KR20070095017A - 표시장치용 몰드와 이의 제조방법 - Google Patents

표시장치용 몰드와 이의 제조방법 Download PDF

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KR20070095017A
KR20070095017A KR1020060025155A KR20060025155A KR20070095017A KR 20070095017 A KR20070095017 A KR 20070095017A KR 1020060025155 A KR1020060025155 A KR 1020060025155A KR 20060025155 A KR20060025155 A KR 20060025155A KR 20070095017 A KR20070095017 A KR 20070095017A
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삼성전자주식회사
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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Abstract

본 발명은 표시장치용 몰드와 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표시장치용 몰드는, 고분자로 이루어진 지지 프레임과; 지지 프레임의 일면에 형성되어 있는 패턴형성층을 포함하며, 지지 프레임의 열팽창계수는 18 내지 60ppm인 것을 특징으로 한다.　이에 의해, 온도변화에 의한 오정렬을 최소화할 수 있는 표시장치용 몰드가 제공된다.

Description

표시장치용 몰드와 이의 제조방법{MOLD FOR DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
도 1a 및 도 1b는 본 발명에 따른 표시장치용 몰드들의 단면도이고,
도 2a 내지 도 2e는 본 발명에 따른 표시장치용 몰드의 제조방법을 순차적으로 설명하는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 표시장치용 몰드 10 : 지지 프레임
20 : 패턴형성층 31 : 하부 차단층
33 : 상부 차단층 40 : 하드 코팅층
50 : 형틀
본 발명은 표시장치용 몰드와 이의 제조방법에 관한 것으로, 더 자세하게는, 온도변화에 의한 변형을 최소화하여 오정렬을 감소시킬 수 있는 표시장치용 몰드와 이의 제조방법에 관한 것이다.
최근, 표시장치 중에서 소형, 경량화의 장점을 가지는 평판표시장치(flat display device)가 각광을 받고 있다. 이러한 평판표시장치는 액정표시장치(LCD)와 유기전기발광장치(OLED) 등을 포함한다. 상기 표시장치들은 박막트랜지스터가 마련되어 있는 박막트랜지스터 기판 또는/및 컬러필터가 마련되어 있는 컬리필터 기판을 포함한다.
여기서, 박막트랜지스터 기판과 컬러필터 기판은 소정의 패턴으로 형성된 복수의 층을 포함하는데, 종래에는 사진식각공정을 이용하여 이와 같은 패턴을 형성하였다. 그러나, 사진식각공정은 패턴의 재현성이 취약하며, 사용되는 장비가 고가라는 단점이 있다.
이에, 최근에는 장비의 저가와 공정시간의 단축, 및 공정의 단순화의 장점이 있는 몰드(mold)를 이용한 임프린트 리소그래피(Imprint Lithography)법을 이용하여 각 층에 소정의 패턴을 형성하고 있다.
그러나, 종래의 몰드는 폴리 카보네이트(poly carbonate)를 포함하여 마련되었는데, 폴리 카보네이트는 열팽창계수가 약 70ppm으로 3ppm 내지 9ppm을 갖는 절연기판과 비교하여 외부의 온도변화에 의하여 더 많이 팽창하는 문제점이 있다. 이에 의하여, 몰드의 오정렬이 발생하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은, 온도변화에 의한 오정렬을 최소화할 수 있는 표시장치용 몰드를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 온도변화에 의한 오정렬을 최소화할 수 있는 표시장치용 몰드의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 고분자로 이루어진 지지 프레임과; 지지 프레임의 일면에 형성되어 있는 패턴형성층을 포함하며, 지지 프레임의 열팽창계수는 18ppm 내지 60ppm인 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드에 의하여 달성된다.
여기서, 지지 프레임과 패턴형성부는 실질적으로 투명할 수 있다.
그리고, 지지 프레임과 패턴형성층은 일체로 마련되어 있으며, 지지 프레임과 패턴형성층은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어질 수 있다.
또한, 지지 프레임은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어져 있으며, 패턴형성층은 PDMS(polydimethylsilixane)을 포함하여 이루어질 수 있다.
여기서, 지지 프레임과 패턴형성층은 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 지지 프레임과 패턴형성층의 두께의 합은 0.075mm 내지 0.2mm이고, 지지 프레임과 패턴형성층은 상기 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 지지 프레임과 패턴형성층의 두께의 합은 0.1mm 내지 0.7mm일 수 있다.
그리고, 지지 프레임은 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 0.075mm 내지 0.2mm의 두께를 가지며, 지지 프레임은 상기 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 0.1mm 내지 0.7mm의 두께를 가질 수 있다.
여기서, 지지 프레임과 패턴형성층 사이에는 상부 차단층이 개재되어 있을 수 있다.
그리고, 지지 프레임의 타면에는 하부 차단층이 더 마련되어 있을 수 있다.
또한, 상부 및 하부 차단층은 파릴렌(parylene)을 포함하는 유기막 및 SiOx, SiNx 및 AlOx 중 어느 하나를 포함하는 무기막 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
그리고, 유기막은 0.5μm 내지 3μm의 두께를 가지며, 무기막은 70nm 내지 300nm의 두께를 가질 수 있다.
또한, 무기막은 복층구조를 이루고 있으며, 상호 인접한 무기막은 서로 다른 방법으로 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 목적은, 열팽창계수가 18ppm 내지 60ppm인 지지 프레임을 마련하는 단계와; 지지 프레임의 적어도 일면에 차단층을 형성하는 단계와; 지지 프레임의 일면에 패턴형성층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법에 의하여 달성된다.
여기서, 지지 프레임과 패턴형성층은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어질 수 있다.
그리고, 지지 프레임은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어져 있으며, 패턴형성층은 PDMS(polydimethylsilixane)을 포함하여 이루어질 수 있다.
또한, 지지 프레임과 패턴형성부는 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 지지 프레임과 패턴형성부의 두께의 합이 0.075mm 내지 0.2mm을 갖도록 형성되고, 지지 프레임 및 패턴형성부는 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 지지 프레임과 패턴형성부의 두께의 합이 0.1mm 내지 0.7mm의 두께를 갖도록 형성될 수 있다.
여기서, 차단층은 파릴렌(parylene)을 포함하는 유기막 및 SiOx, SiNx 및 AlOx 중 어느 하나를 포함하는 무기막 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
그리고, 유기막은 0.5μm 내지 3 μm의 두께를 가지도록 형성되며, 무기막은 70nm 내지 300nm의 두께를 가지도록 형성될 수 있다.
또한, 무기막은 스퍼터링(sputtering), 화학기상증착(CVD), 플라즈마기상증착(PVD) 및 증발법(Evaporation) 중 어느 하나에 의하여 형성될 수 있다.
그리고, 무기막은 복층구조를 가지며, 상호 인접한 무기막은 서로 다른 방법에 의하여 형성될 수 있다.
이하, 도 1a 및 도 1b를 참조하여 본 발명에 따른 표시장치용 몰드에 대하여 설명한다.
도 1a 및 도 1b는 서로 다른 실시예의 표시장치용 몰드의 단면도이다.
도 1a에 도시된 바와 같이, 일실시예에 따른 표시장치용 몰드(1)는 고분자로 이루어진 지지 프레임(10)과, 상기 지지 프레임의 일면에 형성된 패턴형성층(20)을 포함한다. 지지 프레임(10)과 패턴형성층(20)은 일체로 마련되어 있으며, 동일한 재질로 이루어져 있다. 지지 프레임(10)과 패턴형성층(20)은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어져 있다. 종래의 폴리카보네이트(polycarbonate)에 비하여 상기 PEN, PET, PES 및 PAR은 열팽창계수가 더 작다. 구체적으로, 폴리카보네이트는 대략 70ppm의 열팽창계수를 가지나, PEN은 18ppm 내지22ppm, PET는 28ppm 내지 32ppm, PES는 52ppm 내지 56ppm, 그리고 PAR은 52ppm 내지 56ppm의 열팽창계수를 갖는다. 그러므로, 온도가 변화하더라도 본 발명에 따른 표시장치용 몰드(1)는 형상의 변형이 상대적으로 작아서 온도변화에 따른 표시장치용 몰드(1)의 오정렬이 최소화된다.
그러나, 상술한 재료 중에서, PEN과 PET의 경우 두께가 0.3mm 이상이면 투명도가 저하되어 광의 투과율이 좋지 않으며, PES와 PET의 경우에도 두께가 0.7mm이상인 경우 광 투과율이 좋지 못하다. 또한, 두께가 너무 얇은 경우 작업 편의성이 저하되어 바람직하지 않다. 그러므로, 지지 프레임(10)과 패턴형성층(20)이 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어진 경우에, 지지 프레임(10)과 패턴형성층(20)의 두께(d1)의 합은 0.075mm 내지 0.2mm인 것이 바람직하다. 그리고, 지지 프레임(10)과 패턴형성층(20)이 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어진 경우, 지지 프레임(10)과 패턴형성층(20)의 두께(d1)의 합은 0.1mm 내지 0.7mm인 것이 바람직하다. 이에 의하여, 지지 프레임(10)과 패턴형성층(20)은 실질적으로 투명하며, 공정에서 작업성이 개선된다.
그러나, 상술한 실시예에 따른 표시장치용 몰드(1)는 고분자 물질로 이루어져 있는데, 이러한 고분자 물질은 수분에 의하여 영향을 받는다. 즉, 수분이 고분 자 물질 내부로 유입될 수 있으며, 수분에 의하여 표시장치용 몰드(1)의 형상이 변형될 수 있다. 수분에 의한 표시장치용 몰드(1)의 형상 변형에 의하여 오정렬이 발생될 우려가 있다.
이에, 본 발명에서는, 수분에 의한 표시장치용 몰드(1)의 변형을 최소화하기 위하여, 지지 프레임(10)의 적어도 일면에 차단층(30)을 더 마련할 수 있다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치용 몰드(1)는 지지 프레임(10)과, 상기 지지 프레임(10)의 적어도 일면에 마련된 차단층(30), 및 상기 차단층(30)의 일면에 마련되어 있는 패턴형성층(20)을 포함한다.
지지 프레임(10)은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어져 있다. 종래의 폴리카보네이트(polycarbonate)에 비하여 상기 PEN, PET, PES 및 PAR은 열팽창계수가 더 작다. 더욱 구체적으로, 폴리카보네이트는 대략 70ppm의 열팽창계수를 가지나, PEN은 18ppm 내지22ppm, PET는 28ppm 내지 32ppm, PES는 52ppm 내지 56ppm, 그리고 PAR은 52ppm 내지 56ppm의 열팽창계수를 갖는다. 그러므로, 온도가 변화하더라도 본 발명에 따른 표시장치용 몰드(1)는 형상의 변형이 상대적으로 작아서 온도변화에 따른 표시장치용 몰드(1)의 오정렬이 최소화된다. 여기서, 지지 프레임(10)이 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어진 경우에, 지지 프레임(10)의 두께(d2)는 0.075mm 내지 0.2mm인 것이 바람직하다. 그리고, 지지 프레임(10)이 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어진 경우, 지지 프레임(10)의 두께(d2)는 0.1mm 내지 0.7mm인 것이 바람직하다. 이는, 지지 프레임(10)의 두께(d2)가 상술한 수치의 상한선을 넘은 경우에 광 투과성능이 저하되며, 상술한 수치의 하한선을 벗어난 경우에는 너무 얇아서 작업성이 좋지 않게 된다.
패턴형성층(20)은 상술한 지지 프레임(10)에 적용될 수 있는 PEN, PET, PES 및 PAR 중 어느 하나를 포함할 수도 있으며, 이 경우에 패턴형성층(20)의 두께는 상술한 지지 프레임(10)의 경우에 따른다. 한편, 패턴형성층(20)은 상기 지지 프레임(10)과 달리 PDMS(polydimethylsilixane)를 포함하여 이루어질 수도 있다. 그리고, 패턴형성층(20)은 형성하고자 하는 패턴에 대응하는 형상을 가지고 있다. 예를 들어, 반사형 또는 반투과형 액정표시장치를 제조하기 위하여 유기보호막 상에 요철 또는 엠보싱 패턴을 형성하는 경우에, 패턴형성층(20)은 요철 또는 엠보싱 패턴에 대응하도록 마련될 수 있다. 또한, 사진식각(photolithography) 공정시 사용되는 감광막에 원하는 패턴을 형성하는 경우에, 패턴형성층(20)은 감광막에 형성하고자 하는 패턴에 대응하는 패턴이 마련되어 있을 수 있다.
지지 프레임(10)과 패턴형성층(20) 사이에는 하부 차단층(31)이 개재되어 있다. 그리고, 패턴형성층(20)이 마련되어 있지 않은 지지 프레임(10)의 타면에도 상부 차단층(33)이 마련되어 있다. 상부 및 하부 차단층(31, 33)은 유기막 및 무기막 중 어느 하나일 수 있으며, 유기막과 무기막으로 이루어진 복층구조를 형성하고 있을 수도 있다. 또한, 유기막과 무기막 각각이 복층의 구조를 형성하고 있을 수도 있다. 유기막은 파릴렌(parylene)을 포함하며, 무기막은 SiOx, SiNx 및 AlOx 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 여기서, 유기막은 0.5μm 내지 3μm의 두께(d3)를 가질 수 있으며, 무기막은 70nm 내지 300nm의 두께(d3)를 가질 수 있다. 또한, 무기막은 복층구조를 이루고 있을 수 있으며, 이 경우에 상호 인접한 무기막은 서로 다른 방법으로 형성된 하이브리드(hybrid)막일 수도 있다. 여기서, 무기막은 스퍼터링(sputtering), 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition), 물리기상증착(Physical Vapor Deposition) 및 증발법(Evaporation) 중 어느 하나에 의하여 형성될 수 있다. 이에 의하여, 지지 프레임(10)으로의 수분의 투습률이 저하되어 임프린팅(imprinting) 공정시 발생할 수 있는 표시장치용 몰드(1)의 오정렬이 최소화된다.
한편, 도시된 바와 달리, 표시장치용 몰드(1)는 하부 차단층(31)과 상부 차단층(33) 중 어느 하나만을 포함하고 있을 수도 있다.
이에 더하여, 상부 차단층(33)을 스크래치 등으로부터 보호하기 위하여, 상부 차단층(33) 상에 하드 코팅층(hard coating layer, 40)을 더 형성할 수도 있다. 하드 코팅층(40)은 폴리아크릴계 수지, 폴리 우레탄계 수지 등을 포함할 수 있다.
이하, 도 2a 내지 도 2e를 참조하여, 본 발명에 따른 표시장치용 몰드의 제조방법에 대하여 설명한다. 더욱 구체적으로, 도 1b에 따른 표시장치용 몰드(1)를 제조하는 방법에 대하여 설명한다.
먼저, 도 2a에 도시된 바와, 18ppm 내지 60ppm의 열팽창계수를 갖는 지지 프레임(10)을 마련한다. 상기 지지 프레임(10)은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 PEN, PET, PES 및 PAR은 종래의 폴리카보네이트(polycarbonate)에 비하여 열팽창계수가 더 작다. 더욱 구체적으로, 폴리카보네이트는 대략 70ppm의 열팽창계수를 가지나, PEN은 18ppm 내지22ppm, PET 는 28ppm 내지 32ppm, PES는 52ppm 내지 56ppm, 그리고 PAR은 52ppm 내지 56ppm의 열팽창계수를 갖는다. 그러므로, 온도가 변화하더라도 본 발명에 따른 표시장치용 몰드(1)는 형상의 변형이 상대적으로 작아서 온도변화에 따른 표시장치용 몰드(1)의 오정렬이 최소화할 수 있다. 그리고, 지지 프레임(10)의 두께(d2)는 광의 투과성능 및 작업 편의성을 고려하여, 지지 프레임(10)이 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어진 경우에는 0.075mm 내지 0.2mm의 두께(d2)를 갖도록 형성하며, 지지 프레임(10)이 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어진 경우에는 0.1mm 내지 0.7mm의 두께(d2)를 갖도록 형성한다.
다음, 도 2b에 도시된 바와 같이, 지지 프레임(10)의 적어도 일면에 차단층(31, 33)을 형성한다. 지지 프레임(10)의 하부면에는 하부 차단층(31)을 형성하고, 지지 프레임(10)의 상부면에는 상부 차단층(33)을 형성한다. 여기서, 차단층(31, 33)은 유기막 및 무기막 중 하나로 이루어 질 수 있으며, 유기막과 무기막으로 이루어진 복층구조를 이루고 있을 수도 있다. 또한, 유기막과 무기막 각각이 복층의 유기막 또는 복층의 무기막으로 형성될 수도 있다. 유기막은 스핀 코팅, 슬릿 코팅 및 스크린 프린팅 등의 방법에 의하여 형성될 수 있으며, 무기막은 스퍼터링(sputtering), 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition), 물리기상증착(Physical Vapor Deposition) 및 증발법(Evaporation) 중 어느 하나에 의하여 형성될 수 있다. 유기막은 파릴렌(parylene)을 포함하며, 무기막은 SiOx, SiNx 및 AlOx 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 여기서, 유기막은 0.5μm 내지 3μm의 두께(d3)를 가지도록 형성될 수 있으며, 무기막은 70nm 내지 300nm의 두께(d3)를 가지도록 형성될 수 있다. 또한, 무기막은 복층구조를 이루고 있을 수 있으며, 이 경우에 상호 인접한 무기막은 서로 다른 방법으로 형성된 하이브리드(hybrid)막일 수도 있다. 이에 의하여, 지지 프레임(10)으로의 수분의 투습률이 저하되어 임프린팅(imprinting) 공정시 발생할 수 있는 표시장치용 몰드(1)의 오정렬이 최소화된다.
이어, 도 2c에 도시된 바와 같이, 패턴형성층(20)을 형성하기 위한 형틀(50)을 준비하고, 형틀(50)에 패턴형성층(20)의 재료를 도포한다. 형틀(50)은 패턴형성층(20)이 적용될 공정에 알맞은 형상의 성형공간이 마련되어 있다. 일예로, 유기 보호막에 요철 또는 엠보싱 패턴을 형성하는 경우에, 형틀(50)에 마련된 성형공간은 요철 또는 엠보싱 패턴에 대응하도록 마련된다. 패턴형성층(20)의 재료는 PEN, PET, PES 및 PAR 중 어느 하나를 포함할 수도 있으며, 이 경우에 패턴형성층(20)의 두께는 상술한 지지 프레임(10)의 경우에 따른다. 한편, 패턴형성층(20)은 상기 지지 프레임(10)과 달리 PDMS(polydimethylsilixane)를 포함하여 이루어질 수도 있다. 형틀(50)에 패턴형성층(20)의 재료가 균일하게 도포되면, 지지 프레임(10)을 형틀(50) 방향으로 가압한다. 한편, 도시되지 않았으나, 형틀(50)의 성형공간 내부에 이형제를 도포할 수도 있으며, 이는 표시장치용 몰드(1)를 형틀(50)로부터 분리를 용이하게 하기 위함이다.
다음, 도 2d에 도시된 바와 같이, 하부 차단층(31)이 패턴형성층(20)에 접합된 상태에서, 패턴형성층(20)에 광을 조사하여 패턴형성층(20)을 경화시킨다. 또는, 열을 가하여 패턴형성층(20)을 경화시킬 수 있으며, 열과 광을 모두 적용하여 경화시킬 수도 있다. 패턴형성층(20)의 경화에 의하여 패턴형성층(20)은 하부 차단 층(31)에 견고하게 부착되며, 패턴형성층(20)은 원하는 형상대로 유지된다. 한편, 도시되지 않았으나, 패턴형성층(20)과 하부 차단층(31) 간의 부착력을 면밀히 하기 위하여, 하부 차단층(31)에 부착제를 도포할 수도 있다.
그 후, 패턴형성층(20)의 경화단계가 완료되면, 도2e에 도시된 바와 같이, 형틀(50)로부터 표시장치용 몰드(1)를 분리시킨다. 이에 의하여, 표시장치용 몰드(1)가 완성되며, 필요에 따라서 도1b에 도시된 바와 같이 상부 차단층(33) 상에 하드 코팅층(40)을 더 형성할 수도 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 온도변화에 의한 변형을 최소화하여 오정렬을 감소시킬 수 있는 표시장치용 몰드와 이의 제조방법이 제공된다.

Claims (19)

  1. 고분자로 이루어진 지지 프레임과;
    상기 지지 프레임의 일면에 형성되어 있는 패턴형성층을 포함하며,
    상기 지지 프레임의 열팽창계수는 18ppm 내지 60ppm인 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성부는 실질적으로 투명한 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층은 일체로 마련되어 있으며,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 지지 프레임은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포 함하여 이루어져 있으며,
    상기 패턴형성층은 PDMS(polydimethylsilixane)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층은 상기 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층의 두께의 합은 0.075mm 내지 0.2mm이고,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층은 상기 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층의 두께의 합은 0.1mm 내지 0.7mm인 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 지지 프레임은 상기 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 0.075mm 내지 0.2mm의 두께를 가지며,
    상기 지지 프레임은 상기 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 0.1mm 내지 0.7mm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층 사이에는 상부 차단층이 개재되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 지지 프레임의 타면에는 하부 차단층이 더 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 상부 및 하부 차단층은 파릴렌(parylene)을 포함하는 유기막 및 SiOx, SiNx 및 AlOx 중 어느 하나를 포함하는 무기막 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 유기막은 0.5μm 내지 3 μm의 두께를 가지며, 상기 무기막은 70nm 내지 300nm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 무기막은 복층구조를 이루고 있으며,
    상호 인접한 상기 무기막은 서로 다른 방법으로 형성된 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드.
  12. 열팽창계수가 18ppm 내지 60ppm인 지지 프레임을 마련하는 단계와;
    상기 지지 프레임의 적어도 일면에 차단층을 형성하는 단계와;
    상기 지지 프레임의 일면에 패턴형성층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성층은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 지지 프레임은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate), PES(polyether sulfone) 및 PAR(Polyarylate) 중 어느 하나를 포함하여 이루어져 있으며,
    상기 패턴형성층은 PDMS(polydimethylsilixane)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서,
    상기 지지 프레임과 상기 패턴형성부는 상기 PEN 및 PET 중 어느 하나로 이 루어져 있으며, 상기 지지 프레임과 상기 패턴형성부의 두께의 합이 0.075mm 내지 0.2mm을 갖도록 형성되고,
    상기 지지 프레임 및 상기 패턴형성부는 상기 PES 및 PAR 중 어느 하나로 이루어져 있으며, 상기 지지 프레임과 상기 패턴형성부의 두께의 합이 0.1mm 내지 0.7mm의 두께를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 차단층은 파릴렌(parylene)을 포함하는 유기막 및 SiOx, SiNx 및 AlOx 중 어느 하나를 포함하는 무기막 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 유기막은 0.5μm 내지 3μm의 두께를 가지도록 형성되며, 상기 무기막은 70nm 내지 300nm의 두께를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
  18. 제16항에 있어서,
    상기 무기막은 스퍼터링(sputtering), 화학기상증착(CVD), 물리기상증착(PVD) 및 증발법(Evaporation) 중 어느 하나에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 무기막은 복층구조를 가지며,
    상호 인접한 상기 무기막은 서로 다른 방법에 의하여 형성된 것을 특징으로 하는 표시장치용 몰드의 제조방법.
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