KR20070072193A - 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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KR20070072193A
KR20070072193A KR1020050136190A KR20050136190A KR20070072193A KR 20070072193 A KR20070072193 A KR 20070072193A KR 1020050136190 A KR1020050136190 A KR 1020050136190A KR 20050136190 A KR20050136190 A KR 20050136190A KR 20070072193 A KR20070072193 A KR 20070072193A
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Abstract

본 발명은 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명은 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판을 제공하는 단계; 상기 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판의 가장자리부에 프로세스키를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터 어레이기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 컬러필터기판에 블랙매트릭스를 형성하는 단계; 상기 블랙매트릭스와 이에 대응하는 박막트랜지스터 어레이기판사이에 실패턴을 형성하는 단계; 및 상기 실패턴외측에 댐을 형성하는 단계;를 포함하여 구성된다.
프로세스키(process key), 댐(dam), 컬럼스페이서(column spacer), 실패턴

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}
도 1은 일반적인 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 제조공정을 도시한 흐름도.
도 2는 종래기술의 일실시예에 따른 액정표시장치에 있어서, 게이트패드부와 데이터패드부에 형성된 프로세스키를 보여 주는 평면도.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선에 따른 단면도.
도 4는 종래기술의 다른 실시예에 따른 액정표시장치에 있어서, 게이트패드부가 없는 어레이기판과 컬러필터기판에 형성된 프로세스키를 보여 주는 평면도.
도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선에 따른 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 액정표시장치에 있어서, 게이트패드부가 없는 어레이기판과 컬러필터기판에 형성된 프로세스키를 보여 주는 평면도.
도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선에 따른 단면도이다.5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선에 따른 단면도.
도 8은 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 제조공정을 도시한 흐름도.
- 도면의 주요부분에 대한 부호설명 -
111 : 절연성 기판 113 : 게이트전극
115 : 게이트절연막 117 : 소스전극
119 : 보호막 121 : 감광막패턴
123 : 패스홀(pass hole) 125 : 연결배선
본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 프로세스키(process key)주변에 컬럼스페이서(column spacer)로 댐(dam)을 형성하여, 프로세스키주위로 실(seal)이 침범하지 않도록 하여 프로세스키 인식 오류를 줄일 수 있는 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치는 박막트랜지스터가 배열된 기판인 하부기판과, 컬러필터가 형성된 상부기판과, 이들 하부기판과 상부기판사이에 충진된 액정으로 구성된다.
이러한 구성으로 이루어지는 일반적인 액정표시소자의 제조방법에 대해 도 1을 참조하여 개략적으로 설명하면 다음과 같다.
도 1은 일반적인 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 제조공정을 도시한 흐름도이다.
도 1을 참조하면, 먼저 컬러필터기판인 상부기판과 어레이기판인 하부기판을 세정한다(S10). 이는 후속공정에서 배향막을 도포하기 전에 기판상에 존재할 수 있 는 이물질을 제거하기 위한 과정이고, 이때, 상부기판 및 하부기판상에는 하나 또는 다수개의 셀이 형성되어 있다.
그다음, 상기 세정단계(S10)을 진행한후, 상기 상부기판과 하부기판상에 배향막을 형성하는 단계(S20)로서, 이 단계에서는 고분자 박막인 배향막의 증착과 러빙(rubbing) 공정을 포함한다. 이어, 이러한 배향막표면상의 러빙공정을 진행하는데, 이는 러빙포를 이용하여 배향막을 일정한 방향으로 문질러 주는 것으로, 러빙방향에 따라 액정분자들이 정렬하게 된다.
이어서, 상기 배향 및 러빙공정(S20)을 진행한후 기판상에 실패턴(seal pattern) 인쇄 및 스페이서(spacer)를 산포한다(S30). 이때, 상기 실패턴은 액정주입을 위한 갭을 형성하고, 주입된 액정의 누설을 방지하는 두가지 기능을 한다. 또한, 스페이서(spacer)를 산포하는 단계(S30)는, 액정셀의 제조공정에서 상, 하부기판사이의 갭을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서가 사용된다.
그다음, 상기 스페이서를 산포하는 단계(S30)를 진행한후, 상, 하부기판을 합착하는 단계(S40)로서, 두 기판의 얼라인먼트(alignment) 정도는 두 기판의 설계시 주어지는 마진(margin)에 의해 결정되는데, 보통 수 마이크로미터(μm) 정도의 정밀도가 요구된다. 이때, 두 기판의 얼라인먼트가 주어지는 마진을 벗어나면 빛이 새어 나오게 되어 소자 구동시에 원하는 특성을 얻지 못한다.
이어서, 상기 상,하부기판을 합착한후 이렇게 제작된 액정셀을 단위셀로 절단한다(S50). 즉, 셀 절단공정은 대면적의 유리기판에 다수의 셀을 형성한후, 각각 하나의 셀로 분리하는 공정을 의미한다.
그다음, 이러한 셀 절단 공정을 진행한후, 셀단위로 액정을 주입 및 봉입한다(S60). 이때, 셀에 효과적으로 액정을 주입하는 방법으로는, 셀내외의 압력차를 이용하는 진공주입법이 널리 이용된다. 또한, 액정주입후에 이어지는 봉합공정을 진행하는데, 이 봉합공정은 액정주입이 완료된후, 액정셀의 주입구에 액정이 흘러 나오지 않게 막아 주는 공정이다.
이어서, 액정셀의 검사공정단계(S70)로서, 다수개의 게이트라인과 다수개의 데이터라인이 각각 쇼팅바(shorting bar)에 의하여 묵여진 상태에서 외부에 검사패드가 있고, 공통전극과 연결된 패드가 나와 있는 액정셀에 전압을 인가하면서 육안관측 또는 현미경 관측을 통해 진행된다. 이때, 이 검사단계에서는 주로 액정셀에 나타날 수 있는 이물에 의한 불량, 박막트랜지스터 소자 불량에 의한 포인트 디펙트(point defect), 게이트 및 데이터라인의 단선에 위한 라인 디펙트(line defect) 또는 셀 두께가 부분적으로 달라짐에 의한 광학 특성의 결함 등을 종합적으로 판단하여 셀의 양품 또는 불량품 여부를 판단한다.
그다음, 검사공정을 거친후, 양호한 제품을 선별하고 이어 그라인딩 (grinding)공정을 진행한다.
이러한 공정순으로 이루어지는 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 실패턴 및 프로세스키 제조공정에 대해 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 2는 종래기술의 일실시예에 따른 액정표시장치에 있어서, 게이트패드부와 데이터패드부에 형성된 프로세스키를 보여 주는 평면도이고, 도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선에 따른 단면도이다.
도 2를 참조하면, 종래기술의 일실시예에 따른 액정표시장치는 게이트패드부와 데이터패드부가 마련된 박막트랜지스터어레이기판과 상기 게이트패드부와 데이터패드부를 제외한 박막트랜지스터어레이기판상에 배치되어 있는 컬러필터기판과 이들사이의 공간부에 주입된 액정층으로 구성되어 있다.
여기서, 상기 게이트패드부와 데이터패드부의 가장자리부에는 스크라이브라인(scribe line)과 같은 프로세스키(process key)가 마련되어 있다.
또한, 도 3을 참조하면, 상기 박막트랜지스터 어레이기판상에는 스위칭 박막트랜지스터를 구성하는 게이트전극, 소스/드레인전극 및 채널층이 형성되어 있으며, 그 위에는 보호막과 배향막(미도시)이 형성되어 있다.
또한, 상기 컬러필터기판배면에는 블랙매트릭스층과 컬러필터층 및 배향막이 적층되어 있다.
그리고, 상기 어레이기판과 컬러필터기판사이에는 액티브영역의 외곽부분에 실패턴(seal pattern)이 형성되어 있다.
한편, 종래기술의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 실패턴 및 프로세스키 제조공정에 대해 도 4 및 도 5를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 4는 종래기술의 다른 실시예에 따른 액정표시장치에 있어서, 게이트패드부가 없는 어레이기판과 컬러필터기판에 형성된 프로세스키를 보여 주는 평면도이 고, 도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선에 따른 단면도이다.
도 4를 참조하면, 종래기술의 다른 실시예에 따른 액정표시장치는 게이트패드부가 없는 박막트랜지스터어레이기판과 상기 박막트랜지스터어레이기판상에 배치되어 있는 컬러필터기판과 이들사이의 공간부에 주입된 액정층으로 구성되어 있다.
여기서, 서로 오버랩되어 있는 상기 컬러필터기판과 박막어레이기판의 가장자리부분에는 스크라이브라인(scribe line)과 같은 프로세스키 (process key)가 형성되어 있다.
또한, 도 5를 참조하면, 상기 박막트랜지스터 어레이기판상에는 스위칭 박막트랜지스터를 구성하는 게이트전극, 소스/드레인전극 및 채널층이 형성되어 있으며, 그 위에는 보호막과 배향막(미도시)이 형성되어 있다.
또한, 상기 컬러필터기판배면에는 블랙매트릭스층과 컬러필터층 및 배향막이 적층되어 있다.
그리고, 서로 오버랩되어 있는 상기 어레이기판과 컬러필터기판의 블랙매트릭스사이에는 액티브영역의 외곽부분에 실패턴(seal pattern)이 형성되어 있다.
또한, 상기 실패턴과 가까운 위치에 있는 컬러필터기판과 어레이기판에는 프로세스키(process key)가 형성되어 있다. 이때, 상기 프로세스키는, 빛이 투과되어야 하기 때문에 음각으로 형성한다.
상기한 바와같이, 종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있다.
종래기술에 따른 액정표시장치의 제조방법에 의하면, 액티브영역근처에 GIP 회로부가 존재하기 때문에 실패턴을 액티브영역 근처에 위치하게 할 수 없다.
프로세스키 영역에 실패턴이 형성되면, 음각으로 형성된 부분에 실패턴이 형성되어 프로세스 키를 인식하는 장비에서 오류가 발생하게 된다. 특히, 프로세스키를 박막트랜지스터 어레이기판의 끝단으로 이동시켜 형성하는 경우에는 프로세스 키를 인식하는 장비에서 오류가 발생하게 된다.
따라서, 프로세스키가 실패턴쪽에 가까워지게 형성되므로써 프로세스 키 인식 오류가 발생하게 되어 실패턴영역의 마진이 줄어 들게 된다.
이에 본 발명은 상기 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 프로세스 키 주위에 컬럼스페이서로 댐(dam)을 형성하여 프로세스키 주위로 실패턴이 침범하지 않도록 하여 프로세스키 인식 오류를 줄일 수 있는 액정표시장치의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는 박막트랜지스터 어레이기판; 상기 박막트랜지스터 어레이기판상에 배치된 컬러필터기판; 상기 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판사이에 마련된 화소영역; 상기 화소영역을 제외한 컬러필터기판부분에 형성된 블랙매트릭스; 상기 블랙매트릭스지역에 위치하는 컬러필터기판부분과 이에 대응하는 박막트랜지스터 어레이기판에 형성된 프로세스키; 상기 프로세스키와 화소영역사이에 위치하는 블랙매트릭스와 이에 대응하는 박막트랜지스터 어레이기판에 형성된 실패턴; 및 상기 실패턴외측에 형성된 댐(dam);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치 제조방법은 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판을 제공하는 단계; 상기 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판의 가장자리부에 프로세스키를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터 어레이기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 컬러필터기판에 블랙매트릭스를 형성하는 단계; 상기 블랙매트릭스와 이에 대응하는 박막트랜지스터 어레이기판사이에 실패턴을 형성하는 단계; 및 상기 실패턴외측에 댐을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로한다.
이하, 본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 6은 본 발명에 따른 액정표시장치에 있어서, 게이트패드부가 없는 어레이기판과 컬러필터기판에 형성된 프로세스키를 보여 주는 평면도이고, 도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선에 따른 단면도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 액정표시장치는 게이트패드부가 없는 박막트랜지스터어레이기판과 상기 박막트랜지스터어레이기판상에 배치되어 있는 컬러필터기판과 이들사이의 공간부에 주입된 액정층으로 구성되어 있다. 이때, 상기 컬러필터기판은 상기 박막트랜지스터 어레이기판의 데이터패드부를 제외한 기판전체에 오버랩되게 배치되어 있다.
여기서, 서로 오버랩되어 있는 상기 컬러필터기판과 박막트랜지스터 어레이 기판의 가장자리부분에는 스크라이브라인(scribe line)과 같은 프로세스키 (process key)가 형성되어 있다.
또한, 상기 컬러필터기판과 박막트랜지스터 어레이기판의 오버랩되는 지역에는 액티브영역이 마련되어 있으며, 이 액티브영역의 주변부에는 실패턴이 배치되어 있으며, 이 실패턴주변에는 컬럼스페이서(column spacer)가 형성되어 있다. 이때, 상기 실패턴과 컴럼스페이서는 컬러필터기판에 형성된 블랙매트릭스과 이에 대응하는 어레이기판사이에 배치되어 있다.
한편, 도 7을 참조하면, 상기 박막트랜지스터 어레이기판상에는 스위칭 박막트랜지스터를 구성하는 게이트전극, 소스/드레인전극 및 채널층이 형성되어 있으며, 그 위에는 보호막과 배향막(미도시)이 형성되어 있다.
또한, 상기 컬러필터기판배면에는 블랙매트릭스층과 컬러필터층 및 배향막이 적층되어 있다.
그리고, 서로 오버랩되어 있는 상기 어레이기판과 컬러필터기판의 블랙매트릭스사이에는 액티브영역의 외곽부분에 실패턴(seal pattern)이 형성되어 있다.
또한, 상기 실패턴의 외곽부분에는 컬럼스페이서(column spaceer)로 댐(damm)이 형성되어 있으며, 상기 댐의 외곽부에 위치하는 어레이판과 컬러필터기판부분에는 프로세스키(process key)가 형성되어 있다.
한편, 상기 구성으로 된 실패턴 및 프로세스키 구조를 적용한 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조방법에 대해 도 8을 참조하여 개략적으로 설명하면 다음과 같다.
도 8은 본 발명에 따른 액정표시소자의 제조방법을 설명하기 위한 제조공정을 도시한 흐름도이다.
도 8을 참조하면, 먼저 컬러필터기판인 상부기판과 어레이기판인 하부기판을 세정한다(S110). 이는 후속공정에서 배향막을 도포하기 전에 기판상에 존재할 수 있는 이물질을 제거하기 위한 과정이고, 이때, 상부기판 및 하부기판상에는 하나 또는 다수개의 셀이 형성되어 있다.
그다음, 상기 세정단계(S110)을 진행한후, 상기 상부기판과 하부기판상에 배향막을 형성하는 단계(S120)로서, 이 단계에서는 고분자 박막인 배향막의 증착과 러빙(rubbing) 공정을 포함한다. 이때, 상기 배향막 형성단계는 액정분자의 균일한 배향을 형성하여, 정상적인 액정구동이 가능하게 하고, 균일한 디스플레이 특성을 갖기 위해서 필요하다.
이러한 배향막으로는 폴리이미드계 고분자 화합물이 널리 사용되며, 도포된 배향막은 예비 건조기와 경화로를 거쳐 폴리이미드막으로 형성되어 배향막 형성이 완료된다.
또한, 이러한 배향막표면상의 러빙공정은 러빙포를 이용하여 배향막을 일정한 방향으로 문질러 주는 것으로, 러빙방향에 따라 액정분자들이 정렬하게 된다.
이어서, 상기 배향 및 러빙공정(S120)을 진행한후 기판상에 실패턴(seal pattern) 인쇄, 댐(dam) 형성 및 스페이서(spacer)를 산포한다(S30). 이때, 상기 실패턴은 액정주입을 위한 갭을 형성하고, 주입된 액정의 누설을 방지하는 두가지 기능을 한다. 또한, 스페이서(spacer)를 산포하는 단계(S30)는, 액정셀의 제조공정 에서 상, 하부기판사이의 갭을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서가 사용된다. 그리고, 상기 댐(dam)은 실패턴이 프로세스키 영역으로 침범하지 못하게 하는 기능을 한다.
이어서, 상, 하부기판을 합착하는 단계(S40)로서, 두 기판의 얼라인먼트 (alignment) 정도는 두 기판의 설계시 주어지는 마진(margin)에 의해 결정되는데, 보통 수 마이크로미터(μm) 정도의 정밀도가 요구된다.
그다음, 상기 상,하부기판을 합착한후 이렇게 제작된 액정셀을 단위셀로 절단한다(S50). 즉, 셀 절단공정은 대면적의 유리기판에 다수의 셀을 형성한후, 각각 하나의 셀로 분리하는 공정을 의미한다. 이때, 상기 셀 절단공정은 유리보다 경도가 높은 다이아몬드 재질의 펜으로 유리기판표면에 절단선을 형성하는 스크라이브 (scribe) 공정과 힘을 가하여 절단하는 브레이크(break) 공정으로 이루어진다.
이어서, 이러한 셀 절단 공정을 진행한후, 셀단위로 액정을 주입 및 봉입한다(S60). 이때, 셀에 효과적으로 액정을 주입하는 방법으로는, 셀내외의 압력차를 이용하는 진공주입법이 널리 이용된다. 또한, 액정주입후에 이어지는 봉합공정을 진행하는데, 이 봉합공정은 액정주입이 완료된후, 액정셀의 주입구에 액정이 흘러 나오지 않게 막아 주는 공정이다. 이때, 봉합공정으로는, 자외선 경화수지를 디스펜서(dispensor)를 이용하여 도포한 후에 자외선을 조사하여 주입구를 막아 준다.
이어서, 액정셀의 검사공정단계(S70)로서, 다수개의 게이트라인과 다수개의 데이터라인이 각각 쇼팅바(shorting bar)에 의하여 묵여진 상태에서 외부에 검사패드가 있고, 공통전극과 연결된 패드가 나와 있는 액정셀에 전압을 인가하면서 육안 관측 또는 현미경 관측을 통해 진행된다. 이때, 이 검사단계에서는 주로 액정셀에 나타날 수 있는 이물에 의한 불량, 박막트랜지스터 소자 불량에 의한 포인트 디펙트(point defect), 게이트 및 데이터라인의 단선에 위한 라인 디펙트(line defect) 또는 셀 두께가 부분적으로 달라짐에 의한 광학 특성의 결함 등을 종합적으로 판단하여 셀의 양품 또는 불량품 여부를 판단한다.
그다음, 검사공정을 거친후, 양호한 제품을 선별하고 이어 그라인딩 (grinding)공정을 진행한다.
상기에서 설명한 바와같이, 본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 프로세스키 영역주위에 컬럼스페이서로 댐을 형성하여 실패턴이 프로세스키 영역으로 침범하지 못하게 하므로써, 프로세스키 영역이 확보되어 프로세스키를 최외곽으로 이동시키지 않아도 되므로 프로세스키의 인식오류를 줄일 수 있다.
따라서, 실패턴을 프로세스키 영역과 가깝게 형성할 수 있어 실패턴의 영역 마진과 프로세스키 영역을 확보할 수 있다.
한편, 상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (12)

  1. 박막트랜지스터 어레이기판;
    상기 박막트랜지스터 어레이기판상에 배치된 컬러필터기판;
    상기 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판사이에 마련된 화소영역;
    상기 화소영역을 제외한 컬러필터기판부분에 형성된 블랙매트릭스;
    상기 블랙매트릭스지역에 위치하는 컬러필터기판부분과 이에 대응하는 박막트랜지스터 어레이기판에 형성된 프로세스키;
    상기 프로세스키와 화소영역사이에 위치하는 블랙매트릭스와 이에 대응하는 박막트랜지스터 어레이기판에 형성된 실패턴; 및
    상기 실패턴외측에 형성된 댐(dam);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 액정표시장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 프로세스키는 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판의 가장자리부에 형성된 것을 특징으로하는 액정표시장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 댐은 컬럼 스페이서(column spacer)로 형성된 것을 특징으로하는 액정표시장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 댐은 프로세스키와 실패턴사이에 형성된 것을 특징으 로하는 액정표시장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 박막트랜지터 어레이기판상에는 게이트전극과 소스/드레인전극 및 채널층으로 구성된 박막트랜지스터부가 형성된 것을 특징으로하는 액정표시장치.
  6. 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판을 제공하는 단계;
    상기 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판의 가장자리부에 프로세스키를 형성하는 단계;
    상기 박막트랜지스터 어레이기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계;
    상기 박막트랜지스터상에 보호막을 형성하는 단계;
    상기 컬러필터기판에 블랙매트릭스를 형성하는 단계;
    상기 블랙매트릭스와 이에 대응하는 박막트랜지스터 어레이기판사이에 실패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 실패턴외측에 댐을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 액정표시장치 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 프로세스키는 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판의 서로 대응되는 가장자리부에 형성하는 것을 특징으로하는 액정표시장치 제조방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 댐은 컬럼 스페이서(column spacer)로 형성하는 것을 특징으로하는 액정표시장치 제조방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 댐은 프로세스키와 실패턴사이에 형성하는 것을 특징으로하는 액정표시장치 제조방법.
  10. 제6항에 있어서, 상기 컬러필터기판상에는 컬러필터층과 배향막이 형성되는 것을 특징으로하는 액정표시장치 제조방법.
  11. 제6항에 있어서, 상기 보호층상에는 배향막이 형성되는 것을 특징으로하는 액정표시장치 제조방법.
  12. 제6항에 있어서, 상기 박막트랜지스터 어레이기판과 컬러필터기판이 합착되어 이루는 화소영역에 액정층을 주입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치 제조방법.
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