KR20070111881A - Welding type showerhead - Google Patents

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Abstract

A welding type shower head is provided to prevent deformation of a plate and gas leakage by welding a bottom plate and an intermediate plate, and to reduce particles by forming an unevenness on the bottom plate to increase a contact area of the shower head. A first gas supply hole(73) connected to a first gas supply tube(53) and a second gas supply hole(74) connected to a second gas supply tube(54) are installed on a top plate(70). An intermediate plate(80) is joined closely to the bottom portion of the top plate. A first gas diffusion part(85) in which gas flowed in through the first gas supply hole is diffused, is formed at upper portion of the intermediate plate. A plurality of first penetration holes(86) interconnected to the first gas diffusion part, and an upper protrusion part(80) on which a distribution hole(84) interconnected to the second gas supply hole is formed, are installed at the intermediate plate. A bottom plate(90) is joined closely to the intermediate plate. The bottom plate comprises a second gas diffusion part(96), a second distribution hole(94) and a plurality of bottom protrusions.

Description

웰딩형 샤워헤드{Welding type showerhead}Welding type showerhead {Welding type showerhead}

도 1은 종래의 분리형 샤워헤드를 사용하는 반응용기를 나타내는 도면.1 is a view showing a reaction vessel using a conventional removable shower head.

도 2a는 본 발명에 따른 샤워헤드의 중판과 하판의 결합형태의 일 실시예를 나타내는 도면.Figure 2a is a view showing an embodiment of the combination of the middle plate and the lower plate of the showerhead according to the present invention.

도 2b는 본 발명에 따른 샤워헤드의 중판과 하판의 결합형태의 또다른 실시예를 나타내는 도면.Figure 2b is a view showing another embodiment of the combination of the middle plate and the bottom plate of the showerhead according to the present invention.

도 2c는 본 발명에 따른 샤워헤드의 중판과 하판의 결합형태의 또다른 실시예를 나타내는 도면.Figure 2c is a view showing another embodiment of the combination of the middle plate and the lower plate of the showerhead according to the present invention.

도 3은 도 2a에 따른 샤워헤드의 하판의 상면을 나타내는 도면3 shows an upper surface of the lower plate of the showerhead according to FIG. 2A;

도 4는 도 2b에 따른 샤워헤드의 하판의 상면을 나타내는 도면4 is a view showing an upper surface of the lower plate of the showerhead according to FIG. 2B;

도 5는 도 2c에 따른 샤워헤드의 중판의 하면을 나타내는 도면FIG. 5 shows a bottom surface of the middle plate of the showerhead according to FIG. 2C; FIG.

도 6은 도 2a, 도 2b에 도시된 샤워헤드의 하판의 저면을 나타내는 도면Figure 6 is a view showing the bottom of the lower plate of the showerhead shown in Figures 2a, 2b

도 7은 도 2c에 도시된 샤워헤드의 하판의 저면을 나타내는 도면FIG. 7 is a view showing the bottom of the lower plate of the showerhead shown in FIG. 2C; FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10 : 반응용기 15 : 웨이퍼 블럭10: reaction vessel 15: wafer block

53 : 제1가스 공급관 54 : 제2가스 공급관53: first gas supply pipe 54: second gas supply pipe

70 : 상판 73 : 제1 공급홀 70: top plate 73: first supply hole

74 : 제2 공급홀 80 : 중판 74: second supply hole 80: the middle plate

81 : 상부 돌출부 82 : 하부 돌출부81: upper protrusion 82: lower protrusion

83 : 배출공 84 : 분배홀83: discharge hole 84: distribution hole

85 : 제1 가스확산부 86 : 제1 관통공85: first gas diffusion unit 86: first through hole

90 : 하판 91 : 하판 돌출부90: lower plate 91: lower plate protrusion

92 : 하판 돌출턱 93 : 제1 분사홀92: lower projection jaw 93: the first injection hole

94 : 제2 분사홀 95 : 하판의 하부 요철94: second injection hole 95: lower unevenness of the lower plate

96 : 제2 가스확산부 97 : 제2 관통공96: second gas diffusion unit 97: second through hole

99 : 제1 분사홀99: first injection hole

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 웨이퍼 처리 시스템 중 박막 증착용 반응용기의 샤워헤드에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a showerhead of a reaction vessel for thin film deposition in a semiconductor wafer processing system.

도 1은 종래의 분리형 샤워헤드를 사용하는 반응 용기를 도시한 것으로, 제1가스는 제1가스 공급관(53)과 연결되는 제1가스 공급홀(73)을 통해 배출공(83) 및 제1가스 분사홀(93)을 거쳐 기판에 분사되며 제2가스는 제2가스 공급관(54)과 연결되는 제2가스 공급홀(74)을 통해 분배홀(84) 및 제2가스 분사홀(94)을 거쳐 기판에 분사된다.1 illustrates a reaction vessel using a conventional separate shower head, in which a first gas is discharged through a first gas supply hole 73 connected to a first gas supply pipe 53 and a first discharge hole 83 and a first gas. The distribution gas 84 and the second gas injection hole 94 are injected into the substrate through the gas injection hole 93 and the second gas is connected to the second gas supply pipe 54 through the second gas supply hole 74. It is sprayed on the substrate via.

도 1의 확대부는 종래의 분리형 샤워헤드의 중판(80)과 하판(90)의 결합형태를 나타내는 것으로, 이때 상기 중판(80)의 배출공(83)과 상기 하판(90)의 제1가스 분사홀(93)은 면접촉으로 연통되는데 장기간 사용시 플레이트(plate)의 변형으로 면접촉이 정확히 되지 않을 경우 누수(leak)가 발생되어 샤워헤드 내부에서 제1가스와 제2가스가 혼합되어 부산물이 발생되는 문제점이 있었으며 샤워헤드가 세정되기 전에 샤워헤드에 덮여 있던 막이 열적 응력을 견디지 못하고 쉽게 떨어져서 파티클(Particle)을 발생시키는 문제점이 있었다.The enlarged part of FIG. 1 shows a coupling form of the middle plate 80 and the lower plate 90 of the conventional split shower head, wherein the first gas injection of the discharge hole 83 and the lower plate 90 of the middle plate 80 is performed. The hole 93 communicates by surface contact. If the surface contact is not accurate due to deformation of the plate during long-term use, a leak occurs, and by-products are generated by mixing the first gas and the second gas inside the shower head. There was a problem that the membrane covered on the showerhead before the showerhead is cleaned does not withstand thermal stress and easily falls off to generate particles.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 샤워헤드의 중판과 하판을 웰딩(welding) 하여 공급가스의 누수(leak)가 발생하지 않아 파티클(particle)의 형성을 방지할 수 있는 새로운 형태의 샤워헤드를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the above problems, by welding the middle plate and the bottom plate of the shower head (leak) of the feed gas does not occur (leak) is a new that can prevent the formation of particles (particle) The purpose is to provide a showerhead of the type.

또한, 본 발명은 샤워헤드의 하판의 밑면에 요철을 형성하여 샤워헤드에 도포되는 막과 접촉되는 표면적이 증가되도록 하여 파티클의 발생을 감소시킬 수 있으며 세정 시까지 샤워헤드에 도포된 막이 이탈되는 것을 감소시킬 수 있는 샤워헤드를 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, the present invention is to form the irregularities on the bottom surface of the lower plate of the showerhead to increase the surface area in contact with the film applied to the showerhead to reduce the generation of particles and to remove the film applied to the showerhead until cleaning The purpose is to provide a showerhead that can be reduced.

상기 기술적 과제를 이루기 위한 본 발명에 따른 샤워헤드는 상판(70), 중 판(80) 및 하판(90)을 포함하며, 상기 상판(70)은 그 상부에 제1가스 공급관(53)에 연결되는 제1가스 공급홀(73)및 제2가스 공급관(54)에 연결되는 제2가스 공급홀(74)로 구성되며; 상기 중판(80)은 상기 상판(70)의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 제1가스 공급홀(73)을 통해 유입된 가스가 확산되는 제1가스 확산부(85)가 형성되고, 내측에는 상기 제1가스 확산부(85)와 연통되는 다수의 제1관통공(86)과, 상기 제2가스 공급홀(74)과 연통되는 분배홀(84)이 형성된 상부 돌출부(81)로 구성되며; 상기 하판(90)은 상기 중판(80)의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 중판(80)의 분배홀(84)을 통해 유입된 가스가 확산되는 제2가스 확산부(96)가 형성되고, 내측에는 상기 제2가스 확산부(96)로 유입된 제2가스를 분사하는 다수의 제2분사홀(94)과, 상기 제1관통공(86)들 각각과 대응되는 위치에 돌출 형성되어 상기 다수의 제1관통공(86) 각각에 삽입되며 내부에 상기 제1가스 확산부(85)와 연통되는 제1분사홀(93)이 형성된 다수의 하판 돌출부(91)로 구성되고, 상기 중판(80)과 하판(90)은 상기 하판 돌출부(91)의 상단과 상기 중판(80)의 제1관통공(86) 상단 둘레가 접합 부재에 의해 일체로 결합되어 있는 것을 특징으로 한다.The showerhead according to the present invention for achieving the technical problem includes an upper plate 70, the middle plate 80 and the lower plate 90, the upper plate 70 is connected to the first gas supply pipe 53 on the top A second gas supply hole 74 connected to the first gas supply hole 73 and the second gas supply pipe 54 to be formed; The middle plate 80 is tightly coupled to the lower portion of the upper plate 70 to form a first gas diffusion portion 85 on which gas introduced through the first gas supply hole 73 is diffused, and inside the middle plate 80. It is composed of a plurality of first through holes (86) in communication with the first gas diffusion portion 85, the upper protrusion 81 formed with a distribution hole 84 in communication with the second gas supply hole (74) ; The lower plate 90 is tightly coupled to the lower portion of the middle plate 80 to form a second gas diffusion portion 96 on which gas introduced through the distribution hole 84 of the middle plate 80 is diffused. The inner side of each of the plurality of second injection holes 94 for injecting the second gas introduced into the second gas diffusion portion 96 and the first through-holes 86 are formed to protrude from the It is composed of a plurality of lower plate protrusions 91 are inserted into each of the plurality of first through holes (86) and formed therein a first injection hole (93) communicating with the first gas diffusion unit (85). 80 and the lower plate 90 are characterized in that the upper end of the lower plate protrusion 91 and the upper circumference of the upper end of the first through hole 86 of the middle plate 80 are integrally coupled by a joining member.

또 다른 실시예로는 상기 하판(90)의 상부에는 하판 돌출부(91)를 형성하고 상기 하판 돌출부(91)의 하부 둘레에 상기 중판(80) 또는 상기 하판(90)의 변형을 방지하도록 상기 중판(80)의 하면에 그 상면이 접촉되는 하판 돌출턱(92)을 형성하여 제2 가스 확산부(96)를 형성하며 상기 하판 돌출부(91)의 상부를 상기 중판(80)의 제1관통공(86)에 끼워 넣은 후 접합 부재에 의해 일체로 결합 하는것을 특징으로 한다.In another embodiment, the lower plate 90 may have a lower plate protrusion 91 formed thereon, and the middle plate 80 or the lower plate 90 may be prevented from being deformed around the lower portion of the lower plate protrusion 91. A lower plate protruding jaw 92 is formed on a lower surface of the lower surface 80 to form a second gas diffusion portion 96, and an upper portion of the lower plate protrusion 91 is formed through a first through hole of the middle plate 80. It is characterized by being integrally joined by a joining member after being inserted into (86).

한편 또 다른 실시예로서 상판(70), 중판(80) 및 하판(90)을 포함하며, 상기 상판(70)은 그 상부에 제1가스 공급관(53)에 연결되는 제1가스 공급홀(73)및 제2가스 공급관(54)에 연결되는 제2가스 공급홀(74)로 구성되며; 상기 중판(80)은 상기 상판(70)의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 제1가스 공급홀(73)을 통해 유입된 가스가 확산되는 제1가스 확산부(85)가 형성되고, 내측 상면에는 상기 제2가스 공급홀(74)과 연통되는 분배홀(84)이 형성된 상부 돌출부(81)가 구비되고 하면에는 상기 제1가스 확산부(85)와 연통되는 제1 분사홀(99)이 구비된 다수의 하부 돌출부(82)들로 구성되며; 상기 하판(90)은 상기 중판(80)의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 중판(80)의 분배홀(84)을 통해 유입된 가스가 확산되는 제2가스 확산부(96)가 형성되고, 내측에는 상기 제2가스 확산부(96)로 유입된 제2가스를 분사하는 다수의 제2분사홀(94)과, 상기 다수의 제1 분사홀(99)들을 통해 유입된 제1 가스가 분사되도록 상기 다수의 하부 돌출부 각각이 관통 삽입되는 다수의 제2 관통공(97)들이 구비되고, 상기 중판(80)과 하판(90)은 상기 하부 돌출부(82)의 하단과 상기 하판(90)의 상기 제2 관통공(97) 하단 둘레가 접합 부재에 의해 일체로 결합되어 있는 것을 특징으로 한다.Meanwhile, another embodiment includes an upper plate 70, a middle plate 80, and a lower plate 90, and the upper plate 70 has a first gas supply hole 73 connected to the first gas supply pipe 53 thereon. ) And a second gas supply hole 74 connected to the second gas supply pipe 54; The middle plate 80 is tightly coupled to the lower portion of the upper plate 70 to form a first gas diffusion portion 85 in which gas introduced through the first gas supply hole 73 is diffused, and an inner upper surface thereof. An upper protrusion 81 having a distribution hole 84 communicating with the second gas supply hole 74 is provided therein, and a lower surface of the first injection hole 99 communicating with the first gas diffusion part 85 is provided. It is composed of a plurality of lower protrusions 82 provided; The lower plate 90 is tightly coupled to the lower portion of the middle plate 80 to form a second gas diffusion portion 96 on which gas introduced through the distribution hole 84 of the middle plate 80 is diffused. Inside, a plurality of second injection holes 94 for injecting the second gas introduced into the second gas diffusion part 96 and the first gas introduced through the plurality of first injection holes 99 are injected. A plurality of second through holes 97 are inserted into each of the plurality of lower protrusions so as to be inserted therein, and the middle plate 80 and the lower plate 90 are formed at the lower end of the lower protrusion 82 and the lower plate 90. The lower circumference of the second through hole 97 is integrally coupled by a joining member.

이때 상기 접합 부재에 의한 결합은 이빔-웰딩(E-beam Welding)을 포함하는 웰딩(Welding) 이나 본딩(Bonding) 또는 기타의 방법에 의할수도 있다.In this case, the bonding by the joining member may be performed by welding, bonding, or other methods including E-beam welding.

또한 본 발명에 있어서 상기 하판(90)의 저면에는 요철(비드)(95)을 형성하여 박막 증착에 있어서 샤워헤드에 도포되는 막과 접촉되는 표면적이 증가됨으로써 파티클의 발생을 감소시키는 것을 특징으로 한다. In addition, in the present invention, the bottom surface of the lower plate 90 is formed with irregularities (beads) (95) to increase the surface area in contact with the film applied to the showerhead in the thin film deposition is characterized in that the generation of particles is reduced. .

이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2a는 본 발명에 따른 샤워헤드의 중판(80)과 하판(90)의 결합형태의 일 실시예를 도시한 것으로 제1가스 및 제2가스의 분사는 도1에 나타낸 바와 동일하지만 본 발명에 따른 샤워헤드에 있어서는 상기 중판(80)과 상기 하판(90)이 서로 면접촉으로 연결되는 것이 아니라 상기 하판(90)의 상부에는 하판 돌출부(91)를 형성하고 상기 하판 돌출부(91)의 상부를 상기 중판(80)의 제1 관통공(86)에 끼워 넣은 후 접합 부재에 의해 일체로 결합하여 견고하게 고정시킴으로써 장기간 사용시에도 가스 누수(leak)가 발생하지 않고 이로 인한 파티클(particle)의 발생도 억제할 수 있다. Figure 2a shows an embodiment of the combination of the middle plate 80 and the lower plate 90 of the showerhead according to the present invention, the injection of the first gas and the second gas is the same as shown in Figure 1 but in the present invention In the shower head according to the above, the middle plate 80 and the lower plate 90 are not connected to each other in surface contact with each other, but a lower plate protrusion 91 is formed on the upper portion of the lower plate 90 and the upper portion of the lower plate protrusion 91 is formed. After being inserted into the first through hole 86 of the middle plate 80, it is integrally bonded and firmly fixed by a joining member so that gas leakage does not occur even during long-term use. As a result, the generation of particles can be suppressed.

도 2b는 본 발명에 따른 샤워헤드의 중판(80)과 하판(90)의 결합형태의 또 다른 일 실시예를 도시한 것으로 상기 하판(90)의 상부에는 하판 돌출부(91)를 형성하고 상기 하판 돌출부(91)의 하부 둘레에 상기 중판(80)의 하면에 그 상면이 접촉되는 하판 돌출턱(92)을 더 형성하고 상기 하판 돌출부(91)를 제1 관통공(86)에 끼워 넣은 후 접합 부재에 의해 일체로 결합하여 견고하게 고정시킴으로써 상기 상판과 상기 중판의 하중을 분산시켜 장기간 사용시에도 플레이트(Plate)의 변형을 방지할 수 있다. Figure 2b shows another embodiment of the coupling form of the middle plate 80 and the lower plate 90 of the showerhead according to the present invention to form a lower plate protrusion 91 on the upper portion of the lower plate 90 and the lower plate A lower plate protruding jaw 92 is formed on the lower surface of the middle plate 80, the upper surface of which is in contact with the lower portion of the protrusion 91, and the lower plate protrusion 91 is inserted into the first through hole 86. By integrally bonding by a member and firmly fixed, the load of the upper plate and the middle plate can be dispersed to prevent deformation of the plate even in long-term use.

도 2c는 본 발명에 따른 샤워헤드의 중판(80)과 하판(90)의 결합형태의 또 다른 실시예를 도시한 것으로 제1가스 및 제2가스의 분사는 도1에 나타낸 바와 동일하지만 본 발명에 따른 샤워헤드에 있어서는 상기 중판(80)과 상기 하판(90)이 서로 면접촉으로 연결되는 것이 아니라 상기 중판(80)의 하부에 하부 돌출부(82)를 형성하고 상기 하부 돌출부(82)를 상기 하판(90)의 제2 관통공(97)에 끼워 넣은 후 접합 부재에 의해 일체로 결합하여 견고하게 고정시킴으로써 장기간 사용시에도 플레이트(Plate)의 변형으로 인한 가스 누수(leak)가 발생하지 않고 이로 인한 파티클(particle)의 발생도 억제할 수 있다.Figure 2c shows another embodiment of the combination of the middle plate 80 and the lower plate 90 of the showerhead according to the present invention, the injection of the first gas and the second gas is the same as shown in Figure 1 but the present invention In the shower head according to the present invention, the middle plate 80 and the lower plate 90 are not connected to each other in surface contact with each other, but a lower protrusion 82 is formed below the middle plate 80 and the lower protrusion 82 is After being inserted into the second through hole 97 of the lower plate 90, the unit is integrally coupled and firmly fixed by the joining member so that no gas leak occurs due to deformation of the plate even during long-term use. Generation of particles can also be suppressed.

도 3은 도 2a에 따른 샤워헤드의 하판의 상면을 도시한 것으로 다수의 제1 분사홀(93)과 다수의 제2 분사홀(94)이 형성되어 있으며 제1 분사홀(93)에는 하판 돌출부(91)가 구비되어 있는 것을 나타낸다.3 illustrates an upper surface of the lower plate of the shower head according to FIG. 2A, in which a plurality of first injection holes 93 and a plurality of second injection holes 94 are formed, and the first injection hole 93 has a lower plate protrusion. (91) is provided.

도 4는 도 2b에 따른 샤워헤드의 하판의 상면을 도시한 것으로 다수의 제1 분사홀(93)과 다수의 제2 분사홀(94)이 형성되어 있으며 제1 분사홀(93)에는 하판 돌출부(91)가 구비되어 있으며 하판 돌출부(91)의 하부 둘레에 하판 돌출턱(92)이 더 형성되어 있는 것을 나타낸다.4 illustrates an upper surface of the lower plate of the shower head according to FIG. 2B, in which a plurality of first injection holes 93 and a plurality of second injection holes 94 are formed, and the lower injection protrusions are formed in the first injection holes 93. 91 is provided, and the lower protrusion protrusion 92 is formed in the lower periphery of the lower protrusion protrusion 91 further.

도5는 도 2c에 따른 샤워헤드의 중판의 하면을 도시한 것으로 다수의 제1 분사홀(99)과 중앙에 1개의 분배홀(84)이 형성되어 있으며 제1 분사홀(99)에는 하부 돌출부(82)가 구비되어 있는 것을 나타낸다.FIG. 5 illustrates a bottom surface of the middle plate of the showerhead according to FIG. 2C, in which a plurality of first injection holes 99 and one distribution hole 84 are formed in the center, and the lower protrusions are formed in the first injection holes 99. (82) is provided.

도 6은 도 2a 및 도 2b에 도시된 샤워헤드의 하판(90)의 저면을 나타낸 것으로서 웨이퍼와 마주보는 면인 상기 하판(90)의 저면에 상기 요철(비드)(95)이 형성 된다. FIG. 6 shows the showerhead shown in FIGS. 2A and 2B. As shown in the bottom surface of the lower plate 90, the concave-convex (bead) 95 is formed on the bottom of the lower plate 90 which is a surface facing the wafer.

상기 하판(90)의 저면은 플라즈마 공정시 막의 증착이 이루어지는데 이러한 막은 웨이퍼의 막과 같이 정상적인 증착을 통하여 얻어지는 막과 달리 안정적으로 형성되지 않으며 증착 과정 중에 이탈되어 파티클로 작용하게 된다.The bottom surface of the lower plate 90 is deposited during the plasma process. Unlike the film obtained through normal deposition, such as a wafer film, the film is not stably formed and is separated during the deposition process to act as particles.

본 발명은 이와 같은 점을 고려하여, 도6에 나타난 바와 같이 상기 하판(90)의 저면과 막의 접착력을 향상시키기 위해 상기 하판의 저면에 비드 형상의 상기 요철(95)을 형성하여 접촉 면적을 상대적으로 넓혀 주는 것이다. 하판의 저면은 요철(95)형상으로 형성되며 이러한 요철은 다양한 방법에 의해 형성될 수 있는데, 50-1000 메쉬의 모래비드를 사용할 있으며 50-1000㎛ 정도의 크기로 할 수 있으며 100-300㎛가 바람직하다.In view of the above, the present invention forms the bead-shaped concave-convex 95 on the bottom of the lower plate to improve the adhesion between the bottom of the lower plate 90 and the film as shown in FIG. It is to expand. The bottom of the lower plate is formed in the shape of the unevenness 95. Such unevenness may be formed by various methods, using sand beads of 50-1000 mesh and having a size of about 50-1000㎛ and having 100-300㎛ desirable.

이와 같이 하판의 저면을 요철 형상으로 가공면을 형성하면 종래에 비하여 파티클이 훨씬 적게 발생되어 막 증착이 훨씬 안정적으로 이루어짐을 알 수 있다.As such, when the bottom surface of the lower plate is formed to have a concave-convex shape, it can be seen that much less particles are generated than in the prior art, so that film deposition is much more stable.

한편 도 7은 도 2c에 도시된 샤워헤드의 하판의 저면을 나타낸 것으로 상기 하부 돌출부(82)와 하판의 제2 관통공(97)이 웰딩(welding)에 의해 결합된 것을 나타낸다Meanwhile, FIG. 7 illustrates a bottom surface of the lower plate of the showerhead illustrated in FIG. 2C, and shows that the lower protrusion 82 and the second through hole 97 of the lower plate are joined by welding.

이상으로, 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the present invention has been described with reference to the embodiments illustrated in the drawings, which are merely exemplary, and it should be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. will be. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

본 발명에 의한 새로운 샤워헤드에 의하면 중판과 하판을 웰딩(Welding) 하여 플레이트의 변형을 방지하고 공급가스의 누수(leak)가 없으며 하판의 저면에 요철을 형성하여 샤워헤드에 도포되는 막과 접촉되는 표면적을 증가시켜 파티클의 발생을 감소시킬 수 있는 장점이 있다.According to the new showerhead according to the present invention to prevent the deformation of the plate by welding the middle plate and the lower plate There is no leakage of the supply gas and there is an advantage of reducing the generation of particles by increasing the surface area in contact with the film applied to the showerhead by forming irregularities on the bottom of the lower plate.

Claims (8)

2개 이상의 가스 각각이 서로 다른 유로를 가지며 분리 가능하게 결합되는 샤워헤드에 있어서,A showerhead in which two or more gases each have a different flow path and are detachably coupled to each other, 상기 샤워헤드는 :The showerhead is: 제1가스 공급관과 연결되는 제1 가스 공급홀 및 제2 가스 공급관과 연결되는 제2가스 공급홀이 구비된 상판과;An upper plate having a first gas supply hole connected to the first gas supply pipe and a second gas supply hole connected to the second gas supply pipe; 상기 상판의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 제1가스 공급홀을 통해 유입된 가스가 확산되는 제1가스 확산부가 형성되고, 내측에는 상기 제1가스 확산부와 연통되는 다수의 제1관통공과, 상기 제2가스 공급홀과 연통되는 분배홀이 형성된 상부 돌출부가 구비된 중판과;A first gas diffusion part which is tightly coupled to the lower part of the upper plate to diffuse the gas introduced through the first gas supply hole into the upper part, and a plurality of first through holes communicated with the first gas diffusion part inside; A middle plate having an upper protrusion having a distribution hole communicating with the second gas supply hole; 상기 중판의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 중판의 분배홀을 통해 유입된 가스가 확산되는 제2가스 확산부가 형성되고, 내측에는 상기 제2가스 확산부로 유입된 제2가스를 분사하는 다수의 제2분사홀과, 상기 제1관통공들과 대응되는 위치에 돌출 형성되어 상기 다수의 제1관통공 각각에 삽입되며 내부에 상기 제1가스 확산부와 연통되는 제1분사홀이 형성된 다수의 하판 돌출부가 구비된 하판으로 구성되되,The second gas diffusion part is tightly coupled to the lower part of the middle plate to diffuse the gas introduced through the distribution hole of the middle plate, and a plurality of agents for injecting the second gas introduced into the second gas diffusion part inside. A plurality of lower plates having a second injection hole and a first injection hole protruding at a position corresponding to the first through holes and inserted into each of the plurality of first through holes and communicating with the first gas diffusion part therein; It consists of a bottom plate provided with a protrusion, 상기 중판과 하판은 상기 하판 돌출부의 상단과 상기 중판의 제1관통공 상단 둘레가 접합 부재에 의해 일체로 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 샤워헤드. The middle plate and the lower plate is a shower head, characterized in that the upper end of the lower plate protrusion and the upper circumference of the first through hole of the middle plate is integrally coupled by a joining member. 제 1 항에 있어서, 상기 접합 부재는The method of claim 1, wherein the joining member 웰딩(Welding)에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 샤워헤드. Shower head, characterized in that formed by welding (Welding). 제 1 항 또는 제 2항에 있어서, 상기 하판 돌출부는The lower plate protrusion of claim 1 or 2, wherein 하부 둘레에 상기 중판 또는 상기 하판의 변형을 방지하도록 상기 중판의 하면에 상면이 접촉되는 하판 돌출 턱이 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 샤워헤드. Shower head, characterized in that the lower periphery of the lower projection protruding further contact the lower surface of the middle plate to prevent deformation of the middle plate or the lower plate around the lower portion. 2개 이상의 가스 각각이 서로 다른 유로를 가지며 분리 가능하게 결합되는 샤워헤드에 있어서,A showerhead in which two or more gases each have a different flow path and are detachably coupled to each other, 상기 샤워헤드는 :The showerhead is: 제1가스 공급관과 연결되는 제1 가스 공급홀 및 제2 가스 공급관과 연결되는 제2가스 공급홀이 구비된 상판과;An upper plate having a first gas supply hole connected to the first gas supply pipe and a second gas supply hole connected to the second gas supply pipe; 상기 상판의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 제1가스 공급홀을 통해 유입된 가스가 확산되는 제1가스 확산부가 형성되고, 내측 상면에 상기 제2가스 공급홀과 연통되는 분배홀이 형성된 상부 돌출부가 구비되고, 하면에 상기 제1가스 확산부와 연통되는 제1분사홀이 구비된 다수의 하부 돌출부들이 구비된 중판과;The upper protrusion part is tightly coupled to the lower part of the upper plate to form a first gas diffusion part in which gas introduced through the first gas supply hole is diffused, and a distribution hole communicating with the second gas supply hole is formed on an inner upper surface thereof. A middle plate having a plurality of lower protrusions provided on a lower surface thereof and having a first injection hole communicating with the first gas diffusion part; 상기 중판의 하부에 밀착 결합되어 상부에 상기 중판의 분배홀을 통해 유입된 가스가 확산되는 제2가스 확산부가 형성되고, 내측에는 상기 제2가스 확산부로 유입된 제2가스를 분사하는 다수의 제2분사홀과, 상기 다수의 제1분사홀들을 통해 유입된 제1가스가 분사되도록 상기 다수의 하부 돌출부 각각이 관통 삽입되는 다수의 제2 관통공들이 구비된 하판으로 구성되되,The second gas diffusion part is tightly coupled to the lower part of the middle plate to diffuse the gas introduced through the distribution hole of the middle plate, and a plurality of agents for injecting the second gas introduced into the second gas diffusion part inside. And a lower plate having a second injection hole and a plurality of second through holes through which each of the plurality of lower protrusions is inserted so that the first gas introduced through the plurality of first injection holes is injected. 상기 중판과 하판은 상기 하부 돌출부들의 하단과 상기 하판의 제2 관통공 하단 둘레가 접합 부재에 의해 일체로 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 샤워헤드.The middle plate and the lower plate is the shower head, characterized in that the lower end of the lower protrusions and the lower periphery of the second through hole of the lower plate is integrally coupled by a joining member. 제 1 항에 있어서, 상기 접합 부재는The method of claim 1, wherein the joining member 웰딩(Welding)에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 샤워헤드. Shower head, characterized in that formed by welding (Welding). 제 1 항 내지 제5항의 어느 하나의 항에 있어서, 상기 하판의 저면은The bottom surface of the lower plate according to any one of claims 1 to 5, wherein 요철 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 샤워헤드. Shower head, characterized in that formed in the concave-convex shape. 제 6 항에 있어서, 상기 요철은The method of claim 6, wherein the irregularities 모래 비드에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드 A showerhead formed by sand beads 제 6 항에 있어서, 상기 요철의 크기는The method of claim 6, wherein the size of the irregularities 100-300㎛인 것을 특징으로 하는 샤워헤드Shower head, characterized in that 100-300㎛
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