KR20070108727A - 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 - Google Patents
화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20070108727A KR20070108727A KR1020060041113A KR20060041113A KR20070108727A KR 20070108727 A KR20070108727 A KR 20070108727A KR 1020060041113 A KR1020060041113 A KR 1020060041113A KR 20060041113 A KR20060041113 A KR 20060041113A KR 20070108727 A KR20070108727 A KR 20070108727A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- precursor
- ultrasonic
- level
- pipe
- container
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
- C23C16/4482—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material by bubbling of carrier gas through liquid source material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F23/00—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
- G01F23/22—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water
- G01F23/28—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water by measuring the variations of parameters of electromagnetic or acoustic waves applied directly to the liquid or fluent solid material
- G01F23/296—Acoustic waves
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Length Measuring Devices Characterised By Use Of Acoustic Means (AREA)
Abstract
Description
Claims (3)
- 운반기체(100a)가 담긴 봄베(100);상기 운반기체(100a)가 흐를 수 있도록 일측이 상기 봄베(100)에 배관된 제 1파이프(110);액상의 전구체(200a)가 담기고, 상기 운반기체(100a)가 상기 전구체(200a)를 버블링하여 기화하도록 상기 제 1파이프(110)의 타측이 상기 전구체(200a)에 수장되어 배관되는 용기(200);일측이 상기 전구체(200a)의 수면 위에 배치되게 상기 용기(200)에 배관되어 상기 전구체(200a) 및 운반기체(100a)가 이송되는 제 2파이프(210);상기 제 2파이프(210)의 타측이 배관되고 내포된 웨이퍼(300a)에 대해 상기 전구체(200a)로 화학 증착 공정이 수행되는 반응기(300);전구체(200a)의 수면을 향해 상기 초음파를 송신하고 상기 수면으로부터 반사된 초음파를 일정시간 지연시켜 수신하는 초음파 센서장치(410)와;문턱 전압을 최대 진폭의 절반정도로 조절하여 문턱전압을 넘어서지 않은 값들은 필터링에 의해 제거하고, 필터링된 데이터와 이미 설정되어 있는 기준수위를 비교하여 수위가 기준이하일 경우 알람출력신호를 인가하며, 시간당 수위변화가 일정수준 이상 급격히 변화시 알람을 제외하는 초음파 제어부(410)를 포함하여 구성함을 특징으로 하는 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 초음파 센서장치는, 용기내의 수면을 맞고 돌아오는 음파중 일정시간 지연시켜 필터링후 신호를 수신하는 초음파 수신부(411)와;상기 초음파 수신부가 일정시간 지연후 수신한 해당 음파의 신호를 증폭처리하는 수신증폭부(412)와;상기 수신증폭부를 통해 입력한 수신음파를 기준신호와 비교하여 기준신호보다 높으면 디지털 신호로 변환하는 비교부(413)와;초음파 제어부의 제어에 따라 음파를 발사하기 위한 주파수를 발생하는 송신부(414)로 이루어짐을 특징으로 하는 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치.
- 화학 증착 공정에 있어서,액상의 전구체(200a)를 버블링하여 기화하는 단계(S1000);상기 전구체(200a)로 웨이퍼(300a)를 화학 증착하는 단계(S2000);용기(200)의 하부에 부착된 초음파 센서(410)에서 펄스상의 초음파를 전구체(200a)의 수면을 향해 방출하는 단계(S3000);일정시간 수신타임을 지연시키도록 하여 서스용기 두께에 해당하는 데이터를 제거하면서 초음파를 수신하는 단계(S4000);수신된 데이터 중에서 기준전압에 미치지 못하는 노이즈를 제거하는 단계(S5000);노이즈를 제거하고 난후 연산된 전구체의 수위 데이터와 이미 설정되어 있는 기준수위를 비교하는 단계(S6000);전구체(200a)의 수위가 상기 기준수위보다 낮다면 알람을 출력하고, 높다면 증착공정을 계속 진행할 수 있는 상태이므로 웨이퍼(300a)에 대한 증착 공정은 계속 진행하며, 시간당 순위변화가 일정수준 이상 급격히 변화시에는 알람을 제외하고, 초음파 센서(410)는 다시 초음파를 상기 전구체(200a)의 수면을 향해 방출하며, 상기의 초음파 제어부(420)를 통한 판별까지의 단계를 반복하는 단계(S7000)로 이루어짐을 특징으로 하는 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060041113A KR100778384B1 (ko) | 2006-05-08 | 2006-05-08 | 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060041113A KR100778384B1 (ko) | 2006-05-08 | 2006-05-08 | 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070108727A true KR20070108727A (ko) | 2007-11-13 |
KR100778384B1 KR100778384B1 (ko) | 2007-11-22 |
Family
ID=39063435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060041113A KR100778384B1 (ko) | 2006-05-08 | 2006-05-08 | 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100778384B1 (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102028831B1 (ko) * | 2018-04-26 | 2019-11-14 | 정성수 | 용접용 초음파 기화장치 |
CN110504195A (zh) * | 2019-08-22 | 2019-11-26 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 反应腔体的水气监测方法 |
KR20220127612A (ko) | 2021-03-11 | 2022-09-20 | 포이스주식회사 | 초음파를 이용한 반도체 제조용 화학약품 잔량 관리시스템 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100494656B1 (ko) * | 2003-08-12 | 2005-06-13 | 한국표준과학연구원 | 유기금속화학증착 공정을 위한 전구체 변질 진단장치 및진단방법 |
KR100592977B1 (ko) * | 2003-10-20 | 2006-06-23 | 한국표준과학연구원 | 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 |
-
2006
- 2006-05-08 KR KR1020060041113A patent/KR100778384B1/ko active IP Right Grant
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102028831B1 (ko) * | 2018-04-26 | 2019-11-14 | 정성수 | 용접용 초음파 기화장치 |
CN110504195A (zh) * | 2019-08-22 | 2019-11-26 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 反应腔体的水气监测方法 |
KR20220127612A (ko) | 2021-03-11 | 2022-09-20 | 포이스주식회사 | 초음파를 이용한 반도체 제조용 화학약품 잔량 관리시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100778384B1 (ko) | 2007-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2692864C2 (ru) | Способ определения уровня наполнения в резервуаре | |
CN104520682B (zh) | 用于确定和/或监测容器中的介质的料位的方法 | |
CN100485871C (zh) | 液量监视装置、搭载液量监视装置的半导体制造装置、以及液体材料和液量的监视方法 | |
US9557208B2 (en) | Liquid level measuring apparatus, method, and program | |
KR101568294B1 (ko) | 층상 매질들의 충전 레벨 측정 방법 | |
US8117918B2 (en) | Method and apparatus for determining pipewall thickness using one or more ultrasonic sensors | |
KR100778384B1 (ko) | 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 | |
US8842493B2 (en) | Method for offset timing of simultaneous seismic source firing | |
CN105102924A (zh) | 对壁表面的变化的超声波检测 | |
WO2009118542A1 (en) | Acoustic level determination of a material in a vessel | |
EP0661527A1 (fr) | Dispositif et méthode de détection d'interfaces séparant plusieurs phases par ondes ultrasonores | |
RU2389982C1 (ru) | Способ компенсации погрешности измерения ультразвукового уровнемера | |
CA2658318A1 (en) | Dithering control of oscillator frequency to reduce cumulative timing error in a clock | |
US20060188646A1 (en) | System and method for detecting remaining amount of precursor in vessel during CVD process | |
FR2830321A1 (fr) | Procede et dispositif de jaugeage acoustique d'un liquide | |
KR100592977B1 (ko) | 화학 증착 공정시 용기 내의 전구체 잔존량 진단장치 및진단방법 | |
JP2023544471A (ja) | フォアライン堆積診断および制御のための方法およびシステム | |
JP5940350B2 (ja) | 振動計測装置および振動計測方法 | |
RU2098754C1 (ru) | Способ измерения толщины слоя отложений на внутренних стенках водопроводных труб | |
JP2006242630A (ja) | 化学蒸着工程時、容器内の前駆体残存量の診断装置及び診断方法 | |
JP2011141236A (ja) | 減衰材の肉厚算出方法及びその装置 | |
KR100724091B1 (ko) | 화학증착용 전구체 분해 진단장치 및 진단방법 | |
US20020100326A1 (en) | Method and apparatus for measuring ultrasonic properties of an object | |
RU2437066C1 (ru) | Способ ультразвукового контроля уровня жидкости в резервуарах и устройство для ультразвукового контроля уровня жидкости в резервуарах | |
US20210341350A1 (en) | Method for generating an exciter signal and for acoustic measuring in technical hollow spaces |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121011 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131015 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141010 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151030 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161027 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171017 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181101 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190926 Year of fee payment: 13 |