KR20070052324A

KR20070052324A - 5-헤테로사이클릴 피리미딘

Info

Publication number: KR20070052324A
Application number: KR1020077006664A
Authority: KR
Inventors: 올라프 게바우어; 허버트 가이어; 울리히 하이네만; 스테판 헤르만; 스테판 힐레브란트; 로날트 에베르트; 커스틴 일크; 울리케 바헨도르프-노이만; 페터 다멘; 카를-하인쯔 쿠크
Original assignee: 바이엘 크롭사이언스 아게
Priority date: 2004-09-16
Filing date: 2005-09-15
Publication date: 2007-05-21
Also published as: JP2008513399A; CA2580243A1; CN101023078A; MX2007003057A; EP1791834A1; WO2006029867A1; BRPI0515385A; DE102004044829A1

Abstract

본 발명은 신규 5-헤테로사이클릴 피리미딘, 다수의 그의 제조방법, 및 원치않는 미생물을 구제하기 위한 그의 용도에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 신규 중간체 및 그의 제조방법에도 관한 것이다.

Description

5-헤테로사이클릴 피리미딘{5-Heterocyclyl pyrimidines}

본 발명은 신규 5-헤테로사이클릴 피리미딘, 그의 제조방법, 및 원치않는 미생물을 구제하기 위한 그의 용도에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 신규 중간체 및 그의 제조방법에도 관한 것이다.

특정의 5-페닐피리미딘이 살진균성을 가지고 있다는 것은 이미 알려져 있다(참조: WO 03/070721, WO 02/074753, WO 01/96314, WO 03/43993). 이들 화합물의 활성은 우수하나; 저 적용비율에서 만족스럽지 않은 경우가 있다.

그러나, 오늘날의 살진균제는, 예를 들어 활성 스펙트럼, 독성, 선택성, 적용 비율, 잔사 형성 및 유리한 제조에 대해 생태학적 및 경제학적 요구가 지속적으로 증가하고 있고 또한 예컨대 내성 문제 때문에, 적어도 일부 영역에서 선행 기술의 것보다 유리한 새로운 살진균제가 끈임없이 요망되고 있는 실정이다.

본 발명은 하기 일반식 (I)의 신규 5-헤테로사이클릴 피리미딘을 제공한다:

상기 식에서,

R¹은 수소, C₁-C₈-알킬, C₂-C₈-알케닐, C₃-C₈-알키닐, C₃-C₈-사이클로알킬 또는 C₃-C₈-사이클로알케닐을 나타내고, 여기에서 R¹은 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 그룹 R^a에 의해 치환될 수 있으며,

R^a는 할로겐, 하이드록실, 시아노, C₁-C₄-알콕시 및/또는 C₃-C₆-사이클로알킬을 나타내거나,

R¹은 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 그룹 R^b에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 10-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^b는 할로겐, C₁-C₆-알킬, 시아노, 니트로 및/또는 C₃-C₆-사이클로알킬을 나타내며,

R²는 수소 또는 C₁-C₆-알킬을 나타내거나,

R¹ 및 R²는 이들이 결합된 질소원자와 함께, O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 추가의 헤테로원자를 함유할 수 있고 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 그룹 R^c에 의해 치환될 수 있는 3- 내지 6-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^c는 할로겐, C₁-C₆-알킬 및/또는 C₁-C₆-할로알킬을 나타내고,

R³은 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 내지 4개의 동일하거나 상이한 그룹 R^d에 의해 치환될 수 있는 3- 내지 10-원의 포화, 부분 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내며,

R^d는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 옥소, 니트로, 아미노, 머캅토, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, 모르폴리노카보닐, 피롤리디노카보닐, C₁-C₆-알킬카보닐아미노, C₁-C₆-알킬아미노, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시설포닐, 아미노설포닐, C₁-C₆-알킬아미노설포닐 및/또는 디-(C₁-C₆-알킬)-아미노설포닐을 나타내고,

R⁴는 할로겐, C₁-C₈-알킬, C₁-C₈-알콕시, C₁-C₈-할로알킬, C₁-C₈-알킬티오, C₁-C₈-알킬설피닐, C₁-C₈-알킬설포닐 또는 시아노를 나타내며,

R⁵는 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 내지 4개의 동일하거나 상이한 그룹 R^e에 의해 치환될 수 있는 5- 또는 6-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^e는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 니트로, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시이미노-C₁-C₆-알킬 및/또는 C₁-C₆-알콕시이미노-C₁-C₆-알킬을 나타낸다.

일반식 (I)의 화합물은 원치않는 미생물에 대해 우수한 활성을 가진다.

일반식 (I)의 화합물은 동일하거나 상이한 경로로 수득할 수 있다. 여기에서, 모든 래디칼 정의는 상기에 주어진 의미를 가진다.

1) 반응식 1은 R³이 질소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내는 화합물 (I')의 합성을 나타낸다.

반응식 1: 화합물 (I')(R³이 질소를 통해 부착된 헤테로사이클)의 합성

티오우레아 (XIV)는 타입 (XVII)의 말론산 에스테르, 타입 (XVI)의 피리미딘의 폐환(방법 I)), 또는 타입 (XIII)의 아세트산 에스테르, 타입 (XI)의 피리미딘의 폐환(방법 i))에 의해 제공된다. 티오그룹의 알킬화로 타입 (XV)(방법 k)) 또는 타입 (X)의 화합물을 수득한다(방법 h)). 타입 (IX)의 피리미딘으로 할로겐화 (방법 j) 또는 g))한 후, 화합물을 타입 (II)의 아민으로 전환시킨다(방법 f)). 산화에 따라 타입 (III)의 화합물을 수득하고(방법 a)), 질소-함유 헤테로사이클과의 반응으로 본 발명에 따른 일반식 (I')의 화합물을 수득한다(방법 b)).

2) WO 2004/103978호의 3 및 4쪽에 기술된 합성과 유사하게, 일반식 (III)의 설포피리미딘(반응식 1 참조)을 우선 히드라진과 반응시켜 타입 (XXI의 화합물을 제공하여 일반식 (I'"")의 화합물을 제조하는 것이 가능하다:

반응식 2:

추가의 합성을 반응식 3에서와 같이 수행할 수 있다:

반응식 3:

히드라진 화합물 (XXI)를 디카보닐 화합물 (XXII)(여기에서, 치환체 R¹, R², R⁴, R⁵, R⁶ 및 R^d는 상기 정의된 바와 같으며, R'는 알킬, 아릴 또는 벤질 그룹을 나타낸다(참조: 반응식 3))과 축합시켜 일반식 (XXIII)의 화합물을 제공한다. 일반식 (XXII)의 디카보닐 화합물은 (Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1989 28, p. 500)으로부터 공지되었다. 축합은 DE 19627002에 보다 상세히 기술된 바와 같이 수행된 다. 본 발명에 따른 화합물 (I"")로의 폐환은 예를 들어 염기, 예컨대 특히 알칼리 금속 알콕사이드의 존재하에 수행된다. 소듐 메톡사이드와의 반응이 확실하게 설명되었다(Synlett 1996, 667-8). 알킬화제 R^dX(여기에서, R^d는 상기 정의된 바와 같으며, X는 이탈기, 예컨대 할라이드 또는 설페이트를 나타낸다) 및 강염기, 예컨대 수소화나트륨 또는 무수 탄산칼륨의 존재하에서, 본 발명에 따른 화합물 (I'"")이 수득된다.

3) 반응식 4는 R³이 탄소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내는 화합물 I"의 합성을 나타낸다.

반응식 4: 화합물 (I")(R³이 탄소를 통해 부착된 헤테로사이클)의 합성

타입 (XIX)의 헤테로사이클적으로 치환된 아미딘(상업적으로 구입가능하거나, 예를 들어 Chemstep(www.chemstep.com)으로부터 구입)을 타입 (XVII)의 말론산 에스테르로 폐환시켜 타입 (XX)의 피리미딘을 제공하거나(방법 p)), 타입 (XIII)의 아세트산 에스테르로 폐환하여 타입 (XVIII)의 피리미딘을 제공한다(방법 n)). 아미딘은 또한 염 형태로 사용될 수 있으며, 염기를 사용하여 동일계에서 유리될 수도 있다. 할로겐화는 타입 (V)의 피리미딘을 제공하며(방법 o) 또는 m)), 이는 아 민과의 반응으로 본 발명에 따른 화합물 (I")를 제공한다(방법 c).

4) 6-위치에서 R⁴에 의해 치환된 타입 (I'")의 피리미딘은 할로피리미딘 (I'a 또는 I"a)을 타입 R⁴M¹의 금속 화합물 또는 그리냐드(Grignard) 화합물 (VIII)과 반응시켜 수득한다(반응식 5 참조).

반응식 5: 화합물 (I'")의 합성

본 발명에 따라, 일반식 (I')의 5-헤테로사이클릴피리미딘은

방법 a)에 따라 일반식 (II)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 산화제로 산화시키고,

방법 b)에 따라 일반식 (III)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하 및 경우에 따라 염기의 존재하에서 일반식 (IV)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있음이 밝혀졌다:

상기 식에서,

R¹, R² 및 R⁵는 상기 정의된 바와 같으며,

R³은 질소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내고,

R⁴는 할로겐, C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내며,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타내고,

n은 1 또는 2를 나타내며,

일반식 (IV)의 화합물에서 R³은 상기 정의된 바와 같으나, 단 래디칼이 일반식 (I')의 화합물내 피리미딘 환에 부착된 적어도 하나의 질소원자를 가져야 한다.

일반식 (I")의 5-헤테로사이클릴피리미딘은

방법 c)에 따라 일반식 (V)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하, 경우에 따라 촉매의 존재하 및 경우에 따라 산 수용체의 존재하에서 일반식 (VI)의 화합물과 반응시킴으로써 수득됨이 밝혀졌다:

상기 식에서,

R¹, R² 및 R⁵는 상기 정의된 바와 같으며,

R³은 탄소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내고,

일반식 (V)의 화합물에서 R³은 상기 정의된 바와 같으나, 단 탄소원자를 통해 타입 (V)의 화합물내 피리미딘 환에 부착된 헤테로사이클을 나타낸다.

일반식 (I'")의 5-헤테로사이클릴피리미딘은

일반식 (I'a) 또는 (I"a)의 화합물을,

방법 d)에 따라 경우에 따라 희석제의 존재하에서 일반식 (VII)의 화합물과 반응시키거나,

방법 e)에 따라 희석제의 존재하 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (VIII)의 그리냐드 화합물과 반응시킴으로써 수득됨이 밝혀졌다:

상기 식에서,

R¹, R² 및 R⁵는 상기 정의된 바와 같으며,

R³은 질소 또는 탄소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내고,

일반식 (I'")에서 R⁴는 C₁-C₈-알킬, C₁-C₈-알콕시, C₁-C₈-알킬티오, C₁-C₈-알킬설포닐 또는 시아노를 나타내며,

일반식 (VII)에서 R⁴는 C₁-C₈-알콕시, C₁-C₈-알킬티오, C₁-C₈-알킬설포닐 또는 시아노를 나타내고,

일반식 (VIII)에서 R⁴는 C₁-C₈-알킬을 나타내며,

M¹은 나트륨 또는 칼륨을 나타내고,

Hal은 할로겐을 나타내며,

일반식 (VIII)에서 Hal은 염소 또는 브롬을 나타낸다.

마지막으로, 일반식 (I)의 5-헤테로사이클릴피리미딘은 원치않는 미생물을 구제하는데 매우 적합함이 밝혀졌다. 특히, 이들은 강력한 살진균 활성을 가지며, 식물 보호 및 재료 보호를 위해 사용될 수 있다.

놀랍게도, 본 발명에 따른 일반식 (I)의 5-헤테로사이클릴피리미딘은 구조적 으로 가장 유사한 동일 작용 성향의 선행기술 화합물보다 훨씬 뛰어난 살미생물 활성을 가진다.

경우에 따라, 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물은 가능한 상이한 이성체 형태, 특히 입체이성체, 예를 들어 E 및 Z, 스레오 및 에리스로 이성체뿐 아니라 광학 이성체, 예컨대 R 및 S 이성체 또는 아트로피소머(atropisomer), 및 경우에 따라 또한 토토머의 혼합물로 존재할 수 있다.

상기 식에 주어진 부호의 정의에서, 일반적으로 하기 치환체로 대표되는 총괄 명칭이 사용된다:

할로겐: 불소, 염소, 브롬 및 요오드; 할로겐은 바람직하게는 염소 또는 브롬, 특히 바람직하게는 염소를 나타낸다;

알킬: 1 내지 4, 6 또는 8개의 탄소원자를 가지는 포화 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 래디칼, 예를 들어 C₁-C₆-알킬, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 1-메틸에틸, 부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필, 1,1-디메틸에틸, 펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 헥실, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필 및 1-에틸-2-메틸프로필;

할로알킬: 수소원자의 일부 또는 전부가 상기 언급된 바와 같은 할로겐원자 로 대체될 수 있는 1 내지 8개의 탄소원자를 가지는 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹(상기 언급된 바와 같음), 예를 들어 C₁-C₃-할로알킬, 예컨대 클로로메틸, 브로모메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 1-클로로에틸, 1-브로모메틸, 1-플루오로에틸, 2-플루오로에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 펜타플루오로에틸 및 1,1,1-트리플루오로프로프-2-일;

알케닐: 2 내지 4, 6 또는 8개의 탄소원자 및 임의 위치에 이중결합을 가지는 불포화 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 래디칼, 예를 들어 C₂-C₆-알케닐, 예컨대 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 4-펜테닐, 1-메틸-1-부테닐, 2-메틸-1-부테닐, 3-메틸1-부테닐, 1-메틸-2-부테닐, 2-메틸-2-부테닐, 3-메틸-2-부테닐, 1-메틸-3-부테닐, 2-메틸-3-부테닐, 3-메틸-3-부테닐, 1,1-디메틸-2-프로페닐, 1,2-디메틸-1-프로페닐, 1,2-디메틸-2-프로페닐, 1-에틸-1-프로페닐, 1-에틸-2-프로페닐, 1-헥세닐, 2-헥세닐, 3-헥세닐, 4-헥세닐, 5-헥세닐, 1-메틸-1-펜테닐, 2-메틸-1-펜테닐, 3-메틸-1-펜테닐, 4-메틸-1-펜테닐, 1-메틸-2-펜테닐, 2-메틸-2-펜테닐, 3-메틸-2-펜테닐, 4-메틸-2-펜테닐, 1-메틸-3-펜테닐, 2-메틸-3-펜테닐, 3-메틸-3-펜테닐, 4-메 틸-3-펜테닐, 1-메틸-4-펜테닐, 2-메틸-4-펜테닐, 3-메틸-4-펜테닐, 4-메틸-4-펜테닐, 1,1-디메틸-2-부테닐, 1,1-디메틸-3-부테닐, 1,2-디메틸-1-부테닐, 1,2-디메틸-2-부테닐, 1,2-디메틸-3-부테닐, 1,3-디메틸-1-부테닐, 1,3-디메틸-2-부테닐, 1,3-디메틸-3-부테닐, 2,2-디메틸-3-부테닐, 2,3-디메틸-1-부테닐, 2,3-디메틸-2-부테닐, 2,3-디메틸-3-부테닐, 3,3-디메틸-1-부테닐, 3,3-디메틸-2-부테닐, 1-에틸-1-부테닐, 1-에틸-2-부테닐, 1-에틸-3-부테닐, 2-에틸-1-부테닐, 2-에틸-2-부테닐, 2-에틸-3-부테닐, 1,1,2-트리메틸-2-프로페닐, 1-에틸-1-메틸-2-프로페닐, 1-에틸-2-메틸-1-프로페닐 및 1-에틸-2-메틸-2-프로페닐;

알키닐: 2 내지 4, 6 또는 8개의 탄소원자 및 임의 위치에 삼중결합을 가지는 불포화 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 래디칼, 예를 들어 C₂-C₆-알키닐, 예컨대 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐, 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐, 1-펜티닐, 2-펜티닐, 3-펜티닐, 4-펜티닐, 1-메틸-2-부티닐, 1-메틸-3-부티닐, 2-메틸-3-부티닐, 3-메틸-1-부티닐, 1,1-디메틸-2-프로피닐, 1-에틸-2-프로피닐, 1-헥시닐, 2-헥시닐, 3-헥시닐, 4-헥시닐, 5-헥시닐, 1-메틸-2-펜티닐, 1-메틸-3-펜티닐, 1-메틸-4-펜티닐, 2-메틸-3-펜티닐, 2-메틸-4-펜티닐, 3-메틸-1-펜티닐, 3-메틸-4-펜티닐, 4-메틸-1-펜티닐, 4-메틸-2-펜티닐, 1,1-디메틸-2-부티닐, 1,1-디메틸-3-부티닐, 1,2-디메틸-3-부티닐, 2,2-디메틸-3-부티닐, 3,3-디메틸-1-부티닐, 1-에틸-2-부티닐, 1-에틸-3-부티닐, 2-에틸-3- 부티닐 및 1-에틸-1-메틸-2-프로피닐;

사이클로알킬: 3 내지 8개의 탄소 환 멤버를 가지는 포화 모노사이클릭 탄화수소 그룹, 예컨대 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸 및 사이클로헥실;

사이클로알케닐: 3 내지 8개의 탄소 환 멤버 및 적어도 하나의 이중결합을 가지는 비방향족 모노사이클릭 탄화수소 그룹, 예컨대 사이클로펜텐-1-일, 사이클로헥센-1-일, 사이클로헵타-1,3-디엔-1-일;

알콕시카보닐: 카보닐 그룹(-CO-)을 통해 골격에 부착된 1 내지 6개의 탄소원자를 가지는 알콕시 그룹(상기 언급된 바와 같음);

옥시알킬렌옥시: 두 원자가가 산소원자를 통해 골격에 부착된 1 내지 3개 CH₂ 그룹의 2가 비측쇄, 예를 들어 OCH₂O, OCH₂CH₂O 및 OCH₂CH₂CH₂O;

산소, 질소 및 황으로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하는 5- 내지 10-원의 포화 또는 부분 불포화 헤테로사이클: 탄소 환 멤버외에 1 내지 3개의 질소원자 및/또는 하나의 산소 또는 황원자 또는 1 또는 2개의 산소 및/또는 황원자를 함유하는 모노 또는 비사이클릭 헤테로사이클(헤테로사이클릴); 환이 복수개의 산소원자를 함유하는 경우, 이들은 인접해 있지 않다; 예를 들어 옥시라닐, 아지리디닐, 2-테트라하이드로푸라닐, 3-테트라하이드로푸라닐, 2- 테트라하이드로티에닐, 3-테트라하이드로티에닐, 2-피롤리디디닐, 3-피롤리디디닐, 3-이속사졸리디닐, 4-이속사졸리디닐, 5-이속사졸리디닐, 3-이소티아졸리디닐, 4-이소티아졸리디닐, 5-이소티아졸리디닐, 3-피라졸리디닐, 4-피라졸리디닐, 5-피라졸리디닐, 2-옥사졸리디닐, 4-옥사졸리디닐, 5-옥사졸리디닐, 2-티아졸리디닐, 4-티아 졸리디닐, 5-티아졸리디닐, 2-이미다졸리디닐, 4-이미다졸리디닐, 1,2,4-옥사디아졸리딘-3-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-5-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-3-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-5-일, 1,2,4-트리아졸리딘-3-일, 1,3,4-옥사디아졸리딘-2-일, 1,3,4-티아디아졸리딘-2-일, 1,3,4-트리아졸리딘-2-일, 2,3-디하이드로푸르-2-일, 2,3-디하이드로푸르-3-일, 2,4-디하이드로푸르-2-일, 2,4-디하이드로푸르-3-일, 2,3-디하이드로티엔-2-일, 2,3-디하이드로티엔-3-일, 2,4-디하이드로티엔-2-일, 2,4-디하이드로티엔-3-일, 2-피롤린-2-일, 2-피롤린-3-일, 3-피롤린-2-일, 3-피롤린-3-일, 2-이속사졸린-3-일, 3-이속사졸린-3-일, 4-이속사졸린-3-일, 2-이속사졸린-4-일, 3-이속사졸린-4-일, 4-이속사졸린-4-일, 2-이속사졸린-5-일, 3-이속사졸린-5-일, 4-이속사졸린-5-일, 2-이소티아졸린-3-일, 3-이소티아졸린-3-일, 4-이소티아졸린-3-일, 2-이소티아졸린-4-일, 3-이소티아졸린-4-일, 4-이소티아졸린-4-일, 2-이소티아졸린-5-일, 3-이소티아졸린-5-일, 4-이소티아졸린-5-일, 2,3-디하이드로피라졸-1-일, 2,3-디하이드로피라졸-2-일, 2,3-디하이드로피라졸-3-일, 2,3-디하이드로피라졸-4-일, 2,3-디하이드로피라졸-5-일, 3,4-디하이드로피라졸-1-일, 3,4-디하이드로피라졸-3-일, 3,4-디하이드로피라졸-4-일, 3,4-디하이드로피라졸-5-일, 4,5-디하이드로피라졸-1-일, 4,5-디하이드로피라졸-3-일, 4,5-디하이드로피라졸-4-일, 4,5-디하이드로피라졸-5-일, 2,3-디하이드로옥사졸-2-일, 2,3-디하이드로옥사졸-3-일, 2,3-디하이드로옥사졸-4-일, 2,3-디하이드로옥사졸-5-일, 3,4-디하이드로옥사졸-2-일, 3,4-디하이드로옥사졸-3-일, 3,4-디하이드로옥사졸-4-일, 3,4-디하이드로옥사졸-5-일, 3,4-디하이드로옥사졸-2-일, 3,4-디하이드로옥사졸-3-일, 3,4-디하이드로옥사 졸-4-일, 2-피페리디닐, 3-피페리디닐, 4-피페리디닐, 1,3-디옥산-5-일, 2-테트라하이드로피라닐, 4-테트라하이드로피라닐, 2-테트라하이드로티에닐, 3-헥사하이드로피리다지닐, 4-헥사하이드로피리다지닐, 2-헥사하이드로피리미디닐, 4-헥사하이드로피리미디닐, 5-헥사하이드로피리미디닐, 2-피페라지닐, 1,3,5-헥사하이드로-트리아진-2-일 및 1,2,4-헥사하이드로트리아진-3-일;

산소, 질소 및 황으로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하는 5- 내지 10-원의 방향족 헤테로사이클: 모노 또는 비사이클릭 헤테로아릴, 예를 들어

- 1 내지 4개의 질소원자 또는 1 또는 3개의 질소원자 및 하나의 황 또는 산소원자를 함유하는 5-원 헤테로아릴: 탄소원자 외에, 1 내지 4개의 질소원자 또는 1 또는 3개의 질소원자 및 하나의 황 또는 산소원자를 환 멤버로 함유할 수 있는 5-원 헤테로아릴 그룹, 예를 들어 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 1,2,4-옥사디아졸-3-일, 1,2,4-옥사디아졸-5-일, 1,2,4-티아디아졸-3-일, 1,2,4-티아디아졸-5-일, 1,2,4-트리아졸-3-일, 1,3,4-옥사디아졸-2-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일 및 1,3,4-트리아졸-2-일;

- 1 내지 3개의 질소원자 또는 하나의 질소원자 및 하나의 산소 또는 황원자를 함유하는 벤조-융합된 5-원 헤테로아릴: 탄소원자 외에, 1 내지 4개의 질소원자 또는 1 또는 3개의 질소원자 및 하나의 황 또는 산소원자를 환 멤버로 함유할 수 있으며 두개의 인접한 탄소 환 멤버 또는 하나의 질소원자 및 하나의 인접한 탄소 환 멤버가 부타-1,3-디엔-1,4-디일 그룹(여기에서 1 또는 2개의 탄소원자는 질소원자로 대체될 수 있음)에 의해 브리지될 수 있는 5-원 헤테로아릴 그룹;

- 질소원자를 통해 부착되고 1 내지 4개의 질소원자를 함유하는 5-원 헤테로아릴, 또는 질소원자를 통해 부착되고 1 내지 3개의 질소원자를 함유하는 벤조-융합된 5-원 헤테로아릴: 탄소원자 외에, 1 내지 4개의 질소원자 또는 1 또는 3개의 질소원자를 환 멤버로 함유할 수 있으며 두개의 인접한 탄소 환 멤버 또는 하나의 질소 및 하나의 인접한 탄소 환 멤버가 부타-1,3-디엔-1,4-디일 그룹(여기에서 1 또는 2개의 탄소원자는 질소원자로 대체될 수 있음)에 의해 브리지될 수 있고 질소 환 멤버중 하나를 통해 골격에 부착된 5-원 헤테로아릴 그룹, 예를 들어 1-피롤릴, 1-피라졸릴, 1,2,4-트리아졸-1-일, 1-이미다졸릴, 1,2,3-트리아졸-1-일, 1,3,4-트리아졸-일;

1 내지 3개 또는 1 내지 4개의 질소원자를 함유하는 6-원 헤테로아릴: 탄소원자 외에, 1 내지 3개 또는 1 또는 4개의 질소원자를 환 멤버로 함유할 수 있는 6-원 헤테로아릴 그룹, 예를 들어 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2- 피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일 및 1,2,4-트리아진-3-일.

특히 바람직한 중간체의 구체예에서 변수는 일반식 (I)의 래디칼 R¹ 내지 R⁵ 의 것에 상응한다.

일반식 (I)의 최종 생성물 및 각 경우에 제조를 위해 필요한 출발물질 및 중간체의 경우, 하기 의미의 치환체가 각 경우에 단독으로 또는 조합하여 특히 바람직한 의미를 가진다.

R¹이 하기 식의 래디칼을 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 바람직하다:

상기 식에서,

#는 부착 위치를 나타낸다.

R¹이 하기 식의 래디칼을 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다:

R²가 수소, 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 바람직하다.

R¹ 및 R²가 이들이 부착된 질소원자 함께, 피롤리디디닐, 피페리디닐, 모르폴리닐, 티오모르폴리닐, 피페라지닐, 3,6-디하이드로-1(2H)-피페리디닐 또는 테트라하이드로-1(2H)-피리다지닐을 나타내고, 이들 래디칼이 1 내지 3개의 불소원자, 1 내지 3개의 메틸 그룹 및/또는 트리플루오로메틸에 의해 치환될 수 있는 일반식 (I)의 화합물도 바람직하다.

R¹ 및 R²가 이들이 부착된 질소원자 함께, 하기 식의 래디칼을 나타내는 일반식 (I)의 화합물도 또한 바람직하다:

상기 식에서,

R⁷은 수소 또는 메틸을 나타내고,

R⁸은 메틸, 에틸, 불소, 염소 또는 트리플루오로메틸을 나타내며,

m은 0, 1, 2 또는 3의 수를 나타내고, m이 2 또는 3을 나타내는 경우 R⁸은 동일하거나 상이할 수 있으며,

R⁹는 메틸, 에틸, 불소, 염소 또는 트리플루오로메틸을 나타내고,

o는 0, 1, 2 또는 3의 수를 나타내고, o가 2 또는 3을 나타내는 경우 R⁹는 동일하거나 상이할 수 있다.

R³이 방향족 헤테로사이클을 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 바람직하다.

또한, R³이 3-, 5- 또는 6-원, 특히 5-원 헤테로사이클을 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 바람직하다.

R³이 질소-함유 헤테로사이클을 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다.

R³이 질소를 통해 피리미딘에 부착된 헤테로사이클을 나타내는 일반식 (I)의 화합물도 바람직하다.

R³이 그룹 피롤, 피라졸, 이미다졸, 1,2,4-트리아졸, 1,2,3-트리아졸, 테트라졸, 1,2,3-트리아진, 1,2,4-트리아진, 옥사졸, 이속사졸, 1,3,4-옥사디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 푸란, 티오펜, 티아졸, 이소티아졸을 나타내며 이들 헤테로사이 클이 탄소 또는 질소를 통해 피리미딘 환에 부착될 수 있는 일반식 (I)의 화합물도 바람직하다.

사이클 R³이 피리다진, 피리미딘 또는 피라진을 나타내는 일반식 (I)의 화합물도 또한 바람직하다.

R³이 각각 4개 이하의 R^d 그룹에 의해 임의로 치환된 피라졸, 피롤, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 1,3,4-옥사디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 테트라졸, 2-피리딘, 2-피리미딘, 피라진 또는 3-피리다진을 나타내는 일반식 (I)의 화합물도 또한 바람직하다.

R³이 각각 3개 이하의 R^d 그룹에 의해 임의로 치환된 피라졸, 피롤, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 1,3,4-옥사디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 테트라졸, 2-피리딘, 2-피리미딘, 피라진 또는 3-피리다진을 나타내는 일반식 (I)의 화합물도 또한 바람직하다.

R³이 피라졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸 또는 피리다진을 나타내는 일반식 (I)의 화합물도 또한 바람직하다.

또한, 사이클 R³이 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 하기 R^d 그룹에 의해 치환된 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다:

할로겐, 하이드록실, 시아노, 니트로, 아미노, 머캅토, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할 로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, 모르폴리노카보닐, 옥소, 피롤리디노카보닐, C₁-C₇-알킬카보닐아미노, C₁-C₆-알킬아미노, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시설포닐, 아미노설포닐, C₁-C₆-알킬아미노설포닐 또는 디-(C₁-C₆-알킬)아미노설포닐.

사이클 R³이 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 하기 R^d 그룹에 의해 치환된 일반식 (I)의 화합물이 매우 특히 바람직하다:

할로겐, 시아노, 니트로, 하이드록실, 아미노, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₁-C₆-알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노카보닐, C₁-C₇-알킬카보닐아미노 또는 옥소.

R³이 할로겐, 시아노, 니트로, 메틸, 하이드록시, 옥소 또는 메톡시에 의해 일치환되거나 비치환된 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다.

R⁴가 할로겐, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬 또는 C₁-C₆-알콕시, 특히 할로겐을 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다.

R⁴가 염소를 나타내는 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다.

또한, R⁵가 2- 또는 4-위치에 부착되고 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 동일하거나 상이한 치환체에 의해 일- 내지 사치환될 수 있는 피리딜을 나타내는 일반식 (I)의 피리미딘이 바람직하다.

R⁵가 2- 또는 4-위치에 부착되고 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 동일하거나 상이한 치환체에 의해 일- 내지 삼치환될 수 있는 피리미딜을 나타내는 일반식 (I)의 피리미딘도 바람직하다.

R⁵가 2- 또는 3-위치에 부착되고 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 동일하거나 상이한 치환체에 의해 일- 내지 삼치환될 수 있는 티에닐을 나타내는 일반식 (I)의 피리미딘도 바람직하다.

R⁵가 2-, 4- 또는 5-위치에 부착되고 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 동일하거나 상이한 치환체에 의해 일- 또는 이치환될 수 있는 티아졸릴을 나타내는 일반식 (I)의 피리미딘도 바람직하다.

특히, 그의 사용면에 있어서, 하기 표에 주어지는 일반식 (I)의 화합물이 바람직하다. 표에서 치환체에 대해 언급된 그룹은 언급되는 조합과 무관하게 자체로서 해당 치환체의 특히 바람직한 구체예이다.

표 1

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-1)의 화합물:

표 2

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-1)의 화합물.

표 3

R⁵가

표 4

R⁵가

표 5

R⁵가

표 6

R⁵가

표 7

R⁵가

표 8

R⁵가

표 9

R⁵가

표 10

R⁵가

표 11

R⁵가

표 12

R⁵가

표 13

R⁵가

표 14

R⁵가

표 15

R⁵가

표 16

R⁵가

표 17

R⁵가

표 18

R⁵가

표 19

R⁵가

표 20

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-2)의 화합물:

표 21

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-2)의 화합물.

표 22

R⁵가

표 23

R⁵가

표 24

R⁵가

표 25

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우 에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-2)의 화합물.

표 26

R⁵가

표 27

R⁵가

표 28

R⁵가

표 29

R⁵가

표 30

R⁵가

표 31

R⁵가

표 32

R⁵가

표 33

R⁵가

표 34

R⁵가

표 35

R⁵가

표 36

R⁵가

표 37

R⁵가

표 38

R⁵가

표 39

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-3)의 화합물:

표 40

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-3)의 화합물.

표 41

R⁵가

표 42

R⁵가

표 43

R⁵가

표 44

R⁵가

표 45

R⁵가

표 46

R⁵가

표 47

R⁵가

표 48

R⁵가

표 49

R⁵가

표 50

R⁵가

표 51

R⁵가

표 52

R⁵가

표 53

R⁵가

표 54

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경 우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-3)의 화합물.

표 55

R⁵가

표 56

R⁵가

표 57

R⁵가

표 58

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-4)의 화합물:

표 59

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-4)의 화합물.

표 60

R⁵가

표 61

R⁵가

표 62

R⁵가

표 63

R⁵가

표 64

R⁵가

표 65

R⁵가

표 66

R⁵가

표 67

R⁵가

표 68

R⁵가

표 69

R⁵가

표 70

R⁵가

표 71

R⁵가

표 72

R⁵가

표 73

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경 우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-4)의 화합물.

표 74

R⁵가

표 75

R⁵가

표 76

R⁵가

표 77

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-5)의 화합물:

표 78

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-5)의 화합물.

표 79

R⁵가

표 80

R⁵가

표 81

R⁵가

표 82

R⁵가

표 83

R⁵가

표 84

R⁵가

표 85

R⁵가

표 86

R⁵가

표 87

R⁵가

표 88

R⁵가

표 89

R⁵가

표 90

R⁵가

표 91

R⁵가

표 92

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경 우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-5)의 화합물.

표 93

R⁵가

표 94

R⁵가

표 95

R⁵가

표 96

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-6)의 화합물:

표 97

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-6)의 화합물.

표 98

R⁵가

표 99

R⁵가

표 100

R⁵가

표 101

R⁵가

표 102

R⁵가

표 103

R⁵가

표 104

R⁵가

표 105

R⁵가

표 106

R⁵가

표 107

R⁵가

표 108

R⁵가

표 109

R⁵가

표 110

R⁵가

표 111

R⁵가

표 112

R⁵가

표 113

R⁵가

표 114

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합 이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-6)의 화합물.

표 115

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-7)의 화합물:

표 116

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-7)의 화합물.

표 117

R⁵가

표 118

R⁵가

표 119

R⁵가

표 120

R⁵가

표 121

R⁵가

표 122

R⁵가

표 123

R⁵가

표 124

R⁵가

표 125

R⁵가

표 126

R⁵가

표 127

R⁵가

표 128

R⁵가

표 129

R⁵가

표 130

R⁵가

표 131

R⁵가

표 132

R⁵가

표 133

R⁵가

표 134

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-8)의 화합물:

표 135

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-8)의 화합물.

표 136

R⁵가

표 137

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표 138

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표 139

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표 150

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표 151

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표 153

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-9)의 화합물:

표 154

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-9)의 화합물.

표 155

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표 156

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표 158

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표 170

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표 171

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표 172

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-10)의 화합물:

표 173

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-10)의 화합물.

표 174

R⁵가

표 175

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표 176

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표 177

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표 178

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표 185

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표 186

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표 187

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경 우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-10)의 화합물.

표 188

R⁵가

표 189

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표 190

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표 191

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를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-11)의 화합물:

표 192

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-11)의 화합물.

표 193

R⁵가

표 194

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표 195

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표 196

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표 205

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표 206

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를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경 우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-11)의 화합물.

표 207

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표 208

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표 209

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표 210

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를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-12)의 화합물:

표 211

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-12)의 화합물.

표 212

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표 213

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표 214

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표 215

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표 227

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표 228

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표 229

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-13)의 화합물:

표 230

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-13)의 화합물.

표 231

R⁵가

표 232

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표 233

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표 234

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표 235

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표 244

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표 245

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표 246

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를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합 이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-13)의 화합물.

표 247

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표 248

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를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-14)의 화합물:

표 249

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-14)의 화합물.

표 250

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표 251

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표 252

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표 267

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-15)의 화합물:

표 268

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를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-15)의 화합물.

표 269

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표 271

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표 272

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표 278

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표 281

R⁵가 를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-15)의 화합물.

표 282

R⁵가

표 283

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표 284

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표 285

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표 286

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를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-16)의 화합물:

표 287

R⁵가

를 나타내고, 화합물에 대한 래디칼 R¹ 및 R²의 조합이 각 경우에 표 A의 한 열에 상응하는 일반식 (I-16)의 화합물.

표 288

R⁵가

표 289

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표 290

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표 291

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표 292

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표 293

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표 294

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표 295

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표 298

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표 299

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표 300

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표 304

R⁵가

표 A

본 발명에 따른 방법 a)를 수행하는데 적합한 희석제는 산, 예컨대 아세트산, 포름산, 알콜, 예컨대 메탄올, 물 또는 할로겐화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄 또는 클로로포름이다. 이들 용매의 혼합물을 사용하는 것도 가능하다. 아세트산, 또는 산화제가 옥손인 경우 메탄올/물의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 a)를 수행하는데 적합한 산화제는, 예를 들어 과산화수소, 과텅스텐산, 퍼아세트산, 3-클로로퍼아세트산, 프탈산, 염소, 산소 및 Oxone^®(KHSO₅) 이다.

본 발명에 따른 방법 a)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 이 방법은 일반적으로 0 내지 100 ℃, 바람직하게는 10 내지 50 ℃ 사이의 온도에서 수행된다(참조: WO 02/074753 및 여기에 인용된 문헌).

일반식 (I')의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 b)를 수행하는 경우, 일반식 (III)의 화합물 1 몰당 일반적으로 1 내지 5 몰, 바람직하게는 1 내 지 2 몰의 일반식 (IV)의 화합물이 사용된다.

일반식 (II)는 본 발명에 따른 방법 a)를 수행하는데 출발물질로 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R¹, R²및 R⁵는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다. R⁴는 할로겐, C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고, R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타낸다.

일반식 (II)의 출발물질은 신규하며, 본 출원의 특허대상이다.

일반식 (III)은 본 발명에 따른 방법 b)를 수행하는데 출발물질로 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R¹, R²및 R⁵는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다. R⁴는 할로겐, C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고, R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타내며, n은 1 또는 2일 수 있다.

본 발명에 따른 방법 b)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 이러한 반응에 통상 사용되는 모든 무기 또는 유기 염기이다. 알칼리 토금속 또는 알칼리 금속 수소화물, 수산화물, 아미드, 알콕사이드, 아세테이트, 탄산염 또는 중탄산염, 예를 들어 수소화나트륨, 소듐 아미드, 리튬 디이소프로필 아미드, 소듐 메톡사이드, 소 듐 에톡사이드, 포타슘 t-부톡사이드, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 소듐 아세테이트, 포타슘 아세테이트, 칼슘 아세테이트, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산칼륨, 중탄산나트륨, 및 암모늄 화합물, 예를 들어 수산화암모늄, 암모늄 아세테이트 및 탄산암모늄, 및 또한 삼차 아민, 예를 들어 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸벤질아민, 피리딘, N-메틸피페리딘, N-메틸모르폴린, N,N-디메틸아미노피리딘, 디아자비사이클로옥탄(DABCO), 디아자비사이클로노넨(DBN) 또는 디아자비사이클로운데센(DBU)을 사용하는 것이 바람직하다.

일반식 (I')의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 b)를 수행하는 경우, 일반식 (III)의 화합물 1 몰당 일반적으로 1 내지 5 몰, 바람직하게는 1 내지 2 몰의 일반식 (IV)의 화합물이 사용된다.

일반식 (III)의 출발물질은 신규하며, 본 출원의 특허대상이다.

일반식 (IV)는 본 발명에 따른 방법 b)를 수행하는데 출발물질로 또한 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R³은 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가지나, R³은 래디칼이 일반식 (I')의 화합물내 피리미딘 환에 부착된 적어도 하나의 질소 원자를 가져야 한다.

일반식 (IV)의 출발물질은 공지되었고/되었거나 공지 방법으로 제조할 수 있다.

일반식 (II)의 출발물질은

방법 f)에 따라, 일반식 (IX)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하, 경우에 따라 촉매의 존재하 및 경우에 따라 산 수용체의 존재하에서 일반식 (VI)의 화합물과 반응시킴으로써 수득됨이 밝혀졌다:

상기 식에서,

R¹및 R²는 상기 정의된 바와 같으며,

R⁴는 할로겐, C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타내며,

Hal은 할로겐을 나타낸다.

일반식 (IX)의 화합물은 신규하며, 본 출원의 특허대상이다.

일반식 (VI)는 본 발명에 따른 방법 f)를 수행하는데 출발물질로 또한 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R¹및 R²는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가진다.

일반식 (VI)의 아민은 공지되었거나 공지 방법으로 제조할 수 있다.

본 발명에 따른 방법 f)를 수행하는데 적합한 희석제는 모든 통상의 유기 용매이다. 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 디클로로에탄 또는 트리클로로에탄; 에테르, 예를 들어 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 메틸 t-부틸 에테르, 메틸 t-아밀 에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 또는 아니솔; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, n- 또는 i-이소부티로니트릴 또는 벤조니트릴; 아미드, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸피롤리돈 또는 헥사메틸포스포릭 트리아미드; 에스테르, 예를 들어 메틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트; 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드; 설폰, 예를 들어 설폴란, 및 또한 알콜, 예를 들어 에탄올을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 f)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 이러한 반응에 통상 사용되는 모든 무기 또는 유기 염기이다. 알칼리 토금속 또는 알칼리 금속 수소화물, 수산화물, 아미드, 알콕사이드, 아세테이트, 탄산염 또는 중탄산염, 예를 들어 수소화나트륨, 소듐 아미드, 리튬 디이소프로필 아미드, 소듐 메톡사이드, 소듐 에톡사이드, 포타슘 t-부톡사이드, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 소듐 아세테이트, 포타슘 아세테이트, 칼슘 아세테이트, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산칼륨, 중탄산나트륨, 및 암모늄 화합물, 예를 들어 수산화암모늄, 암모늄 아세테이트 및 탄산암모늄, 및 또한 삼차 아민, 예를 들어 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아 민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸벤질아민, 피리딘, N-메틸피페리딘, N-메틸모르폴린, N,N-디메틸아미노피리딘, 디아자비사이클로옥탄(DABCO), 디아자비사이클로노넨(DBN) 또는 디아자비사이클로운데센(DBU)을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 f)를 수행하는데 적합한 촉매는 이러한 반응에 통상적인 모든 반응 촉진제이다. 플루오라이드, 예를 들어 불화나트륨, 불화칼륨 또는 불화암모늄을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 f)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 이 방법은 일반적으로 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 0 내지 80 ℃ 사이의 온도에서 수행된다

본 발명에 따른 방법 f)를 수행하는 경우, 일반식 (IX)의 할로피리미딘 1 몰당 일반적으로 0.5 내지 10 몰, 바람직하게는 0.8 내지 2 몰의 일반식 (VI)의 아민이 사용된다. 후처리는 통상의 방법으로 수행된다.

일반식 (IX)의 화합물은

방법 g)에 따라, 일반식 (X)의 화합물을, 경우에 따라 산 수용체의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 할로겐화제와 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R⁵및 R⁶은 상기 정의된 바와 같고,

일반식 (X)에서 R⁴는 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타낸다.

본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는데 적합한 할로겐화제는 하이드록실 그룹을 할로겐으로 대체시키기에 적합한 통상의 모든 시약이다. 이들로 삼염화인, 삼브롬화인, 오염화인, 옥시염화인, 티오닐 클로라이드, 티오닐 브로마이드 또는 이들의 혼합물, 또는 포스겐, 디- 또는 트리포스겐을 사용하는 것이 바람직하다. 상응하는 불소 화합물은 염소 또는 브롬 화합물을 불화칼륨과 반응시켜 제조할 수 있다.

본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는데 적합한 희석제는 이러한 할로겐화에 통상적인 모든 용매이다. 이들로 지방족 또는 방향족 탄화수소, 예를 들어 클로로벤젠을 사용하는 것이 바람직하다. 그러나, 할로겐화제 자체, 예를 들어 옥시염화인 또는 할로겐화제의 혼합물이 희석제로도 작용할 수 있다.

본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 이러한 할로겐화 에 통상적인 모든 유기 염기이다. 이들로 삼차 아민, 예를 들어 트리에틸아민, 트리-n-부틸아민 및 N,N-디메틸아닐린을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 10 내지 120 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는 경우, 일반식 (X)의 화합물은 일반적으로 과량의 할로겐화제와 반응된다. 후처리는 통상적인 방법으로 수행된다.

일반식 (X)는 본 발명에 따른 방법 g)를 수행하는데 출발물질로 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R⁴는 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고, R⁵및 R⁶은 상기 정의된 바와 같다.

일반식 (X)의 출발물질은 신규하며, 또한 본 출원의 특허대상이다.

R⁴가 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고, R⁵및 R⁶은 상기 정의된 바와 같은 일반식 (X)의 화합물은

방법 h)에 따라, 일반식 (XI)의 화합물을, 경우에 따라 희석제중에 염기의 존재하에서 일반식 (XII)의 알킬화제와 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R⁴는 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고,

R⁵는 상기 정의된 바와 같으며,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타내고,

X는 친핵체에 의해 제거될 수 있는 이탈기를 나타낸다.

일반식 (XII)는 일반적인 방식으로 통상적인 알킬화제, 예컨대 C₁-C₆-알킬 할라이드, 특히 메틸 클로라이드 및 메틸 브로마이드, 디-C₁-C₆-알킬 설페이트, 예컨대 디메틸 설페이트, 또는 C₁-C₆-알킬 메탄설포네이트, 예컨대 메틸 메탄설포네이트를 나타낸다.

본 발명에 따른 방법 h)를 수행하는데 적합한 희석제는 물; 알콜 또는 이극성 비양성자성 용매, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드이다(참조: US 5,250,689).

본 발명에 따른 방법 h)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물, 중탄산염, 탄산염 및 알콕사이드, 예컨대 KOH, NaOH, NaHCO₃, Na₂CO₃, 소듐 메톡사이드 및 소듐 에톡사이드, 질소 염기, 예컨대 피리딘이다.

본 발명에 따른 방법 h)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내 에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 0 내지 100 ℃, 바람직하게는 10 내지 60 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

성분들은 일반적으로 대략 화학양론비로 사용된다. 그러나, 과량의 알킬화제 (XII)를 사용하는 것이 유리할 수 있다.

일반식 (XII)의 출발물질은 공지되었고/되었거나 공지 방법으로 제조할 수 있다.

일반식 (XI)는 본 발명에 따른 방법 h)를 수행하는데 또한 필요한 출발물질을 정의한다. 이 일반식에서, R⁴는 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고, R⁵는 상기 정의된 바와 같다.

일반식 (XI)는 신규하며, 또한 본 출원의 특허 대상이다.

R⁴가 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고, R⁵는 상기 정의된 바와 같은 일반식 (XI)의 화합물은

방법 i)에 따라, 일반식 (XIII)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하 및 경우에 따라 염기의 존재하에서 일반식 (XIV)의 티오우레아와 반응시킴으로써 수득됨이 밝혀졌다:

상기 식에서,

R⁴는 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고,

R⁷은 C₁-C₄-알킬을 나타내며,

R⁵는 상기 정의된 바와 같다.

본 발명에 따른 방법 i)를 수행하는데 적합한 희석제는 극성 용매, 예를 들어 알콜, 특히 에탄올이다. 그러나, 비극성 용매, 예를 들어 피리딘, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 또는 이들의 혼합물도 적합하다(참조: US 4,331,590; Org. Prep, and Proced. Int., Bd. 10, S. 21-27 Heteroat. Chem., Bd. 10, S. 17-23(1999); Czech. Chem. Commun., Bd. 58, S. 2215-2221).

적합한 산 수용체는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물, 중탄산염, 탄산염 및 알콕사이드, 예컨대 KOH, NaOH, NaHCO₃, Na₂CO₃, 소듐 메톡사이드 및 소듐 에톡사이드, 질소 염기, 예컨대 피리딘 및 트리부틸아민이다.

본 발명에 따른 방법 i)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 20 내지 250 ℃, 바람직하게는 70 내지 220 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

성분들은 일반적으로 대략 화학양론비로 사용된다. 그러나, 과량의 티오우레아 (XIV)를 사용하는 것이 유리할 수 있다.

티오우레아 (XIV)는 공지되었다.

일반식 (XIII)의 출발물질은 공지되었고(참조: EP-A-1002 788; DE3942952)/되었거나, 공지 방법으로 제조할 수 있다.

R⁵가 질소를 통해 부착된 헤테로사이클이고, R⁴가 할로겐을 나타내는 일반식 (IX)의 화합물은

방법 j)에 따라, 일반식 (XV)의 화합물을, 경우에 따라 산 수용체의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 할로겐화제와 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R⁵및 R⁶은 상기 정의된 바와 같다.

일반식 (XV)의 화합물은 하기 형태로 존재할 수 있다:

본 발명에 따른 방법 j)를 수행하는데 적합한 할로겐화제는 방법 g)를 수행 하는데 적합한 것으로 언급된 모든 할로겐화제이다.

본 발명에 따른 방법 j)를 수행하는데 적합한 희석제는 방법 g)를 수행하는데 적합한 것으로 언급된 모든 희석제이다.

본 발명에 따른 방법 j)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 방법 g)를 수행하는데 적합한 것으로 언급된 모든 산 수용체이다.

본 발명에 따른 방법 j)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 10 내지 120 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

본 발명에 따른 방법 j)를 수행하는 경우, 일반식 (XV)의 화합물은 과량의 할로겐화제와 반응된다. 후처리는 통상적인 방법으로 수행된다.

일반식 (XV)는 본 발명에 따른 방법 j)를 수행하는데 출발물질로 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R⁵및 R⁶은 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.

일반식 (XV)의 화합물은 신규하며, 본 출원의 특허대상이다.

R⁵및 R⁶이 상기 정의된 바와 같은 일반식 (XV)의 화합물은

방법 k)에 따라, 일반식 (XVI)의 화합물을, 경우에 따라 희석제중에 산 수용체의 존재하에서 일반식 (XII)의 알킬화제와 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R⁵는 상기 정의된 바와 같으며,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타내고,

X는 친핵체에 의해 제거될 수 있는 이탈기를 나타낸다.

일반식 (XII)는 일반적으로 통상적인 알킬화제, 예컨대 C₁-C₆-알킬 할라이드, 특히 메틸 클로라이드 및 메틸 브로마이드, 디-C₁-C₆-알킬 설페이트, 예컨대 디메틸 설페이트, 또는 C₁-C₆-알킬 메탄설포네이트, 예컨대 메틸 메탄설포네이트를 나타낸다.

일반식 (XVI)의 화합물은 하기 형태로 존재할 수 있다:

본 발명에 따른 방법 k)를 수행하는데 적합한 희석제는 물; 알콜 또는 이극성 비양성자성 용매, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드이다(참조: US 5,250,689).

본 발명에 따른 방법 k)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물, 중탄산염, 탄산염 및 알콕사이드, 예컨대 KOH, NaOH, NaHCO₃, Na₂CO₃, 소듐 메톡사이드 및 소듐 에톡사이드, 질소 염기, 예컨대 피리딘이다.

본 발명에 따른 방법 k)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 0 내지 100 ℃, 바람직하게는 10 내지 60 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

일반식 (XVI)는 본 발명에 따른 방법 k)를 수행하는데 또한 필요한 출발물질을 정의한다. 이 일반식에서, R⁵는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.

일반식 (XVI)는 신규하며, 또한 본 출원의 특허 대상이다.

R⁵가 상기 정의된 바와 같은 일반식 (XVI)의 화합물은

방법 l)에 따라, 일반식 (XVII)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하 및 경우에 따라 산 수용체의 존재하에서 일반식 (XIV)의 티오우레아와 반응시킴으 로써 수득됨이 밝혀졌다:

상기 식에서,

R⁷은 C₁-C₄-알킬을 나타내며,

R⁵는 상기 정의된 바와 같다.

본 발명에 따른 방법 l)을 수행하는데 적합한 희석제는 극성 용매, 예를 들어 알콜, 특히 에탄올이다. 그러나, 비극성 용매, 예를 들어 피리딘, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 또는 이들의 혼합물도 적합하다(참조: US 4,331,590; Org. Prep, and Proced. Int., Bd. 10, S. 21-27 Heteroat. Chem., Bd. 10, S. 17-23(1999); Czech. Chem. Commun., Bd. 58, S. 2215-2221).

적합한 산 수용체는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물, 중탄산염, 탄산염 및 알콕사이드, 예컨대 KOH, NaOH, NaHCO₃, Na₂CO₃, 질소 염기, 예컨대 피리딘 및 트리부틸아민이다.

본 발명에 따른 방법 l)을 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내 에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 20 내지 250 ℃, 바람직하게는 70 내지 220 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

성분들은 일반적으로 대략 화학양론비로 사용된다. 그러나, 과량의 알킬화제 (XIV)를 사용하는 것이 유리할 수 있다.

티오우레아 (XIV)는 공지되었다.

일반식 (XVII)의 출발물질은 공지되었고(참조: DE-103575707)/되었거나, 공지 방법으로 제조할 수 있다.

R⁵는 (2-클로로- 또는 2-메틸)티오펜-3-일인 일반식 (XII)의 출발물질은 또한 하기 반응식에 따라 제조될 수도 있다:

반응식

R" = Me

R" = Cl

합성 과정의 최종 두 단계와 유사하게, (2-클로로티오펜-3-일)아세트산으로부터 디메틸 2-(2-클로로티오펜-3-일)말로네이트가 또한 제조될 수 있다.

본 발명에 따른 방법 c)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상의 모든 유기 용매이다. 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 디클로로에탄 또는 트리클로로에탄; 에테르, 예를 들어 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 메틸 t-부틸 에테르, 메틸 t-아밀 에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 또는 아니솔; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, n- 또는 i-이소부티로니트릴 또는 벤조니트릴; 아미드, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸피롤리돈 또는 헥사메틸포스포릭 트리아미드; 에스테르, 예를 들어 메틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트; 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드; 설폰, 예를 들어 설폴란, 및 또한 알콜, 예를 들어 에탄올을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 c)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 이러한 반응에 통상 사용되는 모든 무기 또는 유기 염기이다. 알칼리 토금속 또는 알칼리 금속 수소화물, 수산화물, 아미드, 알콕사이드, 아세테이트, 탄산염 또는 중탄산염, 예를 들어 수소화나트륨, 소듐 아미드, 리튬 디이소프로필 아미드, 소듐 메톡사이드, 소듐 에톡사이드, 포타슘 t-부톡사이드, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 소듐 아세테이트, 포타슘 아세테이트, 칼슘 아세테이트, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산칼륨, 중탄산나트륨, 및 암모늄 화합물, 예를 들어 수산화암모늄, 암모늄 아세테이트 및 탄산암모늄, 및 또한 삼차 아민, 예를 들어 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸벤질아민, 피리딘, N-메틸피페리딘, N-메틸모르 폴린, N,N-디메틸아미노피리딘, 디아자비사이클로옥탄(DABCO), 디아자비사이클로노넨(DBN) 또는 디아자비사이클로운데센(DBU)을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 c)를 수행하는데 적합한 촉매는 이러한 반응에 통상적인 모든 반응 촉진제이다. 플루오라이드, 예를 들어 불화나트륨, 불화칼륨 또는 불화암모늄을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 c)를 수행하는 경우, 일반식 (V)의 할로피리미딘 1 몰당 일반적으로 0.5 내지 10 몰, 바람직하게는 0.8 내지 2 몰의 일반식 (VI)의 아민이 사용된다. 후처리는 통상의 방법으로 수행된다.

일반식 (V)는 본 발명에 따른 방법 c)를 수행하는데 출발물질로 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R³, R⁴및 R⁵는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가지나, R³은 래디칼이 일반식 (V)의 화합물내 피리미딘 골격에 부착된 하나의 탄소원자를 통해 부착된다.

일반식 (V)의 출발물질은 신규하며, 본 출원의 특허대상이다.

R³ 및 R⁵가 상기 정의된 바와 같으나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³이 하나의 탄 소원자를 통해 일반식 (V)의 피리미딘 골격에 부착되며, R⁴가 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내는 일반식 (V)의 화합물은

방법 m)에 따라, 일반식 (XVIII)의 화합물을, 경우에 따라 산 수용체의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 할로겐화제와 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R⁴는 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고,

R³ 및 R⁵는 상기 정의된 바와 같으나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³이 하나의 탄소원자를 통해 일반식 (XVIII)의 피리미딘 골격에 부착된다.

본 발명에 따른 방법 m)을 수행하는데 적합한 할로겐화제는 방법 g)를 수행하는데 적합한 것으로 언급된 모든 할로겐화제이다.

본 발명에 따른 방법 m)을 수행하는데 적합한 희석제는 방법 g)를 수행하는데 적합한 것으로 언급된 모든 희석제이다.

본 발명에 따른 방법 m)을 수행하는데 적합한 산 수용체는 방법 g)를 수행하는데 적합한 것으로 언급된 모든 산 수용체이다.

본 발명에 따른 방법 m)을 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내 에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 10 내지 120 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

본 발명에 따른 방법 m)을 수행하는 경우, 일반식 (XVIII)의 화합물은 일반적으로 과량의 할로겐화제와 반응된다. 후처리는 통상적인 방법으로 수행된다.

일반식 (XVIII)은 본 발명에 따른 방법 m)을 수행하는데 출발물질로 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R³, R⁴및 R⁵는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가지나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³은 하나의 탄소원자를 통해 일반식 (XVIII)의 피리미딘 골격에 부착된다.

일반식 (XVIII)의 화합물은 신규하며, 본 출원의 특허대상이다.

R⁴가 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고, R³ 및 R⁵는 상기 정의된 바와 같으나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³이 하나의 탄소원자를 통해 일반식 (XVIII)의 피리미딘 골격에 부착되는 일반식 (XVIII)의 화합물은

방법 n)에 따라, 일반식 (XIII)의 화합물을, 경우에 따라 희석제중에 경우에 따라 산 수용체의 존재하에서 일반식 (XIX)의 화합물과 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R⁴는 C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내고,

R⁷은 C₁-C₄-알킬을 나타내며,

R⁵는 상기 정의된 바와 같다.

본 발명에 따른 방법 n)을 수행하는데 적합한 희석제는 극성 용매, 예를 들어 알콜, 특히 에탄올이다. 그러나, 비극성 용매, 예를 들어 피리딘, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 또는 이들의 혼합물도 적합하다(참조: US 4,331,590; Org. Prep, and Proced. Int., Bd. 10, S. 21-27 Heteroat. Chem., Bd. 10, S. 17-23(1999); Czech. Chem. Commun., Bd. 58, S. 2215-2221).

적합한 산 수용체는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물, 중탄산염 및 탄산염, 예컨대 KOH, NaOH, NaHCO₃, Na₂CO₃, 소듐 메톡사이드 및 소듐 에톡사이드, 질소 염기, 예컨대 피리딘 및 트리부틸아민이다.

본 발명에 따른 방법 n)을 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 20 내지 250 ℃, 바람직하게는 70 내지 220 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

성분들은 일반적으로 대략 화학양론비로 사용된다. 그러나, 과량의 일반식 (XIX)의 화합물을 사용하는 것이 유리할 수 있다.

일반식 (XII)의 출발물질은 공지되었고(참조: EP-A-1002 788)/되었거나, 공지 방법으로 제조할 수 있다.

일반식 (XIX)의 출발물질은 공지되었고/되었거나, 공지 방법으로 제조할 수 있다.

R³ 및 R⁵가 상기 정의된 바와 같으나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³이 하나의 탄소원자를 통해 일반식 (V)의 피리미딘 골격에 부착되며, R⁴가 할로겐을 나타내는 일반식 (V)의 화합물은

방법 o)에 따라, 일반식 (XX)의 화합물을, 경우에 따라 산 수용체의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 할로겐화제와 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R³ 및 R⁵는 상기 정의된 바와 같으나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³은 하나의 탄소원자를 통해 일반식 (XX)의 피리미딘 골격에 부착된다.

본 발명에 따른 방법 o)를 수행하는데 적합한 할로겐화제는 방법 g)를 수행하는데 적합한 것으로 언급된 모든 할로겐화제이다.

본 발명에 따른 방법 o)를 수행하는데 적합한 희석제는 방법 g)를 수행하는 데 적합한 것으로 언급된 모든 희석제이다.

본 발명에 따른 방법 o)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 방법 g)를 수행하는데 적합한 것으로 언급된 모든 산 수용체이다.

본 발명에 따른 방법 o)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 10 내지 120 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

본 발명에 따른 방법 o)를 수행하는 경우, 일반식 (XX)의 화합물은 과량의 할로겐화제와 반응된다. 후처리는 통상적인 방법으로 수행된다.

일반식 (XX)는 본 발명에 따른 방법 o)를 수행하는데 출발물질로 필요한 화합물의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R³ 및 R⁵는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가지나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³은 하나의 탄소원자를 통해 일반식 (XX)의 피리미딘 골격에 부착된다.

일반식 (XX)의 화합물은 신규하며, 본 출원의 특허대상이다.

R³ 및 R⁵가 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가지나, 헤테로사이클릭 래디칼 R³이 하나의 탄소원자를 통해 일반식 (XX)의 피리미딘 골격에 부착되는 일반식 (XX)의 화합물은

방법 p)에 따라, 일반식 (XVII)의 화합물을, 경우에 따라 희석제중에 경우에 따라 염기의 존재하에서 일반식 (XIX)의 화합물과 반응시킴으로써 수득된다:

상기 식에서,

R⁷은 C₁-C₄-알킬을 나타내며,

R⁵는 상기 정의된 바와 같다.

본 발명에 따른 방법 p)를 수행하는데 적합한 희석제는 극성 용매, 예를 들어 알콜, 특히 에탄올이다. 그러나, 비극성 용매, 예를 들어 피리딘, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 또는 이들의 혼합물도 적합하다(참조: US 4,331,590; Org. Prep, and Proced. Int., Bd. 10, S. 21-27 Heteroat. Chem., Bd. 10, S. 17-23(1999); Czech. Chem. Commun., Bd. 58, S. 2215-2221).

본 발명에 따른 방법 p)를 수행하는데 적합한 산 수용체는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물, 중탄산염, 탄산염 및 알콕사이드, 예컨대 KOH, NaOH, NaHCO₃, Na₂CO₃, 소듐 메톡사이드 및 소듐 에톡사이드, 질소 염기, 예컨대 피리딘 또는 트리-n-부틸아민이다.

본 발명에 따른 방법 p)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 20 내지 250 ℃, 바람직하게는 70 내지 220 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

본 발명에 따른 방법 d)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 20 내지 100 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

일반식 (I'")의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 d)를 수행하는 경우, 일반식 (I'a) 또는 (I"a)의 화합물 1 몰당 일반적으로 1 내지 10 몰, 바람직하게는 1 내지 3 몰의 일반식 (VII)의 화합물이 사용된다.

본 발명에 따른 방법 d)를 수행하는데 적합한 희석제는 그리냐드 반응에 통상적인 모든 용매이다. 에테르, 예를 들어 디에틸 에테르, 또는 테트라하이드로푸란을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 방법 e)를 수행하는데 적합한 촉매는 본 발명에 따른 방법 b)에 언급된 모든 반응 촉진제이다.

본 발명에 따른 방법 e)를 수행하는 경우, 반응 온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로 이 방법은 -20 내지 80 ℃, 바람직하게는 0 내지 60 ℃ 사이의 온도에서 수행된다.

일반식 (I'")의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 e)를 수행하는 경우, 일반식 (I'a) 또는 (I"a)의 화합물 1 몰당 일반적으로 1 내지 10 몰, 바람직하게는 1 내지 3 몰의 일반식 (VIII)의 화합물이 사용된다.

본 발명에 따른 방법 d)를 수행하기 위해 출발물질로 사용되는 일반식 (I'a) 및 (I"a)의 화합물은 본 발명에 따른 방법 b) 또는 c)에 의해 제조된다. 이 일반식 (I'a) 및 (I"a)에서, R¹, R², R³, R⁵및 Hal은 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.

일반식 (VII)은 본 발명에 따른 방법 d)를 수행하는데 또한 필요한 출발물질의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R⁴는 바람직하거나, 특히는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다. 일반식 (VII)의 화합물은 공지되었거나, 공지 방법으로 제조할 수 있다.

일반식 (VIII)은 본 발명에 따른 방법 e)를 수행하는데 또한 필요한 출발물질의 일반적인 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R⁴는 바람직하거나, 특히는 본 발 명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다. 일반식 (VIII)의 화합물은 공지되었거나, 공지 방법으로 제조할 수 있다.

본 발명에 따른 방법 a) 내지 n)은 일반적으로 대기압하에 수행된다. 그러나, 승압하에 수행하는 것이 또한 가능하다.

본 발명에 따른 화합물은 포유동물에서 종양 세포 증식 및 관련 질환을 억제하여 약제로 사용될 수 있다. 이들은 암 퇴치용 약제를 제조하는데 특히 적합하다.

본 발명은 또한 치료를 요하는 포유동물에서 종양 세포 증식 및 관련 질환을 억제하기 위한 방법에 관한 것이다. 이 방법은 유효량의 5-페닐피리미딘 또는 그의 약제학적으로 유효한 염을 포유동물에 투여하는 것을 포함한다. 본 발명은 또한 유효량의 5-페닐피리미딘 또는 그의 약제학적으로 유효한 염을 포유동물에 투여하여 마이크로튜불리(microtubuli)의 중합을 촉진 및 튜불린 및 마이크로튜불리와의 상호작용으로 종양 세포 증식 및 관련 질환을 치료 또는 예방하는 방법에 관한 것이다.

본 발명에 따른 화합물은 강력한 살미생물 활성을 나타내며, 작물 보호 및 재료 보호시 원치않는 미생물, 예를 들어 진균 및 박테리아를 구제하기 위해 사용될 수 있다.

살진균제는 작물 보호에 있어서 플라스모디오포로마이세테스 (Plasmodiophoromycetes), 오오마이세테스(Oomycetes), 키트리디오마이세테스 (Chytridiomycetes), 지고마이세테스(Zygomycetes), 아스코마이세테스 (Ascomycetes), 바시디오마이세테스(Basidiomycetes) 및 듀테로마이세테스 (Deuteromycetes)를 구제하기 위해 사용될 수 있다.

살균제는 작물 보호에 있어서 슈도모노아다세아(Pseudomonoadaceae), 리조비아세아(Rhizobiaceae), 엔테로박테리아세아(Enterobacteriaceae), 코리네박테리아세아(Corynebacteriaceae) 및 스트렙토마이세타세아(Streptomycetaceae)를 구제하기 위해 사용될 수 있다.

상기 속명의 진균 및 박테리아 질병을 야기하는 몇가지 병원균의 예를 하기에 언급하지만, 이에 한정되지는 않는다:

예를 들어, 하기 백분병 병원균에 의한 질병:

Blumeria 종, 예컨대 Blumeria graminis;

Podosphaera 종, 예컨대 Podosphaera leucotricha;

Sphaerotheca 종, 예컨대 Sphaerotheca fuliginea;

Uncinula 종, 예컨대 Uncinula necator;

예를 들어, 하기 녹병 병원균에 의한 질병:

Gymnosporangium 종, 예컨대 Gymnosporangium sabinae;

Hemileia 종, 예컨대 Hemileia vastatrix;

Phakopsora 종, 예컨대 Phakopsora pachyrhizi 및 Phakopsora meibomiae;

Puccinia 종, 예컨대 Puccinia recondita;

Uromyces 종, 예컨대 Uromyces appendiculatus;

예를 들어, 하기 오오마이세테스 그룹중에서 선택된 병원균에 의한 질병:

Bremia 종, 예컨대 Bremia lactucae;

Peronospora 종, 예컨대 Peronospora pisi 또는 P. brassicae;

Phytophthora 종, 예컨대 Phytophthora infestans;

Plasmopara 종, 예컨대 Plasmopara viticola;

Pseudoperonospora 종, 예컨대 Pseudoperonospora humuli 또는 Pseudoperonospora cubensis;

Pythium 종, 예컨대 Pythium ultimum;

예를 들어, 하기 종에 의한 반점병 및 잎 시듦병:

Alternaria 종, 예컨대 Alternaria solani;

Cercospora 종, 예컨대 Cercospora beticola;

Cladiosporum 종, 예컨대 Cladiosporium cucumerinum;

Cochliobolus 종, 예컨대 Cochliobolus sativus(분생자 형태: Drechslera, 동형: Helminthosporium);

Colletotrichum 종, 예컨대 Colletotrichum lindemuthanium;

Cycloconium 종, 예컨대 Cycloconium oleaginum;

Diaporthe 종, 예컨대 Diaporthe citri;

Elsinoe 종, 예컨대 Elsinoe fawcettii;

Gloeosporium 종, 예컨대 Gloeosporium laeticolor;

Glomerella 종, 예컨대 Glomerella cingulata;

Guignardia 종, 예컨대 Guignardia bidwelli;

Leptosphaeria 종, 예컨대 Leptosphaeria maculans;

Magnaporthe 종, 예컨대 Magnaporthe grisea;

Mycosphaerella 종, 예컨대 Mycosphaerelle graminicola;

Phaeosphaeria 종, 예컨대 Phaeosphaeria nodorum;

Pyrenophora 종, 예컨대 Pyrenophora teres;

Ramularia 종, 예컨대 Ramularia collocygni;

Rhynchosporium 종, 예컨대 Rhynchosporium secalis;

Septoria 종, 예컨대 Septoria apii;

Typhula 종, 예컨대 Typhula incarnata;

Venturia 종, 예컨대 Venturia inaequalis;

예를 들어, 하기 종에 의한 뿌리 줄기병:

Corticium 종, 예컨대 Corticium graminearum;

Fusarium 종, 예컨대 Fusarium oxysporum;

Gaeumannomyces 종, 예컨대 Gaeumannomyces graminis;

Rhizoctonia 종, 예컨대 Rhizoctonia solani;

Tapesia 종, 예컨대 Tapesia acuformis;

Thielaviopsis 종, 예컨대 Thielaviopsis basicola;

예를 들어, 하기 종에 의한 이삭 줄기병(옥수수속 포함):

Alternaria 종, 예컨대 Alternaria spp.;

Aspergillus 종, 예컨대 Aspergillus flavus;

Cladosporium 종, 예컨대 Cladosporium spp.;

Claviceps 종, 예컨대 Claviceps purpurea;

Fusarium 종, 예컨대 Fusarium culmorum;

Gibberella 종, 예컨대 Gibberella zeae;

Monographella 종, 예컨대 Monographella nivalis;

예를 들어, 하기 종에 의한 깜부기병:

Sphacelotheca 종, 예컨대 Sphacelotheca reiliana;

Tilletia 종, 예컨대 Tilletia caries;

Urocystis 종, 예컨대 Urocystis occulta;

Ustilago 종, 예컨대 Ustilago nuda;

예를 들어, 하기 종에 의한 열매 역병:

Aspergillus 종, 예컨대 Aspergillus flavus;

Botrytis 종, 예컨대 Botrytis cinerea;

Penicillium 종, 예컨대 Penicillium expansum;

Sclerotinia 종, 예컨대 Sclerotinia sclerotiorum;

verticilium 종, 예컨대 verticilium alboatrum;

예를 들어, 하기 종에 의한 종자- 및 토양성 시듦 썩음병, 및 묘종병:

Fusarium 종, 예컨대 Fusarium culmorum;

Phytophthora 종, 예컨대 Phytophthora cactorum;

Pythium 종, 예컨대 Pythium ultimum;

Rhizoctonia 종, 예컨대 Rhizoctonia solani;

Sclerotium 종, 예컨대 Sclerotium rolfsii;

예를 들어, 하기 종에 의한 근류, 혹, 빗자루병:

Nectria 종, 예컨대 Nectria galligena;

예를 들어, 하기 종에 의한 시듦병:

Monilinia 종, 예컨대 Monilinia laxa;

예를 들어, 하기 종에 의한 잎, 꽃 및 열매 변형:

Taphrina 종, 예컨대 Taphrina deformans;

예를 들어, 하기 종에 의한 목질 종의 변성 질병:

Esca 종, 예컨대 Phaemoniella clamydospora;

예를 들어, 하기 종에 의한 개화 및 종자 질병:

Botrytis 종, 예컨대 Botrytis cinerea;

예를 들어, 하기 종에 의한 식물 덩이줄기 질병:

Rhizoctonia 종, 예컨대 Rhizoctonia solani.

본 발명에 따른 활성 화합물은 또한 식물에서 강력한 강화 작용을 나타낸다. 따라서, 이들은 원치않는 미생물에 의한 공격에 대해 식물 방어력을 부여하기 위해 사용될 수 있다.

여기에서, 식물 강화(저항성-유도) 물질이란, 처리 식물에 원치않는 미생물을 접종하였을 때 식물에 이들 미생물에 대해 상당한 저항성이 생기도록 식물의 방 어 시스템을 자극할 수 있는 물질을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.

이 경우, 원치않는 미생물이란 식물병원성 진균, 박테리아 및 바이러스를 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 본 발명에 따른 화합물은 식물을 처리후 일정 기간동안 상기 언급된 병원균에 의한 침습으로부터 보호하기 위해 사용될 수 있다. 보호 기간은 식물을 활성 화합물로 처리한 후 일반적으로 1 내지 10일, 바람직하게는 1 내지 7일간이다.

식물 질병을 구제하는데 필요한 농도에서 활성 화합물의 우수한 식물내약성으로 식물의 지상부, 번식 줄기 및 종자 및 토양 처리가 가능하다.

본 발명에 따른 활성 화합물은 곡물 질병, 예를 들어 푸시리아(Fusaria)종, 벼 질병, 예를 들어 피라쿨라리아 오리자에(Pyricularia oryzae), 및 포도, 과일 및 야채 재배시에 나타나는 질병, 예를 들어 보트리티스(Botrytis), 벤투리아(Venturia), 스파에로테카(Sphaerotheca) 및 포도스파에라(Podosphaera) 종을 구제하기 위해 사용되는 경우 특히 성공적으로 사용될 수 있다.

본 발명에 따른 활성 화합물은 또한 작물 수확량을 증산시키기 위해 사용될 수 있다. 또한, 이들은 저독성이며, 우수한 식물 상용성을 나타낸다.

본 발명에 따른 활성 화합물은 경우에 따라, 특정 농도 및 적용 비율에서 제초제로서, 식물 성장을 조절하거나, 동물 해충을 구제하기 위해 사용될 수 있다. 이들은 또한 다른 활성 화합물을 합성하기 위한 중간체 또는 전구체로 사용될 수 있다.

본 발명에 따라 모든 식물 및 식물의 일부가 처리될 수 있다. 여기에서 식 물이란 원하거나 원치않는 야생 식물 또는 작물(자연 발생 작물 포함)과 같은 모든 식물 및 식물 집단을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 작물은 식물 육종권자의주권으로 보호될 수 있거나 보호될 수 없는 식물 종 및 형질전환(transgenic) 식물을 포함하여, 통상적인 식물 재배 및 최적화 방법에 의해, 생명공학 및 유전자공학에 의해 또는 이들 방법을 조합하여 얻을 수 있는 식물일 수 있다. 식물의 일부는 식물의 모든 지상 및 지하 부분 및 기관, 예를 들어 싹, 잎, 꽃 및 뿌리를 의미하는 것으로 이해되어야 하며, 이들의 예로 잎, 침엽(needles), 줄기(stem), 자루(trunk), 꽃, 과실체, 과일, 종자, 뿌리, 괴경 및 뿌리 줄기가 언급될 수 있다. 식물의 일부는 또한 수확 물질, 및 영양 및 생식 번식 물질, 예를 들어 묘목, 괴경, 뿌리 줄기, 삽목 및 종자를 포함한다.

본 발명에 따라 활성 화합물으로 식물 및 식물의 일부를 처리하는 것은 통상의 처리 방법에 의해, 예를 들어 침지, 분무, 증발, 분사, 살포, 솔질에 의해서 및, 전파 물질, 특히 종자의 경우에는 또한 일 또는 다중 코팅을 적용하여 직접, 또는 그의 환경, 서식지 또는 저장 공간에 작용시킴으로써 수행된다.

본 발명에 따른 화합물은 재료를 보호하는데 있어 공업용 물질이 원치 않는 미생물에 의해 감염 및 파괴되는 것으로부터 보호하기 위해 사용될 수 있다.

여기에서 공업용 물질이란 산업적 용도로 제조된 무생 물질을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, 미생물에 의한 변화 또는 파괴로 부터 본 발명에 따른 활성 화합물에 의해 보호받고자 하는 공업용 물질은 접착제, 아교, 종이, 판지, 직물, 가죽, 목재, 페인트, 플라스틱 제품, 냉각 윤활제 및 미생물에 의해 감 염되거나 파괴될 수 있는 기타 물질일 수 있다. 보호되는 물질의 범위내에 포함되는 것으로는 또한 미생물의 증식에 의해 손상될 수 있는 생산 설비의 일부, 예를 들어 냉각수 회로가 언급될 수 있다. 본 발명의 범주내에서 언급될 수 있는 공업용 물질은 바람직하게는 접착제, 아교, 종이, 판지, 가죽, 목재, 페인트, 냉각 윤활제 및 열전달 유체, 특히 바람직하게는 목재이다.

공업용 물질을 분해 또는 변화시킬 수 있는 미생물로는 예를 들어, 박테리아, 진균, 이스트, 조류(algae) 및 변형(slime) 유기체가 언급될 수 있다. 본 발명에 따른 활성 화합물은 바람직하게는 진균, 특히 사상균, 목재 변색 및 목재 파괴 진균(바시디오마이세테스) 및 변형 유기체 및 조류에 작용한다.

하기 속의 미생물이 예로 언급될 수 있다:

알터나리아(Alternaria), 예를 들어 알터나리아 테누이스(Alternaria tenuis)

아스퍼길루스(Aspergillus), 예를 들어 아스퍼길루스 니거(Aspergillus niger)

캐토미움(Chaetomium), 예를 들어 캐토미움 글로보숨(Chaetomium globosum),

코니오포라(Coniophora), 예를 들어 코니오포라 푸에타나(Coniophora puetana),

렌티누스(Lentinus), 예를 들어 렌티누스 티그리누스(Lentinus tigrinus),

페니실리움(Penicillium), 예를 들어 페니실리움 글라우쿰(Penicillium glaucum),

폴리포루스(Polyporus), 예를 들어, 폴리포루스 버시컬러(Polyporus versicolor),

아우레오바시디움(Aureobasidium), 예를 들어 아우레오바시디움 풀루란스 (Aureobasidium pullulans),

스클레오포마(Sclerophoma), 예를 들어 스클레오포마 피타이오필라 (Sclerophoma pityophila),

트리코더마(trichoderma), 예를 들어 트리코더마 비리데(Trichoderma viride),

에스케리키아(Escherichia), 예를 들어 에스케리키아 콜리(Escherichia coli),

슈도모나스(Pseudomonas), 예를 들어 슈도모나스 아에루기노사(Pseudomonas aeruginosa) 및

스타필로코쿠스(Staphylococcus), 예를 들어 스타필로코쿠스 아우레우스 (Staphylococcus aureus).

활성 화합물은 그의 특별한 물리적 및/또는 화학적 성질에 따라 용액제, 유제, 현탁제, 산제, 포움제, 페이스트, 과립제, 에어로졸, 중합물질 및 코팅 조성물중의 미소캅셀제와 같은 통상의 제제 및 ULV 냉무제 및 온무제로 전환시킬 수 있다.

이들 제제는 공지된 방법으로, 예를 들어, 임의로 계면활성제, 즉 유화제 및/또는 분산제 및/또는 포움 형성제를 사용하여 활성 화합물을 증량제, 즉 액상 용 매, 가압 액화가스 및/또는 고형 담체와 혼합하여 제조된다. 사용된 증량제가 물인 경우에는, 예를 들어 유기 용매가 또한 보조 용매로 사용될 수 있다. 적합한 액상 용매는, 주로 크실렌, 톨루엔 또는 알킬나프탈렌과 같은 방향족 화합물; 클로로벤젠, 클로로에틸렌 또는 메틸렌 클로라이드와 같은 염소화 방향족 또는 염소화 지방족 탄화수소; 사이클로헥산 또는 파라핀, 예를 들어, 석유 분획과 같은 지방족 탄화수소; 부탄올 또는 글리콜과 같은 알콜 및 그들의 에테르 및 에스테르; 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는 사이클로헥사논과 같은 케톤; 디메틸포름아미드 또는 디메틸설폭사이드와 같은 강한 극성 용매, 또는 물이다. 액화가스 증량제 또는 담체란 표준 온도 및 대기압하에서 가스 상태인 액체를 의미하며, 예를 들어 할로겐화 탄화수소 및 또한 부탄, 프로판, 질소 및 이산화탄소와 같은 에어로졸 추진제이다. 적합한 고형 담체는 예를 들어 카올린, 점토, 활석, 백악, 석영, 아타펄기트, 몬모릴로나이트 또는 규조토와 같은 분쇄된 천연 광물, 및 미분 실리카, 알루미나 및 실리케이트와 같은 분쇄된 합성 광물이다. 적합한 과립제용 고형 담체는 예를 들어 방해석, 대리석, 경석, 해포석 및 백운석과 같은 분쇄 및 분류된 천연 암석, 또는 무기 및 유기가루의 합성과립, 및 톱밥, 코코넛 껍질, 옥수수 속대 및 담배줄기와 같은 유기물질의 과립이다. 적합한 유화제 및/또는 포움 형성제는 예를 들어 비이온성 및 음이온성 유화제, 예를 들어 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방 알콜 에테르, 예를 들어 알킬아릴 폴리글리콜 에테르, 알킬설포네이트, 알킬설페이트, 아릴설포네이트 또는 단백질 가수분해물이다. 적합한 분산제는 예를 들어 리그노설파이트 폐액 및 메틸셀룰로오즈이다.

점착제, 예를 들어 카복시메틸셀룰로오즈, 및 아라비아고무, 폴리비닐 알콜 및 폴리비닐 아세테이트와 같은 분말, 과립 또는 라텍스 형태의 천연 및 합성 중합체, 또는 세팔린 및 레시틴과 같은 천연 인지질 및 합성 인지질이 제제에 사용될 수 있다. 다른 가능한 첨가제는 광유 및 식물유이다.

착색제, 예를 들어 산화철, 산화티탄 및 페로시안 블루와 같은 무기안료, 및 알리자린 염료, 아조염료 및 금속 프탈로시아닌 염료와 같은 유기 안료, 및 철, 망간, 붕소, 구리, 코발트, 몰리브덴 및 아연의 염과 같은 미량 영양소가 사용될 수도 있다.

제제는 일반적으로 0.1 내지 95 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 90 중량%의 활성 화합물을 함유한다.

본 발명에 따른 활성 화합물은 또한, 그 자체로, 또는 그의 제제중에 예를 들어 활성 스펙트럼을 넓히거나 내성이 생기는 것을 방지하기 위하여 공지된 살진균제, 살균제, 살비제, 살선충제 또는 살충제와의 혼합물로서 존재할 수 있다. 많은 경우 상승 효과가 얻어지며, 즉, 혼합물의 활성은 개별 성분들의 활성보다 크다.

적합한 혼합 성분으로 하기 화합물들이 예시된다:

살진균제:

1. 핵산 합성 저해제

베날락실, 베날락실-M, 부피리메이트, 키랄락실, 클로질라콘, 디메티리몰, 에티리몰, 푸랄락실, 하이멕사졸, 메페녹삼, 메탈락실, 메탈락실-M, 오푸라스, 옥 사딕실, 옥솔린산

2. 유사분열 및 세포분열 억제제:

베노밀, 카벤다짐, 디에토펜카브, 푸베리다졸, 펜시쿠론, 티아벤다졸, 티오파네이트-메틸, 족사미드

3. 호흡 연쇄 억제제:

3.1 콤플렉스 I

디플루메토림

3.2 콤플렉스 II

보스칼리드, 카복신, 펜푸람, 플루톨라닐, 푸라메트피르, 메프로닐, 옥시카복신, 펜티오피라드, 티플루자미드

3.3 콤플렉스 III

아미설브롬, 아족시스트로빈, 사이아조파미드, 디목시스트로빈, 에네스트로빈, 파목사돈, 페나미돈, 플루옥사스트로빈, 크레속심-메틸, 메토미노스트로빈, 오리사스트로빈, 피콕시스트로빈, 피라클로스트로빈, 트리플록시스트로빈

3.4 디커플러:

디노캅, 플루아지남, 메틸디노캅

3.5 ATP 생산 억제:

펜틴 아세테이트, 염화펜틴, 수산화펜틴, 실티오팜

4. 아미노산 및 단백질 생합성 저해제

안도프림, 블라스티시딘-S, 사이프로디닐, 카수가마이신, 카수가마이신 하이 드로클로라이드 하이드레이트, 메파니피림, 피리메타닐,

5. 신호 전달 억제제

펜피클로닐, 플루디옥소닐, 퀴녹시펜

6. 지질 및 막 합성 억제제

클로졸리네이트, 이프로디온, 프로사이미돈, 빈클로졸린

피라조포스, 에디펜포스, 이프로벤포스(IBP), 이소프로티올란

톨클로포스-메틸, 비페닐

이오도카브, 프로파모카브, 프로파모카브 하이드로클로라이드

7. 에르고스테롤 생합성 저해제

펜헥사미드,

아자코나졸, 비터타놀, 브로무코나졸, 사이프로코나졸, 디클로부트라졸, 디페노코나졸, 디니코나졸, 디니코나졸-M, 에폭시코나졸, 에타코나졸, 펜부코나졸, 플루퀸코나졸, 플루프리미돌, 플루실라졸, 플루트리아폴, 푸르코나졸, 푸르코나졸-시스, 헥사코나졸, 이미벤코나졸, 이프코나졸, 메트코나졸, 마이클로부타닐, 파클로부트라졸, 펜코나졸, 프로피코나졸, 프로티오코나졸, 피리페녹스, 시메코나졸, 테부코나졸, 테트라코나졸, 트리아디메폰, 트리아디메놀, 트리티코나졸, 유니코나졸, 보리코나졸,

이마잘릴, 이마잘릴 설페이트, 옥스포코나졸, 페나리몰, 플루프리미돌, 누아리몰, 피리페녹스, 트리포린, 페푸라조에이트, 프로클로라즈, 트리플루미졸, 트리포린, 비니코나졸,

알디모르프, 도데모르프, 도데모르프 아세테이트, 펜프로피딘, 펜프로피모르프, 트리데모르프, 스피록사민

나프티핀, 피리부티카브, 터비나핀,

8. 세포벽 합성 저해제

벤티아발리리카브, 디메토모르프, 플루모르프, 이프로발리리카브, 폴리옥신스, 폴리옥소림, 발리다마이신 A

9. 멜라닌 생합성 저해제

카프로파미드, 디클로사이메트, 펜옥사닐, 프탈리드, 피로퀼론, 트리사이클라졸,

10. 내성 유도제

아시벤졸라-S-메틸, 프로벤아졸, 티아디닐

11. 다중부위 활성 화합물

보르도(Bordeaux) 혼합물, 캅타폴, 캅탄, 클로로탈로닐, 구리 제제, 예를 들어 수산화 구리, 구리 나프테네이트, 옥시염화구리, 산화구리, 황산구리, 옥신-구리, 디클로플루아니드, 디티아논, 도딘, 도딘 유리 염기, 페르밤, 플루오로폴펫, 폴펫, 구아자틴, 구아자틴 아세테이트, 이미녹타딘, 이미녹타딘 알베실레이트, 이미녹타딘 트리아세테이트, 만코퍼, 만코제브, 마네브, 메티람, 메티람 아연, 프로피네브, 칼슘 폴리설파이드, 티람, 톨릴플루아니드, 지네브, 지람을 비롯한 황 및 황 제제

12. 비공지

아미브롬돌, 벤티아졸, 벤톡사진, 캅시마이신, 카르본, 키노메티오네이트, 클로로피크린, 쿠프라네브, 사이플루페나미드, 사이목사닐, 다조메트, 데바카브, 디클로로펜, 디클로메진, 디클로란, 디펜조쿠아트, 디펜조쿠아트 메틸설페이트, 디페닐아민, 페림존, 플루메토버, 플루오피콜리드, 플루오로이미드, 플루설파미드, 포세틸-알루미늄, 포세틸-칼슘, 포세틸-소듐, 헥사클로로벤젠, 8-하이드록시퀴놀린 설페이트, 이루마마이신, 메타설포카브, 메틸 이소티오시아네이트, 메트라페논, 밀디오마이신, 나타마이신, 니켈 디메틸디티오카바메이트, 니트로탈-이소프로필, 옥틸리논, 옥사모카브, 옥시펜티인, 펜타클로로페놀 및 염, 2-페닐페놀 및 염, 인산 및 그의 염, 피페랄린, 프로파모카브 포세틸레이트, 프로파노신-소듐, 프로퀴나지드, 피롤니트린, 퀸토젠, 테클로프탈람, 테크나젠, 트리아족사이드, 트리클라미드, 자릴라미드 및 2-아미노-4-메틸-N-페닐-5-티아졸카복사미드, 2-클로로-N-(2,3-디하이드로-1,1,3-트리메틸-1H-인덴-4-일)-3-피리딘카복사미드, 3-[5-(4-클로로페닐)-2,3-디메틸이속사졸리딘-3-일]피리딘, 시스-1-(4-클로로페닐)-2-(1H-1,2,4-트리아졸-1-일)-사이클로헵타놀, 2,4-디하이드로-5-메톡시-2-메틸-4-[[[[1-[3-(트리플루오로메틸)페닐]에틸리덴]아미노]옥시]메틸]페닐]-3H-1,2,3-트리아졸-3-온, 메틸 1-(2,3-디하이드로-2,2-디메틸-1H-인덴-1-일)-1H-이미다졸-5-카복실레이트, 메틸 2-[[[사이클로프로필[(4-메톡시페닐)이미노]메틸]티오]메틸]페닐-3-메톡시카복실레이트, 메틸 3-(4-클로로페닐)-3-{[N-이소프로폭시카보닐)발릴]아미노}프로파노에이트, 4-클로로-알파-프로피닐옥시-N-[2-[3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐]에틸]-벤젠아세트아미드, 2-(2-{[6-)3-클로로-2-메틸페녹시)-5-플루오로피리미딘-4-일]옥 시}페닐)-2-메톡시이미노)-N-메틸아세트아미드, (2S)-N-[2-[4-[[3-(4-클로로페닐)-2-프로피닐]옥시]-3-메톡시페닐]에틸]-3-메틸-2-[(메틸설포닐)아미노]-부탄아미드, 5-클로로-7-(4-메틸피페리딘-1-일)-6-(2,4,6-트리플루오로페닐)[1,2,4]트리아졸로[1,5-a]피리미딘, 5-클로로-6-(2,4,6-트리플루오로페닐)-N-[(1R)-1,2,2-트리메틸프로필][l,2,4]트리아졸로[l,5-a]피리미딘-7-아민, 5-클로로-N-[(1R)-1,2-디메틸프로필]-6-(2,4,6-트리플루오로페닐)[l,2,4]트리아졸로[l,5-a]피리미딘-7-아민, N-[1-(5-브로모-3-클로로피리딘-2-일)에틸]-2,4-디클로로니코틴아미드, N-(5-브로모-3-클로로피리딘-2-일)메틸-2,4-디클로로니코틴아미드, N-[1-(5-브로모-3-클로로피리딘-2-일)에틸]-2-플루오로-4-요오도니코틴아미드, 2-부톡시-6-요오도-3-프로필-벤조피라논-4-온, N-[2-(4-{[3-(4-클로로페닐)프로프-2-인-1-일]옥시}-3-메톡시페닐)페닐]-N-2-(메틸설포닐)발린아미드, N-{(Z)-[(사이클로프로필메톡시)이미노][6-(디플루오로메톡시)-2,3-디플루오로페닐]메틸}-2-페닐아세트아미드, N-(4-클로로-2-니트로페닐)-N-에틸-4-메틸벤젠설폰아미드, N-(3-에틸-3,5,5-트리메틸사이클로헥실)-3-포르밀아미노-2-하이드록시벤즈아미드, 2-[[[[1-[3-(1-플루오로-2-페닐에틸)옥시]페닐]에틸리덴]아미노]옥시]메틸]-알파-(메톡시이미노)-N-메틸-알파E-벤젠아세트아미드, N-{2-[3-클로로-5-(트리플루오로메틸)피리딘-2-일]에틸}-2-(트리플루오로메틸)벤즈아미드, N-(3',4'-디클로로-5-플루오로비페닐-2-일)-3-(디플루오로메틸)-1-메틸-1H-피라졸-4-카복사미드, N-(6-메톡시-3-피리디닐)사이클로프로판카복사미드, 1-[(4-메톡시페녹시)메틸]-2,2-디메틸프로필-1H-이미다졸-1-카복실산, O-[1-[(4-메톡시페녹시)메틸]-2,2-디메틸프로필]-1H-이미다졸-1-카보티온산, 2,3,5,6-테트라클로로-4-(메틸설포닐)피리딘, 3,4,5-트리클로로-2,6-피리딘디카보니트릴,

살균제:

브로노폴, 디클로로펜, 니트라피린, 니켈 디메틸디티오카바메이트, 카수가마이신, 옥틸리논, 푸란카복실산, 옥시테트라사이클린, 프로베나졸, 스트렙토마이신, 테클로프탈람, 황산구리 및 다른 구리 제제.

살충제 / 살비제 / 살선충제:

1. 아세틸콜린 에스테라제(AChE) 저해제

1.1 카바메이트, 예를 들어

알라니카브, 알디카브, 알독시카브, 알릭시카브, 아미노카브, 아자메티포스, 벤디오카브, 벤푸라카브, 부펜카브, 부타카브, 부토카복심, 부톡시카복심, 카바릴, 카보푸란, 카보설판, 클로에토카브, 쿠마포스, 시아노펜포스, 시아노포스, 디메틸란, 에티오펜카브, 페노부카브, 페노티오카브, 포르메타네이트, 푸라티오카브, 이소프로카브, 메탐-소듐, 메티오카브, 메토밀, 메톨카브, 옥사밀, 피리미카브, 프로메카브, 프로폭수르, 티오디카브, 티오파녹스, 트리아자메이트, 트리메타카브, XMC, 크실릴카브,

1.2 유기 포스페이트, 예를 들어

아세페이트, 아자메티포스, 아진포스(-메틸, -에틸), 브로모포스-에틸, 브롬펜빈포스(-메틸), 부타티오포스, 카두사포스, 카보페노티온, 클로르에톡시포스, 클로르펜빈포스, 클로르메포스, 클로르피리포스(-메틸/-에틸), 쿠마포스, 시아노펜포 스, 시아노포스, 클로르펜빈포스, 데메톤-S-메틸, 데메톤-S-메틸설폰, 디알리포스, 디아지논, 디클로펜빈티온, 디클로르보스/DDVP, 디크로토포스, 디메토에이트, 디메틸빈포스, 디옥사벤조포스, 디설포톤, EPN, 에티온, 에토프로포스, 에트림포스, 팜푸르, 펜아미포스, 페니트로티온, 펜설포티온, 펜티온, 플루피라조포스, 포노포스, 포르모티온, 포스메틸란, 포스티아제이트, 헵테노포스, 이오도펜포스, 이프로벤포스, 이사조포스, 이소펜포스, 이소프로필 O-살리실레이트, 이속사티온, 말라티온, 메카르밤, 메타크리포스, 메타미도포스, 메티다티온, 메빈포스, 모노크로토포스, 날레드, 오메토에이트, 옥시데메톤-메틸, 파라티온(-메틸/-에틸), 펜토에이트, 포레이트, 포살론, 포스메트, 포스파미돈, 포스포카브, 폭심, 피리미포스(-메틸/-에틸), 프로페노포스, 프로파포스, 프로페탐포스, 프로티오포스, 프로토에이트, 피라클로포스, 피리다펜티온, 피리다티온, 퀴날포스, 세부포스, 설포텝, 설프로포스, 테부피림포스, 테메포스, 테르부포스, 테트라클로르빈포스, 티오메톤, 트리아조포스, 트리클로르폰, 바미도티온,

2. 소듐 채널 조절제/전압-의존성 소듐 채널 봉쇄제

2.1 피레트로이드, 예를 들어

아크리나트린, 알레트린(d-시스-트랜스, d-트랜스), 베타-사이플루트린, 비펜트린, 비오알레트린, 비오알레트린-S-사이클로펜틸-이성체, 비오에타노메트린, 비오퍼메트린, 비오레스메트린, 클로바포트린, 시스-사이퍼메트린, 시스-레스메트린, 시스-퍼메트린, 클로사이트린, 사이클로프로트린, 사이플루트린, 사이할로트린, 사이퍼메트린(알파-, 베타-, 테타-, 제타-), 사이페노트린, DDT, 델타메트린, 엠펜트린(1R-이성체), 에스펜발레레이트, 에토펜프록스, 펜플루트린, 펜프로파트린, 펜피리트린, 펜발레레이트, 플루브로사이트리네이트, 플루사이트리네이트, 플루펜프록스, 플루메트린, 플루발리네이트, 푸브펜프록스, 감마-사이할로트린, 이미프로트린, 카데트린, 람마-사이할로트린, 메토플루트린, 퍼메트린(시스-, 트랜스-), 페노트린(1R-트랜스 이성체), 프랄레트린, 프로플루트린, 프로트리펜부트, 피레스메트린, 레스메트린, RU 15525, 실라플루오펜, 타우-플루발리네이트, 테플루트린, 트랄레트린, 테트라메트린(1R-이성체), 트랄로메트린, 트랜스플루트린, ZXI 8901, 피레트린(피레트럼),

2.2 옥사디아진, 예를 들어

인독사카브,

3. 아세틸콜린 수용체 작용제/길항제

3.1 클로로니코티닐/네오니코티노이드, 예를 들어

아세트아미프리드, 클로티아니딘, 디노테푸란, 이미다클로프리드, 니텐피람, 니티아진, 티아클로프리드, 티아메톡삼,

3.2 니코틴, 벤설탑, 카탑,

4. 아세틸콜린 수용체 조절제

4.1 스피노신, 예를 들어

스피노사드

5. GABA-조절 클로라이드 채널 길항제

5.1 사이클로디엔 유기 염소, 예를 들어

캄페클로르, 클로로단, 엔도설판, 감마-HCH, HCH, 헵타클로르, 린단, 메톡시클로로,

5.2 피프롤, 예를 들어

아세토프롤, 에티프롤, 피프로닐, 바닐리프롤,

6. 클로라이드 채널 활성제

6.1 멕틴, 예를 들어

아바멕틴, 아버멕틴, 에마멕틴, 에마멕틴-벤조에이트, 이버멕틴, 밀베멕틴, 밀베마이신,

7. 유충 호르몬 모방체, 예를 들어

디오페놀란, 에포페노난, 페녹시카브, 하이드로프렌, 키노프렌, 메토프렌, 피리프록시펜, 트리프렌,

8. 에크디손 작용제/교란물질

8.1 디아실히드라진, 예를 들어

크로마페노자이드, 할로페노자이드, 메톡시페노자이드, 테부페노자이드,

9. 키틴 생합성 억제제

9.1 벤조일우레아, 예를 들어

비스트리플루론, 클로플루아주론, 디플루벤주론, 플루아주론, 플루사이클록수론, 플루페녹수론, 헥사플루무론, 루페누론, 노발루론, 노비플루무론, 펜플루론, 테플루벤주론, 트리플루무론,

9.2 부프로페진

9.3 사이로마진,

10. 산화 포스포릴화 억제제, ATP 교란물질

10.1 디아펜티우론,

10.2 유기 주석, 예를 들어

아조사이클로틴, 사이헥사틴, 펜부타틴-옥사이드,

11. H-양성자 구배 차단에 의한 산화 포스포릴화 작용 해제제

11.1 피롤, 예를 들어

클로르페나피르,

11.2 디니트로페놀, 예를 들어

비나파크릴, 디노부톤, 디노캅, DNOC,

12. I-측 전자 전달 억제제

12.1 METIs, 예를 들어

펜아자퀸, 펜피록시메이트, 피리미디펜, 피리다벤, 테부펜피라드, 톨펜피라드,

12.2 히드라메틸논,

12.3 디코폴,

13. II-측 전자 전달 억제제

13.1 로테논,

14. III-측 전자 전달 억제제

14.1 아세퀴노실, 플루아크리피림,

15. 곤충 장막 미생물 붕괴제

바실러스 투링기엔시스(Bacillus thuringiensis) 균주(strains),

16. 지방 합성 억제제,

16.1 테트론산, 예를 들어

스피로디클로펜, 스피로메시펜,

16.2 테트람산, 예를 들어

3-(2,5-디메틸페닐)-8-메톡시-2-옥소-1-아자스피로[4.5]데-3-센-4-일 에틸 카보네이트(일명 카본산, 3-(2,5-디메틸페닐)-8-메톡시-2-옥소-1-아자스피로[4.5]데-3-센-4-일 에틸 에스테르, CAS-Reg.-No.: 382608-10-8) 및 카본산, 시스-3-(2,5-디메틸페닐)-8-메톡시-2-옥소-1-아자스피로[4.5]데-3-센-4-일 에틸 에스테르, CAS-Reg.-No.: 203313-25-1),

17, 카복사미드, 예를 들어

플로니카미드,

18. 옥토파미너직 작용제(octopaminergic agonist), 예를 들어

아미트라즈,

19, 마그네슘-촉진 ATPase 억제제, 예를 들어 프로파기트,

20. 프탈아미드, 예를 들어

N²-[1,1-디메틸-2-(메틸설포닐)에틸]-3-요오도-N¹-[2-메틸-4-[1,2,2,2-테트라플루오로-1-(트리플루오로메틸)에틸]페닐]-1,2-벤젠디카복사미드(CAS-Reg.-No.: 272451-65-7), 플루벤디아미드,

21. 네레이스톡신 유사체, 예를 들어

티오사이클람 하이드로겐 옥살레이트, 티오설탑-소듐,

22. 생물학적 약제, 호르몬 또는 페로몬, 예를 들어

아자디라크틴, 바실러스 종, 뷰베리아 종, 코들몬, 메타리지움 종, 파에실로마이세스 종, 투링기엔신, 버티실리움 종,

23. 작용 기전이 알려지지 않았거나 비특이적인 활성 화합물,

23.1 훈증제, 예를 들어

알루미늄 포스파이드, 메틸 브로마이드, 설퍼릴 플루오라이드,

23.2 선택적 먹이섭취 방지제, 예를 들어

크리오라이트, 플로니카미드, 피메트로진,

23.3 응애 성장 억제제, 예를 들어

클로펜테진, 에톡사졸, 헥시티아족스,

23.4 아미도플루메트, 벤클로티아즈, 벤족시메이트, 비페나제이트, 브로모프로필레이트, 부프로페진, 키노메티오네이트, 클로르디메포름, 클로로벤질레이트, 클로로피크린, 클로티아조벤, 사이클로프렌, 사이플루메토펜, 디사이클라닐, 페녹사크림, 펜트리파닐, 플루벤지민, 플루페네림, 플루텐진, 고시플루레, 하이드라메틸논, 자포닐루레, 메톡사디아존, 석유, 피페로닐 부톡사이드, 포타슘 올레에이트, 피라플루프롤, 피리달릴, 피리프롤, 설플루라미드, 테트라디폰, 테트라설, 트라아라텐, 버부틴,

화합물 3-메틸페닐 프로필카바메이트(추마사이드 Z),

화합물 3-(5-클로로-3-피리디닐)-8-(2,2,2-트리플루오로에틸)-8-아자비사이클로[3.2.1]옥탄-3-카보니트릴(CAS Reg. No. 185982-80-3) 및 대응 3-엔도-이성체 (CAS Reg. No. 185984-60-5)(참조: WO-96/37494, WO-98/25923),

및 살충 활성 식물 추출물, 선충, 진균 또는 바이러스를 함유하는 제제.

제초제와 같은 기타 공지된 활성 성분, 비료, 성장조절제, 약해완화제 및/또는 신호물질과의 혼합물이 또한 가능하다.

본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물은 또한 매우 우수한 항균 효과를 나타낸다. 이들은 특히 피부진균(dermatophyte) 및 효모, 사상균 및 이상 진균(예를 들어 칸디다 알비칸스(Candida albicans), 칸디다 글라브라타(Candida glabrata)와 같은 칸디다 종(Candida species)) 및 에피더모파이톤 플로코숨(Epidermophyton floccosum), 아스퍼질러스 니거(Aspergillus noger) 및 아스퍼질러스 푸미가투스(Aspergillus fumigatus)와 같은 아스퍼질러스 종(Aspergillus species), 트리코파이톤 멘타그로파이트(Trichophyton mentagrophyte)와 같은 트리코파이톤 종(Trichophyton species), 마이크로스포론 카니스(Microsporon canis) 및 아우도우이니(audouinii)와 같은 마이크로스포론 종(Microsporon species))에 대해 매우 광범위한 항균 작용 스펙트럼을 가진다. 이들 진균 리스트는 커버되는 항균 스텍트럼을 조금도 한정하지 않으며 단지 설명만을 목적으로 한다.

활성 화합물은 그 자체로, 그의 제제 형태로, 또는 즉시 사용형 용액, 현탁제, 수화성 산제, 페이스트, 가용성 산제, 분제 및 과립제와 같이 이들로부터 제조 된 사용형으로 사용될 수 있다. 이는 통상의 방식, 예를 들어 살수, 분무, 연무, 살포, 산포, 포밍(foaming), 뿌리기 등에 의해 적용된다. 또한, 활성 화합물을 극소 용적 방법에 의해 적용하거나, 활성 화합물 제제 또는 활성 화합물 자체를 토양에 주입할 수 있다. 식물의 종자가 처리될 수 있다.

본 발명에 따른 활성 화합물을 살진균제로 사용하는 경우, 적용 비율은 적용 종류에 따라 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 식물의 일부를 처리하는 경우, 활성 화합물의 적용 비율은 일반적으로 0.1 내지 10,000 g/㏊, 바람직하게는 10 내지 1,000 g/㏊이다. 종자를 처리하는 경우, 활성 화합물의 적용 비율은 일반적으로 종자 1 kg 당 0.001 내지 50 g, 바람직하게는 0.01 내지 10 g 이다. 토양을 처리하는 경우, 활성 화합물의 적용 비율은 일반적으로 0.1 내지 내지 10,000 g/㏊, 바람직하게는 1 내지 5,000 g/㏊ 이다.

상기 언급된 바와 같이, 본 발명에 따라 모든 식물 및 이들 부분이 처리될 수 있다. 바람직한 구체예로, 야생 식물종 및 식물 재배종, 또는 통상적인 생물학적 경작법, 예를 들어 교잡육종 또는 원형체 유합(protoplast fusion)에 의해 얻어진 식물 재배종 및 이들의 일부가 처리된다. 또 다른 바람직한 구체예로, 경우에 따라 통상적인 방법과 함께 유전자공학적으로 얻어진 형질전환 식물 및 식물 재배종(유전자 변형 유기체) 및 이들의 일부가 처리된다. 용어 "부분", "식물의 일부" 또는 "식물 부분"은 상기에 설명되었다.

특히 바람직하게는, 각 경우에 시판되거나 사용중인 식물 재배종 식물이 본 발명에 따라 처리된다. 식물 재배종이라는 것은 통상적인 재배화, 돌연변이형성 또는 재조합 DNA 기술에 의해 얻어질 수 있는 새로운 성질("특성")을 갖는 식물로 이해되어야 한다. 이들은 재배종(cultivar), 품종(varieties), 생리형(biotype) 또는 유전자형(genotype)일 수 있다.

식물 종 또는 식물 재배종, 이들의 장소 및 성장 조건(토양, 기후, 생장 기간, 영양분)에 따라, 본 발명에 따라 처리함으로써 또한 상가("상승")적 효과가 나타날 수 있다. 따라서, 예를 들어 본 발명에 따라 사용될 수 있는 물질 및 조성물의 적용 비율의 감소 및/또는 활성 스펙트럼의 확대 및/또는 활성 증가, 식물 성장성 향상, 고온 또는 저온 내성 증가, 가뭄, 또는 물 또는 토양 염분에 대한 내성 증가, 개화량 증가, 수확 용이성, 성숙성 촉진, 작화량 증가, 수확 산물의 품질 향상 및/또는 영양가 증대, 및 수확 산물의 저장 안정성 및/또는 처리성 향상과 같은 효과가 실제 기대되는 것 이상으로 나타날 수 있다.

본 발명에 따라 바람직하게 처리되는 형질전환 식물(유전자공학적으로 얻어진 것) 또는 식물 재배종은 유전자 변형으로 이들 식물에 특히 유리한 유용한 성질("특성")을 제공하는 유전자 물질을 함유하는 모든 식물을 포함한다. 이러한 성질의 예로는 식물 성장성 향상, 고온 또는 저온 내성 증가, 가뭄, 또는 물 또는 토양 염분에 대한 내성 증가, 개화량 증가, 수확 용이성, 성숙성 촉진, 작화량 증가, 수확 산물의 고품질 및/또는 영양가 증대, 및 수확 산물의 저장품질 및/또는 처리성 증대가 포함된다. 또 다른 특히 주목할만한 상기 특성의 예로 동물 및 미생물 해충, 예를 들어 곤충, 응애, 식물병원성 진균, 박테리아 및/또는 바이러스에 대한 식물의 방어력 증가 및 또한 특정 제초 활성 화합물에 대한 식물의 내약성 증가가 있다. 형질전환 식물의 예로 중요한 작물, 예를 들어 곡물(밀, 쌀), 옥수수, 대두, 감자, 목화, 담배, 유지종자 평지 및 과수 식물(사과, 배, 감귤 및 포도 과일이 열리는)이 언급될 수 있으며, 옥수수, 대두, 감자, 목화, 담배 및 유지종자 평지가 특히 주목된다. 특히 강조되는 특성은 특히 식물에 형성된 독소, 특히 바실러스 투린기엔시스(Bacillus thuringiensis)로부터 얻은 유전자 물질(예를 들어 유전자 CryIA(a), CryIA(b), CryIA(c), CryIIA, CryIIIA, CryIIIB2, Cry9c, Cry2Ab, Cry3Bb 및 CryIF 및 이들 조합)에 의해 식물(이후 "Bt 식물"로 언급)에 형성된 독소로 인한 곤충, 거미류, 선충, 달팽이 및 민달팽이에 대한 식물의 방어력 증가이다. 특별히 강조되는 다른 성질("특성")은 전신적으로 획득한 내성(SAR), 시스테민, 피토알렉신, 엘리시터 및 내성 유전자 및 상응하게 발현된 단백질 및 독소로 인한 진균, 박테리아 및 바이러스에 대한 식물의 내성 증가다. 특별히 강조할 만한 성질("특성")은 또한 특정 제초 활성 화합물, 예를 들어 이미다졸리논, 설포닐우레아, 글리포세이트 또는 포스피노트리신(예를 들어 "PAT" 유전자)에 대한 식물의 내약성 증가다. 목적하는 각 성질("특성")을 부여하는 유전자가 또한 상호 조합으로 형질전환 식물에 존재할 수 있다. "Bt 식물"의 예로 YIELD GARD^®(예: 옥수수, 목화, 대두), KnockOut^®(예: 옥수수), StarLink^®(예: 옥수수), Bollgard^®(예: 목화), Nucotn^®(예: 목화) 및 NewLeaf^®(예: 감자) 상품명으로 시판되고 있는 옥수수 품종, 목화 품종, 대두 품종 및 감자 품종이 언급될 수 있다. 제초제-내약성 식물의 예로 Roundup Ready^®(글리포세이트 내약성, 예: 옥수수, 목화, 대두), Liberty Link^®(포스피노트리신 내약성, 예: 유지종자 평지), IMI^®(이미다졸리논 내약성) 및 STS^®(설포닐우레아 내약성, 예: 옥수수) 상품명으로 시판되고 있는 옥수수 품종, 목화 품종 및 대두 품종이 언급될 수 있다. 제초제-내약성 식물(제초제 내약성을 위해 통상적인 방법으로 육종된 식물)의 예로 Clearfield^®명으로 시판되고 있는 품종(예: 옥수수)이 또한 언급될 수 있다. 물론, 상기 설명은 또한 미래에 개발되고/되거나 시장화될 식물로, 상술된 유전적 특성(들)을 지니거나 여전히 개발될 여지가 남아 있는 식물 품종에도 적용된다.

상기 열거된 식물들이 본 발명에 따라 본 발명의 일반식 (I)의 화합물 또는 활성 화합물의 혼합물로 특히 유리하게 처리될 수 있다. 활성 화합물 또는 혼합물에 대해 상기 언급된 바람직한 범위가 또한 이들 식물의 처리에도 적용된다. 본 명세서에 구체적으로 언급된 화합물 또는 혼합물로 식물을 처리하는 것이 특히 유리하다.

이하, 본 발명에 따른 활성 화합물의 제조 및 용도가 실시예로 설명된다.

제조 실시예

실시예 1 [방법 l) - k) - J) - f) - a) - b)]

단계 1. 방법 1):

37.5 g(0.694 mol)의 소듐 메톡사이드를 330 g의 메탄올에 용해시켰다. 실온에서, 31.7 g(0.417 mol)의 티오우레아에 이어 59.5 g(0.278 mol)의 디메틸 3-티에닐말로네이트(DE3942952)를 첨가하였다. 혼합물을 4 시간동안 비등 환류시켰다. 묽은 염산으로 혼합물을 산성화시키고, 잠시 교반하였다. 생성물을 여과하고, 물로 세척한 후, 건조시켰다. 48 g의 2-머캅토-4,6-디하이드록시-5-티엔-3-일피리미딘을 수득하였다.

HPLC: log p^a = -0.12^*(최대 람다: 302, 246).

¹H-NMR(DMSO-d₆, 테트라메틸실란): δ = 7.39-7.41(1H); 7.52-7.53(1H); 7.70-7.71(1H) ppm.

단계 2. 방법 k)

11.46 g(0.212 mol)의 소듐 메톡사이드를 240 ml 에탄올에 용해시켰다. O ℃에서, 48 g(0.212 mol)의 2-머캅토-4,6-디하이드록시-5-티엔-3-일피리미딘을 첨가하였다. 이어서 0 ℃에서, 30.1 g(0.212 mol)의 메틸 요오다이드를 적가하였다. 반응 혼합물을 30 분동안 환류시킨 후, 감압하에 농축하였다. 잔사를 물과 잠시 비등시킨 후, O ℃로 냉각하였다. 생성물을 여과한 후, 건조시켰다.

37.9 g의 2-메틸티오-4,6-디하이드록시-5-티엔-3-일피리미딘을 수득하였다.

HPLC: log p^a = 1.10^*(최대 람다: 304).

¹H-NMR(DMSO-d₆, 테트라메틸실란): δ = 7.39-7.41(1H); 7.70-7.71(1H); 7.89-7.90(1H) ppm.

단계 3. 방법 j)

119.64 g(0.78 mol)의 옥시염화인중의 15 g(0.062 mol)의 2-메틸티오-4,6-디하이드록시-5-티엔-3-일피리미딘을 4 시간동안 비등 환류시켰다. 휘발 성분을 10 토르(torr)에서 증류시키고, 잔사를 에틸 아세테이트에 취한 후, 우선 물로 세척한 다음, 이어서 묽은 중탄산나트륨 용액으로 세척하였다. 용매를 10 토르에서 증류시켰다. 11.3 g의 2-메틸티오-4,6-디클로로-5-티엔-3-일피리미딘을 수득하였다.

HPLC: log p^a = 3.94^*(최대 람다: 270).

¹H-NMR(DMSO-d₆, 테트라메틸실란): δ = 2.58(3H); 7.19-7.20(1H); 7.68-7.70(1H); 7.72-7.73(1H) ppm.

단계 4. 방법 f)

6.19 g(0.031 mol)의 4-메틸피페리딘을 우선 75 ml 디클로로메탄에 도입하였다. 0 ℃에서, 7.5 g(0.031 mol)의 2-메틸티오-4,6-디클로로-5-티엔-3-일피리미딘을 첨가한 후, 혼합물을 실온에서 12 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 10 토르에서 농축하고, 잔사를 에틸 아세테이트에 취한 후, 묽은 염산, 물 및 묽은 중탄산나트륨 용액으로 차례로 세척하였다. 용액을 건조시키고, 용매를 10 토르에서 증류시켜 9.1 g의 2-메틸티오-4-클로로-5-티엔-3-일-6-(4'-메틸피페리딘-1-일)피리미딘을 수득하였다.

HPLC: log p^a = 5.47^*(최대 람다: 244).

¹H-NMR(DMSO-d₆, 테트라메틸실란): δ = 0.83-0.84(3H); 4.01-4.06(1H); 7.1 1-7.12(1H); 7.51-7.52(1H); 7.65-7.67(1H) ppm.

단계 5. 방법 a)

6 g(0.018 mol)의 2-메틸티오-4-클로로-5-티엔-3-일-6-(4'-메틸피페리딘-1-일)피리미딘을 120 ml 디클로로메탄에 용해시켰다. 0 ℃에서, 8.67 g(0.035 mol)의 3-클로로퍼벤조산을 한번에 조금씩 첨가하였다. 반응 혼합물을 0 ℃에서 1 시간동안 교반하고, 실온에서 14 시간동안 교반하였다. 용매를 증류시키고, 잔사를 에틸 아세테이트에 취한 후, 10% 중탄산나트륨 수용액으로 세척하였다. 유기상을 건조시키고, 농축하였다. 잔사를 3:1 사이클로헥산:에틸 아세테이트를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그래피하였다. 7.8 g의 2-메틸설포닐-4-클로로-5-티엔-3-일-6-(4'-메틸피페리딘-1-일)피리미딘을 수득하였다.

HPLC: log p^a = 3.53^*(최대 람다: 214, 278).

¹H-NMR(DMSO-d₆, 테트라메틸실란): δ = 0.84-0.85(3H); 0.97-1.07(2H); 1.40-1.58(3H); 2.74-2.81(2H); 3.25(3H); 3.84-3.87(2H); 7.19-7.21(1H); 7.65- 7.66(1H); 7.73-7.75(1H) ppm.

GC-MS: 체류 지표 = 3014(M = 371, 336, 256, 55).

단계 6. 방법 b)

0.108 g(0.003 mol)의 수소화나트륨을 우선 20 ml 디메틸포름아미드에 도입하였다. 0 ℃에서, 0.18 g(0.003 mol)의 피라졸을 적가하고, 혼합물을 1 시간동안 교반하였다. 1 g(0.003 mol)의 2-메틸설포닐-4-클로로-5-티엔-3-일-6-(4'-메틸피페리딘-1-일)피리미딘을 디메틸포름아미드에 용해시켜 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 2 시간동안 교반하고, 물에 부은 후, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기상을 건조시키고, 농축한 후, 잔사를 디에틸에테르와 석유 에테르의 혼합물과 연마하였다. 생성물을 여과하고, 건조시켰다. 0.9 g의 2-(피라졸-1-일)-4-클로로-5-티엔-3-일-6-(4'- 메틸피페리딘-1-일)피리미딘을 수득하였다.

HPLC: log p^a = 4.37^*(최대 람다: 256).

¹H-NMR(DMS0-d₆, 테트라메틸실란): δ = 0.84-0.86(3H); 1.01-1.24(2H); 1.48-1.53(3H); 3.90-3.94(2H); 6.55-6.56(1H); 7.17-7.19(1H); 7.59(1H); 7.71(1H); 7.81-7.82(1H); 8.55-8.56(1H) ppm.

GC-MS: 체류 지표 = 2910(M= 359; 344, 324, 310, 296, 280, 254, 227, 200, 186, 159, 133, 118, 98, 79, 55, 41, 27).

상술된 방법에 따라 하기 표 B에 수록된 일반식 (I)의 5-헤테로사이클릴피리미딘도 또한 수득하였다.

표 B

^alogP 값은 후술하는 방법을 이용하여 EEC Directive 79/831 Annex V.A8 에 따라 역상 칼럼(C 18) 상에서 HPLC(고성능 액체 크로마토그래피)에 의해 측정되었다.

온도: 40 ℃; 이동상: 0.1% 수성 포름산 및 아세토니트릴; 10% 아세토니트릴에서 95% 아세토니트릴로 선형 구배.

온도: 43 ℃; 이동상: 0.1% 수성 인산 및 아세토니트릴; 10% 아세토니트릴에서 95% 아세토니트릴로 선형 구배.

logP 값이 공지된(두 개의 연속한 알카논 사이의 선형보간을 이용하여 체류 시간으로 logP 값 측정) 비측쇄 알칸-2-온(탄소 원자수 3 내지 16)을 사용하여 보정을 수행하였다.

190 내지 400 ㎚의 UV 스펙트럼을 사용하여 크로마토그래피 시그널의 최대치로서 람다-max 값을 결정하였다.

실시예 196

2-[4-클로로-6-(1,2-디메틸프로필아미노)-5-(3-메틸티오펜-2-일)-피리미딘- 2-일]-4,5-디메틸-2,4-디하이드로-피라졸-3-온

단계 1

75 ml 에탄올중의 5.6 g(0.0150 mol)의 [6-클로로-2-메탄설포닐-5-(3-메틸-티오펜-2-일)-피리미딘-4-일]-(1,2-디메틸프로필)아민 현탁액에 1.9 g(0.0384 mol)의 히드라진 하이드레이트를 첨가하였다. 혼합물을 90 분동안 환류하에 가열시키고, 냉각 후, 감압하에 농축하였다. 잔사를 에탄올에 취한 후, 황산나트륨으로 건조시키고, 증발 건조시켰다. 6.0 g의 [6-클로로-2-히드라지노-5-(3-메틸티오펜-2-일)-피리미딘-4-일]-(1,2-디메틸프로필)아민을 수득하였다.

HPLC: log p = 2.26

단계 2

6.5 ml 메탄올중의 0.65 g(2.0 mmol)의 [6-클로로-2-히드라지노-5-(3-메틸-티오펜-2-일)-피리미딘-4-일]-(1,2-디메틸프로필)-아민 및 0.29 g(2.2 mmol)의 메틸 2-메틸-3-옥소부티레이트의 혼합물에 6.5 ml 빙초산을 첨가하였다. 혼합물을 3 시간동안 환류하에 가열하고, 냉각 후, 감압하에 농축하였다. 잔사를 4:1 2-메톡시-2-메틸프로판:석유 에테르를 사용하여 실리카겔상에서 크로마토그래피하였다. 0.1 g의 2-[4-클로로-6-(1,2-디메틸프로필아미노)-5-(3-메틸-티오펜-2-일)-피리미딘-2-일]-4,5-디메틸-2,4-디하이드로-피라졸-3-온을 수득하였다.

HPLC: log p = 4.46

상술된 방법에 따라 하기 표 C에 수록된 일반식 (I)의 5-헤테로사이클릴피리미딘도 또한 수득하였다.

표 C

디메틸 2-(3-메틸-티오펜-2-일)말로네이트:

단계 1

삼염화알루미늄(163 g. 1.222 mol)을 우선 540 ml 디클로로메탄에 도입하고, 혼합물을 O ℃로 냉각한 후, 이 온도에서 112 ml(150 g. 1.222 mol)의 메틸 옥살릴 클로라이드를 적가하였다. 그후, 혼합물을 이 온도에서 10 분동안 교반하고, O ℃에서 3-메틸티오펜을 적가한 후, 반응 혼합물을 실온으로 가온한 다음, 이 온도에서 밤새 교반하였다. 혼합물을 2 ℓ 빙수에 부어 가수분해를 실시하였다; 유기상을 제거하여 중탄산나트륨 용액으로 세척한 후, 유기상을 황산나트륨으로 건조시키고, 여과하여 건조제를 제거한 다음, 회전 증발기상에서 증발시켜 119.5 g의 메틸 (3-메틸티오펜-2-일)옥소아세테이트를 수득하였다.

수율: 57%.

¹H-NMR(DMSO): δ = 8.09(d, 1 H). 7.19(d, 1 H). 7.67(dd, 1 H). 3.90(s, 3 H). 2.49(s, 3 H).

단계 2

260 ml 디에틸렌 글리콜중의 90 g(0.489 mol)의 메틸 (3-메틸티오펜-2-일)옥소아세테이트 용액에 112.5 ml(116 g, 2.312 mol)의 히드라진 하이드레이트를 천천히 첨가하고, 혼합물을 30 분동안 가열 환류시켰다. 30-40 ℃로 냉각시킨 후, 82 g(1.246 mol)의 수산화칼륨을 한번에 조금씩 첨가하였더니 질소가 방출되면서 온도가 70-8O ℃로 상승하였다. 이어서, 혼합물을 서서히 가열 환류시키고, 이 온도에서 총 5 시간동안 교반하였다. 실온으로 냉각후, 혼합물을 2 ℓ 물에 붓고, 250 ml 반농축 염산을 사용하여 pH를 1로 조정한 다음, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기상을 황산마그네슘에서 건조시키고, 여과한 후, 용매를 제거하여 50 g의 (3-메틸티오펜-2-일)아세트산을 수득하였다.

수율: 66%.

¹H-NMR(DMSO): δ = 7.25(d, 1 H). 6.84(d, 2 H). 3.67(s, 2 H). 2.11(s, 3 H).

단계 3

500 ml 메탄올중의 50 g(0.32 mol)의 (3-메틸티오펜-2-일)아세트산 용액에 5 ml의 진한 황산을 첨가하고, 혼합물을 8 시간동안 가열 환류시켰다. 이어서, 용매를 회전 증발기상에서 제거한 후, 잔사에 물 및 디클로로메탄을 첨가하였다. 상 분리후, 수성상을 디클로로메탄으로 추출하고, 유기상을 황산나트륨에서 건조시키고, 여과한 후, 회전 증발기상에서 증발시켜 42.5 g의 메틸 (3-메틸티오펜-2-일)아세테이트를 수득하였다.

수율: 70%.

¹H-NMR(DMSO): δ = 7.30(d, 1 H). 6.87(d, 1 H). 3.82(s, 2 H). 3.65(s, 3 H). 2.13(s, 3 H).

단계 4

아르곤하에서, 311 ml(332 g. 3.685 mol)의 디메틸 카보네이트에 14.7 g의 수소화나트륨(광유중 60%)을 첨가하고, 혼합물을 80 ℃로 가열하였다. 이 온도에서, 50 ml 톨루엔중의 41 g(0.217 mol)의 메틸 (3-메틸티오펜-2-일)아세테이트를 천천히 적가하고, 혼합물을 환류하에 밤새 교반하였다. 후처리로서, 혼합물을 약 200 ml의 메탄올로 희석하여 빙수에 붓고, 묽은 염산으로 산성화시켰다. 디클로로메탄으로 추출한 후, 유기상을 황산나트륨에서 건조시키고, 여과한 후, 용매를 제거하여 43.6 g의 디메틸 2-(3-메틸티오펜-2-일)말로네이트를 수득하였다.

수율: 88%.

¹H-NMR(DMSO): δ = 7.42(d, 1 H). 6.89(d, 1 H). 5.27(s, 1 H). 3.69(s, 6 H). 2.15(s, 3 H).

유사한 방식으로 제조된 중간체의 분광 데이터:

사용 실시예

실시예 A

스파에로테카(Sphaerotheca) 시험(오이)/보호성

용 매 : 아세톤 24.5 중량부

디메틸아세트아미드 24.5 중량부

유화제 : 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 1 중량부

활성 화합물 1 중량부를 상기 언급된 양의 용매 및 유화제와 혼합하고, 농축물을 목적하는 농도가 되도록 물로 희석하여 적합한 활성 화합물 제제를 제조하였다.

보호 활성을 시험하기 위해, 어린 식물에 활성 화합물 제제를 지정된 비율로 분무하였다. 분무 코팅의 건조후, 식물에 스파에로테카 풀리기네아(Sphaerotheca fuliginea)의 수성 포자 현탁액을 분무하였다. 그후, 식물을 약 23 ℃ 및 약 70% 상대 대기습도의 온실에 놓아 두었다.

접종 7일 후에 평가를 실시하였다. 0%란 대조군에 상응하는 유효도를 의미하고, 유효도 100%란 감염이 전혀 관찰되지 않았음을 의미한다.

이 시험에서는, 실시예 번호 11, 38, 70의 본 발명에 따른 화합물이 100 ppm의 활성 화합물 농도에서 70% 이상의 유효도를 나타내었다.

실시예 B

벤투리아(Venturia) 시험(사과)/보호성

용 매 : 아세톤 24.5 중량부

디메틸아세트아미드 24.5 중량부

유화제 : 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 1 중량부

보호 활성을 시험하기 위해, 어린 식물에 활성 화합물 제제를 지정된 양으로 분무하였다. 분무 코팅의 건조후, 식물을 사과 더뎅이병 원인균인 벤투리아 이내쿠알리스(Venturia inaequalis)의 수성 분생자 현탁액으로 접종한 후, 약 20 ℃ 및 100% 상대 대기습도의 배양실에 하루동안 놓아 두었다.

그후, 식물을 약 21 ℃ 및 약 90% 상대 대기습도의 온실에 놓아 두었다.

접종 10일 후에 평가를 실시하였다. 0%란 대조군에 상응하는 유효도를 의미하고, 유효도 100%란 감염이 전혀 관찰되지 않았음을 의미한다.

실시예 C

보트리티스(Botrytis) 시험(오이)/보호성

용 매 : N,N-디메틸포름아미드 49 중량부

유화제 : 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 1 중량부

보호 활성을 시험하기 위해, 어린 식물에 활성 화합물 제제를 지정된 양으로 분무하였다. 처리 다음날, 식물을 보트리티스 시네레아(Botrytis cinerea)의 포자 현탁액으로 접종한 후, 20 ℃ 및 100% 상대 대기습도에서 48 시간 두었다. 이어서, 식물을 13 ℃ 및 96% 상대 대기습도에 놓아 두었다.

접종 5-6 일후에 평가를 실시하였다. 0%란 대조군에 상응하는 유효도를 의미하고, 유효도 100%란 감염이 전혀 관찰되지 않았음을 의미한다.

이 시험에서는, 실시예 번호 I-1, 134, 182, 214의 본 발명에 따른 화합물이 500 ppm의 활성 화합물 농도에서 70% 이상의 유효도를 나타내었다.

Claims

일반식 (I)의 화합물:

상기 식에서,

R¹은 수소, C₁-C₈-알킬, C₂-C₈-알케닐, C₃-C₈-알키닐, C₃-C₈-사이클로알킬 또는 C₃-C₈-사이클로알케닐을 나타내고, 여기에서 R¹은 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 그룹 R^a에 의해 치환될 수 있으며,

R^a는 할로겐, 하이드록실, 시아노, C₁-C₄-알콕시 및/또는 C₃-C₆-사이클로알킬을 나타내거나,

R¹은 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 그룹 R^b에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 10-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^b는 할로겐, C₁-C₆-알킬, 시아노, 니트로 및/또는 C₃-C₆-사이클로알킬을 나타내며,

R²는 수소 또는 C₁-C₆-알킬을 나타내거나,

R¹ 및 R²는 이들이 결합된 질소원자와 함께, O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 추가의 헤테로원자를 함유할 수 있고 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 그룹 R^c에 의해 치환될 수 있는 3- 내지 6-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^c는 할로겐, C₁-C₆-알킬 및/또는 C₁-C₆-할로알킬을 나타내고,

R³은 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 내지 4개의 동일하거나 상이한 그룹 R^d에 의해 치환될 수 있는 3- 내지 10-원의 포화, 부분 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내며,

R^d는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 옥소, 니트로, 아미노, 머캅토, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, 모르폴리노카보닐, 피롤리디노카보닐, C₁-C₆-알킬카보닐아미노, C₁-C₆-알킬아미노, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시설포닐, 아미노설포닐, C₁-C₆-알킬아미노설포닐 및/또는 디-(C₁-C₆-알킬)-아미노설포닐을 나타내고,

R⁴는 할로겐, C₁-C₈-알킬, C₁-C₈-알콕시, C₁-C₈-할로알킬, C₁-C₈-알킬티오, C₁-C₈-알킬설피닐, C₁-C₈-알킬설포닐 또는 시아노를 나타내며,

R⁵는 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 내지 4개의 동일하거나 상이한 그룹 R^e에 의해 치환될 수 있는 5- 또는 6-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^e는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 니트로, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시이미노-C₁-C₆-알킬 및/또는 C₁-C₆-알콕시이미노-C₁-C₆-알킬을 나타낸다.
일반식 (I)의 화합물:

상기 식에서,

R¹은 수소, C₁-C₈-알킬, C₂-C₈-알케닐, C₃-C₈-알키닐 또는 C₃-C₈-사이클로알킬을 나타내고, 여기에서 R¹은 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 그룹 R^a에 의해 치환될 수 있으며,

R^a는 할로겐, 하이드록시, 시아노, C₁-C₄-알콕시 및/또는 C₃-C₆-사이클로알킬 나타내거나,

R¹은 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 그룹 R^b에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 10-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^b는 할로겐, C₁-C₆-알킬, 시아노, 니트로 및/또는 C₃-C₆-사이클로알킬을 나타 내며,

R²는 수소 또는 C₁-C₆-알킬을 나타내거나,

R¹ 및 R²는 이들이 결합된 질소원자와 함께, O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 추가의 헤테로원자를 함유할 수 있고 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 그룹 R^c에 의해 치환될 수 있는 3- 내지 6-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^c는 할로겐, C₁-C₆-알킬 및/또는 C₁-C₆-할로알킬을 나타내며,

R³은 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 그룹 R^d에 의해 치환될 수 있는 3- 내지 10-원의 포화, 부분 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^d는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 옥소, 니트로, 아미노, 머캅토, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, 모르폴리노카보닐, 피롤리디노카보닐, C₁-C₇-알 킬카보닐아미노, C₁-C₆-알킬아미노, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시설포닐, 아미노설포닐, C₁-C₆-알킬아미노설포닐 및/또는 디-(C₁-C₆-알킬)아미노설포닐을 나타내고,

R⁴는 할로겐, C₁-C₈-알킬, C₁-C₈-알콕시, C₁-C₈-할로알킬, C₁-C₈-알킬티오, C₁-C₈-알킬설피닐, C₁-C₈-알킬설포닐 또는 시아노를 나타내며,

R⁵는 O, N 및 S로 구성된 그룹중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하고 1 내지 4개의 동일하거나 상이한 그룹 R^e에 의해 치환될 수 있는 5- 또는 6-원의 포화, 불포화 또는 방향족인 모노- 또는 비사이클릭 헤테로사이클을 나타내고,

R^e는 할로겐, 하이드록시, 시아노, 니트로, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시이미노-C₁-C₆-알킬 및/또는 C₁-C₆-알콕시이미노-C₁-C₆-알킬을 나타낸다.
제 1 항 또는 2 항에 있어서, R¹이 하기 식의 래디칼을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물:

상기 식에서,

#는 부착 위치를 나타낸다.
제 1 항 내지 3 항중 어느 한항에 있어서, R¹이 하기 식의 래디칼을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물:
제 1 항 내지 4 항중 어느 한항에 있어서, R²가 수소, 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 4 항중 어느 한항에 있어서,

R¹ 및 R²가 이들이 부착된 질소원자 함께, 하기 식의 래디칼을 나타내며:

여기에서,

R⁷은 수소 또는 메틸을 나타내고,

R⁸은 메틸, 에틸, 불소, 염소 또는 트리플루오로메틸을 나타내며,

m은 0, 1, 2 또는 3의 수를 나타내고, m이 2 또는 3을 나타내는 경우 R⁸은 동일하거나 상이할 수 있으며,

R⁹는 메틸, 에틸, 불소, 염소 또는 트리플루오로메틸을 나타내고,

o는 0, 1, 2 또는 3의 수를 나타내고, o가 2 또는 3을 나타내는 경우 R⁹는 동일하거나 상이할 수 있음을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 4 항중 어느 한항에 있어서, R¹ 및 R²가 이들이 부착된 질소원자 함께, 각각 1 내지 3개의 불소원자, 1 내지 3개의 메틸 그룹 및/또는 트리플루오로메틸에 의해 치환될 수 있는 피롤리디디닐, 피페리디닐, 모르폴리닐, 티오모르폴리닐, 피페라지닐, 3,6-디하이드로-1(2H)-피페리디닐 또는 테트라하이드로-1(2H)-피리다지닐을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 7 항중 어느 한항에 있어서, R³이 3-, 5- 또는 6-원, 특히 5-원 헤테로사이클을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 8 항중 어느 한항에 있어서, R³이 질소를 통해 피리미딘에 부착된 헤테로사이클을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 9 항중 어느 한항에 있어서, R³이 각각 4개 이하의 R^d 그룹에 의해 임의로 치환된 피라졸, 피롤, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 1,3,4-옥사디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 테트라졸, 2-피리딘, 2-피리미딘, 피라진 또 는 3-피리다진을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 9 항중 어느 한항에 있어서, R³이 각각 3개 이하의 R^d 그룹에 의해 임의로 치환된 피라졸, 피롤, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 1,3,4-옥사디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 테트라졸, 2-피리딘, 2-피리미딘, 피라진 또는 3-피리다진을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 11 항중 어느 한항에 있어서, R³이 각각 1 내지 4개의 동일하거나 상이한 하기 R^d 그룹에 의해 치환된 피라졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸 또는 피리다진을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물:

할로겐, 하이드록시, 시아노, 니트로, 아미노, 머캅토, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, 모르폴리노카보닐, 피롤리디노카보닐, C₁-C₇-알킬카보닐아미노, C₁-C₆-알킬아미노, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시설포닐, 아미노설포닐, C₁-C₆-알킬아미노설포닐, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노설포닐 또는 옥소.
제 1 항 내지 11 항중 어느 한항에 있어서, R³이 각각 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 하기 R^d 그룹에 의해 치환된 피라졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸 또는 피리다진을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물:

할로겐, 하이드록시, 시아노, 니트로, 아미노, 머캅토, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬, C₂-C₆-알케닐, C₂-C₆-알키닐, C₃-C₆-사이클로알킬, C₁-C₆-알콕시, C₁-C₆-할로알콕시, 카복실, C₁-C₇-알콕시카보닐, 카바모일, C₁-C₇-알킬아미노카보닐, C₁-C₆-알킬-C₁-C₆-알킬아미노카보닐, 모르폴리노카보닐, 피롤리디노카보닐, C₁-C₇-알킬카보닐아미노, C₁-C₆-알킬아미노, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노, C₁-C₆-알킬티오, C₁-C₆-알킬설피닐, C₁-C₆-알킬설포닐, 하이드록시설포닐, 아미노설포닐, C₁-C₆-알킬아미노설포닐, 디-(C₁-C₆-알킬)아미노설포닐 또는 옥소.
제 1 항 내지 13 항중 어느 한항에 있어서, R⁴가 할로겐, C₁-C₆-알킬, C₁-C₆-할로알킬 또는 C₁-C₆-알콕시를 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 13 항중 어느 한항에 있어서, R⁴가 염소를 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 15 항중 어느 한항에 있어서, R⁵가 2- 또는 4-위치에 부착되고 동일하거나 상이한 치환체 R^e에 의해 일- 내지 사치환될 수 있는 피리딜을 나타내며, R^e는 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 15 항중 어느 한항에 있어서, R⁵가 2- 또는 4-위치에 부착되고 동일하거나 상이한 치환체 R^e에 의해 일- 내지 삼치환될 수 있는 피리미딜을 나타내며, R^e는 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 15 항중 어느 한항에 있어서, R⁵가 2- 또는 3-위치에 부착되고 동일하거나 상이한 치환체 R^e에 의해 일- 내지 삼치환될 수 있는 티에닐을 나타내 며, R^e는 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
제 1 항 내지 15 항중 어느 한항에 있어서, R⁵가 2-, 4- 또는 5-위치에 부착되고 동일하거나 상이한 치환체 R^e에 의해 일- 또는 이치환될 수 있는 티아졸릴을 나타내며, R^e는 불소, 염소, 브롬, 시아노, 니트로, 메틸, 에틸, 메톡시, 메틸티오, 하이드록스이미노메틸, 하이드록스이미노에틸, 메톡스이미노메틸, 메톡스이미노에틸 및/또는 트리플루오로메틸을 나타냄을 특징으로 하는 일반식 (I)의 화합물.
일반식 (II)의 화합물:

상기 식에서,

R¹, R², R⁴ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같고,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타낸다.
일반식 (III)의 화합물:

상기 식에서,

R¹, R², R⁴ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같고,

n은 1 또는 2를 나타내며,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타낸다.
일반식 (V)의 화합물:

상기 식에서,

R³, R⁴ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같고,

Hal은 할로겐을 나타낸다.
일반식 (IX)의 화합물:

상기 식에서,

R⁴ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같고,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타내며,

Hal은 할로겐을 나타낸다.
일반식 (X)의 화합물:

상기 식에서,

R⁴ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같고,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타낸다.
일반식 (XI)의 화합물:

상기 식에서,

R⁴ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같다.
일반식 (XVIII)의 화합물:

상기 식에서,

R³, R⁴ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같다.
일반식 (XX)의 화합물:

상기 식에서,

R³ 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같다.
방법 a)에 따라, 일반식 (II)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 산화제로 산화시키고,

방법 b)에 따라, 일반식 (III)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하 및 경우에 따라 산 수용체의 존재하에서 일반식 (IV)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식 (I')의 화합물을 제조하는 방법:

상기 식에서,

R¹, R² 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같으며,

R³은 질소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내고,

R⁴는 할로겐, C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내며,

R⁶은 C₁-C₆-알킬을 나타내고,

n은 1 또는 2를 나타내며,

일반식 (IV)의 화합물에서 R³은 상기 정의된 바와 같으나, 래디칼이 일반식 (I')의 화합물내 피리미딘 환에 부착된 적어도 하나의 질소원자를 가져야 한다.
방법 c)에, 따라 일반식 (V)의 화합물을, 경우에 따라 희석제의 존재하, 경우에 따라 촉매의 존재하 및 경우에 따라 산 수용체의 존재하에서 일반식 (VI)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식 (I")의 화합물을 제조하는 방법:

상기 식에서,

R¹, R² 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같으며,

R³은 탄소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내고,

R⁴는 할로겐, C₁-C₄-알킬 또는 C₁-C₄-할로알킬을 나타내며,

일반식 (V)의 화합물에서 R³은 상기 정의된 바와 같으나, 탄소원자를 통해 타입 (V)의 화합물내 피리미딘 환에 부착된 헤테로사이클이어야 한다.
일반식 (I'a) 또는 (I"a)의 화합물을,

방법 d)에 따라, 경우에 따라 희석제의 존재하에서 일반식 (VII)의 화합물과 반응시키거나,

방법 e)에 따라, 희석제의 존재하 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (VIII)의 그리냐드(Grignard) 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식 (I'")의 화합물을 제조하는 방법:

상기 식에서,

R¹, R² 및 R⁵는 제 1 항에 정의된 바와 같으며,

R³은 질소 또는 탄소를 통해 부착된 헤테로사이클을 나타내고,

일반식 (I'")에서 R⁴는 C₁-C₈-알킬, C₁-C₈-알콕시, C₁-C₈-알킬티오, C₁-C₈-알킬설포닐 또는 시아노를 나타내며,

일반식 (VII)에서 R⁴는 C₁-C₈-알콕시, C₁-C₈-알킬티오, C₁-C₈-알킬설포닐 또는 시아노를 나타내고,

일반식 (VIII)에서 R⁴는 C₁-C₈-알킬을 나타내며,

M¹은 나트륨 또는 칼륨을 나타내고,

Hal은 할로겐을 나타내며,

일반식 (VIII)에서 Hal은 염소 또는 브롬을 나타낸다.
증량제 및/또는 담체, 및 또한 경우에 따라 계면활성제와 함께, 제 1 항 내지 19 항중 어느 한항에 정의된 바와 같은 화합물을 적어도 하나 함유함을 특징으로 하는 원치않는 유기체 구제용 조성물.
제 1 항 내지 19 항중 어느 한항에 정의된 바와 같은 화합물 또는 제 31 항에 정의된 바와 같은 조성물을 유해 유기체 및/또는 이들의 서식지에 작용시킴을 특징으로 하여, 유해 유기체를 구제하는 방법.
원치않는 미생물을 구제하기 위한, 제 1 항 내지 19 항중 어느 한항에 따른 일반식 (I)의 화합물 또는 제 31 항에 정의된 바와 같은 조성물의 용도.