KR20070104165A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory device Download PDFInfo
- Publication number
- KR20070104165A KR20070104165A KR1020060036423A KR20060036423A KR20070104165A KR 20070104165 A KR20070104165 A KR 20070104165A KR 1020060036423 A KR1020060036423 A KR 1020060036423A KR 20060036423 A KR20060036423 A KR 20060036423A KR 20070104165 A KR20070104165 A KR 20070104165A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- data
- test
- output
- input
- lines
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/02—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
- G11C29/022—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters in I/O circuitry
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/02—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
- G11C29/025—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters in signal lines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/1201—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising I/O circuitry
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/14—Implementation of control logic, e.g. test mode decoders
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2207/00—Indexing scheme relating to arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C2207/10—Aspects relating to interfaces of memory device to external buses
- G11C2207/105—Aspects related to pads, pins or terminals
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
Description
도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 데이터 경로의 결함을 검출하는 블록도이다.1 is a block diagram of detecting a defect in a data path of a conventional semiconductor memory device.
도 2는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 데이터 경로의 결함을 검출하는 블록도이다.2 is a block diagram for detecting a defect in a data path of a semiconductor memory device of the present invention.
도 3은 본 발명의 테스트 모드 제어 신호를 발생시키는 블록도이다.3 is a block diagram for generating a test mode control signal of the present invention.
도 4는 본 발명의 반도체 메모리 장치에서 테스트 모드 제어 신호들의 조합에 따른 테스트 데이터 레벨 체크 및 위상 비교 제어 신호의 값을 나타낸 도표이다.4 is a diagram illustrating values of a test data level check and a phase comparison control signal according to a combination of test mode control signals in the semiconductor memory device of the present invention.
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 병합된 데이터 요청 테스트 모드를 사용하여 테스트하게 될 때 발생하는 점검되지 않은 미테스트 데이터 라이트/리드 경로에 대하여도 모두 테스트할 수 있는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device capable of testing all unchecked untested data write / lead paths generated when testing using the merged data request test mode. .
반도체 메모리 장치의 집적도가 증가함에 따라 테스트를 위한 기술도 테스트 비용 절감과 테스트 시간의 감소를 위하여 함께 발전하여 왔다. 반도체 메모리 장치의 테스트는 제조 공정이 마친 다음 이루어지는데 불합격 판정을 받게 되면 불량의 원인을 분석하기 위해 웨이퍼 테스트와 관련된 공정을 찾아 불량 원인을 분석하여 제조 공정에 반영함으로써 더욱 완벽한 반도체 메모리 장치를 제조하도록 하고 있다. 이와 같은 웨이퍼 테스트는 조립 전 불량 칩을 찾아내어 반도체 제조 과정에서의 노력이나 시간의 소비를 절감시키는데 그 목적이 있다. As the integration of semiconductor memory devices increases, the technology for testing has evolved to reduce test costs and test time. The semiconductor memory device is tested after completion of the manufacturing process, and if it is rejected, a process related to wafer testing is found to analyze the cause of the defect, and the defect is analyzed and reflected in the manufacturing process to manufacture a more complete semiconductor memory device. Doing. The purpose of such a wafer test is to find defect chips before assembly and to reduce the effort and time spent in the semiconductor manufacturing process.
일반적으로 반도체 메모리 테스트라 함은 회로 설계 엔지니어가 프로그래밍한 명령어, 어드레스, 데이터 형식을 테스트 엔지니어가 테스터로 인가하여 프로그램에 정해진 순서에 따라 테스트 대상 반도체 메모리를 동작시켜서 인가된 입력에 따라 정상적인 출력이 나오는지 여부에 따라 테스트 패스 또는 테스트 페일을 결정하게 된다. In general, semiconductor memory test means that the test engineer applies instructions, addresses, and data types programmed by the circuit design engineer to the tester, and operates the test target semiconductor memory in the order specified in the program. The test pass or test fail is determined depending on whether or not it is.
하지만, 반도체 메모리 장치의 집적도가 커지고 칩의 공정상 최소 선폭이 점차 감소하면서 많은 경우의 수로 반도체 메모리 불량이 발생하고 있다. 이에 따라 테스트하는 항목의 종류가 다양해지고 테스트 시간도 크게 증가하여 결국 반도체 메모리의 제조비용에 큰 영향을 미치게 되었다. However, as the degree of integration of semiconductor memory devices increases and the minimum line width of the chip gradually decreases, semiconductor memory defects occur in many cases. As a result, the types of items to be tested are diversified and test time is greatly increased, which in turn has a great influence on the manufacturing cost of semiconductor memories.
이와같이 복수개의 입출력 패드를 구비한 반도체 메모리 장치는 테스트 비용을 절감시키기 위하여 병합된 데이터 요청(MDQ : Merged Data Request) 테스트 모드를 사용한다. 이 모드를 사용하면 64개 테스트 대상 데이터 라인 모드 반도체 메모리 장치를 1개 테스트 대상 데이터 라인 모드로 테스트가 가능하고 테스트 장비의 입출력 핀 개수를 획기적으로 감소시킬 수 있어 다중 파라미터 테스트를 가능하 게 한다. 따라서, 일반적으로 대부분의 반도체 메모리 장치는 이상과 같은 병합된 데이터 요청(MDQ) 테스트 모드에서 다양한 종류의 테스트를 수행하게 된다.As described above, a semiconductor memory device having a plurality of input / output pads uses a merged data request (MDQ) test mode to reduce test costs. In this mode, 64 test data line mode semiconductor memory devices can be tested in 1 test data line mode, and the number of input / output pins of the test equipment can be dramatically reduced, thereby enabling multi-parameter test. Therefore, in general, most semiconductor memory devices perform various types of tests in the merged data request (MDQ) test mode as described above.
하지만, 병합된 데이터 요청(MDQ) 테스트 모드를 사용하여 반도체 메모리 장치를 테스트하게 되면 점검되지 않은 미테스트 입출력 패드와 이에 따른 미테스트 데이터 라이트/리드 경로가 발생하게 되는데, 이하 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.However, if the semiconductor memory device is tested using the merged data request (MDQ) test mode, an unchecked untested input / output pad and a corresponding untested data write / lead path are generated. Explain.
일반적으로 반도체 메모리의 데이터 라이트 신호가 입력되면 들어오는 데이터는 반전된 값과 정상 값이 입력회로와 메모리 셀 어레이 사이에 한 쌍의 데이터 라인인 라이트 데이터 라인과 라이트 데이터 바 라인에 실리게 되고, 데이터 리드 신호는 메모리 셀 어레이와 입출력 센스 증폭기 사이에 리드 데이터 라인과 데이터 출력 바 라인의 값이 입출력 센스 증폭기에 입력되어 출력 회로를 거쳐 그 결과를 출력한다. 따라서 데이터 라이트/리드 경로의 고장을 검출하기 위해서는 데이터 입출력 라인들, 입출력 센스 증폭기, 출력 회로 등을 포함하게 된다.In general, when the data write signal of the semiconductor memory is input, the incoming data is loaded on the write data line and the write data bar line, in which the inverted value and the normal value are a pair of data lines between the input circuit and the memory cell array. The signal is input between the memory cell array and the input / output sense amplifier and the values of the read data line and the data output bar line are input to the input / output sense amplifier and output the result through the output circuit. Therefore, data input / output lines, input / output sense amplifiers, and output circuits are included to detect a failure of the data write / read path.
도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 데이터 라이트와 리드 경로의 결함을 검출하는 블록도로서, 4 개의 외부 데이터 입출력 패드들을 구비하고 데이터의 입출력을 위하여 4 비트로 메모리 셀 어레이를 엑세스하는 반도체 메모리 장치가 예로서 도시되어 있다. 1 is a block diagram of detecting defects in a data write and a read path of a conventional semiconductor memory device. A semiconductor memory device having four external data input / output pads and accessing a memory cell array with 4 bits for input / output of data is an example. It is shown as.
도 1 에 도시되어 있듯이, 종래의 반도체 메모리 장치는 데이터를 저장하는 메모리 셀 어레이(110), 데이터 입출력 패드들(DQ1 ~ DQ4), 데이터 라이트 동작시 데이터 입출력 패드들(DQ1 ~ DQ4)로부터 데이터를 수신하여 메모리 셀 어레이(110) 에 데이터를 라이트하는 데이터 라이트 회로(120), 및 데이터 리드 동작시 메모리 셀 어레이(110)로부터 데이터를 리드하여 데이터 입출력 패드들(DQ1 ~ DQ4)로 전송하는 데이터 리드 회로(130)로 구성되어 있다.As shown in FIG. 1, a conventional semiconductor memory device may store data from a
또한, 데이터 라이트 회로(120)는 데이터 입출력 패드들(DQ1 ~ DQ4)로부터 4 비트를 수신하여 테스트 모드 제어 신호의 제어에 따라 정상 모드에서는 입력 회로(121)로 데이터를 전달하고 테스트 모드에서는 디멀티플렉서단(122)으로 데이터를 전달하는 제1 테스트 모드 선택부(123), 테스트 모드시 제1 테스트 모드 선택부(123)로부터 2비트의 데이터를 인가받아 4 비트를 출력하는 디멀티플렉서단(122), 제1 테스트 모드 선택부(123) 또는 디멀티플렉서단(122)으로부터 데이터를 수신하여 메모리 셀 어레이(110)에 데이터를 라이트하는 입력 회로(121)로 구성되어 있다.In addition, the
또한, 데이터 리드 회로(130)는 메모리 셀 어레이로부터 각각 데이터를 감지하고 증폭된 데이터를 출력하는 4개의 입출력 센스 증폭기들(131), 입출력 센스 증폭기들(131)로부터 4 비트를 수신하여 테스트 모드 제어 신호의 제어에 따라 정상 모드에서는 출력 회로(133)로 데이터를 전달하고 테스트 모드에서는 비교기(132)로 데이터를 전달하는 제2 테스트 모드 선택부(134), 테스트 모드시에 입출력 센스 증폭기들(131)로부터 4 비트의 데이터를 수신하여 2비트의 데이터로 바꾸어 출력 회로(133)로 출력하는 비교기(132), 제2 테스트 모드 선택부(134) 또는 비교기(132)로부터 데이터를 인가받아 데이터 입출력 패드들(DQ1 ~ DQ4)로 전달하는 출력 회로(133)로 구성되어 있다.In addition, the
여기에서는 이해를 돕기 위해 라이트와 리드의 경로를 4개로 한정하여 설명하였으나, 실제의 적용례에서는 64개 이상의 라이트와 리드의 경로에도 본 발명이 적용될 수 있음은 당연하다.Here, the light and lead paths are limited to four paths for better understanding. However, the present invention can be applied to the paths of 64 or more light and lead paths in practical applications.
도 1 에 도시되어 있는 종래의 반도체 메모리 장치의 테스트는 다음과 같이 한다.The test of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 1 is as follows.
1 또는 0 의 데이터가 테스트 장비로부터 홀수 번째 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)을 통하여 2 비트씩 제1 테스트 모드 선택부(123)로 입력된다. 입력된 2 비트의 데이터는 테스트 모드 제어 신호 즉 테스트 모드임을 나타내는 위상 비교 제어 신호(LCOM)의 제어에 따라 디멀티플렉서단(122)으로 전달되고, 디멀티플렉서단(122)에서 4 비트의 데이터로 바뀌어져 입력회로(121)를 통하여 메모리 셀 어레이(110)에 데이터 라이트 된다. Data of 1 or 0 is input from the test equipment to the first
메모리 셀 어레이(110)에 데이터 라이트된 데이터는 데이터 리드 경로에서 4 비트씩 입출력 센스 증폭기들(131-1 내지 131-4)을 통하여 데이터 라이트 경로에서와 마찬가지로 테스트 모드임을 나타내는 위상 비교 제어 신호(LCOM)의 제어에 따라 비교기(132)로 전송된다. 비교기(132)를 구성하는 각 비교기들(132-1 내지 132-2)은 두 입력이 동일할 때에는 1 을 출력하고, 두 입력이 상이할 때에는 0 을 출력한다. 비교기(132)는 4 비트의 데이터를 입력받아 2 비트의 데이터를 생성하여 출력회로(131)를 통하여 홀수 번째의 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)로 출력한다. 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)로 출력된 데이터가 데이터 라이트시 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)로 입력된 데이터와 동일하면 이 반도체 장치는 양호하다고 판 단되고, 상이하면 이 반도체 장치는 불량으로 판단된다.The data written to the
하지만, 상술한 바와 같이 종래의 병합된 데이터 요청(MDQ) 테스트 모드를 사용하여 반도체 메모리 장치를 테스트하게 되면 테스트 장비(140)는 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)만을 통해 입출력되는 비교 결과 데이터의 상태를 보고 결함이 있는 메모리 셀들의 어드레스를 파악하게 되고, 나머지 데이터 입출력 패드들(DQ2, DQ4)은 점검되지 않은 미테스트 상태가 된다. However, when the semiconductor memory device is tested using the conventional merged data request (MDQ) test mode as described above, the
그런데 메모리 공정 기술이 발전함에 따라 메모리 칩의 밀도가 높아지고 동작 속도 또한 높아짐에 따라 이웃 셀의 상태에 따라 오동작을 일으키는 고장의 테스트는 더욱 복잡해지고 많은 시간이 소요된다. 테스트 시간은 곧 테스트 비용으로 이어지게 되므로 이를 절감하는 것은 매우 중요한 비중을 차지하게 되는데, 종래의 병합된 데이터 요청(MDQ) 테스트 모드를 사용하게 되면 도 1에서처럼 점검되지 않은 미테스트 데이터 입출력 패드들(DQ2, DQ4)이 발생하게 되고, 이 데이터 입출력 패드들에 연결된 데이터 라이트/리드 경로에 대한 결함 여부를 테스트하기 위해서는 또 한번의 테스트 과정을 반복해야 하는 추가적인 노력과 시간이 필요하게 되는 문제점이 있었다. However, as memory process technology advances, as memory chips become denser and operate faster, testing of faults that cause malfunctions according to the state of neighboring cells becomes more complicated and time consuming. Since the test time will soon lead to the test cost, reducing this is very important. Using the conventional merged data request (MDQ) test mode, the untested data input / output pads (DQ2) not checked as shown in FIG. , DQ4) occurs, and an additional effort and time required to repeat another test process is required to test whether the data write / lead path connected to the data input / output pads is defective.
즉, 종래의 반도체 메모리 장치의 라이트와 리드의 경로에 대하여 결함을 검출하기 위해서 병합된 데이터 요청(MDQ) 테스트 모드를 사용하여 반도체 메모리 장치를 테스트하게 되면 테스트 장비의 입출력 핀 개수를 감소시킬 수 있어 다중 파라미터 테스트를 가능하게 하지만, 점검되지 않은 미테스트 라이트 경로인 라이트 데이터 라인들(DIL2, DIL4) 또는 라이트 데이터 바 라인들(DIBL2, DIBL4)로부터 데 이터 입출력 패드들(DQ2, DQ4)까지의 경로와 미테스트 리드 경로인 데이터 입출력 패드들(DQ2, DQ4)로부터 메모리 셀 어레이(110)까지의 경로가 발생하게 된다. 이러한 점검되지 않은 미테스트 데이터 라이트/리드 경로에 대한 결함 여부를 테스트하기 위해서는 또 한번의 테스트 과정을 반복해야 하는 추가적인 노력과 시간이 필요하게 되는 번거로움이 있었다.That is, when the semiconductor memory device is tested using the merged data request (MDQ) test mode to detect defects in the paths of the write and read paths of the conventional semiconductor memory device, the number of input / output pins of the test equipment can be reduced. The path from the write data lines DIL2 and DIL4 or the write data bar lines DIBL2 and DIBL4 to the data input / output pads DQ2 and DQ4, which allows for multi-parameter testing but is an unchecked untested write path. A path from the data input / output pads DQ2 and DQ4 that are the untested read paths to the
본 발명의 목적은 테스트 대상 반도체 메모리 장치에 대한 데이터 경로의 결함을 스크린하게 함으로써 미테스트 데이터 입출력 경로 없이 모든 데이터 경로에 대하여 테스트할 수 있어 테스트 시간과 비용을 절약할 수 있는 반도체 메모리 장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can test all data paths without untested data input / output paths by screening defects in the data paths for the semiconductor memory device under test, thereby saving test time and cost. have.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 복수개의 데이터 입출력 패드들, 정상 라이트 동작 및 테스트 라이트 동작시에 복수개의 데이터 입출력 패드들로 인가되는 입력 데이터를 처리하여 복수개의 라이트 데이터 라인들로 라이트 데이터를 발생하는 복수개의 입력 회로들, 테스트 라이트 동작시에 복수개의 데이터 입출력 패드들과 복수개의 입력 회로들 사이의 복수개의 데이터 입력 라인들에 테스트 입력 데이터를 발생하는 테스트 입력 데이터 발생부, 테스트 라이트 동작시에 복수개의 라이트 데이터 라인들의 인접 라인들 사이의 신호의 위상을 비교하는 복수개의 제1 위상 비교부들, 정상 라이트 동작시에 라이트 데이터를 저장하고, 정상 리드 동작시에 복수개의 리드 데이터 라인들로 리드 데이터를 발생하는 메모리 셀 어레이, 정상 리드 동작시에 리드 데이터를 증폭하여 복수개의 신호 라인들로 증폭된 리드 데이터를 출력하는 복수개의 입출력 센스 증폭기들, 테스트 리드 동작시에 복수개의 신호 라인들에 테스트 출력 데이터를 발생하는 테스트 출력 데이터 발생부, 정상 리드 동작 및 상기 테스트 리드 동작시에 상기 테스트 출력 데이터를 처리하여 상기 복수개의 데이터 입출력 패드들에 연결된 복수개의 데이터 출력 라인들로 출력 데이터를 발생하는 복수개의 출력 회로들, 테스트 리드 동작시에 상기 복수개의 데이터 출력 라인들의 인접 라인들 사이의 신호의 위상을 비교하는 복수개의 제2 위상 비교부들을 구비하는 것을 특징으로 한다. The semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is processed into a plurality of write data lines by processing the input data applied to the plurality of data input and output pads, the normal write operation and the test write operation in the plurality of data input and output pads A plurality of input circuits for generating write data, a test input data generator for generating test input data on a plurality of data input lines between the plurality of data input / output pads and the plurality of input circuits during a test write operation, and a test A plurality of first phase comparators for comparing phases of signals between adjacent lines of the plurality of write data lines in a write operation, storing write data in a normal write operation, and a plurality of read data lines in a normal read operation Memory cells that generate read data The input / output sense amplifiers may amplify read data in a normal read operation to output amplified read data into a plurality of signal lines, and generate a test output data in a plurality of signal lines in a test read operation. An output data generator, a plurality of output circuits for processing the test output data during normal read operation and the test read operation to generate output data to a plurality of data output lines connected to the plurality of data input / output pads, and a test And a plurality of second phase comparators for comparing phases of signals between adjacent lines of the plurality of data output lines during a read operation.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 반도체 메모리 장치를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a semiconductor memory device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 데이터 경로의 결함을 검출하는 블록도로서, 도1에 나타낸 종래의 반도체 메모리 장치의 구성에 테스트하지 못하는 입출력단에 대하여 테스트 모드 제어 신호의 제어로 동작하는 테스트 입력 데이터 발생부(100), 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3), 테스트 출력 데이터 발생부(400), 리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3)을 추가하여 구성되어 있다.FIG. 2 is a block diagram for detecting a defect in a data path of a semiconductor memory device of the present invention, wherein a test operates under control of a test mode control signal for an input / output terminal that cannot be tested in the configuration of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. The
도 2에 나타낸 블록들 각각의 기능은 도 1에 나타낸 해당 블록들 각각의 기능과 동일하므로 설명을 생략하기로 하고, 여기에서는 추가되는 블록인 테스트 입력 데이터 발생부(100), 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3), 테스트 출력 데이터 발생부(400), 리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300- 3)의 구성과 기능에 대해서만 설명하기로 한다.Since the functions of each of the blocks shown in FIG. 2 are the same as the functions of the corresponding blocks shown in FIG. 1, description thereof will be omitted. Here, the test
테스트 입력 데이터 발생부(100)는 데이터 라이트 경로에서 각각의 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)과 각각의 제1 테스트 모드 선택부(123-1, 123-2) 사이에 위치하고, 테스트 출력 데이터 발생부(400)는 데이터 리드 경로에서 각각의 비교기들(132-1 내지 132-4)과 각각의 출력 회로들(133-1 내지 133-4) 사이에 위치하면서 일측이 전원 전압에 연결된 각각의 PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4)과 일측이 접지 전압에 연결된 각각의 NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4)이 직렬 연결된 CMOS 트랜지스터로 구성되어 있다. The test
한편, 테스트 모드 레지스터는 보통 반도체 메모리 장치가 사용하는 복수개의 테스트 모드들 각각에 해당하는 다양한 옵션 등을 프로그래밍 하여 저장하는데, 외부로부터 특정 테스트 모드를 설정하기 위한 명령어가 입력되면, 입력된 명령어에 해당하는 테스트 모드를 파악하고, 파악된 테스트 모드로 설정될 수 있도록 하는 테스트 모드 설정 신호를 발생시켜 준다. 본 발명에서는 테스트 모드 레지스터 중 3비트(TMRS[2:0])를 정상 모드 또는 테스트 모드 셋팅용 비트와 테스트 모드에서의 하이 레벨 데이터 또는 로우 레벨 데이터 체크용 비트들로 사용한다. 즉, TMRS[2]는 정상 모드 또는 테스트 모드 셋팅용, TMRS[1]은 하이 레벨 데이터 체크용, TMRS[0]은 로우 레벨 데이터 체크용으로 각각 활용되는데, 이 데이터들은 외부 명령어들과 어드레스 버스를 통해 인가되는 모드 설정 신호를 조합하여 생성된다. Meanwhile, the test mode register programs and stores various options corresponding to each of a plurality of test modes used by the semiconductor memory device. When a command for setting a specific test mode is input from an external device, the test mode register corresponds to the input command. To determine the test mode and generate a test mode setting signal that can be set to the identified test mode. In the present invention, three bits (TMRS [2: 0]) of the test mode register are used as bits for normal mode or test mode setting and bits for high level data or low level data check in the test mode. That is, TMRS [2] is used for normal mode or test mode setting, TMRS [1] is used for high level data check, and TMRS [0] is used for low level data check. It is generated by combining the mode setting signal applied through.
도 3은 본 발명의 테스트 모드 제어 신호를 발생시키는 블록도로서, 어드레스 래치부(150), 명령어 디코더(250), 테스트 모드 제어 신호 발생부(350)를 구비 한다. 어드레스 래치부(150)는 어드레스 버스(A[12:0])를 통해 외부로부터 모드 설정 신호(MA[12:0])를 인가받아 저장한 후 소정 시간 경과 후에 출력하고, 명령어 디코더(250)는 외부로부터 모드 선택을 위한 명령 신호들(/CS(Chip Select bar), /RAS(Row Address Strobe bar), /CAS(Column Address Strobe bar), /WE(Write Enable bar))을 인가받아 모드 제어 신호(MRS)를 출력하며, 테스트 모드 제어 신호 발생부(350)는 상기 모드 설정 신호(MA[12:0])와 상기 모드 제어 신호(MRS)를 인가받아 테스트 모드 제어 신호(TMRS[2:0])를 발생시킨다.3 is a block diagram for generating a test mode control signal of the present invention, and includes an
도 2에서 테스트 입력 데이터 발생부(100) 및 테스트 출력 데이터 발생부(400) 내 PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4)의 게이트에는 하이레벨 체크(H-CK) 신호가 인가되고, NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4)의 게이트에는 로우레벨 체크(L-CK) 신호가 인가된다. PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4)과 NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4) 각각의 접점은 데이터 라이트 경로에서는 각각의 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)과 각각의 제1 테스트 모드 선택기들(123-1, 123-2)의 접점, 데이터 리드 경로에서는 각각의 비교기들(132-1, 132-2) 및 제2 테스트 모드 선택기들(134-2, 134-4)과 각각의 출력 회로들(133-1 내지 133-4)의 접점에 각각 연결된다. In FIG. 2, a high level check (H-CK) signal is applied to gates of the PMOS transistors P1 to P4 in the test
라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3)은 데이터 라이트 경로에서 각각의 입력 회로들(121-1 내지 121-4)과 메모리 셀 어레이(110) 사이의 인접하는 라이트 데이터 라인들 간에 위치하면서 인접하는 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4) 각각과 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL4) 각각을 연결하는 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)과 각 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 트랜지스터의 게이트에 접속되는 인버터들(INV1 내지 INV3, INVB1 내지 INVB3)로 구성되어 있다. The write data line phase comparators 200-1 to 200-3 are disposed between adjacent write data lines between the respective input circuits 121-1 to 121-4 and the
각각의 입력 회로들(121-1 내지 121-4)과 메모리 셀 어레이(110) 사이의 인접하는 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4)을 각각 연결하는 전송 게이트들(TG1 내지 TG3)의 PMOS 트랜지스터의 게이트에는 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 인버터들(INV1 내지 INV3)에 의해 반전된 출력 신호가 인가되고, 전송 게이트들(TG1 내지 TG3)의 NMOS 트랜지스터의 게이트에는 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 바로 인가된다.The PMOS transistors of the transfer gates TG1 to TG3 respectively connect the adjacent write data lines WDL1 to WDL4 between the respective input circuits 121-1 to 121-4 and the
마찬가지로 인접하는 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL4)을 연결하는 전송 게이트들(TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 트랜지스터의 게이트에는 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 인버터들(INVB1 내지 INVB3)에 의해 반전된 출력 신호가 인가되고, 전송 게이트들(TGB1 내지 TGB3)의 NMOS 트랜지스터의 게이트에는 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 바로 인가된다. Similarly, the phase comparison control signal LCOM for normal mode or test mode setting is applied to the gates of the PMOS transistors of the transfer gates TGB1 to TGB3 connecting the adjacent write data bar lines WDBL1 to WDBL4. The output signal inverted by INVB3 is applied, and the phase comparison control signal LCOM for normal mode or test mode setting is directly applied to the gates of the NMOS transistors of the transfer gates TGB1 to TGB3.
리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3)은 데이터 리드 경로에서 각각의 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)과 각각의 출력 회로들(133-1 내지 133-4) 사이의 인접하는 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL4)간에 위치하면서 인접하는 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL4)을 연결하는 각각의 전송 게이트들(TG1 내지 TG3)과 각 전송 게이트들(TG1 내지 TG3)의 PMOS 트랜지스터의 게이트에 접속되는 인버터들(INV1 내지 INV3)로 구성되어 있다. The read data line phase comparators 300-1 to 300-3 are adjacent to each of the data input / output pads DQ1 to DQ4 and the respective output circuits 133-1 to 133-4 in the data lead path. The PMOS transistors of the transfer gates TG1 to TG3 and the respective transfer gates TG1 to TG3 that are positioned between the data output lines DOL1 to DOL4 and connect adjacent data output lines DOL1 to DOL4. It consists of inverters INV1 to INV3 connected to the gate.
각각의 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)과 각각의 출력 회로들(133-1 내지 133-4) 사이의 인접하는 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL4)을 연결하는 전송 게이트들(TG1 내지 TG3)의 PMOS 트랜지스터의 게이트에는 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 인버터들(INV1 내지 INV3)에 의해 반전된 출력 신호가 인가되고, 전송 게이트들(TG1 내지 TG3)의 NMOS 트랜지스터의 게이트에는 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 바로 인가된다. Transfer gates TG1 to TG3 connecting the respective data input / output pads DQ1 to DQ4 and adjacent data output lines DOL1 to DOL4 between the respective output circuits 133-1 to 133-4. The output signal in which the phase comparison control signal LCOM for the normal mode or the test mode setting is inverted by the inverters INV1 to INV3 is applied to the gate of the PMOS transistor of the PMOS transistor, and the NMOS transistors of the transfer gates TG1 to TG3 are applied. The gate is directly applied with the phase comparison control signal LCOM for setting the normal mode or the test mode.
따라서, 테스트 입력 데이터 발생부(100)는 데이터 라이트 경로에서 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)을 통한 라이트 테스트용 데이터를 인가받는 대신에 테스트 모드 제어 신호 조합(TMRS[2:0])의 제어에 의해 전원 전압 또는 접지 전압을 인가받게 함으로써 라이트 테스트 데이터의 위상을 제어한다.Accordingly, the test
테스트 출력 데이터 발생부(400)는 데이터 리드 경로에서 또한 메모리 셀 어레이(110)로부터의 리드 테스트 데이터를 인가받는 대신에 테스트 모드 제어 신호 조합(TMRS[2:0])의 제어에 의해 전원 전압 또는 접지 전압을 인가받게 함으로써 리드 테스트 데이터의 위상을 제어한다. The test
또한, 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3)은 데이터 라이트 경로에서 정상 모드와 테스트 모드를 구분하고, 테스트 모드에서 인접한 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4) 사이와 인접한 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL4) 사이의 전류의 흐름 여부를 점검하여 양 라인간의 위상차를 측정함으로써 테스트 대상 반도체 장치의 공정적인 결함이나 데이터 라이트 경로 배선의 단 락(short)의 존재 여부를 판단한다.In addition, the write data line phase comparison units 200-1 to 200-3 distinguish the normal mode from the test mode in the data write path, and write light bars adjacent to and adjacent to the adjacent write data lines WDL1 to WDL4 in the test mode. By checking whether the current flows between the lines WDBL1 to WDBL4 and measuring the phase difference between the two lines, it is determined whether there is a process defect of the semiconductor device under test or whether there is a short of the data write path wiring.
리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3)은 데이터 리드 경로에서 역시 정상 모드와 테스트 모드를 구분하고, 테스트 모드에서 인접한 데이터 출력 라인 사이의 전류의 흐름 여부를 점검하여 양 라인간의 위상차를 측정함으로써 테스트 대상 반도체 장치의 공정적인 결함이나 데이터 리드 경로 배선의 단락(short)의 존재 여부를 판단한다. The lead data line phase comparison units 300-1 to 300-3 also distinguish the normal mode from the test mode in the data lead path, and check the current flow between adjacent data output lines in the test mode to check the phase difference between both lines. Is determined to determine whether there is a process defect in the semiconductor device under test or a short circuit in the data lead path wiring.
예를 들어 테스트 대상 반도체 메모리 장치가 정상적으로 동작하는 경우에는 테스트 장비(140) 내 전류계(140-1)에서 파워 패드(VCC)를 통해 측정된 전류의 값이 수 uA 인 반면 데이터 경로 중에 브리지(bridge)와 같은 배선이 단락된 부분이 있는 경우에는 측정된 전류의 값이 수 mA 로 증가하게 되므로 이를 통해 테스트 대상 반도체 메모리 장치의 데이터 라이트 및 리드 경로의 결함 여부를 테스트할 수 있다. For example, when the semiconductor memory device under test operates normally, the value of the current measured through the power pad VCC in the ammeter 140-1 in the
다음으로 도 2 및 도 4를 참조하여 본 발명의 반도체 메모리 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다. 도 4는 본 발명의 반도체 메모리 장치에서 테스트 모드 제어 신호들의 조합에 따른 테스트 데이터 레벨 체크 및 위상 비교 제어 신호의 값을 나타낸 도표로서, TMRS[2]는 정상 모드 셋팅용, TMRS[1]은 하이 레벨 데이터 체크용, TMRS[0]은 로우 레벨 데이터 체크용 테스트 모드 제어 신호들이고, H-CK는 하이레벨 체크 신호, L-CK는 로우레벨 체크 신호, LCOM는 위상 비교 제어 신호를 나타낸다. Next, an operation of the semiconductor memory device of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 4. 4 is a diagram illustrating values of a test data level check and a phase comparison control signal according to a combination of test mode control signals in the semiconductor memory device of the present invention, where TMRS [2] is for normal mode setting and TMRS [1] is high. For the level data check, TMRS [0] is the test mode control signals for the low level data check, H-CK represents the high level check signal, L-CK represents the low level check signal, and LCOM represents the phase comparison control signal.
먼저, 데이터 라이트 경로에서 정상 모드에서는 도 4의 표에서처럼 테스트 모드 제어 신호(TMRS[2:0]) 조합의 제어로 테스트 입력 데이터 발생부(100) 내 PMOS 트랜지스터들(P1, P2) 게이트에 하이레벨 체크(H-CK) 신호가 하이 레벨로 인가되고, NMOS 트랜지스터들(N1, N2)의 게이트에 로우레벨 체크(L-CK) 신호가 로우 레벨로 인가되면 양 트랜지스터들(P1 내지 P4, N1 내지 N4) 모두 턴 오프 되어 제1 테스트 모드 선택부(123)는 전원 전압 또는 접지 전압 대신에 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)을 통해 데이터들은 인가받는다. 이 데이터들은 정상 모드에서는 위상 비교 제어 신호(LCOM)가 로우로 인가됨에 따라 디멀티플렉서단(122)을 거치지 않고 입력 회로(121)로 바로 전달된다. First, in the normal mode in the data write path, as shown in the table of FIG. 4, the gate of the PMOS transistors P1 and P2 in the test
라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3) 내 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 트랜지스터 게이트에 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 인버터들(INV1 내지 INV3, INVB1 내지 INVB3)에 의해 반전되어 하이 레벨로 인가되고, NMOS 트랜지스터의 게이트에 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 로우 레벨로 인가되면 양 트랜지스터 모두 턴 오프 되어 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)은 디스에이블 상태가 되어 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4)간 또는 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL4)간의 전류의 흐름 측정 없이 데이터가 입력 회로들(121-1 내지 121-4)에서 메모리 셀 어레이(110)로 정상적으로 전달된다. Phase comparison control signal LCOM for normal mode or test mode setting is applied to the PMOS transistor gates of the transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 in the write data line phase comparison units 200-1 to 200-3. Inverted by (INV1 to INV3, INVB1 to INVB3) and applied to a high level, both transistors are turned off when the phase comparison control signal LCOM for normal mode or test mode setting is applied to the gate of the NMOS transistor at a low level. The transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 are in a disabled state so that data is inputted without measuring the flow of current between the write data lines WDL1 to WDL4 or between the write data bar lines WDBL1 to WDBL4. The data is normally transferred to the
다음으로 데이터 라이트 경로의 테스트 모드에서 하이 레벨 데이터의 테스트를 하기 위해서는 도 4의 표에서처럼 테스트 모드 제어 신호의 제어로 테스트 입력 데이터 발생부(100) 내 PMOS 트랜지스터들(P1, P2) 및 NMOS 트랜지스터들(N1, N2) 게이트에 각각 하이레벨 체크(H-CK) 신호 및 로우레벨 체크(L-CK) 신호를 로우 레벨로 인가시키고, 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3)의 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 를 하이 레벨로 인가시킨다. Next, in order to test the high level data in the test mode of the data write path, as shown in the table of FIG. 4, the PMOS transistors P1 and P2 and the NMOS transistors in the test
이에 따라 테스트 입력 데이터 발생부(100) 내 PMOS 트랜지스터들(P1, P2)은 턴 온 되고 NMOS 트랜지스터들(N1, N2)은 턴 오프 되어 전원 전압이 제1 테스트 모드 선택부(123-1, 123-2)에 인가되고, 이 데이터는 테스트 모드에서 위상 비교 제어 신호(LCOM)가 하이로 인가됨에 따라 디멀티플렉서단(122)으로 인가되어 각 디멀티플렉서들(122-1, 122-2)은 1비트씩을 인가받아 2비트씩으로 변환하여 입력 회로(121)로 출력한다. 입력 회로들(121-1 내지 121-4)은 이 데이터들을 인가받아 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4)에 전달하며, 로우 레벨로 반전된 데이터는 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL4)에 전달한다. Accordingly, the PMOS transistors P1 and P2 in the test
또한, 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3) 내 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 및 NMOS 트랜지스터가 모두 턴 온 되어 라이트 데이터 라인들(DIL1 내지 DIL3)에 전달된 하이 레벨 데이터는 인접한 라이트 데이터 라인들(DIL2 내지 DIL4)에 전송되고 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL3)에 전달된 로우 레벨 데이터는 인접한 라이트 데이터 바 라인들(WDBL2 내지 WDBL4)에 전송된다. In addition, the PMOS and NMOS transistors of the transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 in the write data line phase comparison units 200-1 to 200-3 are turned on to the write data lines DIL1 to DIL3. The transferred high level data is transmitted to adjacent write data lines DIL2 to DIL4 and the low level data transferred to write data bar lines WDBL1 to WDBL3 is transmitted to adjacent write data bar lines WDBL2 to WDBL4. .
만일 로우 레벨 데이터의 테스트를 하기 위해서는 도 4의 표에서처럼 테스트 모드 제어 신호의 제어로 테스트 입력 데이터 발생부(100) 내 PMOS 트랜지스터 들(P1, P2) 및 NMOS 트랜지스터들(N1, N2) 게이트에 하이레벨 체크(H-CK) 신호 및 로우레벨 체크(L-CK) 신호를 하이 레벨로 인가시키고, 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3)의 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 를 하이 레벨로 인가시킨다. If the low level data is to be tested, the PMOS transistors P1 and P2 and the NMOS transistors N1 and N2 gates in the test
이에 따라 테스트 입력 데이터 발생부(100) 내 PMOS 트랜지스터들(P1, P2)은 턴 오프 되고 NMOS 트랜지스터들(N1, N2)은 턴 온 되어 접지 전압이 제1 테스트 모드 선택부(123-1, 123-2)에 인가되고, 이 데이터는 테스트 모드에서 위상 비교 제어 신호(LCOM)가 하이로 인가됨에 따라 디멀티플렉서단(122)으로 인가되어 각 디멀티플렉서들(122-1, 122-2)은 1비트씩을 인가받아 2비트씩으로 변환하여 입력 회로(121)로 출력한다. 입력 회로들(121-1 내지 121-4)은 이 데이터들을 인가받아 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4)에 전달하며, 로우 레벨로 반전된 데이터는 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL4)에 전달한다. Accordingly, the PMOS transistors P1 and P2 in the test
또한, 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3) 내 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 및 NMOS 트랜지스터가 모두 턴 온 되어 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4)에 전달된 하이 레벨 데이터는 인접한 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4)에 전송되고 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL3)에 전달된 로우 레벨 데이터는 인접한 라이트 데이터 바 라인들(WDBL2 내지 WDBL4)에 전송된다. In addition, the PMOS and NMOS transistors of the transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 in the write data line phase comparison units 200-1 to 200-3 are all turned on to the write data lines WDL1 to WDL4. The transferred high level data is transmitted to adjacent write data lines WDL1 to WDL4 and the low level data transferred to write data bar lines WDBL1 to WDBL3 is transmitted to adjacent write data bar lines WDBL2 to WDBL4. .
이 때 테스트 대상 반도체 메모리 장치의 공정적인 결함이나 배선의 단락(short)이 존재하지 않는다면 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3)의 모든 인접한 라이트 데이터 라인들(WDL1 내지 WDL4) 및 라이트 데이터 바 라인들(WDBL1 내지 WDBL4)에 각각 동일한 레벨의 데이터가 전송될 것이므로 전위가 같아 테스트 장비(140) 내 전류계(140-1)에서 파워 패드(VCC)를 통해 양 라인간의 전류의 증가가 측정되지 않는다. At this time, if there is no process defect or short circuit of the semiconductor memory device under test, all adjacent write data lines WDL1 to WDL4 of the write data line phase comparison units 200-1 to 200-3 and Since the same level of data will be transmitted to the write data bar lines WDBL1 to WDBL4 respectively, the potential is the same, so that the increase of the current between the two lines through the power pad VCC in the ammeter 140-1 in the
하지만, 테스트 대상 반도체 메모리 장치에 공정적인 결함이나 배선의 단락(short)이 존재한다면 라이트 데이터 라인 위상 비교부들(200-1 내지 200-3)의 불량 라이트 데이터 라인들 또는 라이트 데이터 바 라인들과 정상적인 라이트 데이터 라인들 또는 라이트 데이터 바 라인들에 각각 상이한 레벨의 데이터가 전송될 것이므로 전위가 달라 테스트 장비(140) 내 전류계(140-1)에서 파워 패드(VCC)를 통해 양 라인간의 전류의 증가가 측정될 것이다. However, if there is a process defect or a short circuit in the semiconductor memory device under test, the defective write data lines or the write data bar lines of the write data line phase comparison units 200-1 to 200-3 may be normal. Since different levels of data will be transmitted to the write data lines or the write data bar lines, the potentials are different so that the increase of the current between the two lines through the power pad VCC in the ammeter 140-1 in the
이를 통하여 테스트 대상 반도체 메모리 장치의 모든 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)에 대하여 라이트 경로의 결함 존재 여부를 데이터 입출력 패드들(DQ1, DQ3)을 통한 테스트용 데이터를 인가받는 대신에 테스트 모드 제어 신호 조합의 제어에 의해 간단하게 테스트할 수 있게 된다.As a result, the test mode control signal is applied to all the data input / output pads DQ1 and DQ3 of the semiconductor memory device under test instead of receiving test data through the data input / output pads DQ1 and DQ3. The combination control makes it simple to test.
마찬가지로 데이터 리드 경로에서 정상 모드에서는 도 4의 표에서처럼 테스트 모드 제어 신호의 제어로 테스트 출력 데이터 발생부(400) 내 PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4) 게이트에 하이레벨 체크(H-CK) 신호가 하이 레벨로 인가되고, NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4)의 게이트에 로우레벨 체크(L-CK) 신호가 로우 레벨로 인가되면 양 트랜지스터 모두 턴 오프 된다. 또한 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 로우 레벨로 인가됨에 따라 메모리 셀 어레이로부터의 데이터가 입출력 센스 증폭기 들(131)을 통과하여 제2 테스트 모드 선택부(134)에 인가되었을 때 비교기(132)를 거치지 않고 곧바로 출력 회로(133)로 데이터가 전달된다.Similarly, in the normal mode in the data read path, as shown in the table of FIG. 4, the high level check (H-CK) signal is high on the gates of the PMOS transistors P1 to P4 in the test
리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3) 내 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 트랜지스터 게이트에 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 인버터들(INV1 내지 INV3, INVB1 내지 INVB3)에 의해 반전되어 하이 레벨로 인가되고, NMOS 트랜지스터의 게이트에 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 가 로우 레벨로 인가되면 양 트랜지스터 모두 턴 오프 되어 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)은 디스에이블 상태가 되어 출력 회로들(133-1 내지 133-4)과 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)간의 인접한 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL4) 사이의 전류의 흐름 측정 없이 데이터가 출력 회로들(133-1 내지 133-4)에서 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)로 정상적으로 전달된다. Phase comparison control signal LCOM for normal mode or test mode setting is applied to the PMOS transistor gates of the transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 in the read data line phase comparison units 300-1 to 300-3. Inverted by (INV1 to INV3, INVB1 to INVB3) and applied to a high level, both transistors are turned off when the phase comparison control signal LCOM for normal mode or test mode setting is applied to the gate of the NMOS transistor at a low level. The transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 are in a disabled state and adjacent data output lines DOL1 to DOL4 between the output circuits 133-1 to 133-4 and the data input / output pads DQ1 to DQ4. Data is normally transferred from the output circuits 133-1 to 133-4 to the data input / output pads DQ1 to DQ4 without measuring the flow of current therebetween.
다음으로 데이터 리드 경로의 테스트 모드에서 하이 레벨 데이터의 테스트를 하기 위해서는 도 4의 표에서처럼 테스트 출력 데이터 발생부(400) 내 PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4) 및 NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4) 게이트에 하이레벨 체크(H-CK) 신호 및 로우레벨 체크(L-CK) 신호를 로우 레벨로 인가시키고, 리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3)의 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 를 하이 레벨로 인가시킨다. Next, in order to test the high level data in the test mode of the data lead path, as shown in the table of FIG. 4, the gates of the PMOS transistors P1 to P4 and the NMOS transistors N1 to N4 in the test
이에 따라 테스트 출력 데이터 발생부(400) 내 PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4)은 턴 온 되고 NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4)은 턴 오프 되어 전원 전압이 출 력 회로들(133-1 내지 133-4)에 인가되고, 이 데이터는 출력 회로들(133-1 내지 133-4)을 통과하여 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)간의 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL4)에 전달된다. Accordingly, the PMOS transistors P1 to P4 in the test
또한, 리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3) 내 전송 게이트들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 및 NMOS 트랜지스터가 모두 턴 온 되어 출력 회로들(133-1 내지 133-4)과 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)간의 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL3)에 전달된 하이 레벨 데이터는 인접한 데이터 출력 라인들(DOL2 내지 DOL4)에 전송된다. In addition, the PMOS and NMOS transistors of the transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 in the read data line phase comparison units 300-1 to 300-3 are turned on to output the circuits 133-1 to 133-. The high level data transferred to the data output lines DOL1 to DOL3 between 4) and the data input / output pads DQ1 to DQ4 are transmitted to the adjacent data output lines DOL2 to DOL4.
만일 로우 레벨 데이터의 테스트를 하기 위해서는 도 4의 표에서처럼 테스트 모드 제어 신호의 제어로 테스트 출력 데이터 발생부(400) 내 PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4) 및 NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4) 게이트에 하이레벨 체크(H-CK) 신호 및 로우레벨 체크(L-CK) 신호를 하이 레벨로 인가시키고, 리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3)의 정상 모드 또는 테스트 모드 세팅용 위상 비교 제어 신호(LCOM) 를 하이 레벨로 인가시킨다. If the low level data is to be tested, the PMOS transistors P1 to P4 and the NMOS transistors N1 to N4 gates in the test
이에 따라 테스트 출력 데이터 발생부(400) 내 PMOS 트랜지스터들(P1 내지 P4)은 턴 오프 되고 NMOS 트랜지스터들(N1 내지 N4)은 턴 온 되어 접지 전압이 출력 회로들(133-1 내지 133-4)에 인가되고, 이 데이터는 출력 회로들(133-1 내지 133-4)을 통과하여 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)간의 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL4)에 전달된다. Accordingly, the PMOS transistors P1 to P4 in the test
또한, 리드 데이터 라인 위상 비교부들(300-1 내지 300-3) 내 전송 게이트 들(TG1 내지 TG3, TGB1 내지 TGB3)의 PMOS 및 NMOS 트랜지스터가 모두 턴 온 되어 출력 회로들(133-1 내지 133-4)과 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)간의 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL3)에 전달된 로우 레벨 데이터는 인접한 데이터 출력 라인들(DOL2 내지 DOL4)에 전송된다. In addition, the PMOS and NMOS transistors of the transfer gates TG1 to TG3 and TGB1 to TGB3 in the read data line phase comparison units 300-1 to 300-3 are turned on to output the circuits 133-1 to 133-. Low level data transferred to the data output lines DOL1 to DOL3 between 4) and the data input / output pads DQ1 to DQ4 are transmitted to the adjacent data output lines DOL2 to DOL4.
이 때 테스트 대상 반도체 메모리 장치의 공정적인 결함이나 배선의 단락(short)이 존재하지 않는다면 모든 출력 회로들(133-1 내지 133-4)과 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)간의 인접한 데이터 출력 라인들(DOL1 내지 DOL4)에 각각 동일한 레벨의 데이터가 전송될 것이므로 전위가 같아 테스트 장비(140) 내 전류계(140-1)에서 파워 패드(VCC)를 통해 양 라인간의 전류의 증가가 측정되지 않는다. At this time, if there is no process defect or a short circuit of the semiconductor memory device under test, the adjacent data output line between all the output circuits 133-1 to 133-4 and the data input / output pads DQ1 to DQ4. Since the same level of data will be transmitted to each of the fields DOL1 to DOL4, the increase in current between the two lines is not measured through the power pad VCC in the ammeter 140-1 in the
하지만, 공정적인 결함이나 배선의 단락(short)이 존재한다면 불량 데이터 라인과 정상적인 데이터 라인에 각각 상이한 레벨의 데이터가 전송될 것이므로 전위가 달라져 테스트 장비(140) 내 전류계(140-1)에서 파워 패드(VCC)를 통해 양 라인간의 전류의 증가가 측정될 것이다. However, if there is a process defect or a short circuit of the wiring, different levels of data will be transmitted to the defective data line and the normal data line, so that the potential is different and thus the power pad in the ammeter 140-1 in the
이를 통하여 테스트 대상 반도체 메모리 장치의 모든 데이터 입출력 패드들(DQ1 내지 DQ4)에 대하여 리드 경로의 결함 존재 여부를 메모리 셀 어레이로부터의 데이터를 인가받는 대신에 테스트 모드 제어 신호 조합의 제어에 의해 간단하게 테스트할 수 있게 된다.Through this, all data input / output pads DQ1 to DQ4 of the semiconductor memory device to be tested are simply tested by controlling the test mode control signal combination instead of receiving data from the memory cell array. You can do it.
상기에서는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 라이트와 리드의 경로에 대한 결함을 검출하는 방법에 대해서 설명의 편의를 위하여 데이터 입출력 패드들을 4개 로 한정하여 기술하였으나, 그 이상의 데이터 입출력 패드 개수에도 본 발명이 적용될 수 있음은 물론이고, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the above description, a method of detecting defects in the write and read paths of the semiconductor memory device of the present invention has been described with only four data input / output pads provided for convenience of description. Applicable, of course, described with reference to the preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be understood that the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below It will be understood that various modifications and changes can be made.
본 발명의 반도체 메모리 장치는 테스트 대상 반도체 메모리 장치에 대한 데이터 경로 결함을 스크린하게 함으로써 미테스트 데이터 입출력 패드 및 데이터 라이트/리드 경로 없이 모든 데이터 경로에 대하여 테스트할 수 있어 테스트의 반복으로 인한 테스트 시간과 비용을 절약할 수 있다.The semiconductor memory device of the present invention allows screening of data path defects for the semiconductor memory device under test so that all data paths can be tested without untested data input / output pads and data write / lead paths. You can save money.
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060036423A KR20070104165A (en) | 2006-04-21 | 2006-04-21 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060036423A KR20070104165A (en) | 2006-04-21 | 2006-04-21 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070104165A true KR20070104165A (en) | 2007-10-25 |
Family
ID=38818335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060036423A KR20070104165A (en) | 2006-04-21 | 2006-04-21 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20070104165A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9633747B2 (en) | 2012-12-04 | 2017-04-25 | SK Hynix Inc. | Semiconductor memory devices and methods of testing open failures thereof |
US10650908B2 (en) | 2017-11-28 | 2020-05-12 | SK Hynix Inc. | Semiconductor device and system including the same |
-
2006
- 2006-04-21 KR KR1020060036423A patent/KR20070104165A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9633747B2 (en) | 2012-12-04 | 2017-04-25 | SK Hynix Inc. | Semiconductor memory devices and methods of testing open failures thereof |
US9997256B2 (en) | 2012-12-04 | 2018-06-12 | SK Hynix Inc. | Semiconductor memory devices and methods of testing open failures thereof |
US10650908B2 (en) | 2017-11-28 | 2020-05-12 | SK Hynix Inc. | Semiconductor device and system including the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4685482B2 (en) | Memory module | |
US6009026A (en) | Compressed input/output test mode | |
US7202692B2 (en) | Semiconductor chip and method of testing the same | |
JP2001210095A (en) | Memory module | |
US20070288812A1 (en) | Parallel bit test circuit and method for semiconductor memory device | |
KR100197784B1 (en) | Semiconductor memory device capable of operating with potentials of adjacent bit lines inverted during multibit test | |
US7979760B2 (en) | Test system for conducting parallel bit test | |
KR20190061957A (en) | Semiconductor device and system including the same | |
KR100216993B1 (en) | A test board for testing both integrated circuit device operating in merged data output mode and ic device operating standard mode | |
KR0185643B1 (en) | Stress voltage forcing apparatus of a semiconductor memory | |
US6317368B1 (en) | Semiconductor integrated circuit device tested in batches | |
KR20070104165A (en) | Semiconductor memory device | |
JP2008059718A (en) | Semiconductor memory device | |
KR100699827B1 (en) | Memory module | |
KR100929867B1 (en) | Monitor burn-in system | |
US6779139B2 (en) | Circuit for reducing test time and semiconductor memory device including the circuit | |
JP2930037B2 (en) | Semiconductor memory and test method thereof | |
JP2014006951A (en) | Semiconductor device, method for testing semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device | |
US20070088993A1 (en) | Memory tester having master/slave configuration | |
US8310881B2 (en) | Semiconductor device testing memory cells and test method | |
JP2008217848A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
KR100209335B1 (en) | Circuit for memory cell stress | |
JP2012014771A (en) | Semiconductor device | |
KR20020019174A (en) | Screen circuit for defective cell in semiconductor memory device having latch cell | |
JP2013196713A (en) | Test method for semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |