KR20070093692A - Valve apparatus for rapid exhaust - Google Patents

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KR20070093692A
KR20070093692A KR1020060023872A KR20060023872A KR20070093692A KR 20070093692 A KR20070093692 A KR 20070093692A KR 1020060023872 A KR1020060023872 A KR 1020060023872A KR 20060023872 A KR20060023872 A KR 20060023872A KR 20070093692 A KR20070093692 A KR 20070093692A
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고용철
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Abstract

A rapid exhaust valve apparatus is provided to reduce an exhaust time by exhausting directly air through three holes in the exhaust valve. A valve apparatus controls a gas supply path or a liquid supply path and includes a valve body(320) and a sealing disk(310). The valve body includes an internal space having a cavity and three different outlets for providing paths between the internal space and the outside in order to output and input gas or liquid. The sealing disk is positioned in the internal space of the valve body. The gas or the liquid is outputted by closing one of the remaining two outlets and opening the other one by the input pressure of the gas or the liquid when the gas or the liquid are inputted through one of the different outlets. The valve has a T-shaped structure and a first to third outlets.

Description

급속배기 밸브 장치{Valve apparatus for rapid exhaust}Valve exhaust for rapid exhaust

도 1은 통상적인 반도체 소자 제조장치에 이용되는 아이솔레이션 밸브의 단면도1 is a cross-sectional view of an isolation valve used in a conventional semiconductor device manufacturing apparatus

도 2 및 도 3은 종래의 솔레노이드 밸브의 동작 단면도 2 and 3 is an operation cross-sectional view of a conventional solenoid valve

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 밸브의 사시도4 is a perspective view of a valve according to an embodiment of the present invention;

도 5 및 도 6은 도 4의 동작 단면도5 and 6 are cross-sectional views of the operation of FIG.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

300 : 밸브 장치 320 : 밸브몸체300: valve device 320: valve body

310 : 밀봉디스크 P,A,R : 출입구들310: sealing disk P, A, R: entrances

본 발명은 급속배기 밸브 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 별도의 제어 수단을 구비함이 없이 급속배기 기능을 가지는 밸브 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a rapid exhaust valve device, and more particularly, to a valve device having a rapid exhaust function without having a separate control means.

반도체 제조 공정에 있어서, 실리콘 웨이퍼는 사진, 식각, 화학기상증착 및 금속증착 등의 공정을 반복적으로 수행함으로써 반도체 소자로 제조되는데, 이들 반도체 소자의 제조 공정 중 확산, 식각, 화학기상증착 등의 공정은, 공정 챔버 내부를 진공상태로 유지한 후, 공정 챔버 내부에 필요한 공정 가스를 주입함으로써, 주입된 공정 가스로 하여금 웨이퍼 상에서 반응하도록 한다.In the semiconductor manufacturing process, a silicon wafer is manufactured into a semiconductor device by repeatedly performing processes such as photographing, etching, chemical vapor deposition, and metal deposition, and processes such as diffusion, etching, and chemical vapor deposition in the manufacturing process of these semiconductor devices. After maintaining the inside of the process chamber in a vacuum state, the required process gas is injected into the process chamber, thereby causing the injected process gas to react on the wafer.

로드락 챔버는, 상기와 같이 진공을 요하는 공정 챔버에 부속하여서, 상기 공정 챔버와 대기 사이에 진공도 관점에서 완충적인 역할을 수행함과 아울러 상기 공정 챔버의 진공도를 유지시켜 주며, 공정 챔버에 반입될 웨이퍼를 일시적으로 보관하거나, 공정 챔버로부터 반출된 웨이퍼를 일시적으로 보관하는 역할을 한다.The load lock chamber is attached to a process chamber requiring a vacuum as described above, and performs a buffering role in view of the degree of vacuum between the process chamber and the atmosphere, and also maintains the degree of vacuum of the process chamber. It serves to temporarily store the wafer or temporarily store the wafer taken out from the process chamber.

이러한 로드락 챔버는, 공정 챔버에 웨이퍼를 반입시키고자 하는 경우 공정 챔버와 마찬가지로 진공을 유지하여야 하므로, 그에 적당한 밸브 장치가 병설된다.Such a load lock chamber has to maintain a vacuum like the process chamber when the wafer is to be loaded into the process chamber, so that an appropriate valve device is provided.

상기와 같은 로드락 챔버 등의 반도체 제조 설비에 진공을 제어하기 위한 밸브 장치로써 아이솔레이션(isolation) 밸브가 있다.There is an isolation valve as a valve device for controlling a vacuum in a semiconductor manufacturing facility such as a load lock chamber as described above.

도 1은 종래의 아이솔레이션 밸브의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a conventional isolation valve.

도 1에 도시된 바와 같이, 아이솔레이션 밸브(100)는 공정챔버(미도시)쪽에 연결되어 공정챔버의 진공을 유지 또는 해제시키기 위해 설치되는 제1입구(30)와, 공정폐기물 또는 공기가 빠져나가기 위해 설치되며 상기 제1입구(30)와는 상호 직각 방향으로 구비되는 제2입구(50)가 있다. As shown in FIG. 1, the isolation valve 100 is connected to a process chamber (not shown) so that the first inlet 30, which is installed to maintain or release the vacuum of the process chamber, and the process waste or air escape. There is a second inlet 50 which is provided for the purpose and is provided in a direction perpendicular to the first inlet 30.

상기 밸브(100)의 내부(80)에는 공기압에 의해 직선 왕복 운동하는 피스톤(60)이 설치되고, 상기 피스톤(60)의 구동축(70)과 연결되어 피스톤(60)의 왕복운 동에 따라 일정거리 수축되거나 팽창되면서 상기 제1입구(30)와 상기 제2입구(50)가 연결되도록 상기 제1입구(30)를 개폐시키는 벨로우즈(10)가 설치된다. 상기 벨로우즈(10)에는 상기 제1입구(30)와의 접촉부위에 진공의 누설을 방지하기 위한 오링(O-ring)(미도시)이 설치된다. 그리고, 상기 피스톤(60)에 공기압을 주기 위한 공기 주입구(20)가 상기 밸브(100)에 구비된다. Inside the valve 100, a piston 60 linearly reciprocating by air pressure is installed, and connected to the drive shaft 70 of the piston 60 to be fixed according to the reciprocating movement of the piston 60. A bellows 10 is installed to open and close the first inlet 30 so that the first inlet 30 and the second inlet 50 are connected to each other by distance contraction or expansion. The bellows 10 is provided with an O-ring (not shown) to prevent leakage of vacuum at the contact portion with the first inlet 30. In addition, the valve 100 is provided with an air inlet 20 for supplying air pressure to the piston 60.

상기의 구성을 가지는 아이솔레이션 밸브의 동작은 다음과 같다. The operation of the isolation valve having the above configuration is as follows.

공기주입구(20)로 공기가 공급되면, 공기압에 의해 상기 밸브(100) 내의 피스톤(60)이 하강하게 되고 이에 따라 벨로우즈(10)는 수축하게 되어 제1입구(30)가 개방된다. 상기 제1입구(30)가 개방됨에 의해서, 공정챔버와 진공펌프가 펌핑라인으로 연결된다. 이 상태에서 상기 공정챔버의 진공상태를 유지하도록 하는 공정을 진행하거나 상기 공정챔버에서의 공정진행과정상에서 발생된 부산물이 펌핑되게 된다.When air is supplied to the air inlet 20, the piston 60 in the valve 100 is lowered by the air pressure, and thus the bellows 10 is contracted so that the first inlet 30 is opened. By opening the first inlet 30, the process chamber and the vacuum pump is connected to the pumping line. In this state, a process for maintaining the vacuum of the process chamber or a by-product generated during the process progress in the process chamber is pumped.

이후에 상기 공기 주입구(20)로의 공기 공급이 중단되면 상기 벨로우즈(10)의 탄성력에 의하여 상기 벨로우즈(10)가 확장되게 되고 이에 따라 피스톤(60)이 상승하게 된다. 이에 따라, 상기 제1입구(30)는 패쇄되게 된다.After that, when the air supply to the air inlet 20 is stopped, the bellows 10 is expanded by the elastic force of the bellows 10, thereby raising the piston 60. Accordingly, the first inlet 30 is closed.

상술한 바와 같은 아이솔레이션 밸브의 공기주입구에 공기를 공급하기 위한 밸브장치로써 솔레노이드 밸브가 있다. There is a solenoid valve as a valve device for supplying air to the air inlet of the isolation valve as described above.

도 2 및 도 3의 이러한 솔레노이드 밸브의 구조 및 동작단면도를 나타낸 것이다.Figure 2 and 3 shows the structure and operation cross-sectional view of such a solenoid valve.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 솔레노이드 밸브(200)는 작동방향에 따라 미끄럼 이동하는 플런저(230)와, 상기 플런저(230)의 측면에 전기적신호에 따라 온오프되는 전자석코일(210)과, 상기 플런저(230)의 일측면에 개재된 리턴스프링(미도시)과, 입력관(P)으로 입력되는 압축공기를 내부방향으로 공급하기 위한 공급관(A)과, 외부방향으로 배출하기 위해 관통형으로 이루어진 배출관(R)으로 구성되어 있다. 미설명된 도면부호'220'은 철심을 나타낸다.As shown in Figures 2 and 3, the solenoid valve 200 is a plunger 230 that slides in accordance with the operating direction, the electromagnet coil 210 on and off in accordance with the electrical signal on the side of the plunger 230 And, return spring (not shown) interposed on one side of the plunger 230, supply pipe (A) for supplying the compressed air input into the input pipe (P) inward, and to discharge outward Consists of a discharge pipe (R) made of a through-type. Unexplained reference numeral 220 denotes an iron core.

도 2에 도시된 바와 같이, 통상의 경우 즉 전원이 공급되지 않는 경우에는 상기 리턴스프링에 의하여 플런저(230)가 원위치 상태로 있어 입력관(P)과 공급관(A)은 단절되고, 내부에 공급되었던 공기가 공급관(A)에서 배출관(R)을 통하여 배출된다. As shown in FIG. 2, in the normal case, that is, when the power is not supplied, the plunger 230 is in the original position by the return spring, so that the input pipe P and the supply pipe A are disconnected and supplied inside. Air is discharged from the supply pipe (A) through the discharge pipe (R).

도 3에 도시된 바와 같이, 솔레노이드 밸브(200)에 전원이 공급되면, 내부에 구비된 플런저(230)가 리턴스프링의 탄성력을 이기고 전자석코일(210)에 흡인되게 되면서 상기 플런저(230)에 위로 당겨져 배출관(R)을 차단하고, 이결과로 입력관(P)와 공급관(A)은 서로 연결된다. 이에 따라 입력관(P)을 통하여 공급관(A)으로 압축공기가 주입되고 이에 따라 공급관(A)에 연결된 아이솔레이션 밸브의 공기 주입구로 압축공기가 주입되어 아이솔레이션 밸브를 동작시키게 된다.As shown in FIG. 3, when power is supplied to the solenoid valve 200, the plunger 230 provided therein overcomes the elastic force of the return spring and is attracted to the electromagnet coil 210 and upwards to the plunger 230. Pulled to block the discharge pipe (R), as a result the input pipe (P) and supply pipe (A) are connected to each other. Accordingly, compressed air is injected into the supply pipe (A) through the input pipe (P), and thus compressed air is injected into the air inlet of the isolation valve connected to the supply pipe (A) to operate the isolation valve.

상술한 바와 같은 솔레노이드 밸브는 솔레노이드 밸브의 전원차단시 공급관(A)으로부터 배출관(R)으로의 공기 배기 시간이 너무 길다는 문제점이 있다. 따라서 상기 솔레노이드 밸브를 통해 공급되는 공기에 의해 동작되는 아이솔레이션 밸브의 클로즈 시간이 그만큼 길어지기 때문에 파티클에 의한 웨이퍼 오염이 발생될 여지가 있다. The solenoid valve as described above has a problem that the air exhaust time from the supply pipe (A) to the discharge pipe (R) is too long when the solenoid valve is powered off. Therefore, since the closing time of the isolation valve operated by the air supplied through the solenoid valve is long, there is a possibility that wafer contamination by particles may occur.

따라서, 본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 극복할 수 있는 급속배기 밸브장치를 제공하는 데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a rapid exhaust valve device capable of overcoming the above-mentioned conventional problems.

본 발명의 다른 목적은 배기 시간을 줄일 수 있는 급속배기 밸브 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a fast exhaust valve device that can reduce the exhaust time.

본 발명의 또 다른 목적은 별도의 제어수단을 구비함이 없이 입력되는 기체 또는 액체의 압력에 의해 개폐가 가능한 급속배기 밸브 장치를 제공하는 데 있다. Still another object of the present invention is to provide a quick exhaust valve device that can be opened and closed by a pressure of a gas or a liquid input without providing a separate control means.

본 발명의 또 다른 목적은 전원의 인가없이도 동작이 가능한 급속배기 밸브 장치를 제공하는 데 있다.Still another object of the present invention is to provide a quick exhaust valve device capable of operating without applying power.

상기한 기술적 과제들의 일부를 달성하기 위한 본 발명의 양상(aspect)에 따라, 본 발명에 따른 기체 또는 액체의 공급 통로를 조절하는 밸브장치는, 속이 빈 내부공간과, 기체 또는 액체가 입출력되기 위하여 상기 내부공간과 외부와의 통로를 각각 제공하는 서로 다른 3개의 출입구들을 구비하는 밸브 몸체와; 상기 밸브 몸체의 내부 공간에 위치되며, 상기 3개의 출입구들 중 어느 하나의 출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되면, 상기 기체 또는 액체의 입력 압력에 의하여 나머지 두개의 출입구들 중 어느 하나의 출입구는 차단하고, 나머지 출입구는 개방되도록 하여 입력되는 기체 또는 액체가 출력되도록 하는 밀봉디스크를 구비한다. According to an aspect of the present invention for achieving some of the above technical problems, the valve device for adjusting the gas or liquid supply passage according to the present invention, the hollow inner space, and the gas or liquid to input and output A valve body having three different inlets and outlets respectively providing passages between the inner space and the outside; Located in the interior space of the valve body, when gas or liquid is input through any one of the three entrances, the entrance of any one of the other two entrances is blocked by the input pressure of the gas or liquid And, the remaining entrance is provided with a sealing disk to open the gas or liquid to be input.

상기 밸브는 'T'자형의 구조로 제1 내지 제3출입구를 가질 수 있으며, 상기 밀봉디스크는, 상기 제1출입구 차단시에는 상기 제1출입구와 맞닿고 상기 제1출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제1출입구와 이격되고 대향되는 제1면과, 상기 제1출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제2출입구와 맞닿아 상기 제2출입구를 차단하고 제3출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제2출입구와 이격되고 대향되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하며 상기 제3출입구에 대향하는 제3면을 구비할 수 있다. The valve may have a first to third inlet in a 'T' shape, and the sealing disc may contact the first inlet when the first inlet is blocked, and gas or liquid may enter through the first inlet. In case of input, when the gas or liquid is input through the first surface spaced apart from and opposed to the first entrance, and the gas or liquid is input through the first entrance, the second entrance is blocked and the third entrance is closed. When a gas or a liquid is input through the second surface, the second surface may be spaced apart from and opposed to the second entrance, and may have a third surface connecting the first surface and the second surface to face the third entrance. .

상기 밀봉디스크는, 상기 제3출입구를 통하여 입력되는 기체 또는 액체가 입력되는 경우에 입력압력에 의해 상기 제1출입구를 차단하도록 하기 위하여 상기 제1면의 폭이 상기 제2면의 폭보다 큰 구조를 가질 수 있으며, 상기 밸브는 반도체 소자 제조장치에 이용되는 아이솔레이션 밸브의 동작을 위한 압축공기의 주입 또는 배출을 위해 이용될 수 있다. 상기 제1출입구는 압축공기가 주입되는 주입 통로이고, 상기 제2출입구는 상기 제3출입구를 통하여 입력되는 공기를 배출하는 배기통로이며, 상기 제3출입구는 상기 제1출입구를 통하여 입력되는 압축공기가 외부로 출력되고, 출력된 공기가 다시 입력되는 공기 입출력 통로일 수 있다.The sealing disk has a structure in which the width of the first surface is larger than the width of the second surface in order to block the first entrance by an input pressure when gas or liquid input through the third entrance is input. The valve may be used for injection or discharge of compressed air for the operation of the isolation valve used in the semiconductor device manufacturing apparatus. The first inlet is an injection passage through which compressed air is injected, and the second inlet is an exhaust passage for discharging air input through the third inlet, and the third inlet is compressed air input through the first inlet. May be output to the outside, and the output air may be an air input / output passage again inputted.

상기한 구성에 따르면, 빠른 배기가 가능하며, 별도의 제어수단이 없이 입력되는 기체 또는 액체의 압력만으로 밸브 개폐가 가능하다. According to the above configuration, it is possible to quickly exhaust, it is possible to open and close the valve only by the pressure of the gas or liquid input without a separate control means.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예가, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 철저한 이해를 제공할 의도 외에는 다른 의도 없이, 첨부한 도면들을 참조로 하여 상세히 설명될 것이다. DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, without any other intention than to provide a thorough understanding of the present invention to those skilled in the art.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 급속배기 밸브 장치의 사시도이며, 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 급속배기 밸브 장치의 동작을 설명하기 위한 동작 단면도이다.4 is a perspective view of a rapid exhaust valve device according to an embodiment of the present invention, Figure 5 and Figure 6 is an operation cross-sectional view for explaining the operation of the rapid exhaust valve device according to an embodiment of the present invention.

도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 급속배기 밸브 장치(300)는 밸브 몸체(320)와 밀봉디스크(310)을 구비한다.As shown in Figure 4 to Figure 6, the quick exhaust valve device 300 according to an embodiment of the present invention includes a valve body 320 and the sealing disk 310.

상기 밸브 몸체(320)는 속이 빈 내부공간과, 기체 또는 액체가 입출력되기 위하여 상기 내부공간과 외부와의 통로를 각각 제공하는 서로 다른 3개의 출입구들(P,A,R)을 구비한다. 상기 밸브 몸체(320)는 'T' 자 형태로 구비될 수 있다.The valve body 320 has a hollow interior space and three different entrances P, A, and R which respectively provide passages between the interior space and the outside in order to input and output gas or liquid. The valve body 320 may be provided in a 'T' shape.

상기 밀봉디스크(310)는 상기 밸브 몸체(320)의 내부 공간에 위치되며, 상기 3개의 출입구들(P,A,R) 중 어느 하나의 출입구를 통하여 기체(예를 들면, 공기(air)) 또는 액체가 입력되면, 상기 기체 또는 액체의 입력 압력에 의하여 나머지 두개의 출입구들 중 어느 하나의 출입구는 차단하고, 나머지 출입구는 개방되도록 하여 입력되는 기체 또는 액체가 출력되도록 한다.The sealing disk 310 is located in the interior space of the valve body 320, the gas (for example, air) through the entrance of any one of the three entrances (P, A, R) Alternatively, when the liquid is input, the gas or liquid is blocked by the input pressure of the gas or liquid, and the other entrance is blocked, and the other entrance is opened so that the input gas or liquid is output.

상기 밀봉디스크(310)는, 상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P) 차단시에는 상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P)와 맞닿고 상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P)를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P)와 이격되고 대향되는 제1면과, 상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P)를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제2출입구(예를들면, 출입구 R)와 맞닿아 상기 제2출입구(예를들면, 출입구 R)를 차단하고 제3출입구(예를들면, 출입구 A)를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제2출입구(예를들면, 출입 구 R)와 이격되고 대향되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하며 상기 제3출입구(예를들면, 출입구 A)에 대향하며 이격되는 제3면을 구비한다. The sealing disk 310 is in contact with the first entrance (for example, the entrance P) when the first entrance (for example, the entrance P) is blocked and the first entrance (for example, the entrance P). When gas or liquid is input through the first surface (eg, the entrance P), the first surface spaced apart from and opposed to the first entrance (eg, the entrance P) and the gas or liquid through the first entrance (eg, the entrance P) In case of input, the second entrance (eg, the doorway R) is contacted to block the second entrance (eg, the doorway R) and the gas or liquid is passed through the third entrance (eg, the doorway A). When is input, the second surface spaced apart from the second entrance (for example, the entrance R) and the opposite, the first surface and the second surface is connected to the third entrance (for example, the entrance A third surface facing and spaced apart from A).

상기 밀봉디스크(310)는 상기 제3출입구(예를들면, 출입구 A)를 통하여 입력되는 기체 또는 액체가 입력되는 경우에 입력압력에 의해 상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P)를 차단하도록 하기 위하여 상기 제1면의 폭이 상기 제2면의 폭보다 크게 형성될 수 있다. 따라서 제3면은 평탄하지 않고 계단형이나 기울기가 있는 경사형의 면을 가질 수 있다. The sealing disk 310 is configured to block the first entrance (eg, the entrance P) by an input pressure when gas or liquid input through the third entrance (eg, the entrance A) is input. In order to do so, the width of the first surface may be greater than the width of the second surface. Thus, the third surface may have an inclined surface that is not flat and has a stepped shape or a slope.

상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P)는 압축공기가 주입되는 주입 통로이고, 상기 제2출입구(예를들면, 출입구 R)는 상기 제3출입구(예를들면, 출입구 A)를 통하여 입력되는 공기를 배출하는 배기통로이며, 상기 제3출입구(예를들면, 출입구 A)는 상기 제1출입구(예를들면, 출입구 P)를 통하여 입력되는 압축공기가 외부로 출력되고, 출력된 공기가 다시 입력되는 공기 입출력 통로일 수 있다.The first entrance (eg, the entrance P) is an injection passage through which compressed air is injected, and the second entrance (eg, the entrance R) is input through the third entrance (eg, the entrance A). An exhaust passage for discharging the air, the third entrance (for example, the entrance A) is the compressed air input through the first entrance (for example, the entrance P) is output to the outside, the output air is It may be an air input / output passage that is input again.

상기 밸브 장치(300)는 반도체 소자 제조장치에 이용되는 아이솔레이션 밸브의 동작을 위한 압축공기의 주입 또는 배출을 위해 이용될 수 있다. 즉 종래의 아이솔레이션 밸브의 동작을 지원하기 위해 배치되던 솔레노이드 밸브를 대체할 수 있다.The valve device 300 may be used to inject or discharge compressed air for the operation of an isolation valve used in a semiconductor device manufacturing apparatus. That is, it is possible to replace the solenoid valve that is disposed to support the operation of the conventional isolation valve.

상기 본 발명의 일 실시예에 따른 밸브장치(300)가 반도체 소자 제조장치에 이용되는 아이솔레이션 밸브(도 1의 100)의 공기 주입구(20)에 연결된 경우를 예로 하여 그 동작을 설명한다.The operation of the valve device 300 according to the exemplary embodiment of the present invention is connected to the air inlet 20 of the isolation valve (100 of FIG. 1) used in the semiconductor device manufacturing apparatus.

도 5에 도시된 바와 같이, 제1출입구(예를 들면, 출입구 P)를 통하여 압축공 기가 주입되면, 이 압력에 의해 밀봉 디스크는 제2출입구(예를 들면, 출입구 R)를 차단하게 되고, 압축공기는 제3출입구(예를들면, 출입구 A)로 흐르게 되어 상기 공기주입구(20)로 주입되게 된다. As shown in FIG. 5, when compressed air is injected through the first entrance (for example, the entrance P), the pressure causes the sealing disk to block the second entrance (for example, the entrance R). Compressed air flows to the third inlet (for example, the inlet A) and is injected into the air inlet 20.

도 6에 도시된 바와 같이, 제1출입구(예를 들면, 출입구 P)에 가해지던 압력이 제거되면, 즉 압축공기가 입력되지 않으면, 상기 제3출입구(예를들면, 출입구 A)를 통하여 입력되는 공기에 의해 상기 밀봉디스크(310)가 움직이게 되고, 이에 따라 제1출입구(예를 들면, 출입구 P)를 차단하게 된다. 이에 따라 상기 공기 주입구(20)을 통하여 배출되는 배출공기는 상기 제3출입구(예를들면, 출입구 A)를 통하여 배기구인 제2출입구(예를 들면, 출입구 R)로 배출되게 된다. As shown in FIG. 6, when the pressure applied to the first entrance (for example, the entrance P) is removed, that is, if compressed air is not input, the third entry (for example, the entrance A) is input. The sealing disc 310 is moved by the air, thereby blocking the first entrance (for example, the entrance P). Accordingly, the discharged air discharged through the air inlet 20 is discharged through the third inlet (eg, the doorway A) to the second outlet (eg, the doorway R) which is an exhaust port.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 밸브장치에서는 종래의 솔레노이드 밸브에서와 같이 좁고 긴 제어라인을 통하지 않고 직접적으로 배출공기가 배출되게 된다. 또한 별도의 제어수단이나 전원이 없이도 동작이 가능하다.As described above, in the valve device according to the present invention, the exhaust air is discharged directly without passing through the narrow and long control line as in the conventional solenoid valve. It is also possible to operate without a separate control means or power.

상기한 실시예의 설명은 본 발명의 더욱 철저한 이해를 위하여 도면을 참조로 예를 든 것에 불과하므로, 본 발명을 한정하는 의미로 해석되어서는 안될 것이다. 또한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기본적 원리를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 명백하다 할 것이다. The description of the above embodiments is merely given by way of example with reference to the drawings for a more thorough understanding of the present invention, and should not be construed as limiting the present invention. In addition, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the basic principles of the present invention.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 상술한 바와 같이, 본 발명에 따 른 밸브장치에서는 종래의 솔레노이드 밸브에서와 같이 좁고 긴 제어라인을 통하지 않고 직접적으로 배출공기가 배출되게 된다. 또한, 배기 시간을 줄일 수 있으며, 별도의 제어수단이나 전원이 없이도 동작이 가능하다.As described above, according to the present invention, as described above, in the valve device according to the present invention, the exhaust air is discharged directly without passing through the narrow and long control line as in the conventional solenoid valve. In addition, it is possible to reduce the exhaust time, it is possible to operate without a separate control means or power.

Claims (6)

기체 또는 액체의 공급 통로를 조절하는 밸브장치에 있어서, In the valve device for adjusting a gas or liquid supply passage, 속이 빈 내부공간과, 기체 또는 액체가 입출력되기 위하여 상기 내부공간과 외부와의 통로를 각각 제공하는 서로 다른 3개의 출입구들을 구비하는 밸브 몸체와;A valve body having a hollow inner space and three different inlets and outlets respectively providing passages between the inner space and the outside for gas and liquid to be inputted and outputted; 상기 밸브 몸체의 내부 공간에 위치되며, 상기 3개의 출입구들 중 어느 하나의 출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되면, 상기 기체 또는 액체의 입력 압력에 의하여 나머지 두개의 출입구들 중 어느 하나의 출입구는 차단하고, 나머지 출입구는 개방되도록 하여 입력되는 기체 또는 액체가 출력되도록 하는 밀봉디스크를 구비하는 밸브장치. Located in the interior space of the valve body, when gas or liquid is input through any one of the three entrances, the entrance of any one of the other two entrances is blocked by the input pressure of the gas or liquid And a sealing disk for allowing the remaining entrance to be opened to output the gas or liquid to be input. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 밸브는 'T'자형의 구조로 제1 내지 제3출입구를 가짐을 특징으로 하는 밸브장치. The valve is a valve device, characterized in that having a 'T' shaped first to third entrances. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 밀봉디스크는, 상기 제1출입구 차단시에는 상기 제1출입구와 맞닿고 상 기 제1출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제1출입구와 이격되고 대향되는 제1면과, 상기 제1출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제2출입구와 맞닿아 상기 제2출입구를 차단하고 제3출입구를 통하여 기체 또는 액체가 입력되는 경우에는 상기 제2출입구와 이격되고 대향되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하며 상기 제3출입구에 대향하며 이격되는 제3면을 구비함을 특징으로 하는 밸브장치. The sealing disk may include: a first surface which contacts the first entrance when the first entrance is blocked and is spaced apart from and opposed to the first entrance when the gas or liquid is input through the first entrance; A second outlet contacting the second inlet when the gas or liquid is input through the first inlet, and blocking the second inlet; and a second spaced apart from the second inlet when the gas or the liquid is input through the third inlet; And a third surface connecting the first surface and the second surface and spaced apart from and facing the third entrance. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 밀봉디스크는, 상기 제3출입구를 통하여 입력되는 기체 또는 액체가 입력되는 경우에 입력압력에 의해 상기 제1출입구를 차단하도록 하기 위하여 상기 제1면의 폭이 상기 제2면의 폭보다 큼을 특징으로 하는 밸브장치. The sealing disk is characterized in that the width of the first surface is greater than the width of the second surface in order to block the first entrance by the input pressure when the gas or liquid input through the third entrance. Valve device. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 밸브는 반도체 소자 제조장치에 이용되는 아이솔레이션 밸브의 동작을 위한 압축공기의 주입 또는 배출을 위해 이용됨을 특징으로 하는 밸브장치.The valve is a valve device, characterized in that used for the injection or discharge of compressed air for the operation of the isolation valve used in the semiconductor device manufacturing apparatus. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제1출입구는 압축공기가 주입되는 주입 통로이고, 상기 제2출입구는 상기 제3출입구를 통하여 입력되는 공기를 배출하는 배기통로이며, 상기 제3출입구는 상기 제1출입구를 통하여 입력되는 압축공기가 외부로 출력되고, 출력된 공기가 다시 입력되는 공기 입출력 통로임을 특징으로 하는 밸브장치.The first inlet is an injection passage through which compressed air is injected, and the second inlet is an exhaust passage for discharging air input through the third inlet, and the third inlet is compressed air input through the first inlet. Is output to the outside, the valve device, characterized in that the output air input and output air passage passage.
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