KR20070099827A - Pr 스트리핑 장치, 이를 이용한 pr 스트리퍼 재사용방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 - Google Patents

Pr 스트리핑 장치, 이를 이용한 pr 스트리퍼 재사용방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20070099827A
KR20070099827A KR1020060031098A KR20060031098A KR20070099827A KR 20070099827 A KR20070099827 A KR 20070099827A KR 1020060031098 A KR1020060031098 A KR 1020060031098A KR 20060031098 A KR20060031098 A KR 20060031098A KR 20070099827 A KR20070099827 A KR 20070099827A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
stripper
filter
strip
pipe
substrate
Prior art date
Application number
KR1020060031098A
Other languages
English (en)
Inventor
박홍식
정종현
홍선영
김봉균
신원석
이병진
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020060031098A priority Critical patent/KR20070099827A/ko
Priority to US11/728,117 priority patent/US20070235132A1/en
Priority to EP07006657A priority patent/EP1843208A3/en
Priority to CNA2007100898429A priority patent/CN101051190A/zh
Publication of KR20070099827A publication Critical patent/KR20070099827A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D46/00Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PR 스트리퍼의 재사용이 가능하고, 필터의 교체시에도 연속적인 필터링이 가능한 PR 스트리핑 장치가 제공된다. PR 스트리핑 장치는 PR 패턴이 형성되어 있는 기판이 배치되며, PR 패턴의 스트립 공정이 이루어지는 PR 스트립 탱크와, PR 스트립 탱크로부터 PR 스트리퍼가 회수되는 스트리퍼 회수관과, 스트리퍼 회수관으로부터 회수된 PR 스트리퍼를 필터링하는 2 이상의 필터부, 및 PR 스트립 탱크에 필터링된 PR 스트리퍼를 공급하는 스트리퍼 공급관을 포함하되, 2 이상의 필터부는 스트리퍼 회수관과 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있다.
PR 패턴, 스트리퍼, 재사용, 필터

Description

PR 스트리핑 장치, 이를 이용한 PR 스트리퍼 재사용 방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법{PR stripping apparatus, method for recycling PR stripper and method for fabricating thin film transistor array substrate using the same}
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 제1 및 제2 필터부의 구성도이다.
도 3은 도 2의 필터부의 필터의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 제1 및 제2 필터부의 구성도이다.
도 5a는 본 발명의 제3 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 제1 및 제2 필터부의 구성도이다.
도 5a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 제1 및 제2 필터부의 구성도이다.
도 5b 및 도 5c는 도 5a의 변형 실시예에 따른 제1 및 제2 필터부의 구성도들이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 PR 스트립 탱 크의 사시도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치의 구성도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 PR 스트리퍼 재사용 방법의 흐름도이다.
도 9 내지 도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100: PR 스트립 탱크 200: 스트리퍼 회수관
300: 제1 필터부 400: 제2 필터부
500: 스트리퍼 배출관 600: PR 스트리핑 장치
본 발명은 PR 스트리핑 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 PR 스트리퍼의 재사용이 가능하고, 필터의 교체시에도 연속적인 필터링이 가능한 PR 스트리핑 장치, 이를 이용한 PR 스트리퍼 재사용 방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
현대 사회에서 반도체 집적 회로, 반도체 소자, 반도체 장치 등의 역할은 갈수록 중요해지고 있으며, 다양한 산업 분야에서 광범위하게 사용되고 있다. 특히, 정보화 사회가 가속화 됨에 따라 전자 디스플레이 분야가 발전을 거듭하여 정보화 사회에서 요구하는 다양한 기능을 수행할 수 있는 새로운 기능의 전자 디스플레이 장치가 개발되고 있다.
종래 이러한 전자 디스플레이 분야를 주도한 것으로 음극선관(cathode ray tube)을 들 수 있다. 그러나 음극선관은 무거운 중량, 큰 용적 및 높은 소비 전력 등에서 한계를 지니고 있어, 액정 표시 장치(liquid crystal display), 유기 EL 장치(organic electroluminescent display), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel) 등의 평판 표시 장치가 음극선관을 대체할 만한 것으로 각광받고 있다.
이중 액정 표시 장치나 유기 EL 장치는 액정 표시 장치는 기판 상에 박막 트랜지스터 어레이가 형성되어 있는 박막 트랜지스터 어레이 기판을 일 기판으로 사용한다. 박막 트랜지스터 어레이 기판은 게이트 라인, 데이터 라인 등을 포함한 다양한 배선 패턴을 포함하고 있으며, 이와 같은 배선 패턴을 미세하게 형성하기 위해 포토레지스트(PhotoResist; PR) 패턴을 이용한 마스크 공정이 사용된다.
그러나, 이와 같은 마스크 공정에는 식각 후 잔류하는 PR 패턴을 스트립하기 위해 고가의 스트리퍼 용액을 사용된다. 그런데 PR 패턴 박리에 사용된 스트리퍼는 이물질 등이 부유하므로 이를 후속 스트립 공정에 다시 사용하게 되면, 배선 패턴에 오염을 일으킬 수 있기 때문에, 대부분 1회의 사용으로 폐기되는 실정이다. 또한, PR 스트리퍼가 환경 오염 물질을 포함하는 경우, PR 스트리퍼의 폐기에 고가의 처리 장치가 요구된다. 따라서, 제조 비용이 증가하게 된다.
마스크 공정 비용을 절감하기 위한 방법으로 이러한 PR 스트리퍼를 재사용하기 위한 방법이 모색되고 있다. 하나의 예로서, 이물질을 필터를 이용하여 걸러내 는 방법의 적용을 생각해볼 수 있지만, 고가의 필터가 사용되기 때문에 공정 비용이 증가하며, 반복적인 필터 사용으로 인해 필터가 막히게 되면, 이를 교체하기 위해 작업 공정이 중단될 것이 요구된다. 특히, 리프트 오프를 이용한 마스크 공정이 적용되는 경우, PR 스트리퍼에 부유하는 이물질의 양이 더욱 증가하여 더욱 잦은 필터의 교체 및 이를 위한 공정 중단이 요구된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 PR 스트리퍼의 재사용이 가능하고, 필터의 교체시에도 연속적인 필터링이 가능한 PR 스트리핑 장치를 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기한 바와 같은 PR 스트리핑 장치를 이용한 PR 스트리퍼의 재사용 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 상기한 바와 같은 PR 스트리핑 장치를 이용한 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치는 PR 패턴이 형성되어 있는 기판이 배치되며, 상기 PR 패턴의 스트립 공정이 이루어지는 PR 스트립 탱크와, 상기 PR 스트립 탱크로부터 PR 스트리퍼가 회수되는 스트리퍼 회수관과, 상기 스트리퍼 회수관으로부터 회수된 상기 PR 스트리퍼를 필터링하는 2 이상의 필터부, 및 상기 PR 스트립 탱크에 상기 필터링된 PR 스트리퍼를 공급하는 스트리퍼 공급관을 포함하되, 상기 2 이상의 필터부는 상기 스트리퍼 회수관과 상기 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 PR 스트리퍼 재사용 방법은 스트리퍼 회수관과 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있는 2 이상의 필터 중 제1 필터의 입구를 개방하고, PR 스트립에 사용된 PR 스트리퍼를 상기 스트리퍼 회수관에 회수하고, 상기 PR 스트리퍼를 상기 개방된 제1 필터에 유입하여 필터링하고, 상기 필터링된 PR 스트리퍼를 상기 스트리퍼 공급관을 통해 공급하여 PR 스트립에 재사용하되, 상기 필터링 전 또는 후의 상기 PR 스트리퍼의 유압을 측정하여, 상기 유압이 소정 압력 이상일 경우 상기 개방된 제1 필터의 입구를 폐쇄하고, 제2 필터의 입구를 개방하고, 상기 개방된 제2 필터에 상기 PR 스트리퍼를 유입하여 필터링한 후 상기 스트리퍼 공급관을 통해 공급하여 PR 스트립에 재사용하는 것을 포함한다.
상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법은 PR 패턴이 형성되어 있는 기판이 배치되며, 상기 PR 패턴의 스트립 공정이 이루어지는 PR 스트립 탱크와, 상기 PR 스트립 탱크로부터 PR 스트리퍼가 회수되는 스트리퍼 회수관과, 상기 스트리퍼 회수관으로부터 회수된 상기 PR 스트리퍼를 필터링하는 2 이상의 필터부, 및 상기 PR 스트립 탱크에 상기 필터링된 PR 스트리퍼를 공급하는 스트리퍼 공급관을 포함하되, 상기 2 이상의 필터부는 상기 스트리퍼 회수관과 상기 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있는 PR 스트리핑 장치를 이용한다.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치를 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치의 구성도이다. 도 1에 서 화살표는 PR 스트리퍼의 흐름을 나타낸다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치(600)는 PR 스트립 탱크(100), PR 스트립 탱크(100)로부터 PR 스트리퍼가 회수되는 스트리퍼 회수관(200), PR 스트리퍼를 PR 스트립 탱크(100)에 공급하는 스트리퍼 공급관(500), 스트리퍼 회수관(200), 및 스트리퍼 공급관(500) 사이에 병렬로 연결되어 있는 2 이상의 필터부(300, 400)를 포함한다.
PR 스트립 탱크(100)에는 스트립(strip) 대상인 PR 패턴(photoresist pattern)이 형성되어 있는 대상 기판(미도시)이 위치한다. 여기서 대상 기판으로는 예컨대, 반도체 기판, 액정 표시 장치용 절연 기판일 수 있으며, 이상의 예시에 제한되지 않는다.
PR 스트립 탱크(100)에서는 PR 스트리퍼가 공급되어 대상 기판의 PR 패턴을 제거하는 스트립 공정이 이루어진다. 본 발명의 실시예들에서 사용되는 PR 스트리퍼는 예컨대, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 2-(2-아미노에틸아미노)에탄올, 모노에탄아민, 디에틸렌트리아민 히드록시아민 또는 알칸올아민 등의 아민 화합물, 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 디프로플렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르 등의 글리콜 에테르, N -메틸-2-피롤리돈, 테트라히드로프루프릴알콜, 이소포론, 디메틸 설폭사이드, 디메틸아디페이트, 디메틸글루타레이트, 술포란, 감마-부티로락톤, N, N -디메틸아세트아미드 등의 극성 용매를 포함할 수 있으며, 또한, 에톡실화 알킬페놀, 2-부틴-1,4-디올 및 인산에스테르 등의 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 그러나, 상기 PR 스트리퍼의 성분은 상기의 예시적인 물질 에 제한되지 않으며, 다른 다양한 물질의 혼합물이 사용될 수 있음은 물론이다.
PR 스트립 탱크(100)에는 스트리퍼 회수관(200)이 연결되어 있다. 스트리퍼 회수관(200)은 제1 및 제2 필터부(300, 400)까지 연장되어 있으며, 제1 및 제2 필터부(300, 400) 측에 이르러 2 이상 관으로 분지된다. 또한, 필터부(300, 400)와 연결된 관들은 필터부(300, 400)를 기준으로 스트리퍼 회수관(200)에서 합류되어 스트리퍼 공급관(500)과 연결된다.
PR 스트립 탱크(100)에서 PR 스트립 공정에 참여한 PR 스트리퍼는 스트리퍼 회수관(200)을 통해 회수된다. 여기서, 스트리퍼 회수관(200)을 통해 회수되는 PR 스트리퍼에는 스트립 공정에 의해 박리된 PR이 용해되어 있거나, 부유한다. 또한, 상기 PR 스트리퍼에는 대상 기판의 PR 패턴 상에 형성되어 PR 패턴의 스트립에 의해 대상 기판으로부터 분리된 박막을 구성하는 물질이나, 스트립 공정 중에 발생하는 기타 이물질 등도 용해 또는 부유할 수 있다. 이러한 박리된 PR 및 기타 용해 또는 부유하는 이물질들은 PR 스트리퍼와 함께 회수관(200)을 통해 이동하며, 분지된 2 이상의 관 중 적어도 하나의 관을 통해 제1 필터부(300) 또는 제2 필터부(400)로 유입된다.
필터부(300, 400)에 유입된 PR 스트리퍼는 필터부(300, 400)를 통과하면서 필터링되어 PR 스트리퍼에 함유된 부유 물질, 예컨대 박리된 PR, 대상 기판으로부터 분리된 박막을 구성하는 물질 또는 기타 이물질 등이 걸러지게 된다.
필터링된 PR 스트리퍼는 스트리퍼 공급관(500)에 유입되어 PR 스트립 탱크(100)에 재공급된다. 여기서, 필터링된 PR 스트리퍼는 상기한 부유 이물질들을 포함하지 않기 때문에 오염 문제를 유발하지 않으면서 PR 스트립 공정에 재사용될 수 있다.
이하, 상기한 PR 스트리핑 장치의 더욱 구체적인 실시예에 대해 설명한다. 이하의 실시예들에서 도 1의 실시예와 동일한 구조를 갖는 구성에 대해서는 중복 설명을 생략하거나 간략화한다. 또한, 하나의 실시예에서 구체적으로 언급되지 않은 구성은 도 1의 실시예 또는 이하의 다른 실시예들에서 구체적으로 언급된 구성의 다양한 조합으로 치환될 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 제1 및 제2 필터부의 구성도이다. 도 3은 도 2의 필터부의 필터의 사시도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 필터부(300)는 제1 필터 하우징(320), 제1 필터 하우징(320) 내에 배치되어 있는 제1 필터(330), 제1 필터(330)로부터 스트리퍼 회수관(200)으로 연장되어 있는 제1 스트리퍼 유입관(380), 제1 필터(330)로부터 스트리퍼 공급관(500)으로 연장되어 있는 제1 스트리퍼 배출관(390)을 포함한다. 또한 제2 필터부(400)는 제2 필터 하우징(420), 제2 필터 하우징(420) 내에 배치되어 있는 제2 필터(430), 제2 필터(430)로부터 스트리퍼 회수관(200)으로 연장되어 있는 제2 스트리퍼 유입관(480), 제2 필터(430)로부터 스트리퍼 공급관(500)으로 연장되어 있는 제2 스트리퍼 배출관(490)을 포함한다. 상기한 바와 같이 제2 필터부(400)는 제1 필터부(300)와 실질적으로 동일한 구조를 가질 수 있다. 따라서, 특별한 언급이 없는한, 제1 필터부(300)에 대한 이하의 설명은 제2 필터부(400)에도 동일하게 적용될 수 있다.
제1 필터 하우징(320)은 제1 필터(330)를 보호하며, 제1 필터(330)의 배치 공간을 제공한다. 제1 필터 하우징(320)은 예컨대 금속 재질로 이루어질 수 있다.
제1 필터 하우징(320)의 내부 공간은 비어 있으며, 이를 통해 제1 스트리퍼 유입관(380)과 제1 스트리퍼 배출관(390)이 공간적으로 연결된다. 한편, 제1 필터 하우징(320)은 제1 필터(330)의 교체가 용이하도록 상부 또는 다른 영역이 개방될 수 있는 구조를 가질 수 있다.
제1 필터(330)는 PR 스트리퍼를 필터링하는 역할을 하며, 도 3에 도시된 바와 같이 원통 형상의 금속 메쉬로 이루어진다. 금속 메쉬는 2겹 이상으로 중첩되어 배치될 수 있으며, 금속 메쉬의 공극(330a)의 사이즈는 필터링의 대상이 되는 이물질의 사이즈에 대응하여 다양하게 선택될 수 있다. 이러한 금속 메쉬를 이루는 재질로는 이물질 필터링 후 물리적 또는 화학적으로 세척이 용이한 금속이 사용된다. 예컨대, 스테인리스 스틸(stainless steel)로 이루어진 메쉬가 사용될 수 있다. 따라서, 제1 필터(330)의 공극(330a)이 다수회의 필터링을 거쳐 이물질로 막힐 경우, 물리적 또는 화학적 세정 공정을 거쳐 재사용될 수 있기 때문에 공정 비용이 절감될 수 있다. 이상과 같은 제1 필터(330)의 구조 및 재질은 이상의 예시에 제한되지 않으며, 다른 다양한 재질이 사용될 수 있다.
제1 스트리퍼 유입관(380)은 제2 필터부(400)의 제2 스트리퍼 유입관(480)과 함께 스트리퍼 회수관(200)과 연결되어 있다. 제1 스트리퍼 유입관(380)에는 PR 스트리퍼의 유입 여부를 제어하는 개폐부, 예컨대 제1 개폐 밸브(310)가 배치될 수 있다. 마찬가지로 제2 스트리퍼 유입관(480)에는 PR 스트리퍼의 유입여부를 제어하 는 개폐부로서 제2 개폐 밸브(410)가 배치될 수 있다.
제1 스트리퍼 유입관(380)에 배치된 제1 개폐 밸브(310)가 개방되면, 스트리퍼 회수관(200)으로부터 제1 스트리퍼 유입관(380)을 거쳐 PR 스트리퍼가 제1 필터(330)로 유입되며, 제2 스트리퍼 유입관(480)에 배치된 제2 개폐 밸브(410)가 개방되면, 스트리퍼 회수관(200)으로부터 제2 스트리퍼 유입관(480)을 거쳐 PR 스트리퍼가 제2 필터(430)에 유입된다. 이러한, 제1 개폐 밸브(310)과 제2 개폐 밸브(410)의 개방 여부는 회수되는 PR 스트리퍼의 재사용 사이클이나, 구비된 시스템에 따라 자유로이 조합되어 사용될 수 있다. 예컨대, PR 스트리퍼 필터링 타임에 여유가 있는 경우 제1 개폐 밸브(310) 또는 제2 개폐 밸브(410) 중 어느 하나만을 개방하고, 나머지는 폐쇄함으로써, 개방된 필터부로 PR 스트리퍼가 필터링되도록 유도할 수 있다. 이렇게 필터링된 PR 스트리퍼는 상술한 바와 같이 제1 스트리퍼 배출관(390) 또는 제2 스트리퍼 배출관(490)을 통해 스트리퍼 공급관(500)으로 제공된다. 또한, 동시에 폐쇄된 필터부의 필터 하우징으로부터 필터를 분리하여 이를 교체하거나 세정 공정을 통해 세정한 다음 필터 하우징에 재배치시켜 재사용할 수 있다. 즉, 필터링의 중단없이 필터의 교체 또는 세정 공정이 이루어지기 때문에 공정 효율이 개선될 수 있다.
또한, 다량의 PR 스트리퍼의 필터링이 요구되거나, 신속한 PR 스트리퍼 재사용 사이클이 요구되는 경우에는 제1 및 제2 개폐 밸브(310, 410)를 모두 개방하여 제1 및 제2 필터부(300, 400)에서 동시에 PR 스트리퍼의 필터링이 이루어지도록 할 수 있다. 이 경우, 제1 스트리퍼 배출관(390) 및 제2 스트리퍼 배출관(490)으로 필 터링된 PR 스트리퍼가 배출되어 스트리퍼 공급관(500)에서 합류된다. 도면에 도시되지는 않았지만, 스트리퍼 회수관(200)과 스트리퍼 공급관(500) 사이에 3 이상의 필터부가 병렬로 연결된 경우 더욱 다양한 조합이 가능함을 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 다만, 이하의 실시예들에서는 상기 조합의 대표적인 예로서, 개폐 밸브 중 적어도 하나는 개방되고, 적어도 하나는 폐쇄된 경우를 예시하기로 한다.
한편, PR 스트리퍼가 제1 또는 제2 필터(330, 430)를 통과하기 위해서는 일정한 압력이 요구되며, 이를 위해 본 발명의 제1 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치는 가압 수단을 구비할 수 있다. 가압 수단의 일예로서, 제1 필터(330)의 앞쪽에 가압 펌프(210)가 구비될 수 있다.
구체적으로 예컨대 제1 개폐 밸브(310)와 제1 필터 하우징(330) 사이의 제1 스트리퍼 유입관(380), 제1 개폐 밸브(310)와 스트리퍼 회수관(200) 사이의 제1 스트리퍼 유입관(380), 및 제1 스트리퍼 유입관(380)과 제2 스트리퍼 유입관(480)의 앞쪽에 위치하는 스트리퍼 회수관(200) 중 적어도 어느 하나에 구비될 수 있다. 이때, 가압 펌프(210)가 제1 스트리퍼 유입관(380)에 구비되면, 동시에 제2 스트리퍼 유입관(480)에도 구비됨으로써, 제1 필터(330)와 제2 필터(430)로 유입되는 PR 스트리퍼를 가압할 수 있다. 따라서, 이 경우 2 이상의 가압 펌프(210)가 요구된다. 반면, 가압 펌프(210)가 도 2에 도시된 바와 같이 스트리퍼 회수관(200)에 구비된 경우에는 스트리퍼 회수관(200)을 흐르는 PR 스트리퍼가 가압되기 때문에, 제1 필터(330) 및 제2 필터(430)에는 가압된 PR 스트리퍼가 유입될 수 있다. 따라서 하나의 가압 펌프(210)만으로도 제1 및 제2 필터부(300, 400)를 통한 필터링이 가능하 다.
가압 수단의 다른 예로는 스트리퍼 유입관(380, 480), 스트리퍼 배출관(390, 490) 및 필터(330, 430)의 위치를 조절함으로써, 중력에 의한 위치 에너지의 차이를 부가하는 구조적 수단이 사용될 수도 있다.
이어서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치에 대해 설명한다. 본 실시예에서 본 발명의 일 실시예와 동일한 구조에 대해서는 설명을 생략하거나 간략화한다. 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 제1 및 제2 필터부의 구성도이다.
도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 제1 필터부는 2 이상의 필터(331, 351)를 포함한다. 제1 전방 필터(331)는 제1 전방 필터 하우징(331) 내에 배치되어 있고, 제1 후방 필터(351)는 제1 후방 필터 하우징(341)에 배치되어 있으며, 이들은 제1 스트리퍼 배출/유입관(385)을 통해 직렬로 연결되어 있다. 제1 전방 필터(331)는 제1 스트리퍼 유입관(380)에 의해 스트리퍼 회수관(200)과 연결되어 있으며, 제1 후방 필터(351)는 제1 스트리퍼 배출관(390)에 의해 스트리퍼 공급관(500)과 연결되어 있다. 또한, 본 실시예에 따른 제2 필터부의 경우에도 제2 전방 필터(431) 및 제2 후방 필터(451)를 구비하며, 제2 스트리퍼 배출/유입관(485)을 통해 직렬로 연결되어 있다. 제2 필터부의 구조는 제1 필터부의 구조와 실질적으로 동일하며, 이하에서는 제1 필터부에 대해서만 설명하기로 한다.
제1 전방 필터(331)와 제1 후방 필터(351)는 도 3에서 설명한 제1 필터와 실질적으로 동일한 구조를 갖는다. 다만, 제1 전방 필터(331)의 공극(331a)과 제1 후 방 필터(351)의 공극(351a) 사이즈는 서로 상이할 수 있다. 예컨대, 도 4에 도시된 바와 같이 제1 전방 필터(331)의 공극(331a)보다 제1 후방 필터(351)의 공극(351a)의 사이즈가 더 작을 수 있다.
상기와 같은 구조에 의해 PR 스트리퍼가 필터링되는 과정을 설명하면, 제1 스트리퍼 유입관(380)을 통해 제1 전방 필터(331)에 유입된 PR 스트리퍼는 제1 전방 필터(331)를 통과하면서 1차 필터링된다. 상기 1차 필터링 단계에서 제1 전방 필터(331)의 공극 사이즈(331a)보다 큰 부유 이물질이 걸러지고, 사이즈가 작은 부유 이물질은 제1 전방 필터(331)를 통과한다. 계속해서, 1차 필터링된 PR 스트리퍼는 제1 스트리퍼 배출/유입관(385)을 통해 제1 후방 필터(351)에 유입되어 2차 필터링된다. 이때, 제1 후방 필터(351)의 공극(351a)의 사이즈는 제1 전방 필터(331)의 공극(331a) 사이즈보다 작기 때문에, 더욱 작은 사이즈의 부유 이물질까지 걸러질 수 있다. 상기와 같은 방법으로 2회의 필터링을 거치면, 이물질이 입자 사이즈별로 걸러지기 때문에, 각 필터(331, 351)별로 효율적인 필터링이 가능하다.
이어서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치를 설명한다. 본 실시예에서 본 발명의 일 실시예와 동일한 구조에 대해서는 설명을 생략하거나 간략화한다. 도 5a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 제1 및 제2 필터부의 구성도이다. 도 5b 및 도 5c는 도 5a의 변형 실시예에 따른 제1 및 제2 필터부의 구성도들이다.
도 5a를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치는 필터(330, 430)를 통과하기 전의 PR 스트리퍼의 유압을 측정하는 압력 게이지(360, 460))를 더 구비하는 점에서 본 발명의 일 실시예와 차이가 있다. 설명의 편의상 제1 필터부를 중심으로 설명하면, 제1 압력 게이지(360)는 제1 필터 하우징(320)과 제1 개폐 밸브(310) 사이의 제1 스트리퍼 유입관(380)에 배치되어, 제1 필터 하우징(320)에 유입되는 PR 스트리퍼의 유압을 측정한다.
예를 들어 제1 개폐 밸브(310)가 개방되어 제1 필터(330)에 의한 필터링이 반복적으로 이루어지는 경우, 제1 필터(330)에 걸러져 잔류하는 이물질들은 PR 스트리퍼의 흐름에 저항으로 작용하여, 제1 필터(330)를 통과하기 전의 유압을 상승시킨다. 따라서, 제1 필터(330)에 과도한 이물질이 잔류하여 제1 압력 게이지(360)의 압력이 소정 압력 이상을 나타내는 경우, 제1 필터(330)에 의한 필터링이 원활하게 이루어지지 않음을 확인할 수 있다. 이 경우, 제1 개폐 밸브(310)를 폐쇄하고, 제2 개폐 밸브(410)를 개방하여 제2 필터(420) 측으로 필터링이 이루어지도록 할 수 있다. 또한, 동시에 제1 필터(330)는 제1 필터 하우징(320)으로부터 분리되어 교체되거나, 세정되어 재결합될 수 있다. 이와 같이 제1 필터(330)에 유입되는 PR 스트리퍼의 유압을 제1 압력 게이지(360)를 통해 확인함으로써, 제1 필터(330)의 적절한 교체 타이밍을 알아낼 수 있다.
한편, 필터(330, 430)의 이물질 함유 정도에 따라 스트리퍼 유입관(380, 480)에서의 PR 스트리퍼의 유압뿐만 아니라 스트리퍼 배출관(390, 490)에서의 PR 스트리퍼의 유압도 변하게 된다. 제1 필터부를 중심으로 설명하면, 즉, 제1 필터(330)에 과도한 이물질이 잔류하는 경우 제1 스트리퍼 배출관(390)을 흐르는 PR 스트리퍼의 유량이 작아지며, 그에 따라 PR 스트리퍼의 유압이 낮아지게 된다. 따 라서, 도 5b에 도시된 바와 같이 제1 스트리퍼 배출관(390)에 제1 압력 게이지(360)를 설치하여 PR 스트리퍼의 유압을 측정함으로써, 제1 필터(330)의 교체 타이밍을 알아낼 수 있다. 이 경우, 적절한 교체 타이밍은 제1 압력 게이지(360)의 압력이 소정 압력 이하인 경우로 설정될 수 있다. 또한, 더욱 정밀한 교체 타이밍을 결정하기 위해서는 도 5c에 도시된 바와 같이 제1 개폐 밸브(310)와 제1 필터 하우징(320) 사이의 제1 스트리퍼 유입관(380)에 제1 전방 압력 게이지(361)을 구비하고, 제1 스트리퍼 배출관(490)에 제1 후방 압력 게이지(362)를 구비할 수도 있다.
이하, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 PR 스트립 탱크에 대해 설명한다. 도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치의 PR 스트립 탱크의 사시도이다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트립 탱크(100)는 PR 스트립 챔버(110), 대상 기판(10)을 이동시키는 이송 롤러(120), PR 스트립 챔버(110)의 바닥면에 형성된 배수로(130), 및 스트리퍼 회수관(200)의 연결부에 형성된 회수홀(131)을 포함한다.
PR 스트립 챔버(110)는 예컨대 직사각 기둥의 박스 형상으로 형성되어 있으며, PR 스트립 챔버의 상측에는 스트리퍼 공급관(500)의 단부에 구비된 분사 노즐(510)이 배치된다. 분사 노즐(510)은 예컨대 고정 설치되며, 스트리퍼 공급관(510)으로부터 공급된 PR 스트리퍼를 하측으로 고르게 분사한다.
PR 스트립 챔버(110)의 아래쪽 측벽에는 다수개의 이송 롤러(120)가 설치되 어 있다. 이송 롤러(120) 상에는 스트립 대상이 되는 액정 표시 장치용 절연 기판과 같은 대상 기판(10)이 배치된다. 대상 기판(10)은 이송 롤러(120)의 회전에 따라 일 방향으로 이송될 수 있으며, 그에 따라 분사 노즐(510)로부터 분사된 PR 스트리퍼가 대상 기판(10)의 상면으로 고르게 분사될 수 있다.
PR 스트립 챔버(110)의 바닥면의 측부에는 바닥면으로부터 하향 경사진 배수로(130)가 형성되어 있다. 배수로(130)는 또한, 회수홀(130)을 향해 하향 경사져 PR 스트리퍼를 회수관(200) 측으로 회수하는데 기여한다.
즉, 분사 노즐(510)로부터 대상 기판(10)에 분사된 PR 스트리퍼는 대상 기판(10)에 구비된 PR 패턴을 박리한 후, PR 스트립 챔버(100)의 바닥면으로 적하되고, 바닥면의 경사를 따라 배수로(130)에 모이게 된다. 배수로(130)에 모인 PR 스트리퍼는 배수로(130)의 경사 방향을 따라 회수홀(131) 측으로 모이게 되며 스트리퍼 회수관(200)으로 회수된다. 기타 본 실시예의 다른 구성은 도 1의 실시예가 적용되며, 도 2 내지 도 5c의 실시예가 조합되어 적용될 수 있음은 물론이다.
이하, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치에 대해 설명한다. 도 7은 본 발명의 또 다른 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치의 구성도이다.
도 7을 참조하면, 본 실시예에 따른 PR 스트리핑 장치(601)는 스트리퍼 회수관(200)에 연결 설치되어 있는 제1 저장 탱크(250), 및 스트리퍼 배출관(500)에 연결 설치되어 있는 제2 저장 탱크(550)를 더 포함한다.
제1 저장 탱크(250)는 PR 스트립 탱크(100)로부터 회수된 PR 스트리퍼를 적정 수준으로 보관하며, 필요에 따라 이를 필터부(300, 400) 측으로 배출한다. 이를 위해 제1 저장 탱크(250)의 배출구 측에는 개폐 밸브(251)가 더 구비될 수 있다. 또한, 제2 저장 탱크(550)는 필터부(300, 400)를 통해 필터링되어 스트리퍼 공급관(500)을 통해 공급된 PR 스트리퍼를 저장하며, 스트립 공정이 수행될 경우 이를 PR 스트립 탱크(100)에 공급한다. 이를 위해 제2 저장 탱크(550)의 배출구 측에는 개폐 밸브(551)가 더 구비될 수 있다. 이러한 제1 및 제2 저장 탱크(250)에 의해 필터링되는 PR 스트리퍼의 양 및 PR 스트립 탱크(100)에 분사되는 PR 스트리퍼의 양이 조절될 수 있다.
계속해서, 상기한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치를 이용하여 PR 스트리퍼를 재사용하는 방법에 대해 설명한다. 본 실시예에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 PR 스트리퍼 재사용 방법의 흐름도를 나타내는 도 8과, 도 1 내지 도 7에 도시되어 있는 PR 스트리퍼 장치를 참조하여 설명된다.
도 8에 도시된 바와 같이 먼저, 스트리퍼 회수관과 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있는 2 이상의 필터 중 적어도 하나의 필터, 예컨대 제1 필터의 입구를 개방하고, 다른 필터, 예컨대 제2 필터의 입구를 폐쇄한다(S11). 여기서, 제1 필터 및 제2 필터의 입구의 개방은 개폐 밸브를 개방 작동함으로써 이루어질 수 있다.
이어서, PR 스트립에 사용된 PR 스트리퍼를 회수한다(S12). PR 스트립은 PR 스트립 탱크에서 이루어지며, PR 스트립에 사용된 PR 스트리퍼는 PR 스트립 탱크에 연결되어 있는 스트리퍼 회수관을 통해 회수된다.
이어서, 개방된 제1 필터에 유입되는 PR 스트리퍼의 유압을 측정한다. PR 스 트리퍼의 유압은 제1 필터의 앞쪽에 배치된 압력 게이지를 이용하여 측정될 수 있다.
상기 측정된 PR 스트리퍼의 유압이 소정 압력 미만이면, 개방된 제1 필터에 PR 스트리퍼를 유입하여 필터링한다(S3). PR 스트리퍼의 제1 필터로의 유입에는 가압 수단에 사용될 수 있다.
이어서, 필터링된 PR 스트리퍼를 PR 스트립에 재사용한다(S4). 즉, 스트리퍼 공급관에 연결된 분사 노즐을 통해 PR 스트립 탱크에 필터링된 PR 스트리퍼를 분사하여 스트립 공정을 수행한다.
한편, 상기 측정된 PR 스트리퍼의 유압이 소정 압력 이상이면, 개방된 제1 필터를 폐쇄하고, 제2 필터의 입구를 개방한다(S21).
이어서, PR 스트립에 사용된 PR 스트리퍼를 회수한다(S22).
이어서, 개방된 제2 필터에 유입되는 PR 스트리퍼의 유압을 측정한다. 상기 측정된 PR 스트리퍼의 유압이 소정 압력 미만이면, 개방된 제2 필터에 PR 스트리퍼를 유입하여 필터링하고, 필터링된 PR 스트리퍼를 PR 스트립에 재사용한다(S3, S4). 상기 측정된 PR 스트리퍼의 유압이 소정 압력 이상이면, 상기한 S11의 단계로 복귀하며, 이상의 단계가 반복된다.
한편, 측정된 PR 스트리퍼의 유압이 소정 압력 이상이어서, 입구가 폐쇄된 제1 또는 제2 필터는 교체될 수 있다. 또한, 제1 필터 및 제2 필터가 금속 메쉬를 포함하는 경우 세정하여 재사용할 수 있다. 상기와 같은 방법으로, 필터의 교환에 따른 공정의 중단 없이 PR 스트립 공정에 사용된 PR 스트리퍼가 재사용될 수 있다. 또한, 필터의 재사용이 가능하므로 공정 비용이 감소된다.
도 8의 실시예에서는 필터에 유입되기 전의 PR 스트리퍼의 유압을 측정하는 방법이 예시되었지만, 필터 통과 후의 PR 스트리퍼의 유압을 측정할 수도 있다. 더욱 구체적인 방법은 도 5b, 도 5c 및 도 8의 실시예로부터 용이하게 유추할 수 있을 것이므로, 그 설명은 생략하기로 한다.
이상에서 설명한 PR 스트리핑 장치는 PR을 이용한 사진 식각 공정을 수행하는 데에 이용될 수 있다. 이하에서는 일예로서, PR 스트리핑 장치를 이용하여 박막 트랜지스터 어레이 기판을 제조하는 방법에 대해 설명한다.
도 9 내지 도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.
먼저 도 9를 참조하면, 유리 등의 투명한 물질로 이루어진 절연 기판(10)의 전면에 스퍼터링 등을 이용하여 도전성 물질을 증착하여 게이트 도전층(710)을 형성한다. 이어서, 게이트 도전층(710) 상에 PR막을 도포하고 노광 및 현상하여 PR 패턴(801)을 형성한다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 이어서, PR 패턴(801)을 식각 마스크로 이용하여 게이트 도전층(710)을 습식 식각한다. 이어서, PR 패턴(801)을 스트립한다. 본 단계에서, 본 발명의 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치가 이용될 수 있다. 그 결과 게이트 전극(721) 패턴을 완성된다.
이어서, 도 10 및 도 11을 참조하면, 도 10의 결과물의 전면에 질화 규소, 수소화 비정질 규소 및 n형 불순물이 고농도로 도핑된 n+ 수소화 비정질 규소 등을 예컨대, 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD)을 이용하여 연속 증착하여 게이트 절연막(730), 진성 비정질 규소층(740) 및 도핑된 비정질 규소층(750)을 형성한다. 이어서, 도핑된 비정질 규소층(50) 상에 스퍼터링 등을 이용하여 도전성 물질을 증착하여 데이터 도전층(760)을 증착한다.
이어서, 데이터 도전층(760) 상에 PR막을 도포하고 노광 및 현상하여 PR 패턴(810)을 형성한다. 여기서, PR 패턴은 게이트 전극(721)과 오버랩되도록 위치하는 채널부 PR 패턴(812) 및 채널부 PR 패턴(812)과 연결되고, 채널부 PR 패턴(812)보다 두꺼우며, 소오스 전극 및 드레인 전극을 정의하는 데이터 PR 패턴(811)을 포함하도록 한다. 이와 같이 영역별로 다른 두께를 갖는 PR 패턴(810)은 슬릿 마스크 또는 반투막을 포함하는 마스크를 이용하여 형성될 수 있다.
이어서, 도 11 및 도 12를 참조하면, PR 패턴(810)을 식각 마스크로 이용하여 데이터 도전층(760)을 습식 식각하고, 계속해서 도핑된 비정질 규소층(750), 및 비정질 규소층(740)을 건식 식각한다. 본 단계에서 반도체층(741)의 패턴이 완성된다. 이어서, 상기 결과물을 에치백하여, PR 패턴(810)의 채널부 패턴(812)을 제거하고 하부의 데이터 도전층(761)을 노출한다.
이어서, 도 12 및 도 13을 참조하면, 데이터 PR 패턴(811)을 식각 마스크로 이용하여 노출되어 있는 데이터 도전층(761)을 습식 식각하고, 하부의 도핑된 비정질 규소층(751)을 건식 식각한다.
이어서, 도 13 및 도 14를 참조하면, 데이터 PR 패턴(811)을 스트립한다. 본 단계에서, 본 발명의 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치가 이용될 수 있다. 상기 단계의 결과로서, 소오스 전극(765), 드레인 전극(766)과 하부의 저항성 접촉층(755, 756)이 완성된다.
이어서, 도 14 및 도 15를 참조하면, 도 14의 결과물에 예컨대 CVD를 이용하여 질화 규소 등을 적층하여 보호막(770)을 형성한다. 이어서, 보호막(770) 상에 PR막을 도포한 노광 및 현상하여 PR 패턴(821, 822)을 형성한다. 이때, 박막 트랜지스터 영역에 위치하는 PR 패턴의 제1 영역(821)은 화소 전극 영역에 위치하는 PR 패턴의 제2 영역(822)보다 두껍게 형성한다. 또한, 드레인 전극(766) 상의 일부 영역은 PR 패턴(821, 822)에 의해 가리지 않도록 한다. 이와 같은 다른 두께의 제2 포토레지스트 패턴(110)은 슬릿 마스크 또는 반투막을 포함하는 마스크를 이용하여 형성될 수 있다.
이어서, 도 15 및 도 16을 참조하면, PR 패턴(821, 822)을 식각 마스크로 이용하여 보호막(770)을 식각하여 드레인 전극(766)을 노출하는 콘택홀(776)을 형성한다. 이어서, 상기 결과물의 전면을 에치백하여 PR 패턴의 제2 영역(821)을 제거한다.
이어서, 상기 결과물의 전면에 투명한 도전성 물질을 스퍼터링 등을 이용하여 증착한다.
이어서, 도 16 및 도 17을 참조하면, 도 16의 결과물에 스트리퍼를 분사하여 PR 패턴(821)을 박리하고 PR 패턴(821) 상부의 투명한 도전성 산화물층(781)을 리프트 오프한다. 그 결과 도 17에 도시된 바와 같은 박막 트랜지스터 어레이 기판이 완성된다. 본 단계에서 본 발명의 실시예들에 따른 스트리핑 장치가 이용된다. 이 때, 박리된 PR 패턴(821)은 스트리퍼에 용해되거나 부유되고, 리프트 오프된 도전성 산화물층(781)은 스트리퍼에 부유되는데, 이와 같이 부유된 PR 이물질 및 도전성 산화물 이물질은 상술한 바와 같이 스트리핑 장치의 스트리퍼 회수관을 따라 회수되어 필터부에 의해 필터링되어 걸러지며, 필터링된 스트리퍼는 이후의 스트립 공정에 재사용될 수 있다. 또한 상술한 바와 같이 반복적인 필터링을 수행하더라도 병렬 관계의 2 이상의 필터를 이용함으로써, 연속적인 필터링이 가능하며, 금속 메쉬를 포함하는 필터를 사용하는 경우 필터의 재사용도 가능하다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들을 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 PR 스트리핑 장치에 의하면, PR 스트립 공정에 사용되어 이물질이 부유하는 PR 스트리퍼가 필터에 의해 필터링되어 재사용될 수 있으며, 반복 필터링에 따른 필터의 교체시에도 연속적으로 필터링이 가능하므로 공정 효율이 증가할 수 있다. 또한, 필터의 교체시 새로운 필터로 바꾸지 않더라도 물리적 또는 화학적 세정 공정을 거쳐 재사용할 수 있기 때문에 공정 비용이 절감될 수 있다.

Claims (17)

  1. PR 패턴이 형성되어 있는 기판이 배치되며, 상기 PR 패턴의 스트립 공정이 이루어지는 PR 스트립 탱크;
    상기 PR 스트립 탱크로부터 PR 스트리퍼가 회수되는 스트리퍼 회수관;
    상기 스트리퍼 회수관으로부터 회수된 상기 PR 스트리퍼를 필터링하는 2 이상의 필터부; 및
    상기 PR 스트립 탱크에 상기 필터링된 PR 스트리퍼를 공급하는 스트리퍼 공급관을 포함하되, 상기 2 이상의 필터부는 상기 스트리퍼 회수관과 상기 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있는 PR 스트리핑 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 필터부는 금속 메쉬를 포함하는 필터를 구비하는 PR 스트리핑 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 금속 메쉬는 스테인리스 스틸 메쉬이고, 상기 스테인리스 스틸 메쉬는 적어도 2겹 이상 중첩되어 배치되어 있는 PR 스트리핑 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 스트리퍼 회수관으로 회수되는 상기 PR 스트리퍼는 부유하는 투명한 도 전성 산화막을 함유하는 PR 스트리핑 장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 2 이상의 필터부는 각각 상기 스트리퍼의 유입을 제어하는 개폐부를 더 구비하는 PR 스트리핑 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 2 이상의 필터부는 각각 상기 필터를 통과하기 전 또는 후의 상기 PR 스트리퍼의 유압을 측정하는 압력 게이지를 더 구비하는 PR 스트리핑 장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 2 이상의 필터부에 유입되는 상기 PR 스트리퍼를 가압하는 가압 수단을 더 포함하는 PR 스트리핑 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 가압 수단은 가압 펌프이고, 상기 가압 펌프는 상기 스트리퍼 회수관에 구비되는 PR 스트리핑 장치.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 2 이상의 필터부는 각각 직렬로 연결되어 있는 2 이상의 필터를 포함하 는 PR 스트리핑 장치.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 직렬 연결된 2 이상의 필터는 서로 다른 공극 사이즈를 갖는 PR 스트리핑 장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 스트리퍼 회수관과 연결되어 상기 회수된 PR 스트리퍼를 저장하고 이를 상기 2 이상의 필터부에 제공하는 제1 저장 탱크, 및
    상기 스트리퍼 공급관과 연결되어 상기 필터부를 통과한 상기 PR 스트리퍼를 저장하고 이를 상기 PR 스트립 탱크에 제공하는 제2 저장 탱크를 더 포함하는 PR 스트리핑 장치.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 PR 스트립 탱크 측의 상기 스트리퍼 공급관 단부에 구비된 상기 PR 스트리퍼를 분사하는 분사 노즐을 더 포함하는 PR 스트리핑 장치.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 PR 스트립 탱크는 상기 기판을 이송하는 이송 롤러를 포함하며, 상기 PR 스트리퍼는 상기 이송 롤러에 의해 상기 기판을 이송하면서 상기 분사 노즐로부 터 상기 기판 상에 분사되는 PR 스트리핑 장치.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 PR 패턴이 형성되어 있는 기판의 베이스 기판은 투명한 절연 기판인 PR 스트리핑 장치.
  15. 스트리퍼 회수관과 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있는 2 이상의 필터 중 제1 필터의 입구를 개방하고,
    PR 스트립에 사용된 PR 스트리퍼를 상기 스트리퍼 회수관에 회수하고,
    상기 PR 스트리퍼를 상기 개방된 제1 필터에 유입하여 필터링하고,
    상기 필터링된 PR 스트리퍼를 상기 스트리퍼 공급관을 통해 공급하여 PR 스트립에 재사용하되,
    상기 필터링 전 또는 후의 상기 PR 스트리퍼의 유압을 측정하여, 상기 유압이 소정 압력 이상일 경우 상기 개방된 제1 필터의 입구를 폐쇄하고,
    제2 필터의 입구를 개방하고, 상기 개방된 제2 필터에 상기 PR 스트리퍼를 유입하여 필터링한 후 상기 스트리퍼 공급관을 통해 공급하여 PR 스트립에 재사용하는 것을 포함하는 PR 스트리퍼 재사용 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 필터는 금속 메쉬를 포함하며,
    상기 제1 필터의 입구를 폐쇄한 후 상기 제1 필터를 상기 스트리퍼 회수관 및 상기 스트리퍼 공급관으로부터 분리하고,
    상기 제1 필터를 세척한 후 상기 제1 필터를 상기 스트리퍼 회수관 및 상기 스트리퍼 공급관에 재연결시키는 것을 더 포함하는 PR 스트리퍼 재사용 방법.
  17. PR 패턴이 형성되어 있는 기판이 배치되며, 상기 PR 패턴의 스트립 공정이 이루어지는 PR 스트립 탱크;
    상기 PR 스트립 탱크로부터 PR 스트리퍼가 회수되는 스트리퍼 회수관;
    상기 스트리퍼 회수관으로부터 회수된 상기 PR 스트리퍼를 필터링하는 2 이상의 필터부; 및
    상기 PR 스트립 탱크에 상기 필터링된 PR 스트리퍼를 공급하는 스트리퍼 공급관을 포함하되, 상기 2 이상의 필터부는 상기 스트리퍼 회수관과 상기 스트리퍼 공급관 사이에 병렬로 연결되어 있는 PR 스트리핑 장치를 이용한 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법.
KR1020060031098A 2006-04-05 2006-04-05 Pr 스트리핑 장치, 이를 이용한 pr 스트리퍼 재사용방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법 KR20070099827A (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060031098A KR20070099827A (ko) 2006-04-05 2006-04-05 Pr 스트리핑 장치, 이를 이용한 pr 스트리퍼 재사용방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법
US11/728,117 US20070235132A1 (en) 2006-04-05 2007-03-23 Photoresist stripping apparatus, method of recycling photoresist stripper, and method of manufacturing thin film transistor array panel using the photoresist stripping apparatus
EP07006657A EP1843208A3 (en) 2006-04-05 2007-03-30 Photoresist stripping apparatus, method of recycling photoresist stripper, and method of manufacturing thin film transistor array panel using the photoresist stripping apparatus
CNA2007100898429A CN101051190A (zh) 2006-04-05 2007-04-05 光致抗蚀剂剥离装置、再循环光致抗蚀剂剥离剂的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060031098A KR20070099827A (ko) 2006-04-05 2006-04-05 Pr 스트리핑 장치, 이를 이용한 pr 스트리퍼 재사용방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070099827A true KR20070099827A (ko) 2007-10-10

Family

ID=38016621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060031098A KR20070099827A (ko) 2006-04-05 2006-04-05 Pr 스트리핑 장치, 이를 이용한 pr 스트리퍼 재사용방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20070235132A1 (ko)
EP (1) EP1843208A3 (ko)
KR (1) KR20070099827A (ko)
CN (1) CN101051190A (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103055590A (zh) * 2011-10-20 2013-04-24 上海凡清环境工程有限公司 一种过滤系统
US9365063B1 (en) * 2015-03-09 2016-06-14 Xerox Corporation Systems and methods for continuous waste ink filtration in image forming devices
CN108054119B (zh) * 2017-12-06 2021-03-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 用于剥离工艺的剥离液机台及其工作方法
CN111045301A (zh) * 2019-11-19 2020-04-21 Tcl华星光电技术有限公司 剥离液机台及其工作方法
CN113463426B (zh) * 2021-06-17 2023-03-17 江苏鑫源烟草薄片有限公司 一种剥离剂回收系统

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5089217A (en) * 1990-11-26 1992-02-18 Westinghouse Electric Corp. Clean-up sub-system for chemical decontamination of nuclear reactor primary systems
US5531889A (en) * 1994-03-08 1996-07-02 Atotech Usa, Inc. Method and apparatus for removing resist particles from stripping solutions for printed wireboards
US6074561A (en) * 1995-10-23 2000-06-13 Phoenankh Corp. Apparatus and method for recovering photoresist developers and strippers
JP4028060B2 (ja) * 1998-01-14 2007-12-26 大日本印刷株式会社 レジスト剥離処理装置
US20070017879A1 (en) * 1998-12-03 2007-01-25 Stephen Proulx Filtration cartridge and process for filtering a slurry
US6861371B2 (en) * 2001-11-05 2005-03-01 Tokyo Electron Limited Substrate processing system and substrate processing method
JP4678665B2 (ja) * 2001-11-15 2011-04-27 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法および基板処理装置
JP2004327962A (ja) * 2003-04-07 2004-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd レジストの剥離装置及び剥離方法
TW570293U (en) * 2003-05-26 2004-01-01 Toppoly Optoelectronics Corp Wet etching device
JP3884440B2 (ja) * 2004-03-15 2007-02-21 株式会社東芝 フィルタおよび半導体処理装置
US20060027492A1 (en) * 2004-08-06 2006-02-09 Lin Mao C Filter mechanism
US20070272327A1 (en) * 2006-04-27 2007-11-29 Applied Materials, Inc. Chemical dispense system

Also Published As

Publication number Publication date
US20070235132A1 (en) 2007-10-11
EP1843208A2 (en) 2007-10-10
CN101051190A (zh) 2007-10-10
EP1843208A3 (en) 2011-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI495967B (zh) Photoresist stripping solution, stripping liquid recovery system and operation method and stripping liquid recovery method
KR20070099827A (ko) Pr 스트리핑 장치, 이를 이용한 pr 스트리퍼 재사용방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법
CN108054119B (zh) 用于剥离工艺的剥离液机台及其工作方法
US20050274400A1 (en) Apparatus for processing substrates and method therefor
CN102112244A (zh) 玻璃基板再生装置
CN101526683A (zh) Lcd基板的制造方法
TW201513189A (zh) 使用改良化學品移除光阻用方法及設備
US8618001B2 (en) Lifting-off method and method for manufacturing TFT array substrate
KR100684049B1 (ko) 기판 처리장치
CN104465332B (zh) 一种基板清洗装置
TWI427439B (zh) A method for producing a TFT substrate, and a method for recovering the film-stripping composition
CN102509695A (zh) 制作图案化氧化物导电层的方法及蚀刻机台
JP2010153425A (ja) 基板処理装置、基板処理方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP3805225B2 (ja) 配線基板の製造方法及びそれに用いるウエット処理システム
CN110400767B (zh) 基板清洗装置
KR101882916B1 (ko) 마스크 제조 시스템
KR101891206B1 (ko) 마스크 제조용 롤 시트 가공장치 및 그를 구비하는 마스크 제조 시스템
KR102578296B1 (ko) 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법
KR20030004511A (ko) 엘시디 제조용 포토레지스트 제거장비의 에어커튼 발생장치
KR100767035B1 (ko) 기액 분리 장치
KR20050068459A (ko) 습식식각장비
KR20070034888A (ko) 기판 세정장치
KR100876515B1 (ko) 리소그래피 시스템, 현상 장비와 이를 이용한 현상방법
KR20050067276A (ko) 감광막 제거 장치 및 이를 이용한 감광막 제거 방법
KR20050068239A (ko) 식각장비

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E601 Decision to refuse application