KR20070070504A - 기판 세정 장비 및 그를 이용한 액정표시소자의 제조방법 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 6
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 abstract description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 12
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
- G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
본 발명은 기판에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 세제 영역; 상기 세제영역에서 방출되는 세제를 기판에서 제거하기 위한 린스 영역; 및 상기 세제 영역과 린스 영역 사이에 형성된 브러쉬를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비 및 그를 이용한 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 브러쉬를 이용함으로써, 세제 영역과 린스 영역 사이에서 세제의 린스 영역으로의 유입과 DI의 세제 영역으로의 유입을 차단함과 아울러, 브러쉬가 항상 젖어있는 상태이므로 기판이 가건조되는 현상을 방지하여 기판 상에 얼룩이 발생하는 것이 방지된다.
기판 세정
Description
도 1은 종래 액정표시소자의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장비를 개략적으로 도시한 도이다.
<도면의 주요부의 부호에 대한 설명>
100: 세제 영역 120: 세제 방출 장치
300: 린스 영역 300: DI 방출 장치
400: 기판 500a, 500b: 기판 이동 장치
600: 외면에 브러쉬가 감긴 롤러
700a: 제1 공기 분사 장치 700b: 제2 공기 분사 장치
본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 액정표시소자용 기판을 세정하기 위한 세정장비에 관한 것이다.
표시화면의 두께가 수 센치미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display), 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.
액정표시소자는 도 1에서 알 수 있듯이, 하부기판(1)과 상부기판(3)이 서로 대향되어 있고, 상기 양 기판(1, 3) 사이에 액정층(5)이 씨일재(7)에 의해 밀봉되어 있다.
이와 같은 액정표시소자를 제조하는 방법은 하부기판(1) 및 상부기판(3)을 준비하는 공정, 상기 양 기판(1, 3) 사이에 액정층(5)을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진다.
상기 하부기판(1)을 준비하는 공정은 투명기판 상에 박막트랜지스터, 화소전극, 및 액정의 초기배향을 위한 배향막을 형성하는 공정으로 이루어지고, 상기 상부기판(3)을 준비하는 공정은 투명기판 상에 차광층, 컬러필터층, 공통전극, 및 배향막을 형성하는 공정으로 이루어진다.
상기 양 기판(1, 3) 사이에 액정층(5)을 형성하는 공정은 액정주입방식 또는 액정적하방식에 의해 이루어진다.
상기 액정주입방식은 하부기판과 상부기판을 준비한 후, 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 주입구가 있는 씨일재를 형성하고, 양 기판을 합착한 후, 상기 주입구를 통해 액정을 주입하여 액정표시소자를 완성하는 방식이다.
상기 액정적하방식은 하부기판과 상부기판을 준비한 후, 상기 하부 기판 상 에 주입구 없는 씨일재를 형성하고, 상기 하부 기판 상에 액정을 적하하여 액정층을 형성한 후, 양 기판을 합착하여 액정표시소자를 완성하는 방식이다.
이와 같이, 액정표시소자는 하부기판(1) 및 상부기판(3)을 준비하는 공정, 및 상기 양 기판(1, 3) 사이에 액정층을 형성하는 공정을 통해 제조되는데, 상기 하부기판(1) 및 상부기판(3)을 준비하는 공정 중에 각 기판 위에 여러 가지 이물질 등이 존재할 수 있다.
따라서, 하부기판(1) 및 상부기판(3) 사이에 액정층을 형성하는 공정 이전에 상기 준비된 하부기판(1) 및 상부기판(3)을 세정하는 공정을 필수적으로 거치게 된다.
이하, 종래의 기판 세정 방법에 대해서 설명하기로 한다.
종래의 기판 세정 장비는 세제 영역과 린스 영역으로 구성된다.
상기 세제 영역은 기판 상에 존재하는 이물질을 세제를 이용하여 제거하는 영역이고, 상기 린스 영역은 상기 세제 영역에서 방출된 세제를 DI(Deionized water)를 이용하여 기판으로부터 제거하는 영역이다.
그리고, 상기 세제 영역 및 린스 영역 사이에는 세제 영역에서 방출되는 세제가 린스영역으로 들어가는 것을 방지함과 아울러 린스영역에서 방출되는 DI가 세제영역으로 들어가는 것을 방지하기 위해서 에어 커튼(air curtain)이 형성되게 된다.
즉, 세제 영역에서 방출된 세제가 린스 영역으로 들어갈 경우 린스효과가 떨어지게 되며, 린스 영역에서 방출되는 DI가 세제 영역으로 들어갈 경우 세제 농도 가 떨어져 이물질 제거 효과가 떨어지게 되므로, 세제 영역과 린스 영역 사이에, 공기를 분사시키는 에어 커튼이 형성되게 된다.
상기 에어 커튼은 질소 가스 등을 고압으로 분사하여 세제 영역과 린스 영역 사이에서 세제의 린스 영역으로의 유입과 DI의 세제 영역으로의 유입을 차단하는 기능을 한다.
그러나, 이와 같이 공기를 고압으로 분사하는 에어 커튼을 적용할 경우 기판 상에 세제가 가건조되는 현상이 발생하고, 그로 인해 기판 상에 세제로 인한 얼룩현상이 발생하는 문제가 있다.
본 발명은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서,
본 발명의 제1목적은 세제의 가건조로 인한 기판의 얼룩현상을 방지할 수 있는 기판 세정 장비를 제공하는 것이다.
본 발명의 제2목적은 상기 기판 세정 장비를 이용하여 세제의 가건조로 인한 기판의 얼룩현상을 방지하면서 액정표시소자를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 상기 제1목적을 달성하기 위해서, 기판에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 세제 영역; 상기 세제영역에서 방출되는 세제를 기판에서 제거하기 위한 린스 영역; 및 상기 세제 영역과 린스 영역 사이에 형성된 브러쉬를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비를 제공한다.
즉, 본 발명은 브러쉬를 이용하여 세제 영역과 린스 영역 사이에서 세제의 린스 영역으로의 유입과 DI의 세제 영역으로의 유입을 차단함과 아울러, 브러쉬가 항상 젖어있는 상태이므로 기판이 가건조되는 현상을 방지하여 기판 상에 얼룩이 발생하는 것을 방지하도록 한 것이다.
이때, 상기 브러쉬는 롤러에 감겨 형성될 수 있다.
또한, 상기 브러쉬가 감긴 롤러는 상하 한 쌍으로 이루어진 것이 바람직하다.
또한, 상기 세제 영역의 후방에는 제1 공기 분사 장치가 추가로 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 린스 영역의 전방에는 제2 공기 분사 장치가 추가로 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명은 상기 제2목적을 달성하기 위해서, 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정; 상기 하부기판 및 상부기판 중 적어도 하나의 기판을 세정하는 공정; 및 상기 양 기판 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 기판을 세정하는 공정은 전술한 기판 세정 장비를 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법을 제공한다.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 보다 상세히 설명하기로 한다.
1. 기판 세정 장비
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장비를 개략적으로 도시한 도이다.
도 2에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 기판 세정 장비는 세제 영역(100)과 린스 영역(300)으로 구성된다.
상기 세제 영역(100)에는 기판 상에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 세제를 방출하는 세제 방출 장치(120)가 형성되어 있다.
상기 린스 영역(300)에는 상기 세제 영역(10)에서 방출된 세제를 기판으로부터 제거하기 위한 DI(deionized water) 방출 장치(320)가 형성되어 있다.
상기 세제 영역(100) 및 린스 영역(300) 각각에는 기판(400)이 연속적으로 이동될 수 있도록 기판 이동 장치(500a, 500b)가 하부에 형성되어 있다.
상기 세제 영역(100) 및 린스 영역(300) 사이에는 세제 영역(100)에서 방출되는 세제가 린스영역(300)으로 들어가는 것을 방지함과 아울러 린스영역(300)에서 방출되는 DI가 세제영역(100)으로 들어가는 것을 방지하기 위해서 브러쉬가 감긴 롤러(600)가 형성되어 있다.
상기 브러쉬가 감긴 롤러(600)는 상하 한 쌍으로 이루어진 것이 바람직하다. 또한, 상하 한 쌍의 롤러를 복수개의 쌍으로 형성하는 것도 가능하다.
이와 같이 브러쉬가 감긴 롤러의 회전에 의해서 세제영역(100)에서 방출된 세제가 린스 영역(300)으로 들어가는 것이 차단되고, 린스영역(300)에서 방출된 DI가 세제 영역으로 들어가는 것이 차단된다. 또한, 상기 롤러에 감긴 브러쉬는 항상 젖어있는 상태이므로 기판이 가건조되는 현상을 방지하여 기판 상에 얼룩이 발생하지 않는다.
또한, 상기 세제 영역(100)의 후방에는 제1 공기 분사 장치(700a)가 형성되 어 있다.
상기 제1 공기 분사 장치(700a)는 질소 가스 등을 분사하여 기판 상에 존재하는 세제를 제거하는 것으로서, 도면에서와 같이 기판(400)의 이동 방향(우측 방향)과 반대방향(좌측방향)으로 기울어져 형성된 것이 세제 제거 능을 향상시킬 수 있어 바람직하다.
상기 제1 공기 분사 장치(700a)는 상기 외면에 브러쉬가 감긴 롤러(600)의 보조역할을 하는 것이다.
또한, 상기 린스 영역(300)의 전방에는 제2 공기 분사 장치(700b)가 형성되어 있다.
상기 제2 공기 분사 장치(700b)는 질소 가스 등을 분사하여 린스 영역(300)에서 방출되는 DI가 세제 영역(100)으로 유입되는 것을 차단하는 역할을 하는 것으로서, 상기 제1 공기 분사 장치(700a)와 더불어 브러쉬가 감긴 롤러(600)의 보조역할을 하는 것이다.
상기 제2 공기 분사 장치(700b)는 도면에서와 같이 기판(400)의 이동 방향(우측 방향)과 동일한 방향(우측방향)으로 기울어져 형성된 것이 DI의 세제 영역(100)으로의 유입을 차단하는 데 보다 바람직하다.
2. 액정표시소자 제조방법.
우선, 하부기판 및 상부기판을 준비한다.
하부기판 및 상부기판은 액정표시소자의 구동모드에 따라 적절히 변경하여 준비된다.
즉, TN(Twisted Nematic)모드일 경우에는, 상기 하부기판 상에는 서로 종횡으로 교차되어 화소영역을 정의하는 게이트 라인과 데이터라인, 상기 게이트 라인과 데이터라인의 교차점에 형성되어 스위칭소자로 작용하는 박막트랜지스터, 상기 화소영역 내에 형성되어 전계 형성을 위한 일 전극으로 작용하는 화소전극이 형성되고, 상기 상부기판 상에는 누설되는 광을 차단하는 차광층, 색구현을 위한 컬러필터층, 및 전계 형성을 위한 일 전극으로 작용하는 공통전극이 형성된다.
IPS(In Plane Switching)모드일 경우에는, 상기 하부기판 상에는 서로 종횡으로 교차되어 화소영역을 정의하는 게이트 라인과 데이터라인, 상기 게이트 라인과 데이터라인의 교차점에 형성되어 스위칭소자로 작용하는 박막트랜지스터, 상기 화소영역 내에 형성되어 전계 형성을 위한 전극쌍으로 작용하여 수평전계를 형성하는 화소전극 및 공통전극이 형성되고, 상기 상부기판 상에는 누설되는 광을 차단하는 차광층, 및 색구현을 위한 컬러필터층이 형성된다.
그리고, 상기 하부기판 및 상부기판 상에는 액정의 초기 배향을 위한 배향막이 형성된다.
상기 배향막은 러빙포의 회전에 의한 러빙배향법 또는 UV조사에 의한 UV배향법을 이용하여 형성할 수 있다.
그리고, 상기 양 기판 중 적어도 하나의 기판을 세정한다.
이와 같은 세정공정은 상기 하부기판 및 상부기판 상에 형성된 배향막의 잔여물을 세정하는 것이 주된 목적이다.
전술한 러빙배향법에 의해 배향막이 형성된 경우 러빙포의 회전시 발생하는 이물질 등이 기판 상에 존재할 수 있고, UV배향법에 의해 배향막이 형성된 경우 광반응시 분해된 분해산물이 기판 상에 존재할 수 있다.
따라서, 이와 같은 이물질 또는 분해산물을 기판으로부터 제거하는 세정공정이 필수적으로 필요하다.
상기 기판 세정은 전술한 세제 영역과 린스 영역 사이에 외면에 브러쉬가 감긴 롤러가 적용된 기판 세정 장비를 이용하는 것이 바람직하다.
기판 세정 장비에 대한 구체적인 내용은 전술한 바와 동일하므로 그 설명은 생략하기로 한다.
그리고, 상기 양 기판 사이에 액정층을 형성한다.
상기 액정층 형성방법으로는 진공주입법 또는 액정적하법이 있다.
상기 진공주입법은 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 주입구 있는 씨일재를 형성하고, 양 기판을 합착한 후, 상기 씨일재의 주입구를 통해 합착기판 내에 액정을 주입시키는 공정으로 이루어진다.
상기 액정적하법은 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 씨일재를 형성하고, 상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하한 후, 상기 양 기판을 합착하는 공정으로 이루어진다.
이상은 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 설명한 것으로, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당업자에게 자명한 범위까지 변경될 수 있을 것이다.
상기 본 발명에 따르면, 브러쉬를 이용함으로써, 세제 영역과 린스 영역 사이에서 세제의 린스 영역으로의 유입과 DI의 세제 영역으로의 유입을 차단함과 아울러, 브러쉬가 항상 젖어있는 상태이므로 기판이 가건조되는 현상을 방지하여 기판 상에 얼룩이 발생하는 것이 방지된다.
Claims (12)
- 기판에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 세제 영역;상기 세제영역에서 방출되는 세제를 기판에서 제거하기 위한 린스 영역; 및상기 세제 영역과 린스 영역 사이에 형성된 브러쉬를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제1항에 있어서,상기 브러쉬는 롤러에 감긴 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제 2항에 있어서,상기 브러쉬가 감긴 롤러는 상하 한 쌍으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제 1항에 있어서,상기 세제 영역의 후방에는 제1 공기 분사 장치가 추가로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제 4항에 있어서,상기 제1 공기 분사 장치는 기판의 이동 방향과 반대방향으로 기울어져 형성 된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제 1항에 있어서,상기 린스 영역의 전방에는 제2 공기 분사 장치가 추가로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제 6항에 있어서,상기 제2 공기 분사 장치는 기판의 이동 방향으로 기울어져 형성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제 1항에 있어서,상기 세제 영역은 세제 방출장치를 포함하여 구성되고,상기 린스 영역은 DI 방출장치를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 제 1항에 있어서,상기 세제 영역 및 린스 영역에는 기판 이송을 위한 기판 이송 장치가 연속적으로 배열된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장비.
- 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정;상기 하부기판 및 상부기판 중 적어도 하나의 기판을 세정하는 공정; 및상기 양 기판 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고,이때, 상기 기판을 세정하는 공정은 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 기판 세정 장비를 이용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
- 제10항에 있어서,상기 하부기판 및 상부기판을 준비하는 공정은 하부기판 및 상부기판 상에 액정의 초기배향을 위해 배향막을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
- 제10항에 있어서,상기 양 기판 사이에 액정층을 형성하는 공정은상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 씨일재를 형성하는 공정;상기 양 기판 중 어느 하나의 기판 상에 액정을 적하하는 공정; 및상기 양 기판을 합착하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050133125A KR20070070504A (ko) | 2005-12-29 | 2005-12-29 | 기판 세정 장비 및 그를 이용한 액정표시소자의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050133125A KR20070070504A (ko) | 2005-12-29 | 2005-12-29 | 기판 세정 장비 및 그를 이용한 액정표시소자의 제조방법 |
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Publication Number | Publication Date |
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KR20070070504A true KR20070070504A (ko) | 2007-07-04 |
Family
ID=38505790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020050133125A KR20070070504A (ko) | 2005-12-29 | 2005-12-29 | 기판 세정 장비 및 그를 이용한 액정표시소자의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20070070504A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106932934A (zh) * | 2017-05-09 | 2017-07-07 | 武汉华星光电技术有限公司 | 玻璃基板重工设备 |
-
2005
- 2005-12-29 KR KR1020050133125A patent/KR20070070504A/ko not_active Application Discontinuation
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CN106932934A (zh) * | 2017-05-09 | 2017-07-07 | 武汉华星光电技术有限公司 | 玻璃基板重工设备 |
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