실제 제조에서 사용되는 바와 동일한 순서로 이미지화된다. 이러한 접근법은 유리하게는 당업자가 별도의 시험 패치를 생성할 필요없이 생산된 실제 컬러 필터를 시험하여 생산을 방해하도록 한다. 컬러 공여체를 분석하는 것은 실제 열 이동 공정 동안에 발생하는 컬러의 특정한 소비 또는 증발에 의해 생성된 효과를 고려하여야 한다.
본 발명은 디스플레이의 제작과 관련지어 기술하였지만, 본원에 기술된 방법들은 전자 장치의 배열(예: 중합체 반도체의 배열) 및 랩-온-어-칩(lab-on-a-chip; LOC) 장치의 배열을 포함하는 특정한 정규 패턴의 이미지화에 직접 적용할 수 있다. LOC 기술은 도구화(instrumentation) 및 헬스케어 산업 내에서 급속히 증가하는 연구 주제이다. 그 원리는 샘플 제조, 유체 조작, 분석 및 검출 단계를 단일의 마이크로칩의 한정 내에서 수행할 수 있도록 하는 자동화된 마이크로스케일 실험실을 제조하기 위한 것이다. LOC 칩은 수개의 반복 패턴 특징을 가질 수 있다.
상기한 기술내용의 관점에서 당해 분야의 숙련가들에게 명백해지는 바와 같이, 본 발명의 취지 또는 영역으로부터 벗어나지 않고 본 발명의 실시에 있어서 많은 변화 및 수정이 가능하다.

Claims (40)

  1. 특징(feature)들의 정규 패턴을 이미지화 헤드에 의해 이미지화된 하나 이상의 스와쓰(swath) 내에 이미지화하는 단계로서, 여기서 특징들의 정규 패턴은, 적어도 부-스캔 방향으로 반복되며, 적어도 다수의 이미지화 채널의 제1 부분에 의해 이미지화되는 제1 특징, 및 다수의 이미지화 채널의 제2 부분에 의해 이미지화되는 제2 특징을 포함하고, 제1 부분 및 제2 부분 둘 다가 모든 이미지화 채널 보다 적고, 제1 특징 및 제2 특징 둘 다가 하나 이상의 스와쓰 중의 동일한 것 내에서 이미지화되는 단계;
    제1 및 제2 특징의 각각의 광학 특성을 측정하는 단계; 및
    적어도 부분적으로는 측정된 광학 특성을 기준으로 하여, 하나 이상의 이미지화 채널을, 다수의 이미지화 채널의 제1 부분 및 다수의 이미지화 채널의 제2 부분 중의 하나 이상 내에 조정하는 단계를 포함하며, 제1 및 제2 특징의 광학 특성이 특징들의 정규 패턴의 후속적인 이미지화시 실질적으로 동일해지는, 다수의 이미지화 채널을 포함하는 이미지화 헤드의 보정 방법.
  2. 제1항에 있어서, 정규 패턴을 이미지화하는 단계가 정규 패턴을 열 이동 공정으로 이미지화함을 포함하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 제1 및 제2 특징들 각각의 광학 특성을 측정하는 단계가 제 1 특징 및 제2 특징 각각의 광학 밀도를 측정함을 포함하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 제1 및 제2 특징들의 광학 밀도를 측정하는 단계가 제1 주-스캔 방향으로 제1 및 제2 특징 각각의 광학 밀도를 측정함을 포함하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 제1 및 제2 특징들 각각의 광학 밀도를 적어도 제2 주-스캔 위치에서 측정함을 포함하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 제1 및 제2 특징들 각각의 광학 밀도를 측정하는 단계가 제1 특징 및 제2 특징을 스캐닝함을 포함하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 부-스캔 방향을 따라 제1 및 제2 특징들을 스캐닝함을 포함하는 방법.
  8. 제6항에 있어서, 초점 밖의 제1 및 제2 특징들을 스캐닝함을 포함하는 방법.
  9. 제7항에 있어서, 스캐너 시스템으로부터의 스캔된 데이타를 출력함을 포함하고, 여기서 스캔된 데이타가 적어도, 제1 주-스캔 위치에 상응하는 제1 부-스캔 라인, 및 제2 주-스캔 위치에 상응하는 제2 부-스캔 라인을 포함하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 특징들의 정규 패턴의 출발 위치를 나타내는 영역을 부-스캔 방향으로 스캐닝함을 포함하는 방법.
  11. 제9항에 있어서, 특징들의 정규 패턴의 각각의 부재가 다수의 컬러 중의 하나 이상을 포함하고, 여기서 제1 및 제2 특징 둘 다가 동일한 공여체를 포함하며,
    스캔된 데이타를 분리시켜 적어도 제3 특징에 상응하는 데이타를 배제시킴을 추가로 포함하며, 여기서 적어도 제3 특징이 제1 및 제2 특징의 컬러와 상이한 컬러를 갖는 방법.
  12. 제9항에 있어서, 특징들의 정규 패턴이 컬러 필터 특징들의 패턴을 포함하고, 스캔된 데이타를 분리시켜 적어도 제4 특징에 상응하는 데이타를 배제시킴을 추가로 포함하며, 여기서 적어도 제4 특징이 검정색 매트릭스의 부분에 상응하는 방법.
  13. 제9항에 있어서,제1 부-스캔 라인을 사용하여 제2 부-스캔 라인을 정렬시키고, 제1 부-스캔 라인에서 제1 및 제2 특징에 상응하는 데이타가 제2 부-스캔 라인에서 제1 및 제2 특징에 상응하는 데이타와 부-스캔 방향으로 정렬되는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 제1 및 제2 부-스캔 라인 각각에 대하여 1D FFT를 발생시켜 상응하는 제1 및 제2 부-스캔 라인 공간 스펙트럼을 생성시킴을 포함하는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 제2 부-스캔 라인을 제1 부-스캔 라인과 정렬시키는 공정이, 적어도 부분적으로 스펙트럼 내의 피크의 상 각을 기준으로 한 양에 의해 부-스캔 방향에서 제1 부-스캔 라인에 대하여 제2 부-스캔 라인을 변환시킴을 포함하는 방법.
  16. 제14항에 있어서, 제1 및 제2 부-스캔 라인 중의 하나 이상에 상응하는 스캔된 데이타를 핸닝 윈도우 함수(Hanning window function)로 나누는 것을 포함하는 방법.
  17. 제14항에 있어서, 우세한 피크를 각각의 스펙트럼 내에서 확인하고,
    각각의 우세한 피크에 대한 상 각을 측정하며,
    상응하는 상 각을 기준으로 한 부-스캔을 정렬시킴을 포함하는 방법.
  18. 제13항에 있어서, 제1 부-스캔 라인에서 제1 특징에 상응하는 데이타를 제2 부-스캔 라인에서 제1 특징에 상응하는 데이타로 평균을 내어 제1 서명 소자(signature element)를 생성시키고,
    제1 부-스캔 라인에서 제2 특징에 상응하는 데이타를 제2 부-스캔 라인에서 제2 특징에 상응하는 데이타로 평균을 내어 제2 서명 소자를 생성시킴을 포함하는 방법.
  19. 제18항에 있어서, 하나 이상의 스와쓰가 제1 스와쓰 및 적어도 제2 스와쓰 포함하며, 방법이,
    제1 및 제2 특징들 둘 다를 제1 및 제2 스와쓰 각각 내에서 이미지화하고,
    제1 스와쓰에 상응하는 제1 서명 소자를 제2 스와쓰에 상응하는 제1 서명 소자로 평균을 내어 평균화된 제1 서명 소자를 생성시키고,
    제1 스와쓰에 상응하는 제2 서명 소자를 제2 스와쓰에 상응하는 제2 서명 소자로 평균을 내어 평균화된 제2 서명 소자를 생성시킴을 포함하는 방법.
  20. 제18항에 있어서, 하나 이상의 이미지화 채널을 조정함으로써 제1 서명 소자와 제2 서명 소자 사이의 어떠한 차이도 교정함을 추가로 포함하는 방법.
  21. 제19항에 있어서, 하나 이상의 이미지화 채널을 조정함으로써 평균화된 제1 서명 소자와 평균화된 제2 서명 소자 사이의 어떠한 차이도 교정함을 추가로 포함하는 방법.
  22. 제1항에 있어서, 2개 이상의 상이한 정규 패턴을 이미지화하기 위해 이미지화 헤드를 사용하고, 2개 이상의 상이한 정규 패턴 각각에 대하여 보정을 수햄함을 포함하는 방법.
  23. 제1항에 있어서, 특징들의 정규 패턴이 컬러 필터 특징들의 패턴을 포함하는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 컬러 필터 특징이 다수의 상이한 컬러화되고 신장된 스트라이프를 포함하고, 각각의 컬러에 대한 신장된 스트라이프가 별도로 이미지화되는 방법.
  25. 제23항에 있어서, 컬러 필터 특징의 패턴이 다수의 상이한 컬러화된 특징을 포함하고, 각각의 컬러에 대한 특징이 별도로 이미지화되는 방법.
  26. 제25항에 있어서,
    컬러 필터 수용체 기판을 제공하고,
    이 수용체 기판 위에 검정색 매트릭스를 형성시키고,
    각각의 패턴 컬러에 대한 컬러 공여체 소자를 제공하며,
    다시, 기판 위에 형성된 검정색 매트릭스를 각각의 컬러 공여체 소자로 오버레잉시키며, 공여체 컬러에 상응하는 패턴 컬러 특징들을 이미지화하고, 이미지화된 컬러 공여체 소자를 제거함을 포함하는 방법.
  27. 제26항에 있어서, 제1 및 제2 특징이 둘 다 동일한 컬러를 포함하고,
    제1 및 제2 특징 각각의 광학 특성을 측정하는 단계가 수용체 기판 위로 이 미지화되는 제1 및 제2 특징 각각의 과학 밀도를 측정함을 포함하는 방법.
  28. 제25항에 있어서, 제1 및 제2 특징이 제1 컬러 공여체 소자로부터 이미지화되고,
    제1 및 제2 특징 각각의 광학 특성을 측정하는 단계가 제1 및 제2 특성 각각에 상응하는 제1 컬러 공여체 소자 상의 이미지의 광학 밀도를 측정함을 포함하는 방법.
  29. 제1항에 있어서, 시험 패치 위로 특징의 정규 패턴을 이미지화함을 포함하는 방법.
  30. 제1항에 있어서, 특징의 정규 패턴이 하나 이상의 중합체 반도체 소자를 나타내는 특징을 포함하는 방법.
  31. 제1항에 있어서, 특징의 정규 패턴이 랩-온-어-칩 장치의 소자를 나타내는 특징을 포함하는 방법.
  32. 특징의 정규 패턴이,
    이미지화 헤드에 의해 이미지화된 하나 이상의 스와쓰 내에 이미지화되고, 적어도 부-스캔 방향으로 반복되며,
    다중 채널의 제1 부분에 의해 이미지화되는 제1 특징, 및 다중 채널의 제2 부분에 의해 이미지화되는 제2 특징을 포함하고, 여기서 제1 및 제2 부분 둘 다가 다중 채널의 전체보다 더 적고, 제1 특징 및 제2 특징 둘 다가 하나 이상의 스와쓰의 동일한 스와쓰 내에 이미지화되고;
    부-스캔 방향을 따라 제1 특징 및 제2 특징을 스캐닝하고, 제1 주-스캔 위치에 상응하는 제1 부-스캔 라인, 및 적어도 제2 주-스캔 위치에 상응하는 제2 부-스캔 라인을 포함하는 스캔된 데이타를 출력하기 위해 작동할 수 있는 스캐너, 및
    제1 부-스캔 라인을 당해 부-스캔 방향을 따라 제2 부-스캔 라인으로 정렬시키고, 제1 부-스캔 라인에서 제1 특징에 상응하는 데이타를 제2 부-스캔 라인에서 제1 특징에 상응하는 데이타로 평균을 내어 제1 서명 소자를 생성시키고, 제1 부-스캔 라인에서 제2 특징에 상응하는 데이타를 제2 부-스캔 라인에서 제2 특징에 상응하는 데이타로 평균을 내어 제2 서명 소자를 생성키기며, 하나 이상의 이미지화 채널을, 다중 채널의 제1 부분 및 다중 채널의 제2 부분 중의 하나 이상 내에서 조정하도록 작동할 수 있는 교정 지시를 출력함으로써 제1 서명 소자와 제2 서명 소자 사이의 특정한 차이를 교정하기 위해 작동할 수 있는 이미지 데이타프로세서를 포함하는, 특징의 정규 패턴을 이미지화하기 위한 다중 채널 이미지화 헤드의 보정 장치.
  33. 제32항에 있어서, 이미지 데이타 프로세서가 제1 및 제2 부-스캔 라인 각각에 대한 1D FFT를 발생시켜 상응하는 제1 부-스캔 라인 공간 스펙트럼 및 상응하는 제2 부-스캔 라인 공간 스펙트럼을 생성하기 위해 추가로 작동할 수 있는 장치.
  34. 제33항에 있어서, 제1 및 제2 부-스캔 라인 중의 하나 이상을 핸닝 윈도우 함수로 곱하기 위해 추가로 작동할 수 있는 장치.
  35. 제33항에 있어서, 이미지 데이타 프로세서가,
    우세한 피크를 제1 및 제2 부-스캔 라인 공간 스펙트럼 각각 내에서 확인하고,
    우세한 피크 각각으로부터의 상 각을 측정하고, 상 각 각각에 따라, 제1 부-스캔 라인을 제2 부-스캔 라인으로 정렬시키기 위해 추가로 작동할 수 있는 장치.
  36. 제32항에 있어서, 하나 이상의 스와쓰가 제1 스와쓰를 포함하고, 제2 스와쓰, 제1 및 제2 특징이 제1 및 제2 스와쓰 각각 내에서 이미지화되며,
    이미지 데이타 프로세서가, 제1 스와쓰에 상응하는 제1 서명 소자를 제2 스와쓰에 상응하는 제1 서명 소자로 평균내어 평균화된 제1 서명 소자를 생성시키고,
    제1 스와쓰에 상응하는 제2 서명 소자를 제2 스와쓰에 상응하는 제2 서명 소자로 평균내어 평균화된 제2 서명 소자를 생성시키기 위해 추가로 작동할 수 있는 장치.
  37. 제36항에 있어서, 이미지 데이타 프로세서가, 하나 이상의 이미지화 채널을 조정하기 위해 작동할 수 있는 추가의 교정 지시를 출력함으로써 평균화된 제1 서명 소자와 평균화된 제2 서명 소자 사이의 특정한 차이를 교정하기 위해 작동할 수 있는 장치.
  38. 제1항의 방법을 포함하는 열 이동 공정에 의해 제조된 컬러 필터.
  39. 제1항의 방법에 따라 보정된 특징의 정규 패턴을 이미지화하기 위한 다중 채널 이미지화 헤드.
  40. 부-스캔 방향으로 소정의 간격을 갖는 다수의 특징을 포함하는 시험 패턴을 명시하는 시험 이미지 데이타를 제공하고,
    시험 이미지에 따르는 이미지화 시스템을 작동시켜 시험 패턴을 기판 위로 작동시켜, 시험 패턴의 다수의 특징이 이미지화 시스템의 단일 스와쓰 내로 이미지화되도록 하고,
    시험 패턴의 스와쓰를 광학적으로 스캐닝하고, 스와쓰 내의 다수의 특징을 확인하고, 다수의 특징 중에서 광학 특성에서의 차이를 나타내는 상이한 데이타를 수득하며,
    적어도 부분적으로, 이러한 상이한 데이타를 기준으로 하여, 이미지화된 특징들 중의 하나에 상응하는 비임들 중의 하나 이상의 하나 이상의 특성을 조정하여 다수의 특징들 중에서의 광학 특성의 차이를 감소시킴을 포함하여, 부-스캔 방향으 로 소정의 간격을 갖는 특징의 정규 패턴을 각각 포함하는 이미지를 제조하기 위한 다중-비임 이미지화 시스템의 보정 방법.
KR1020077023610A 2005-04-06 2006-04-06 이미지화된 정규 패턴의 밴딩을 보정하기 위한 방법 및장치 KR20080007558A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US66879905P 2005-04-06 2005-04-06
US60/668,799 2005-04-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080007558A true KR20080007558A (ko) 2008-01-22

Family

ID=37073072

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077023610A KR20080007558A (ko) 2005-04-06 2006-04-06 이미지화된 정규 패턴의 밴딩을 보정하기 위한 방법 및장치

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7847940B2 (ko)
EP (1) EP1866691A4 (ko)
JP (1) JP4874327B2 (ko)
KR (1) KR20080007558A (ko)
CN (1) CN100549757C (ko)
TW (1) TWI427440B (ko)
WO (1) WO2006105667A1 (ko)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010525407A (ja) * 2007-04-26 2010-07-22 コダック グラフィック コミュニケーションズ カナダ カンパニー 複数の走査による特徴の撮像
US8330783B2 (en) * 2008-01-30 2012-12-11 Kodak Graphic Communications Canada Company Imaging patterns of features with skewed edges
US8446640B2 (en) * 2009-07-15 2013-05-21 Eastman Kodak Company Setting of imaging parameters using a scanner
US8427695B2 (en) * 2009-07-15 2013-04-23 Eastman Kodak Company Setting of imaging parameters
US10095016B2 (en) 2011-01-04 2018-10-09 Nlight, Inc. High power laser system
US9409255B1 (en) 2011-01-04 2016-08-09 Nlight, Inc. High power laser imaging systems
US9429742B1 (en) 2011-01-04 2016-08-30 Nlight, Inc. High power laser imaging systems
CN102739888A (zh) * 2011-04-06 2012-10-17 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 图像处理装置及控制图像处理装置的方法
US8553228B2 (en) * 2011-09-30 2013-10-08 3M Innovative Properties Company Web inspection calibration system and related methods
US9720244B1 (en) * 2011-09-30 2017-08-01 Nlight, Inc. Intensity distribution management system and method in pixel imaging
US9081287B2 (en) 2012-12-20 2015-07-14 Kla-Tencor Corporation Methods of measuring overlay errors in area-imaging e-beam lithography
US9310248B2 (en) 2013-03-14 2016-04-12 Nlight, Inc. Active monitoring of multi-laser systems
JP6581086B2 (ja) 2013-08-09 2019-09-25 サーマル イメージング レーダ、エルエルシーＴｈｅｒｍａｌ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｒａｄａｒ， Ｌｌｃ 複数の仮想デバイスを使用して熱画像データを解析するための方法、及び深度値を画像画素と相関させるための方法
EP3099504B1 (en) * 2014-01-31 2019-10-16 HP Indigo B.V. Method for controlling a digital printer and digital printer
KR102099722B1 (ko) 2014-02-05 2020-05-18 엔라이트 인크. 단일-이미터 라인 빔 시스템
WO2015175638A1 (en) * 2014-05-13 2015-11-19 Wake Forest University Selective analysis of modified biological molecules with solid-state nanopores
CN107211067B (zh) * 2015-03-31 2020-11-24 惠普发展公司，有限责任合伙企业 校正扫描仪模块之间的色差
MX368852B (es) * 2015-03-31 2019-10-18 Thermal Imaging Radar Llc Configuración de diferentes sensibilidades de modelos de fondo mediante regiones definidas por el usuario y filtros de fondo.
US10574886B2 (en) 2017-11-02 2020-02-25 Thermal Imaging Radar, LLC Generating panoramic video for video management systems
JP7030079B2 (ja) * 2019-06-12 2022-03-04 Ckd株式会社 三次元計測装置及び三次元計測方法
US11601605B2 (en) 2019-11-22 2023-03-07 Thermal Imaging Radar, LLC Thermal imaging camera device
CN113720841B (zh) * 2021-08-25 2024-02-09 武汉飞能达激光技术有限公司 一种激光淬火质量监测方法及其应用

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4804975A (en) 1988-02-17 1989-02-14 Eastman Kodak Company Thermal dye transfer apparatus using semiconductor diode laser arrays
US4965242A (en) 1989-12-11 1990-10-23 Eastman Kodak Company Method of making color filter array for liquid crystal display
US5278578A (en) 1989-12-18 1994-01-11 Eastman Kodak Company Thermal printer capable of using dummy lines to prevent banding
US5081597A (en) * 1989-12-21 1992-01-14 Xerox Corporation Process for dynamically equalizing multichannel optical imaging systems
EP0434449A3 (en) 1989-12-21 1992-05-13 Xerox Corporation Dynamic equalization for multichannel optical imaging systems
AU6702294A (en) * 1993-05-10 1994-12-12 Motorola, Inc. Method and apparatus for receiving and processing compressed image data for presentation by an active-addressed display
US5510896A (en) 1993-06-18 1996-04-23 Xerox Corporation Automatic copy quality correction and calibration
US5546165A (en) 1994-10-05 1996-08-13 Eastman Kodak Company Scanner as test print densitometer for compensating overall process drift and nonuniformity
US5517359A (en) 1995-01-23 1996-05-14 Gelbart; Daniel Apparatus for imaging light from a laser diode onto a multi-channel linear light valve
TW417132B (en) * 1996-02-27 2001-01-01 Hitachi Ltd CRT, deflection-defocusing correcting member therefor, a method of manufacturing same member, and an image display system including same CRT
US6143451A (en) 1996-11-26 2000-11-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Imaged laserable assemblages and associated processes with high speed and durable image-transfer characteristics for laser-induced thermal transfer
US6618158B1 (en) * 1997-11-03 2003-09-09 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method and device for calibrating an imaging apparatus having multiple imaging outputs
SE9800665D0 (sv) * 1998-03-02 1998-03-02 Micronic Laser Systems Ab Improved method for projection printing using a micromirror SLM
JP2000089019A (ja) * 1998-09-10 2000-03-31 Canon Inc カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子
US7307752B1 (en) * 2000-05-05 2007-12-11 Xerox Corporation On-line calibration system for a dynamically varying color marking device
US6832552B2 (en) * 2001-06-26 2004-12-21 Creo Inc. Method of automated setting of imaging and processing parameters
DE10259493A1 (de) * 2002-01-31 2003-08-14 Heidelberger Druckmasch Ag Verfahren zur Bestimmung der relativen Position einer ersten und einer zweiten Bebilderungseinrichtung zueinander
JP4355170B2 (ja) 2002-05-17 2009-10-28 コダック グラフィック コミュニケーションズ カナダ カンパニー 高速フラットベッドスキャナ
US7081322B2 (en) * 2003-03-27 2006-07-25 Kodak Graphics Communications Canada Company Nanopastes as ink-jet compositions for printing plates
US7056643B2 (en) * 2003-10-09 2006-06-06 Eastman Kodak Company Preparation of a printing plate using ink-jet
TW200537259A (en) * 2004-01-28 2005-11-16 Du Pont Method for imaging regular patterns

Also Published As

Publication number Publication date
US7847940B2 (en) 2010-12-07
JP2008537607A (ja) 2008-09-18
TW200707132A (en) 2007-02-16
JP4874327B2 (ja) 2012-02-15
EP1866691A1 (en) 2007-12-19
EP1866691A4 (en) 2011-11-16
CN101194199A (zh) 2008-06-04
TWI427440B (zh) 2014-02-21
WO2006105667A1 (en) 2006-10-12
US20090066796A1 (en) 2009-03-12
CN100549757C (zh) 2009-10-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7847940B2 (en) Methods and apparatus for correcting banding of imaged regular patterns
KR101084417B1 (ko) 규칙적인 패턴을 화상 형성하는 방법
EP2863201A1 (en) Apparatus and methods for characterizing lenses
US8199175B2 (en) Methods and apparatus for applying patterns of non-contiguous features
US8446640B2 (en) Setting of imaging parameters using a scanner
US8233020B2 (en) Enhanced imaging of features
US20090309954A1 (en) Methods and apparatus for selecting and applying non-contiguous features in a pattern
JP5394095B2 (ja) 光伝送体の検査装置及び光伝送体の検査方法
US8427695B2 (en) Setting of imaging parameters
TW200530625A (en) Non-uniform light valve

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application