KR20070070736A - Apparatus for transferring substrate using hydroplaning - Google Patents

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Abstract

An apparatus for transportation of substrate using hydroplaning phenomenon is provided to generate a hydroplaning film on a stage to stably fix the substrate to the stage and to inhibit severe vibration of the substrate, thereby improving precision in line scribing and cutting of the substrate by fabricating the hydroplaning stage and a conveyor for transporting the stage. The apparatus includes: hydroplaning stages(35,45) having hydroplaning film on the surface thereof; and first and second conveyor parts(30,40) to transport the hydroplaning stage. The stage consists of a planar structure that has a plurality of outlets to discharge liquid for the hydroplaning and a hollow part installed inside the stage to feed the liquid to the outlet, which is connected to a feeding line for supplying the liquid to the hollow part. The feeding line has a pump to feed the liquid at a pre-setup pressure to the hollow part.

Description

수막현상을 이용한 기판 이송장치{Apparatus for Transferring Substrate Using Hydroplaning}Apparatus for Transferring Substrate Using Hydroplaning}

도 1은 종래의 기판 절단장치에서 기판 이송 수단을 설명하기 위한 사시도.1 is a perspective view for explaining a substrate transfer means in a conventional substrate cutting device.

도 2는 종래의 다른 기판 이송 수단을 설명하기 위한 정면도.2 is a front view for explaining another conventional substrate transfer means.

도 3은 본 발명에 따른 수막현상을 이용한 기판 이송장치를 설명하기 위한 정면도.Figure 3 is a front view for explaining a substrate transfer apparatus using the water film phenomenon according to the present invention.

도 4는 본 발명에서 테이블의 제 1실시예를 설명하기 위한 평면도(A) 및 정단면도(B).Figure 4 is a plan view (A) and a front cross-sectional view (B) for explaining the first embodiment of the table in the present invention.

도 5는 본 발명에서 테이블의 제 2실시예를 설명하기 위한 평면도(A) 및 정단면도(B).5 is a plan view (A) and a front cross-sectional view (B) for explaining the second embodiment of the table in the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

30 : 제 1이동부 35 : 제 1스테이지30: first moving part 35: first stage

40 : 제 2이동부 45 : 제 2스테이지40: second moving part 45: second stage

50 : 회전부 51 : 흡착판50: rotating part 51: suction plate

52 : 회전 헤드 53 : 진공 펌프52: rotating head 53: vacuum pump

60 : 제 1휠 62 : 제 2휠60: first wheel 62: second wheel

65 : 기판 홀더 70 : 기판65 substrate holder 70 substrate

81, 91 : 상부판 82, 92 : 하부판81, 91: upper plate 82, 92: lower plate

83, 93 : 측면판 85 : 배출구83, 93: side plate 85: outlet

95 : 배출 슬릿 86, 96 : 공급라인95: discharge slit 86, 96: supply line

87, 97 : 펌프 88, 98 : 수조87, 97: pump 88, 98: water tank

본 발명은 수막현상을 이용한 기판 이송장치에 관한 것으로, 특히 기판을 절단하는 절단장치에서 기판을 스크라이버의 휠에 대하여 이동시켜 주는 이송장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer apparatus using a water film phenomenon, and more particularly, to a transfer apparatus for moving a substrate relative to a wheel of a scriber in a cutting apparatus for cutting a substrate.

일반적으로, 디스플레이 등의 기판으로 사용되는 유리기판은 대형으로 제작된 후에, 용도에 따른 크기로 절단 가공된다.In general, a glass substrate used as a substrate such as a display is produced in a large size, and then cut into sizes according to the use.

상기 유리기판과 같은 취성 물질을 절단하기 위한 공정은 유리기판보다 경도가 높은 다이아몬드 재질의 공구를 이용하여 기판의 표면에 절단선을 형성하는 스크라이브(Scribe) 공정과, 상기 유리기판에 형성된 절단선을 중심으로 가압하여 절단하는 브레이크(Break) 공정으로 이루어진다.The process for cutting brittle material such as the glass substrate is a scribe (Scribe) process for forming a cutting line on the surface of the substrate using a diamond tool having a hardness higher than the glass substrate, and the cutting line formed on the glass substrate It consists of a break process to press and cut to the center.

상기 스크라이브 공정은 절단 공구인 휠을 이용하여 유리기판의 절단 위치에 크랙을 형성하는 공정이고, 상기 브레이크 공정은 유리기판에 스크래치를 형성하지 않는 재질로 이루어진 브레이크 바를 상기 크랙에 위치시킨 후에 적당한 힘으로 순 간적인 압력을 가하면 상기 크랙이 유리기판의 두께 방향으로 확장되면서 절단된다.The scribing process is a process of forming a crack at the cut position of the glass substrate by using a wheel, which is a cutting tool, and the brake process is performed by placing a brake bar made of a material that does not form a scratch on the glass substrate to the crack and then applying a suitable force. When the instantaneous pressure is applied, the crack is cut while extending in the thickness direction of the glass substrate.

여기서, 상기 스크라이브 공정은 기판에 스크라이브 라인을 형성하기 위해 스크라이브 휠에 대해 상기 기판을 이송시켜 주어야 한다.Here, the scribing process must transfer the substrate to the scribe wheel to form a scribe line on the substrate.

이와 같은 유리 기판의 이송은 2003년 2월 5일에 공개된 특허공개번호 제 10-2003-10503호의 판유리 절단기구 및 트리밍 장치와, 2004년 1월 31일에 공개된 특허공개번호 제 10-2004-10045호의 절단장치 등에 소개되어 있는 벨트를 이용한 이송장치를 이용한다.The transfer of such glass substrates is carried out in the sheet glass cutting tool and trimming apparatus of Patent Publication No. 10-2003-10503 published on February 5, 2003, and Patent Publication No. 10-2004 published on January 31, 2004. The belt feeder used in the cutting device of -10045 is used.

즉, 도 1에 나타낸 종래의 이송장치는 유리기판(16)을 트리밍하기 위해 절단부(13), 지지부(14), 위치 결정부(15) 등으로 구성된 트리밍 장치에 이송시켜 주는 것으로, 상기 유리기판(16)을 상기 트리밍 장치로 반송하기 위해 평벨트 구조로 이루어진 반송 벨트(11)를 이용하고, 상기 트리밍 장치 내에서의 유리기판(16)의 이송은 평벨트 구조로 된 다수의 작업 벨트(12)에 의해 이루어진다.That is, the conventional conveying apparatus shown in FIG. 1 transfers to the trimming apparatus consisting of the cutting part 13, the support part 14, the positioning part 15, etc. in order to trim the glass substrate 16, The said glass substrate In order to convey the 16 to the trimming device, a conveying belt 11 having a flat belt structure is used, and the conveyance of the glass substrate 16 in the trimming device is performed by a plurality of work belts 12 having a flat belt structure. )

그리고, 도 2에 나타낸 종래의 다른 이송장치는 벨트식 컨베이어(21)를 이용하여 유리기판(20)을 이송시켜 주는 것으로, A위치에서 B위치인 절단장치의 컨베이어(21)로 이송시켜 놓고 홀더(25)를 이용하여 유리기판(20)을 고정시킨 상태에서 지지부(22)와 가압부(23) 및 절단부(24)를 이용하여 스크라이브 라인을 형성하고, 절단하며, 유리기판(20)의 다른 쪽에 대한 공정을 위해 상기 컨베이어(21) 위에 설치된 이송장치(26) 및 흡반(27)을 이용하여 상기 기판(20)을 상기 컨베이어(20) 상에서 회전시켜 후속 작업을 진행한다.In addition, another conventional conveying apparatus shown in FIG. 2 transfers the glass substrate 20 using the belt type conveyor 21, and transfers the glass substrate 20 to the conveyor 21 of the cutting device from the A position to the B position. In the state in which the glass substrate 20 is fixed by using the 25, a scribe line is formed and cut using the support part 22, the pressing part 23, and the cutting part 24, and the other part of the glass substrate 20 is used. The substrate 20 is rotated on the conveyor 20 by using the transfer device 26 and the sucker 27 installed on the conveyor 21 for the process of the side, and the subsequent work is performed.

상기와 같이 이루어지는 종래의 벨트 구조의 이송장치들은 벨트 위에 기판을 탑재한 상태에서 이송되기 때문에 벨트의 회전 및 이동에 따른 진동에 의해 상기 기판도 같이 진동되어 정확한 절단이 어려워지는 문제점이 있다.Since the transfer apparatus of the conventional belt structure made as described above is transported in a state in which the substrate is mounted on the belt, the substrate is also vibrated by vibrations due to the rotation and movement of the belt, thereby making it difficult to accurately cut the substrate.

또한, 상기와 같은 진동으로 인하여 이송 속도를 높일 수 없기 때문에 공정 시간이 많이 소요되는 문제점이 있다.In addition, there is a problem that takes a lot of process time because the feed rate can not be increased due to the vibration as described above.

본 발명의 목적은 기판 절단을 위해 기판을 이동시켜 주는 스테이지에 수막을 형성하여 기판을 안정적으로 고정시켜 이동시켜 주는 수막현상을 이용한 기판 이송장치를 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus using a water film phenomenon to form a water film on the stage for moving the substrate for substrate cutting to stably fix the substrate.

본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 표면에 수막이 형성되는 수막 스테이지; 및 상기 수막 스테이지를 이동시켜 주는 이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치를 제공한다.The present invention, the water film stage is formed on the surface of the water film to achieve the above object; And it provides a substrate transfer apparatus comprising a moving unit for moving the water film stage.

상기 수막 스테이지는 평탄 구조로 이루어져 수막 형성을 위한 액체를 배출하는 다수의 배출구가 상부면에 형성되고, 상기 배출구로 액체를 공급하는 중공부가 내부에 형성되어, 상기 중공부에 액체를 공급해 주는 공급라인이 연결되는 것을 특징으로 하며, 상기 공급라인은 액체를 미리 설정된 압력으로 공급해 주는 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The water film stage has a flat structure, and a plurality of discharge ports for discharging liquid for forming a water film are formed on an upper surface thereof, and a hollow part for supplying liquid to the discharge hole is formed therein to supply liquid to the hollow part. It is characterized in that the connection, the supply line is characterized in that it further comprises a pump for supplying a liquid at a predetermined pressure.

상기 수막 스테이지는 평탄 구조로 이루어져 액체 또는 기체를 배출하는 다수의 배출구가 상부면에 형성되고, 상기 배출구로 액체 또는 기체를 공급하는 중공부가 내부에 형성되어, 상기 중공부에 액체 또는 기체를 공급하는 공급라인이 연결되는 것을 특징으로 하며, 상기 공급라인은 액체를 미리 설정된 압력으로 공급해 주는 펌프와, 기체를 미리 설정된 압력으로 공급해 주는 컴프레서 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하고, 상기 공급라인은 상기 펌프와 컴프레서 중 어느 하나를 선택하는 절환수단을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The water film stage has a flat structure, and a plurality of outlets for discharging liquid or gas are formed on an upper surface thereof, and a hollow portion for supplying liquid or gas to the outlet is formed therein, and supplies liquid or gas to the hollow portion. The supply line is connected, characterized in that the supply line comprises at least one of a pump for supplying a liquid at a predetermined pressure, and a compressor for supplying a gas at a predetermined pressure, the supply line is It characterized in that it further comprises a switching means for selecting any one of the pump and the compressor.

상기 배출구는 4방 등간격으로 배치된 다수의 원형으로 이루어지거나, 2방 등간격으로 배치된 다수의 슬릿형으로 이루어진 것을 특징으로 한다.The outlet is made of a plurality of circles arranged at equal intervals of four, or characterized in that made of a plurality of slit type arranged at two equal intervals.

본 발명은 상기 수막 스테이지를 회전시켜 주는 회전장치를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention is characterized in that it further comprises a rotating device for rotating the water film stage.

그리고, 본 발명은 상기 수막 스테이지의 상부면에 묻은 이물질을 제거하기 위한 크리너를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.And, the present invention is characterized in that it further comprises a cleaner for removing the foreign matter on the upper surface of the water film stage.

상기 크리너는 진공 흡입하여 상기 이물질을 제거하는 진공식 크리너 또는 상기 이물질을 밀어내어 제거하는 와이퍼식 크리너 중에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 한다.The cleaner may be at least one selected from a vacuum cleaner for removing the foreign substances by vacuum suction or a wiper cleaner for pushing and removing the foreign substances.

상기와 같이 이루어지는 본 발명은 스크라이브 장치나 절단장치 상에서 이동되는 기판을 안정적으로 고정시켜 주는 이점이 있다.The present invention made as described above has the advantage of stably fixing the substrate to be moved on the scribe device or cutting device.

(실시예)(Example)

본 발명에 따른 수막현상을 이용한 기판 이송장치에 대하여 본 발명의 바람직한 실시예를 나타낸 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명한다.The substrate transfer apparatus using the water film phenomenon according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings showing a preferred embodiment of the present invention.

첨부한 도면, 도 3은 본 발명에 따른 수막현상을 이용한 기판 이송장치를 설명하기 위한 정면도, 도 4는 본 발명에서 테이블의 제 1실시예를 설명하기 위한 평면도(A) 및 정단면도(B), 도 5는 본 발명에서 테이블의 제 2실시예를 설명하기 위한 평면도(A) 및 정단면도(B)이다.Figure 3 is a front view for explaining a substrate transfer apparatus using the water film phenomenon according to the present invention, Figure 4 is a plan view (A) and a front cross-sectional view (B) for explaining a first embodiment of the table in the present invention 5 is a plan view A and a front sectional view B for explaining the second embodiment of the table in the present invention.

본 발명에 따른 수막현상을 이용한 기판 이송장치를 설명하기 위해, 기판(70)을 절단하기 위해 스크라이브 라인을 형성하는 스크라이버를 나타낸 도 3을 참조하여 설명한다.In order to explain the substrate transfer apparatus using the water film phenomenon according to the present invention, a scriber for forming a scribe line for cutting the substrate 70 will be described with reference to FIG. 3.

도 3에서, 본 발명은 상기 기판(70)이 그 상부면에 놓이는 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)와, 상기 제 1스테이지(35) 및 상기 제 2스테이지(45)를 각각 양방향으로 왕복 이송시켜 주는 제 1이동부(30) 및 제 2이동부(40)와, 상기 기판(70)의 상부면 및 하부면에 스크라이브 라인을 형성시켜 주는 제 1휠(60) 및 제 2휠(62), 그리고 상기 제 2스테이지(45)의 위에 설치되어 상기 제 2스테이지(45)에 놓이는 상기 기판(70)을 들어서 회전시켜 주는 회전부(50)로 구성된다.In FIG. 3, according to the present invention, the first stage 35 and the second stage 45 on which the substrate 70 is placed on its upper surface, and the first stage 35 and the second stage 45 are respectively. First and second moving parts 30 and 40 for reciprocating transfer in both directions, and first wheels 60 and second for forming scribe lines on upper and lower surfaces of the substrate 70. It is composed of a wheel (62) and a rotating part (50) installed on the second stage (45) to lift and rotate the substrate (70) placed on the second stage (45).

여기서, 도 3에는 상기 기판(70)을 이송시켜 주는 스테이지를 2개로 구성한 것을 예로 들어 설명하였으나, 경우에 따라서는 1개의 스테이지만으로 구성될 수 있다. 이때, 상기 회전부(50)는 1개로만 구성된 스테이지 위에 설치된다.Here, in FIG. 3, two stages for transferring the substrate 70 are described as an example. However, in some cases, only one stage may be configured. At this time, the rotating unit 50 is installed on the stage consisting of only one.

상기 회전부(50)는 상기 기판(70)을 흡착판(51)으로 진공 흡착하여 들어 올린 후에 90도 회전시켜 주는 것으로, 이를 위한 승강장치와 회전장치가 상기 흡착 판(51)이 장착된 회전헤드(52)에 포함되어 구성되어야 한다. 그리고, 상기 회전 헤드(52)에는 상기 흡착판(51)에 진공압 즉, 부압(負壓)을 형성하기 위한 진공펌프(53)가 연결된다.The rotating unit 50 rotates 90 degrees after vacuum lifting the substrate 70 by the adsorption plate 51 and lifts it. The lifting device and the rotating device for this purpose are the rotating heads on which the adsorption plate 51 is mounted. 52). In addition, a vacuum pump 53 for forming a vacuum pressure, that is, a negative pressure, is connected to the suction plate 51 to the rotating head 52.

상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)는 도 4 및 도 5에 나타낸 각 스테이지의 평면도(A) 및 단면도(B)바와 같이, 2종류의 구조로 이루어진다.The first stage 35 and the second stage 45 have two types of structures, as shown in the plan view A and the cross-sectional view B of each stage shown in FIGS. 4 and 5.

즉, 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)는 그 내부에 중공부(84, 94)가 형성되게 상부판(81, 91)과 하부판(82, 92), 그리고 상기 상부판(81, 91) 및 하부판(82, 92)의 측단면을 밀폐시켜 주는 측면판(83, 93)으로 구성되고, 상기 상부판(81, 91)에는 원형으로 이루어져 4방 등간격으로 배치된 다수의 배출구(85)나, 슬릿형으로 이루어져 2방 등간격으로 배치된 다수의 슬릿(95)이 형성된다.That is, the first stage 35 and the second stage 45 are the upper plate (81, 91) and the lower plate (82, 92), and the upper plate (so that the hollow portion 84, 94 is formed therein) 81, 91 and side plates (83, 93) for sealing the side cross-sections of the lower plate (82, 92), the upper plate (81, 91) is formed of a plurality of spaced at four equal intervals Outlet 85 or a plurality of slits 95 formed in a slit shape and arranged at two equal intervals are formed.

그리고, 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)의 내부에 형성된 중공부(84, 94)에 수막 형성을 위한 액체(예를 들어, 물)를 공급하기 위한 공급라인(86, 96)이 연결되고, 상기 공급라인(86, 96)은 펌프(87, 97)를 통해 수조(88, 98)로부터 액체를 공급받아 상기 중공부(84, 94)에 공급한다.In addition, supply lines 86 and 96 for supplying a liquid (for example, water) for forming a water film to the hollow portions 84 and 94 formed in the first stage 35 and the second stage 45. ) Is connected, and the supply lines 86 and 96 receive liquids from the water tanks 88 and 98 through the pumps 87 and 97 and supply them to the hollow portions 84 and 94.

상기와 같이 구성된 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)는 각각 제 1이동부(30) 및 제 2이동부(40)에 설치되며, 상기 제 1이동부(30) 및 제 2이동부(40)는 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)를 각각 왕복 이동시켜 주는 기능을 가지고 있다.The first stage 35 and the second stage 45 configured as described above are installed in the first moving part 30 and the second moving part 40, respectively, and the first moving part 30 and the second moving part 40 are provided. The moving unit 40 has a function of reciprocating the first stage 35 and the second stage 45, respectively.

상기 제 1이동부(30)나 상기 제 2이동부(40)는 상기와 같은 왕복 이동 기능 외에도 각각 상부에 설치된 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)를 회전시 켜 주는 회전장치(도시 생략)가 포함 구성되어 스크라이브 라인 형성이나 절단 공정이 한번 완료된 후에 바로 상기 기판(70)을 90도 회전시켜서 후속 공정을 수행할 수 있게 할 수도 있다.The first moving part 30 or the second moving part 40, in addition to the reciprocating movement function as described above, the rotary device for rotating the first stage 35 and the second stage 45 respectively installed on the upper (Not shown) may be included to rotate the substrate 70 by 90 degrees immediately after the scribe line forming or cutting process is completed once so that subsequent processes may be performed.

상기와 같이 구성된 상기 제 1스테이지(35) 또는 제 2스테이지(45)에 상기 기판(70)을 밀착시키기 위해서는 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)에 수막을 형성하기 위해 상기 펌프(87, 97)를 가동시켜서 상기 수조(88, 98) 내의 액체를 상기 중공부(84, 94) 내로 공급하여 상기 배출구(85)나 슬릿(95)로 배출시켜서 상기 상부면(81, 91)의 표면에 수막을 형성한다.In order to contact the substrate 70 to the first stage 35 or the second stage 45 configured as described above, the pump to form a water film on the first stage 35 and the second stage 45. (87, 97) is operated to supply the liquid in the water tanks (88, 98) into the hollows (84, 94) and to discharge it to the outlet (85) or the slit (95) to provide the upper surfaces (81, 91). To form a water film on the surface.

상기와 같이 수막이 형성된 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)에 기판(70)을 놓으면, 상기 기판(70)의 하부면이 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)의 상부에 밀착되기 때문에 상기 제 1이동부(30) 및 제 2이동부(40)가 구동되어 진동이 발생하더라도 상기 기판(70)이 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45) 상에 안정적으로 고정될 수 있다.When the substrate 70 is placed on the first stage 35 and the second stage 45 where the water film is formed as described above, the lower surface of the substrate 70 is the first stage 35 and the second stage 45. Since the first moving part 30 and the second moving part 40 are driven to be in close contact with the upper part of the upper side of the substrate), the substrate 70 remains in the first stage 35 and the second stage 45 even when vibration occurs. It can be stably fixed to the phase.

상기와 같이 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)와 상기 기판(70)간에 이루어지는 밀착 현상은 2개의 판 사이에 수막을 형성한 후에 밀착시키면 판 사이에 진공이 형성되어 대기압에 의하여 서로가 밀착되는 현상을 이용한 것이다.As described above, when the adhesion between the first stage 35 and the second stage 45 and the substrate 70 is formed and a close film is formed between the two plates, a vacuum is formed between the plates. It is using the phenomenon that the contact with each other.

한편, 상기와 같이 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)에 상기 기판(70)을 놓은 후에 스크라이브 공정이나 절단 공정을 한 후에, 상기 기판(70)을 수 막이 형성되어 있는 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)로부터 분리하려면 상기 설명과 같이 수막에 의해 서로 잘 분리되지 않는다.On the other hand, after the substrate 70 is placed on the first stage 35 and the second stage 45 as described above, after the scribe process or the cutting process, the substrate 70 is formed with a water film. In order to separate from the 1st stage 35 and the 2nd stage 45, it does not separate easily from each other by the water film | membrane as mentioned above.

이를 위해, 본 발명에서는 상기 펌프(87, 97)를 가동시켜서 상기 기판(70)과 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45) 사이에 대기압보다 높은 압력을 형성하여 서로를 용이하게 분리할 수 있게 한다.To this end, in the present invention, by operating the pump (87, 97) to form a pressure higher than atmospheric pressure between the substrate 70 and the first stage 35 and the second stage 45 to easily separate each other To do it.

이때, 상기 기판(70)의 분리는 상기 회전부(50)의 흡착판(51)을 이용할 수도 있다.At this time, the separation of the substrate 70 may use the adsorption plate 51 of the rotating unit 50.

특히, 본 발명은 상기와 같이 수막이 형성된 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45) 상에서 상기 기판(70)의 절단 공정이 이루어지는 경우에 절단 공정에서 파생되는 상기 기판(70)의 파편이 수막을 형성하고 있는 액체에 의해 비산되는 것을 방지할 수 있다.In particular, the present invention is a fragment of the substrate 70 derived from the cutting process when the cutting process of the substrate 70 is performed on the first stage 35 and the second stage 45 in which the water film is formed as described above. It can prevent that it is scattered by the liquid which forms this water film.

그리고, 본 발명은 상기와 같이 구성된 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45) 상에 기판 파편 등과 같은 부피를 가지는 이물질이 있으면 상기 기판(70)이 수막에 의해 밀착되지 않으므로 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45) 상의 표면을 크리닝해 주는 크리너(도시 생략)가 더 포함되어 구성된다.In addition, in the present invention, if there is a foreign material having a volume such as substrate fragments on the first stage 35 and the second stage 45 configured as described above, the substrate 70 is not adhered by the water film, so that the first A cleaner (not shown) for cleaning the surfaces on the stage 35 and the second stage 45 is further included.

상기 크리너는 진공 흡입하여 상기 이물질을 제거하는 진공식 크리너나 상기 이물질을 밀어내어 제거하는 와이퍼식 크리너, 또는 2가지 혼합 방식으로 구성되는 것이 바람직하다.The cleaner is preferably composed of a vacuum cleaner for removing the foreign matter by vacuum suction, a wiper cleaner for pushing out the foreign matter, or two mixing methods.

또한, 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)에서 공정이 완료된 상기 기판(70)을 용이하게 분리하기 위해, 상기 설명에서는 상기 펌프(87, 97)를 가동시 켜서 상기 기판(70)과 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45) 사이에 액체를 공급함으로써 상기 기판(70)의 표면에 인가되는 대기압을 극복하여 분리하는 것에 대해 설명하였지만, 보다 효율적인 분리를 위해서는 상기 공급라인(86, 96)에 절환밸브(도시 생략)를 연결하고, 이에 에어 컴프레서(도시 생략)를 연결한 후에, 상기 기판(70)에 대한 스크라이브 라인 형성 공정이나 절단 공정 중에만 상기 펌프(87, 97)를 통한 액체를 공급하고, 상기 기판(70)을 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45)로부터 분리할 때에는 상기 절환밸브를 상기 에어 컴프레서 쪽으로 절환시켜서 상기 에어 컴프레서에 의해 공급되는 압축 공기를 상기 기판(70)과 상기 제 1스테이지(35) 및 제 2스테이지(45) 사이에 공급함으로써 상기 기판(70)의 표면에 인가되는 대기압을 극복하도록 하면서 동시에 수막을 형성했던 액체를 제거하여 보다 용이하게 상기 기판(70)을 분리되게 한다.In addition, in order to easily separate the substrate 70 in which the process is completed in the first stage 35 and the second stage 45, the pumps 87 and 97 are operated in the above description so that the substrate 70 is operated. However, the separation of the liquid by supplying the liquid between the first stage 35 and the second stage 45 to overcome the atmospheric pressure applied to the surface of the substrate 70 has been described. After connecting a switching valve (not shown) to the lines 86 and 96, and connecting an air compressor (not shown), the pump 87 only during the scribe line forming process or the cutting process for the substrate 70. 97 is supplied through the liquid, and when the substrate 70 is separated from the first stage 35 and the second stage 45, the switching valve is switched to the air compressor and supplied by the air compressor. By supplying the compressed air between the substrate 70 and the first stage 35 and the second stage 45 to overcome the atmospheric pressure applied to the surface of the substrate 70 while at the same time forming a liquid film Removal to more easily separate the substrate 70.

상기와 같이 이루어지는 본 발명은 기판 절단을 위해 기판을 이동시켜 주는 스테이지에 수막을 형성하여 기판을 안정적으로 고정시켜서, 이동 수단에 의해 기판이 이동되는 지나치게 진동되는 것을 억제함으로써 기판에 대한 정밀한 스크라이브 라인 형성이나 절단을 가능하게 하는 효과를 제공한다.The present invention made as described above forms a water film on the stage to move the substrate for cutting the substrate to stably fix the substrate, thereby forming a precise scribe line for the substrate by suppressing excessive vibration of the substrate by the moving means Or the effect of enabling cutting.

Claims (11)

표면에 수막이 형성되는 수막 스테이지; 및A water film stage on which a water film is formed; And 상기 수막 스테이지를 이동시켜 주는 이동부;A moving unit for moving the water film stage; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.Substrate transfer apparatus comprising a. 제 1항에 있어서, 상기 수막 스테이지는 평탄 구조로 이루어져 수막 형성을 위한 액체를 배출하는 다수의 배출구가 상부면에 형성되고, 상기 배출구로 액체를 공급하는 중공부가 내부에 형성되어, 상기 중공부에 액체를 공급해 주는 공급라인이 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The liquid film stage of claim 1, wherein the water film stage has a flat structure, and a plurality of discharge ports for discharging liquid for forming a water film are formed on an upper surface thereof, and a hollow part for supplying liquid to the discharge holes is formed therein. Substrate transport apparatus characterized in that the supply line for supplying a liquid is connected. 제 2항에 있어서, 상기 공급라인은 액체를 미리 설정된 압력으로 공급해 주는 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The substrate transport apparatus of claim 2, wherein the supply line further comprises a pump for supplying a liquid at a predetermined pressure. 제 1항에 있어서, 상기 수막 스테이지는 평탄 구조로 이루어져 액체 또는 기체를 배출하는 다수의 배출구가 상부면에 형성되고, 상기 배출구로 액체 또는 기체를 공급하는 중공부가 내부에 형성되어, 상기 중공부에 액체 또는 기체를 공급하는 공급라인이 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The liquid film stage of claim 1, wherein the water film stage has a flat structure, and a plurality of outlets for discharging liquid or gas are formed on an upper surface thereof, and a hollow portion for supplying liquid or gas to the outlet is formed therein, Substrate transport apparatus characterized in that the supply line for supplying a liquid or gas is connected. 제 4항에 있어서, 상기 공급라인은 액체를 미리 설정된 압력으로 공급해 주 는 펌프와, 기체를 미리 설정된 압력으로 공급해 주는 컴프레서 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The substrate transfer apparatus of claim 4, wherein the supply line includes at least one of a pump for supplying liquid at a predetermined pressure and a compressor for supplying gas at a predetermined pressure. 제 5항에 있어서, 상기 공급라인은 상기 펌프와 컴프레서 중 어느 하나를 선택하는 절환수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.6. The substrate transport apparatus of claim 5, wherein the supply line further comprises a switching means for selecting any one of the pump and the compressor. 제 2항 또는 제 4항에 있어서, 상기 배출구는 4방 등간격으로 배치된 다수의 원형으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.5. The substrate transport apparatus of claim 2 or 4, wherein the outlet is formed of a plurality of circles arranged at four equal intervals. 제 2항 또는 제 4항에 있어서, 상기 배출구는 2방 등간격으로 배치된 다수의 슬릿형으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.5. The substrate transport apparatus of claim 2 or 4, wherein the outlet has a plurality of slit shapes arranged at two equal intervals. 제 1항에 있어서, 상기 수막 스테이지를 회전시켜 주는 회전장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The substrate transfer apparatus of claim 1, further comprising a rotating device for rotating the water film stage. 제 1항에 있어서, 상기 수막 스테이지의 상부면에 묻은 이물질을 제거하기 위한 크리너를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The substrate transfer apparatus of claim 1, further comprising a cleaner for removing foreign matter from the upper surface of the water film stage. 제 10항에 있어서, 상기 크리너는 진공 흡입하여 상기 이물질을 제거하는 진공식 크리너 또는 상기 이물질을 밀어내어 제거하는 와이퍼식 크리너 중에서 선택 된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The substrate transport apparatus of claim 10, wherein the cleaner is at least one selected from a vacuum cleaner for removing the foreign matter by vacuum suction or a wiper cleaner for pushing out the foreign matter.
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