KR20070050566A - Solar cell and manufacturing method of the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고효율을 실현할 수 있는 구조를 가지는 태양 전지 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 형태에 따른 태양 전지는, 기판과, 상기 기판에 형성되는 전극, 및 상기 전극에 형성되는 광흡수층을 포함한다. 상기 전극과 상기 광흡수층 사이에 접촉 면적 증대부가 형성된다. The present invention relates to a solar cell having a structure capable of realizing high efficiency and a manufacturing method thereof. A solar cell according to an embodiment of the present invention includes a substrate, an electrode formed on the substrate, and a light absorption layer formed on the electrode. A contact area increase part is formed between the electrode and the light absorption layer.

태양 전지, 접촉, 면적, 효율 Solar cell, contact, area, efficiency

Description

태양 전지 및 이의 제조 방법{SOLAR CELL AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME} SOLAR CELL AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 태양 전지를 도시한 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a solar cell according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예 2에 따른 태양 전지에서 요철이 형성된 제1 전극의 일면을 촬영한 원자 현미경(atomic force microscope, AFM) 사진이다. FIG. 2 is an atomic force microscope (AFM) photograph of one surface of a first electrode having irregularities formed in a solar cell according to Example 2 of the present invention.

도 3은 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 태양 전지를 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view showing a solar cell according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 태양 전지 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고효율을 실현할 수 있는 구조를 가지는 태양 전지 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a solar cell and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a solar cell having a structure capable of realizing high efficiency and a method for manufacturing the same.

태양 전지는 태양 에너지를 이용하여 전기 에너지를 생성하는 전지로, 친환경적이고 에너지원이 무한하며 긴 수명을 가지는 장점이 있다. 이러한 태양 전지의 종류로 실리콘 태양 전지, 염료 감응 태양 전지 등이 있다. A solar cell is a battery that generates electrical energy using solar energy, and has advantages of being environmentally friendly, infinite energy source, and long life. Examples of such solar cells include silicon solar cells and dye-sensitized solar cells.

이 중에서 염료 감응 태양 전지는 염료가 흡착된 다공성막이 형성되는 제1 전극과, 이러한 제1 전극으로부터 소정의 간격을 두고 대향 배치되는 제2 전극으로 이루어지는 것이 일반적이다. 이러한 염료 감응 태양 전지는 실리콘 태양 전지에 비해 제조 공정이 단순하여 가격이 저렴한 장점이 있다. 또한, 제1 전극 및 제2 전극으로 투명한 전극을 사용하여 건물 외벽이나 유리 온실 등에 사용될 수 있는 장점이 있다. Among these, the dye-sensitized solar cell generally includes a first electrode on which a porous membrane on which dye is adsorbed is formed, and a second electrode disposed to face each other at a predetermined interval from the first electrode. Such dye-sensitized solar cells have an advantage of low cost due to the simple manufacturing process compared to silicon solar cells. In addition, there is an advantage that can be used for building exterior walls, glass greenhouses and the like by using a transparent electrode as the first electrode and the second electrode.

그런데, 염료 감응 태양 전지의 광전변환 효율이 낮은 수준이므로 이의 상용화는 실질적으로 어려운 실정이다. 광전변환 효율을 향상시키기 위하여 제2 전극의 반사율을 향상시키거나 광산란자들을 사용하는 방법 등이 제시되었으나, 이러한 방법으로는 염료 감응 태양 전지의 광전변환 효율을 향상하는 데 한계가 있다. 이에 염료 감응 태양 전지의 광전변환 효율을 향상하기 위한 새로운 기술이 절실히 요청되고 있다. 이러한 광전변환 효율 향상의 요청은 다른 종류의 태양 전지에서도 동일하다. However, since the photoelectric conversion efficiency of the dye-sensitized solar cell is low level, its commercialization is practically difficult. In order to improve the photoelectric conversion efficiency, a method of improving the reflectance of the second electrode or using light scatterers has been proposed, but such a method has a limitation in improving the photoelectric conversion efficiency of a dye-sensitized solar cell. Accordingly, new technologies for improving the photoelectric conversion efficiency of dye-sensitized solar cells are urgently required. This request for improving photoelectric conversion efficiency is the same for other types of solar cells.

본 발명은 상기와 같은 점에 착안한 것으로, 본 발명의 목적은 광전변환 효율을 향상할 수 있는 태양 전지 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다. The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a solar cell and a method of manufacturing the same, which can improve photoelectric conversion efficiency.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시 형태에 따른 태양 전지는, 제1 기판과, 상기 제1 기판에 형성되는 제1 전극, 및 상기 제1 전극에 형성되는 광흡수층을 포함하고, 상기 제1 전극과 상기 광흡수층 사이에 접촉 면적 증대부가 형성된다. In order to achieve the above object, a solar cell according to an embodiment of the present invention includes a first substrate, a first electrode formed on the first substrate, and a light absorption layer formed on the first electrode. A contact area increasing part is formed between the first electrode and the light absorption layer.

상기 접촉 면적 증대부가 요철로 이루어질 수 있다. 이 때, 상기 제1 기판에 요철이 형성되고, 상기 제1 기판에 형성된 요철에 의해 상기 제1 전극에 요철이 형성될 수 있다. The contact area increasing portion may be formed of irregularities. In this case, the unevenness may be formed in the first substrate, and the unevenness may be formed in the first electrode by the unevenness formed in the first substrate.

상기 제1 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 내지 3000nm일 수 있고, 이에 의해 상기 제1 기판에서 상기 제 전극이 형성된 일면의 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 내지 3000nm일 수 있다. An average squared value of the surface roughness of the first electrode may be 10 nm to 3000 nm, whereby an average squared value of the surface roughness of one surface of the first electrode on the first substrate may be 10 nm to 3000 nm.

상기 요철이 계단 형상, 메쉬 형상, 스크래치 형상, 스카 형상 및 침상 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The unevenness may include at least one of a stair shape, a mesh shape, a scratch shape, a ska shape, and a needle shape.

상기 제1 기판에 대향 배치되는 제2 기판에 제2 전극이 형성되는데, 상기 제1 전극의 표면 거칠기가 상기 제2 전극의 표면 거칠기보다 크게 형성될 수 있다. 이 때, 상기 제1 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값이 상기 제2 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값보다 크게 형성될 수 있다. A second electrode is formed on a second substrate disposed opposite to the first substrate, and the surface roughness of the first electrode may be greater than the surface roughness of the second electrode. In this case, an average squared surface roughness of the first electrode may be greater than an average squared surface roughness of the second electrode.

한편, 본 발명에 따른 태양 전지의 제조 방법은, 접촉 면적 증대부를 구비하는 전극을 형성하는 단계, 및 상기 전극에 광흡수층을 형성하는 단계를 포함한다. On the other hand, the manufacturing method of the solar cell according to the present invention includes the steps of forming an electrode having a contact area increase, and forming a light absorption layer on the electrode.

상기 접촉 면적 증대부를 구비하는 전극을 형성하는 단계에서는, 요철이 형성된 기판의 일면에 전극을 형성할 수 있다. In the forming of the electrode having the contact area increasing part, the electrode may be formed on one surface of the substrate on which the unevenness is formed.

상기 기판의 요철은 기계적 식각법 또는 화학적 식각법에 의해 형성될 수 있다. 상기 기계적 식각법은 샌드블라스트 법, 스크래치 법 및 플라즈마 식각법으로 이루어진 군에서 선택될 수 있고, 상기 화학적 식각법은 질산, 염산, 불산 및 이들의 혼합액으로 이루어진 군에서 선택된 용액을 사용할 수 있다. The unevenness of the substrate may be formed by mechanical etching or chemical etching. The mechanical etching method may be selected from the group consisting of sandblasting, scratching and plasma etching, and the chemical etching may use a solution selected from the group consisting of nitric acid, hydrochloric acid, hydrofluoric acid, and a mixture thereof.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 따른 태양 전지 및 이 의 제조 방법을 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a solar cell and a method for manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 태양 전지를 도시한 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a solar cell according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시 형태에 따른 태양 전지는, 제1 전극(11) 및 염료(40)가 흡착된 다공성막(30)이 형성되는 제1 기판(10)과, 이 제1 기판(10)과 소정의 간격을 두고 대향 배치되며 제2 전극(21)이 형성되는 제2 기판(20)과, 제1 기판(10)과 제2 기판(20)의 사이 공간에 위치하는 전해질(50)을 포함하여 구성된다. 여기에서 염료(40)가 흡착된 다공성막(30)은 입사된 광에 의해 전자를 생성하여 제1 전극(11)으로 이동시키는 역할을 하는 부분으로 광흡수층이라 칭할 수 있다. 이러한 제1 기판(10)과 제2 기판(20)의 외측으로 별도의 케이스(미도시)가 구비될 수 있다. Referring to FIG. 1, a solar cell according to the present embodiment includes a first substrate 10 on which a porous membrane 30 on which a first electrode 11 and a dye 40 are adsorbed is formed, and the first substrate ( A second substrate 20 which is disposed to face the substrate 10 at a predetermined interval and is disposed in a space between the first substrate 10 and the second substrate 20, and the electrolyte 50 disposed in the space between the first substrate 10 and the second substrate 20. It is configured to include). Herein, the porous membrane 30 to which the dye 40 is adsorbed may be referred to as a light absorbing layer as a part serving to generate electrons by incident light and move them to the first electrode 11. A separate case (not shown) may be provided outside the first substrate 10 and the second substrate 20.

본 실시 형태에서 제1 전극(11)을 지지하는 지지체 역할을 하는 제1 기판(10)은 광의 입사가 가능하도록 투명하게 형성된다. 이에 제1 기판(10)은 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 플라스틱의 구체적인 예로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(poly ethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(poly ethylene naphthlate, PEN), 폴리카보네이트(poly carbonate, PC), 폴리프로필렌(poly propylene, PP), 폴리이미드(poly imide, PI), 트리아세틸셀룰로오스(tri acetyl cellulose, TAC) 등을 들 수 있다. In the present embodiment, the first substrate 10 serving as a support for supporting the first electrode 11 is formed to be transparent so that light can be incident thereon. Accordingly, the first substrate 10 may be made of glass or plastic. Specific examples of plastic include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthlate (PEN), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), and polyimide. , PI), triacetyl cellulose (TAC), and the like.

제1 기판(10)에 형성되는 제1 전극(11)은 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO), 불소 주석 산화물(fluorine tin oxide, FTO), 안티몬 주석 산화물(antimony tin oxide, ATO), 아연 산화물(zinc oxide, ZO), 주석 산화물(tin oxide, TO), ZnO-Ga2O3, ZnO-Al2O3 등의 투명 물질로 이루어질 수 있다. 제1 전극(11)은 상기 투명 물질의 단일말 또는 적층막으로 이루어질 수 있다. The first electrode 11 formed on the first substrate 10 may be indium tin oxide (ITO), fluorine tin oxide (FTO), antimony tin oxide (ATO), or zinc. It may be made of a transparent material such as oxide (zinc oxide, ZO), tin oxide (TO), ZnO-Ga 2 O 3 , ZnO-Al 2 O 3 . The first electrode 11 may be formed of a single word or a laminated film of the transparent material.

본 실시 형태에서는 제1 전극(11)과 다공성막(30) 사이에 접촉 면적 증대부(16)가 형성된다. 본 실시 형태에서 접촉 면적 증대부(16)는 제1 전극(11)에 형성된 요철로 이루어진다. 좀더 구체적으로, 제1 전극(11)이 형성되는 제1 기판(10)의 일면에 요철이 형성되어 상기 제1 전극(11)에도 요철이 형성된다. In the present embodiment, the contact area increasing portion 16 is formed between the first electrode 11 and the porous membrane 30. In the present embodiment, the contact area increasing portion 16 is formed of irregularities formed in the first electrode 11. More specifically, irregularities are formed on one surface of the first substrate 10 on which the first electrode 11 is formed, thereby forming irregularities on the first electrode 11.

상기 요철이 형성된 제1 기판(10)의 일면에서의 표면 거칠기 값(root mean square, Rms)은 10nm 내지 3000nm 이고, 이러한 제1 기판(10)의 요철에 의해 다공성막(30)이 형성되는 제1 전극(11)의 일면에서의 표면 거칠기 제곱 평균값 또한 10nm 내지 3000nm일 수 있다. The root mean square (Rms) at one surface of the first substrate 10 having the unevenness is 10 nm to 3000 nm, and the porous film 30 is formed by the unevenness of the first substrate 10. The average surface roughness square on one surface of the first electrode 11 may also be 10 nm to 3000 nm.

여기서, 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 이상인 것은 표면 거칠이 제곱 평균갑이 10nm 미만이 되도록 요철을 형성하는 것은 실질적으로 어렵기 때문이다. 그리고, 표면 거칠기 제곱 평균값이 3000nm를 초과하는 경우에는 투과율이 저하되어 접촉 면적의 향상에 의한 효율 향상 효과보다 투과율 저하에 의한 효율 저하가 더 클 수 있다. 그리고, 표면 거칠기 제곱 평균값이 3000nm 이하인 경우에 전자의 전달이 더 효과적으로 일어날 수 있다. Here, the average surface roughness square is 10 nm or more because it is practically difficult to form irregularities so that the average surface roughness square is less than 10 nm. When the average value of the surface roughness squares exceeds 3000 nm, the transmittance is lowered and the efficiency decrease due to the decrease in transmittance may be greater than the effect of improving the contact area. And, the transfer of electrons can occur more effectively when the average surface roughness squared is 3000 nm or less.

제1 기판(10) 및 제1 전극(11)에 형성되어 접촉 면적 증대부(16)의 역할을 수행하는 요철은, 다공성막(30)이 형성된 제1 전극(11)과 다공성막(30)의 접촉 면적을 증대시킬 수 있는 형상이면 족하다. 따라서, 요철은 계단 형상, 메쉬 형상, 스크래치 형상, 스카 형상, 침상 등의 다양한 형상을 가질 수 있다. The unevennesses formed on the first substrate 10 and the first electrode 11 to serve as the contact area increasing portion 16 are formed by the first electrode 11 and the porous membrane 30 on which the porous membrane 30 is formed. It is sufficient if it is a shape which can increase a contact area. Therefore, the unevenness may have various shapes such as a step shape, a mesh shape, a scratch shape, a ska shape, and a needle shape.

상기와 같이 요철이 형성된 제1 전극(11)에 나노 미터 수준 평균 입경을 가지는 금속 산화물 입자(31)를 포함하는 다공성막(30)이 형성된다. 이러한 금속 산화물 입자(31)는 티타늄 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, 스트론튬 산화물, 인듐 산화물, 이리듐 산화물, 란탄 산화물, 바나듐 산화물, 몰리브덴 산화물, 텅스텐 산화물, 니오븀 산화물, 마그네슘 산화물, 알루미늄 산화물, 이트륨 산화물, 스칸듐 산화물, 사마륨 산화물, 갈륨 산화물, 스트론튬 티타늄 산화물 등으로 이루어질 수 있다. 금속 산화물 입자(31)의 일례로 티타늄 산화물인 TiO2가 있다. As described above, the porous membrane 30 including the metal oxide particles 31 having the nanometer-level average particle diameter is formed on the first electrode 11 having the unevenness. The metal oxide particles 31 may include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, strontium oxide, indium oxide, iridium oxide, lanthanum oxide, vanadium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, yttrium oxide, Scandium oxide, samarium oxide, gallium oxide, strontium titanium oxide and the like. An example of the metal oxide particles 31 is TiO 2, which is a titanium oxide.

다공성막(30)은 나노 미터 수준의 평균 입경을 가지는 금속 산화물 입자들(31)이 균일하게 분포하여 다공성을 유지하면서 적당한 표면 거칠기를 가지는 것이 바람직하다. The porous membrane 30 preferably has an appropriate surface roughness while maintaining porosity by uniformly distributing metal oxide particles 31 having an average particle diameter of about nanometers.

그리고, 다공성막(30)의 특성을 향상시키기 위해 고분자(도시하지 않음), 도전성 미립자(도시하지 않음), 광산란자(도시하지 않음) 등이 다공성막(30)에 더 첨가될 수 있다. In addition, a polymer (not shown), conductive fine particles (not shown), a light scatterer (not shown), or the like may be further added to the porous membrane 30 to improve the properties of the porous membrane 30.

다공성막(30)에 첨가되는 고분자는 다공성막(30)의 다공성, 분산성 및 점도를 증가시켜, 다공성막(30)의 성막성 및 접착 특성을 향상시키는 역할을 한다. 적절한 고분자로는 폴리 에틸렌 글리콜(poly ethylene glycol, PEG), 폴리 에틸렌 옥사이드(poly ethylene oxide, PEO), 폴리 비닐 알콜(poly vinyl alcohol, PVA), 폴리 비닐 피리돈(poly vinyl pyrrolidone, PVP) 등이 있다. 이러한 고분자는 다공성 막(30)의 형성 방법 및 형성 조건을 고려하여 적절한 분자량으로 선택될 수 있다. The polymer added to the porous membrane 30 increases the porosity, dispersibility, and viscosity of the porous membrane 30, thereby improving the film forming properties and adhesive properties of the porous membrane 30. Suitable polymers include polyethylene glycol (PEG), polyethylene oxide (PEO), poly vinyl alcohol (PVA), poly vinyl pyrrolidone (PVP), and the like. have. Such a polymer may be selected to an appropriate molecular weight in consideration of the formation method and formation conditions of the porous membrane 30.

다공성막(30)에 첨가되는 도전성 미립자는 여기 전자의 이동성을 향상시킬 수 있다. 이러한 도전성 미립자의 일례로 인듐 주석 산화물이 있다. The conductive fine particles added to the porous membrane 30 can improve the mobility of the excitation electrons. An example of such conductive fine particles is indium tin oxide.

다공성막(30)에 첨가되는 광산란자는 태양 전지 내에서 이동하는 광의 경로를 연장시켜, 태양 전지의 광전변환 효율을 향상시키는 역할을 한다. 이러한 광산란자는 다공성막(30)을 구성하는 금속 산화물 입자(31)와 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 광산란 효과를 고려할 때 100nm 이상의 평균 입경을 가지는 것이 바람직하다. The light scatterer added to the porous membrane 30 serves to extend the path of light moving in the solar cell, thereby improving the photoelectric conversion efficiency of the solar cell. The light scatterer may be made of the same material as the metal oxide particles 31 constituting the porous membrane 30, and in consideration of the light scattering effect, the light scatterer may have an average particle diameter of 100 nm or more.

그리고, 다공성막(30)을 구성하는 금속 산화물 입자(31)의 표면에는 외부광을 흡수하여 전자를 여기시키는 염료(40)가 흡착된다. 염료(40)는 일례로 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 유로퓸(Eu), 납(Pb), 이리듐(Ir) 등을 포함하는 금속 복합체, 루테늄(Ru) 복합체 등으로 이루어질 수 있다. 여기서, 루테늄은 백금족에 속하는 원소로서 많은 유기 금속 복합 화합물로 루테늄을 포함하는 염료가 일반적으로 많이 사용된다. And the dye 40 which absorbs external light and excites an electron is adsorb | sucked on the surface of the metal oxide particle 31 which comprises the porous film 30. The dye 40 may be, for example, a metal complex containing aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), europium (Eu), lead (Pb), iridium (Ir), or the like, and ruthenium (Ru) composite. Can be done. Here, ruthenium is an element belonging to the platinum group, and a dye containing ruthenium is generally used as many organometallic composite compounds.

이 외에도 가시광의 장파장 흡수를 개선하여 광전변환 효율을 향상시킬 수 있는 염료, 전자 방출이 용이한 염료, 유기 염료 등이 적용될 수 있다. 상기 유기 염료는 단독으로 사용하거나 루테늄 복합체와 혼합하여 사용될 수 있는데, 이러한 유기 염료로는 쿠마린(coumarin), 포피린(porphyrin), 키산틴(xanthene), 리보플라빈(riboflavin), 트리페닐메탄(triphenylmethan) 등이 있다. In addition, dyes, dyes that are easy to emit electrons, and organic dyes may be applied to improve the long-wave absorption of visible light to improve photoelectric conversion efficiency. The organic dye may be used alone or in combination with ruthenium complex, such organic dyes, such as coumarin, porphyrin, xanthene, riboflavin, triphenylmethan, etc. There is this.

한편, 제1 기판(10)에 대향 배치되는 제2 기판(20)은 제2 전극(21)을 지지하 는 지지체 역할을 하는 것으로, 투명하게 형성될 수 있다. 이에 제2 기판(20)은 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있는데, 플라스틱의 구체적인 예로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리프로필렌, 폴리이미드 및 트리아세틸셀룰로오스 등을 들 수 있다. On the other hand, the second substrate 20 disposed opposite to the first substrate 10 serves as a support for supporting the second electrode 21, it may be formed transparent. The second substrate 20 may be made of glass or plastic. Specific examples of the plastic may include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polypropylene, polyimide, and triacetyl cellulose.

제2 기판(20)에 형성되는 제2 전극(21)은 제1 전극(11)과 대향 배치되도록 형성되며, 투명 전극(21a)과 촉매 전극(21b)을 포함할 수 있다. The second electrode 21 formed on the second substrate 20 may be formed to face the first electrode 11 and may include a transparent electrode 21a and a catalyst electrode 21b.

투명 전극(21a)은 인듐 주석 산화물, 불소 주석 산화물, 안티몬 주석 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, ZnO-Ga2O3, ZnO-Al2O3 등의 투명 물질로 이루어질 수 있다. 투명 전극(21a)은 상기 투명 물질의 단일말 또는 적층막으로 이루어질 수 있다. 촉매 전극(21b)은 산화-환원 쌍(redox couple)을 활성화시키는 역할을 하는 것으로, 백금, 루테늄, 팔라듐. 이리듐, 로듐(Rh), 오스뮴(Os), 탄소(C), WO3, TiO2 등으로 이루질 수 있다. The transparent electrode 21a may be made of a transparent material such as indium tin oxide, fluorine tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, tin oxide, ZnO-Ga 2 O 3 , ZnO-Al 2 O 3, or the like. The transparent electrode 21a may be formed of a single word or a laminated film of the transparent material. The catalyst electrode 21b serves to activate the redox couple, and includes platinum, ruthenium and palladium. It may be made of iridium, rhodium (Rh), osmium (Os), carbon (C), WO 3 , TiO 2 , and the like.

본 실시 형태에서는 제2 전극(21)에는 접촉 면적 증대부로 기능하는 요철이 형성되지 않으므로, 제1 전극(11)의 표면 거칠기 값이 제2 전극(21)의 표면 거칠기 값보다 크게 형성된다. 여기서, 제2 전극(21)의 표면 거칠기 제곱 평균값이 제1 전극(11)의 표면 거칠기 제곱 평균값보다 더 크게 형성된다. 즉, 제2 전극(21)의 표면 거칠기 제곱 평균값은 10nm 미만의 값을 가지게 된다. In this embodiment, since the unevenness | corrugation which functions as a contact area increase part is not formed in the 2nd electrode 21, the surface roughness value of the 1st electrode 11 is formed larger than the surface roughness value of the 2nd electrode 21. As shown in FIG. Here, the square root mean square value of the surface roughness of the second electrode 21 is greater than the square root mean square value of the first electrode 11. That is, the root mean square value of the surface roughness of the second electrode 21 has a value of less than 10 nm.

상기 제1 기판(10)과 제2 기판(20)은 접착제(61)에 의해 접합되고, 제2 기판(20) 및 제2 전극(21)에 형성된 홀(25a)을 통해 전해질(50)이 주입되어 제1 전극 (11)과 제2 전극(21) 사이에 전해질(50)이 함침된다. 이러한 전해질(50)은 다공성막(30)의 내부로 균일하게 분산된다. 전해질(50)은 요오드화물(iodide)/삼요오드화물(triiodide) 쌍으로서 산화, 환원에 의해 제2 전극(21)으로부터 전자를 받아 염료(40)에 전달하는 역할을 수행한다. 상기 제2 기판(20) 및 제2 전극(21)에 형성된 홀(25a)은 접착제(62) 및 커버 글라스(63)에 의해 밀봉된다.  The first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded by an adhesive 61, and the electrolyte 50 is formed through the holes 25a formed in the second substrate 20 and the second electrode 21. The electrolyte 50 is impregnated between the first electrode 11 and the second electrode 21 by being injected. The electrolyte 50 is uniformly dispersed into the porous membrane 30. The electrolyte 50 serves as an iodide / triiodide pair to receive electrons from the second electrode 21 by oxidation and reduction and transfer them to the dye 40. The holes 25a formed in the second substrate 20 and the second electrode 21 are sealed by the adhesive 62 and the cover glass 63.

본 실시 형태에서는 전해질(50)이 액체인 것으로 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것이 아니며 다양한 형태의 전해질이 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이에 위치하면 족하다. In the present embodiment, the electrolyte 50 is described as a liquid, but the present invention is not limited thereto, and various types of electrolytes may be disposed between the first electrode 11 and the second electrode 21.

이러한 태양 전지는 태양 전지의 내부로 태양광 등의 외부광이 입사되면, 광양자가 염료에 흡수되어 염료가 기저 상태에서 여기 상태로 전이되어 전자-홀 쌍을 생성한다. 여기 상태의 전자는 다공성막(30)을 구성하는 금속 산화물 입자(31)의 전도대로 주입된 후 제1 전극(11)을 거쳐 외부 회로(도시하지 않음)로 흐른 다음 제2 전극(21)으로 이동한다. 한편, 전해질(50) 내의 요오드화물이 삼요오드화물로 산화함에 따라 산화된 염료가 환원되고, 삼요오드화물은 제2 전극(21)에 도달된 전자와 환원 반응을 하여 요오드화물로 환원된다. 이러한 전자의 이동에 의해 태양 전지가 작동하게 된다. In such a solar cell, when external light such as solar light enters into the solar cell, photons are absorbed by the dye, and the dye is transferred from the ground state to the excited state to generate electron-hole pairs. The electrons in the excited state are injected into the conduction band of the metal oxide particles 31 constituting the porous membrane 30, flow through the first electrode 11 to an external circuit (not shown), and then to the second electrode 21. Move. On the other hand, as the iodide in the electrolyte 50 is oxidized to triiodide, the oxidized dye is reduced, and the triiodide is reduced to iodide by a reduction reaction with electrons reaching the second electrode 21. The movement of electrons causes the solar cell to operate.

태양 전지는 다른 태양 전지, 일례로 실리콘 태양 전지와 달리 계면 반응을 통해 작동하므로 계면 특성의 개선이 매우 중요하다. 본 실시 형태에서는 상기 제1 기판(10) 및 제1 전극(11)에 요철로 이루어지는 접촉 면적 증대부(16)를 형성하여 제1 기판(10)과 제1 전극(11)의 접촉 특성을 향상시킬 수 있고, 제1 전극(11)과 다 공성막(30)의 접촉 특성을 향상시킴과 동시에 접촉 면적을 증가시켜 전자의 이동성과 속도를 향상시킬 수 있다. Unlike other solar cells, for example silicon solar cells, solar cells operate through interfacial reactions, so improvement of interfacial properties is very important. In the present embodiment, the contact area increasing portion 16 formed of irregularities is formed on the first substrate 10 and the first electrode 11 to improve the contact characteristics of the first substrate 10 and the first electrode 11. In addition, the contact area between the first electrode 11 and the porous film 30 may be improved, and the contact area may be increased to improve electron mobility and speed.

본 실시 형태에서는 접촉 면적 증대부(16)로 요철을 형성하는데, 이 때 제1 기판(10)에 형성된 요철에 의해 제1 전극(11)에도 요철로 이루어지는 접촉 면적 증대부(16)가 형성된다. 제1 기판(10)에 요철을 형성함으로써 공정이 용이하며, 제1 전극(11)에 직접 요철을 형성하는 것보다 제1 전극(11)의 보호 측면에서 장점을 가진다. 이는 제1 전극(11)에 식각 등의 방법으로 직접 요철을 형성하는 경우에는 제1 전극(11)에 원하지 않는 손상 등이 발생될 수 있기 때문이다. In this embodiment, the unevenness is formed by the contact area increasing portion 16. At this time, the unevenness formed in the first substrate 10 also forms the contact area increasing portion 16 formed of the unevenness in the first electrode 11 as well. By forming the irregularities on the first substrate 10, the process is easy and has an advantage in terms of the protection of the first electrode 11 than the formation of the irregularities directly on the first electrode 11. This is because when the unevenness is directly formed on the first electrode 11 by etching or the like, unwanted damage or the like may occur on the first electrode 11.

상기에서 설명한 태양 전지의 제조 방법은 다음과 같다. The manufacturing method of the solar cell demonstrated above is as follows.

먼저, 유리 또는 플라스틱으로 이루어지는 투명한 제1 기판(10)을 준비한다. 여기서, 플라스틱의 구체적인 예로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리프로필렌, 폴리이미드 및 트리아세틸셀룰로오스 등을 들 수 있다. First, a transparent first substrate 10 made of glass or plastic is prepared. Here, specific examples of the plastic include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polypropylene, polyimide and triacetyl cellulose.

이어서, 제1 기판(10)에 기계적 식각법 또는 화학적 식각법으로 계단 형상, 메쉬 형상, 스크래치 형상, 스카 형상, 침상 등을 포함하는 형상의 요철을 형성한다. 기계적 식각법으로는 샌드블라스트 법, 스크래치 법, 플라즈마 식각법 등이 있으며, 화학적 식각법으로는 불산, 질산, 염산 및 이들의 혼합 용액에 기판을 침지시키는 방법 등이 있다. 이에 의해 제1 기판(10)의 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 내지 3000nm의 값을 가질 수 있다. Subsequently, irregularities of a shape including a step shape, a mesh shape, a scratch shape, a ska shape, a needle shape, and the like are formed on the first substrate 10 by a mechanical etching method or a chemical etching method. Examples of the mechanical etching method include sandblasting, scratching, plasma etching, and the like, and chemical etching includes hydrofluoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and a method of immersing the substrate in a mixed solution thereof. As a result, the root mean square value of the surface roughness of the first substrate 10 may have a value of 10 nm to 3000 nm.

이어서, 요철이 형성된 제1 기판(10)의 일면에 스퍼터링 법, 화학 기상 증착 법(CVD), 스프레이 열분해 증착법(SPD) 등으로 전도성막을 형성하여 제1 전극(11)을 형성한다. 제1 기판(10)에 형성된 요철에 의해 전도성 필름(11)에도 요철이 형성되며, 이렇게 형성된 요철은 접촉 면적 증대부(16)의 역할을 수행한다. 이러한 요철에 의해 제1 전극(11)의 표면 거칠기 제곱 평균값은 10nm 내지 3000nm일 수 있다. 이렇게 형성된 제1 전극(11)은 인듐 주석 산화물, 불소 주석 산화물, 안티몬 주석 산화물, 아연 산화물, 주석 산화물, ZnO-Ga2O3, ZnO-Al2O3 등의 물질로 이루어질 수 있다. 여기서 제1 전극(11)은 상기 투명 물질의 단일말 또는 적층막으로 이루어질 수 있다. Subsequently, the first electrode 11 is formed by forming a conductive film on one surface of the first substrate 10 on which the unevenness is formed by sputtering, chemical vapor deposition (CVD), spray pyrolysis deposition (SPD), or the like. Unevenness is also formed in the conductive film 11 by the unevenness formed in the first substrate 10, and the unevenness thus formed serves as the contact area increasing part 16. Due to the irregularities, the average value of the squared surface roughness of the first electrode 11 may be 10 nm to 3000 nm. The first electrode 11 formed as described above may be formed of a material such as indium tin oxide, fluorine tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, tin oxide, ZnO-Ga 2 O 3 , ZnO-Al 2 O 3, or the like. The first electrode 11 may be formed of a single word or a laminated film of the transparent material.

이어서, 제1 전극(11) 위에 금속 산화물 입자(31)를 포함하는 페이스트를 코팅한 후 열처리하여, 다공성막(30)을 형성한다. 상기 페이스트는 금속 산화물 외에 고분자, 광산란자 및 도전성 미립자를 더 포함할 수 있다. Subsequently, a paste including the metal oxide particles 31 is coated on the first electrode 11 and then heat-treated to form the porous membrane 30. The paste may further include a polymer, a light scatterer, and conductive fine particles in addition to the metal oxide.

상기 페이스트를 코팅하는 방법으로는 닥터 블레이드법, 스크린 인쇄법, 스핀 코팅법, 스프레이 법, 습식 코팅법 등 다양한 방법이 적용될 수 있다. 여기서, 코팅법에 따라 적절한 페이스트를 선택하는 것이 바람직하다. As a method of coating the paste, various methods such as a doctor blade method, a screen printing method, a spin coating method, a spray method, and a wet coating method may be applied. Here, it is preferable to select an appropriate paste according to the coating method.

그리고, 상기 페이스트의 열처리는 바인더가 첨가된 경우에는 450 내지 600 ℃에서 30분간 수행될 수 있으며, 바인더가 첨가되지 않은 경우에는 200℃ 이하의 온도에서 수행될 수 있다. 그러나, 이는 페이스트의 조성 등에 의해 달라질 수 있으므로 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. And, the heat treatment of the paste may be performed for 30 minutes at 450 to 600 ℃ when the binder is added, it may be carried out at a temperature of 200 ℃ or less when the binder is not added. However, this may vary depending on the composition of the paste, but the present invention is not limited thereto.

이어서, 염료를 용해시킨 알콜 용액에 제1 전극(11) 및 다공성막(30)이 형성 된 제1 기판(10)을 소정 시간 정도 침지시켜, 다공성막(30)에 염료(40)를 흡착시킨다. Subsequently, the first substrate 10 on which the first electrode 11 and the porous membrane 30 are formed is immersed in the alcohol solution in which the dye is dissolved for a predetermined time, thereby adsorbing the dye 40 to the porous membrane 30. .

그리고, 유리 또는 플라스틱으로 이루어지는 제2 기판(20)에 투명 전극(21a)과 촉매 전극(21b)을 차례로 형성하여 제2 전극(21)을 형성한다. 제2 기판(20)의 구성 물질은 제1 기판(10)에 대응되므로 이에 대한 설명은 생략한다. 마찬가지로 투명 전극(21a)의 구성 물질은 제1 전극(11)에 대응되므로 이에 대한 설명은 생략한다. Then, the transparent electrode 21a and the catalyst electrode 21b are sequentially formed on the second substrate 20 made of glass or plastic to form the second electrode 21. Since the constituent material of the second substrate 20 corresponds to the first substrate 10, description thereof will be omitted. Similarly, since the constituent material of the transparent electrode 21a corresponds to the first electrode 11, description thereof will be omitted.

촉매 전극(21b)은 백금, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 이리듐, 오스뮴, WO3, TiO2 및 C 등으로 이루어질 수 있다. 이러한 촉매 전극(21b)은 물리 기상 증착(전해 도금, 스퍼터링, 전자빔 증착 등) 또는 습식 코팅(일례로, 스핀 코팅, 침지 코팅, 플로우 코팅 등) 등의 방법으로 형성될 수 있다. 일례로, 촉매 전극(21b)이 백금으로 이루어지는 경우에는, 투명 전극(21a) 위에 메탄올, 에탄올, 이스프로필알코올(isopropyl alcohol, IPA) 등의 유기 용제에 H2PtCl6이 용해된 용액을 습식 코팅 한 후 공기 또는 산소 분위기에서 400℃ 의 온도로 열처리하는 방법이 적용될 수 있다. The catalyst electrode 21b may be made of platinum, ruthenium, rhodium, palladium, iridium, osmium, WO 3 , TiO 2 , C, or the like. The catalyst electrode 21b may be formed by physical vapor deposition (electrolytic plating, sputtering, electron beam deposition, etc.) or wet coating (eg, spin coating, dip coating, flow coating, etc.). For example, when the catalyst electrode 21b is made of platinum, wet coating a solution in which H 2 PtCl 6 is dissolved in an organic solvent such as methanol, ethanol, or isopropyl alcohol (IPA) on the transparent electrode 21a After that, a method of heat treatment at a temperature of 400 ° C. in an air or oxygen atmosphere may be applied.

이어서, 제1 전극(11) 및 다공성막(30)과 제2 전극(21)이 서로 대향하도록 제1 기판(10)과 제2 기판(20)을 배치한 후, 접착제(61)를 이용하여 제1 기판(10)과 제2 기판(20)을 접합시킨다. 접착제(61)로는 열가소성 고분자 필름(일례로, 상품명 surlyn), 에폭시 수지, 자외선 경화제를 사용할 수 있다. 접착제(61)로 열가소성 고분자 필름을 사용하는 경우에는, 제1 기판(10)과 제2 기판(20) 사이에 열가소성 고분자 필름을 위치시킨 후 가열 압착하여 제1 기판(10)과 제2 기판(20)을 접합시킨다. Subsequently, the first substrate 10 and the second substrate 20 are disposed such that the first electrode 11, the porous membrane 30, and the second electrode 21 face each other, and then use an adhesive 61. The first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other. As the adhesive 61, a thermoplastic polymer film (for example, trade name surlyn), an epoxy resin, and an ultraviolet curing agent can be used. In the case of using the thermoplastic polymer film as the adhesive 61, the thermoplastic polymer film is positioned between the first substrate 10 and the second substrate 20, and then heated and pressed to form the first substrate 10 and the second substrate ( 20) is bonded.

제2 기판(20) 및 제2 전극(21)에 형성된 홀(25a)을 통해 전해질(50)을 주입한 후, 접착제(62) 및 커버 글라스(63)을 사용하여 이 홀(25a)을 밀봉한다. 이로써, 태양 전지의 제조가 완료되며, 제1 기판(10)과 제2 기판(20)의 외측으로 별도의 케이스(미도시)가 구비될 수도 있다. After the electrolyte 50 is injected through the holes 25a formed in the second substrate 20 and the second electrode 21, the holes 25a are sealed using the adhesive 62 and the cover glass 63. do. As a result, the manufacturing of the solar cell is completed, and a separate case (not shown) may be provided outside the first substrate 10 and the second substrate 20.

이하, 본 실시 형태에 따른 태양 전지를 실시예를 통하여 좀더 상세하게 설명한다. 이러한 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이 본 발명이 여기에 한정되는 것이 아니다. Hereinafter, the solar cell according to the present embodiment will be described in more detail with reference to Examples. These examples are only intended to illustrate the invention, but the invention is not limited thereto.

실시예 1Example 1

가로 2.2cm, 세로 2.2cm, 두께 1.1mm 의 소다라임 유리로 이루어진 제1 기판에 증류수를 이용하여 초음파 세정을 한 후, 49 중량%의 불산이 포함된 불산 수용액에 제1 기판을 20분 동안 침지시켜 식각하였다. 이어서 제1 기판에 증류수를 이용한 초음파 세정을 한 후, 스프레이 열분해 증착법으로 인듐 주석 산화물을 500 nm 두께로 증착하여 제1 전극을 형성하였다. After ultrasonic cleaning with distilled water on a first substrate made of soda-lime glass having a width of 2.2 cm, a length of 2.2 cm, and a thickness of 1.1 mm, the first substrate was immersed in an aqueous hydrofluoric acid solution containing 49 wt% hydrofluoric acid for 20 minutes. Was etched. Subsequently, after ultrasonic cleaning using distilled water on the first substrate, indium tin oxide was deposited to a thickness of 500 nm by spray pyrolysis deposition to form a first electrode.

제1 전극의 일면 위에 7nm 내지 50nm 입경의 TiO2 입자를 포함하는 페이스트를 스크린 인쇄법을 사용하여 1cm2의 면적으로 도포하고, 450℃에서 30분간 열처리하여 TiO2를 포함하는 다공성막을 약 15㎛ 두께로 형성하였다. The porous membrane of about 15㎛ containing TiO 2 with a paste containing TiO 2 particles of 7nm to 50nm particle size on one side of the first electrode using a screen printing method is applied to an area of 1cm 2, and heat treated at 450 30 bungan It was formed to a thickness.

상기 다공성막 및 제1 전극이 형성된 제1 기판을 0.3 mM의 루테늄(4,4-디카르복시-2,2'-바이피리딘)2(NCS)2 용액에 24시간 침지시켜, 다공성막에 염료를 흡착시켰다. 염료가 흡착된 다공성막을 에탄올로 세척하였다. The first substrate on which the porous membrane and the first electrode were formed was immersed in 0.3 mM ruthenium (4,4-dicarboxy-2,2'-bipyridine) 2 (NCS) 2 solution for 24 hours to dye the porous membrane. Adsorbed. The dye-adsorbed porous membrane was washed with ethanol.

가로 2.2cm, 세로 2.2cm, 두께 1.1mm 의 소다라임 유리로 이루어진 제2 기판에 증류수를 이용하여 초음파 세정을 하였다. 이어서, 제2 기판을 관통하는 두 개의 홀을 형성하였다. 그 다음, 프레이 열분해 증착법으로 인듐 주석 산화물을 500 nm 두께로 증착하여 투명 전극을 형성하고, 스퍼터링 법을 이용하여 백금으로 이루어지며 3Ω/□의 표면 저항을 가지는 촉매 전극을 제조하였다. Ultrasonic cleaning was performed on the second substrate made of soda-lime glass having a width of 2.2 cm, a length of 2.2 cm, and a thickness of 1.1 mm using distilled water. Subsequently, two holes penetrating the second substrate were formed. Subsequently, indium tin oxide was deposited to a thickness of 500 nm by the Pray pyrolysis deposition method to form a transparent electrode, and a sputtering method was used to prepare a catalyst electrode made of platinum and having a surface resistance of 3Ω / □.

제1 전극에 형성된 다공성막이 제2 전극에 대향하도록 제1 기판과 제2 기판을 배치시킨 후 이들 사이에 열가소성 고분자 필름을 위치시켜 가열 압착하여 제1 기판과 제2 기판을 접합하였다. 제2 기판 및 제2 전극에 형성된 두 개의 홀을 통해 전해질을 주입하고 열가소성 고분자 필름과 커버 글라스를 이용하여 홀을 막음으로써 태양 전지를 제조하였다. 이 때, 전해질은 80 부피%의 에틸렌카보네이트(ethylene carbornate)와 20 부피%의 아세토나이트릴(acetonirtrile)로 이루어진 횬합 용액 100ml에 21.928g의 테트라프로필암모늄아이오다이드(tetrapropylammonium iodide)와 1.931g의 요오드(I2)를 용해시킨 용액이다. The first substrate and the second substrate were disposed so that the porous membrane formed on the first electrode faced the second electrode, and then the thermoplastic polymer film was placed therebetween to heat and compress to bond the first substrate to the second substrate. The solar cell was manufactured by injecting an electrolyte through two holes formed in the second substrate and the second electrode and blocking the hole using a thermoplastic polymer film and a cover glass. At this time, the electrolyte was prepared in 100 ml of a mixed solution composed of 80% by volume of ethylene carbonate (ethylene carbornate) and 20% by volume of acetonitrile and 21.928g of tetrapropylammonium iodide and 1.931g of iodine. It is a solution in which (I 2 ) is dissolved.

실시예 2Example 2

제1 기판을 40분 동안 식각한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 태양 전지를 제조하였다. A solar cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the first substrate was etched for 40 minutes.

실시예 3Example 3

제1 기판을 90분 동안 식각한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 태양 전지를 제조하였다. A solar cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the first substrate was etched for 90 minutes.

실시예 4Example 4

제1 기판을 150분 동안 식각한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 태양 전지를 제조하였다. A solar cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the first substrate was etched for 150 minutes.

실시예 5Example 5

제1 기판을 300분 동안 식각한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 태양 전지를 제조하였다. A solar cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the first substrate was etched for 300 minutes.

실시예 6Example 6

제1 기판을 600분 동안 식각한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 태양 전지를 제조하였다. A solar cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the first substrate was etched for 600 minutes.

비교예 1Comparative Example 1

제1 기판을 식각하지 않은 점을 제외하면 실시예 1과 동일한 방법으로 태양 전지를 제조하였다. A solar cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the first substrate was not etched.

비교예 2Comparative Example 2

제1 기판을 1200분 동안 식각한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 태양 전지를 제조하였다. A solar cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the first substrate was etched for 1200 minutes.

실시예 2의 태양 전지에서, 요철이 형성된 제1 전극 표면의 원자 현미경(atomic force microscope, AFM) 사진을 도 2에 나타내었다. 도 2를 참조하면, 식 각에 의해 요철이 형성된 제1 기판에 제1 전극을 형성하여, 제1 전극에도 요철이 형성된 것을 알 수 있다. 이러한 요철에 의해 제1 전극과 다공성막의 접촉 면적이 증가될 수 있음을 예측할 수 있다. 도면에서는 실시예 2의 태양 전지의 제1 전극 표면 사진만을 나타내었지만 이는 다른 실시예들에서도 동일한다. In the solar cell of Example 2, an atomic force microscope (AFM) photograph of the surface of the first electrode on which the unevenness was formed is shown in FIG. 2. Referring to FIG. 2, it can be seen that the first electrode is formed on the first substrate on which the unevenness is formed by etching, and the unevenness is also formed on the first electrode. It can be predicted that such unevenness may increase the contact area between the first electrode and the porous membrane. In the drawings, only the first electrode surface photograph of the solar cell of Example 2 is shown, which is the same in other embodiments.

실시예 1 내지 6, 그리고 비교예 1 및 2의 태양 전지에서 제1 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값, 개방 전압, 단락 전류, 충밀도, 투과율 및 효율을 표 1에 나타내었다. 여기서, 개방 전압 등은 100mW/cm2의 광원을 Si 표준셀로 보정한 후 측정한 전압-전류 곡선으로부터 평가되었다. 좀더 명확한 이해를 위해 표 1에는 표면 거칠기 제곱 평균값이 커지는 순서로 기재하였다. In Tables 1 to 6 and the solar cell of Comparative Examples 1 and 2, the root mean square value, open voltage, short circuit current, charge density, transmittance and efficiency of the first electrode are shown in Table 1. Here, the open circuit voltage and the like were evaluated from the voltage-current curve measured after calibrating a 100 mW / cm 2 light source with a Si standard cell. Table 1 is listed in order of increasing average of the surface roughness squares for clearer understanding.

표면 거칠기 제곱 평균갑 [mm]Surface roughness squared average pack [mm] 개방전압 [V]Open circuit voltage [V] 단락전류 [mA]Short circuit current [mA] 충밀도 Density 투과율 [%]Transmittance [%] 효율 [%]efficiency [%] 비교예 1Comparative Example 1 88 0.7630.763 6.8106.810 0.6130.613 82.282.2 3.1873.187 실시예 1Example 1 3838 0.7510.751 7.0907.090 0.6110.611 82.182.1 3.2533.253 실시예 2 Example 2 7070 0.7130.713 8.1858.185 0.6000.600 81.481.4 3.4993.499 실시예 3Example 3 180180 0.7240.724 8.2148.214 0.5950.595 81.381.3 3.5383.538 실시예 4Example 4 325325 0.6910.691 8.1998.199 0.6410.641 80.580.5 3.6323.632 실시예 5Example 5 680680 0.6780.678 8.1058.105 0.6130.613 80.180.1 3.3703.370 실시예 6Example 6 12801280 0.6710.671 8.0918.091 0.5910.591 79.179.1 3.2093.209 비교예 2Comparative Example 2 32003200 0.6140.614 7.6107.610 0.5770.577 76.576.5 2.7002.700

실시예 1 내지 6에 따른 태양 전지는 비교예 1 및 2에 따른 태양 전지에 비해 단략 전류가 매우 높은 값을 가지며 충밀도 값은 유사한 것을 알 수 있다. 즉, 실시예 1 내지 6에 따른 태양 전지는 비교예 1 및 2에 따른 태양 전지보다 단락 전류 값이 향상되는데, 이는 다공성막과 제1 전극의 접촉 면적 증가에 의한 것으로 예측된다. 즉, 실시예 1 내지 6에 따른 태양 전지는 우수한 단락 전류에 의해 비교예 1 및 2에 따른 태양 전지 보다 매우 우수한 효율을 가짐을 알 수 있다. It can be seen that the solar cells according to Examples 1 to 6 have very high currents and similar charge values compared to the solar cells according to Comparative Examples 1 and 2. That is, the solar cells according to Examples 1 to 6 have improved short-circuit current values than the solar cells according to Comparative Examples 1 and 2, which is expected to be due to an increase in the contact area between the porous membrane and the first electrode. That is, it can be seen that the solar cells according to Examples 1 to 6 have much better efficiency than the solar cells according to Comparative Examples 1 and 2 by excellent short-circuit current.

이 때, 표면 거칠기 제곱 평균값이 증가할수록 투과율이 저하되는데, 비교예 2에서는 투과율에 저하에 의한 효율 감소 정도가 접촉 면적 증대에 따라 향상된 단락 전류 향상에 의한 효율 증가 정도보다 커져 효율이 저하되는 것을 알 수 있다. In this case, the transmittance decreases as the average squared surface roughness increases. In Comparative Example 2, the decrease in efficiency due to the decrease in the transmittance is greater than the increase in efficiency due to the improved short circuit current as the contact area increases. Can be.

이하에서는 도 3을 참조하여 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 태양 전지를 상세하게 설명한다. 도 3은 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 태양 전지를 도시한 단면도이다. Hereinafter, a solar cell according to another embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 3. 3 is a cross-sectional view showing a solar cell according to another embodiment of the present invention.

본 실시 형태에 대해서는 상기에서 설명한 실시 형태와 서로 다른 부분에 대해서만 상세하게 설명하고, 동일 또는 극히 유사한 구성 요소는 동일한 참조부호를 사용한다. 그리고, 본 실시 형태의 제조 방법에 대해서는 제1 전극의 제조 단계에 대해서만 상세하게 설명하고, 그 외의 부분은 상기 설명한 실시 형태의 제조 방법에서와 실질적으로 동일하므로 구체적인 설명을 생략한다. This embodiment will be described in detail only with respect to the parts different from the above-described embodiment, and the same or extremely similar components use the same reference numerals. In addition, the manufacturing method of this embodiment is demonstrated in detail only about the manufacturing process of a 1st electrode, and since the other part is substantially the same as in the manufacturing method of embodiment mentioned above, detailed description is abbreviate | omitted.

본 실시 형태에서는 제1 기판(110)에는 요철이 형성되지 않은 매끈한 기판이며, 제1 전극(111)에 접촉 면적 증대부(116), 일례로 요철이 형성된다. 제1 전극(111)은 스퍼터링 법, 화학 기상 증착법, 스프레이 열분해 증착법 등의 방법으로 형성될 수 있는데, 이 때 공정 조건을 제어하여 제1 전극(111)이 10nm 내지 3000nm의 표면 거칠기 제곱 평균값을 가지게 할 수 있다. In this embodiment, the 1st board | substrate 110 is a smooth board | substrate with which unevenness | corrugation is not formed, and the contact area increase part 116, for example, unevenness | corrugation is formed in the 1st electrode 111. FIG. The first electrode 111 may be formed by a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a spray pyrolysis deposition method, or the like. At this time, the process conditions are controlled so that the first electrode 111 has a mean value of squared surface roughness of 10 nm to 3000 nm. can do.

상기의 실시 형태들에서는 접촉 면적 증대부의 일례로 요철이 형성된 것을 설명하였지만 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니다. 따라서, 제1 전극과 다공성막 사이에서 접촉 면적을 증대시킬 수 있는 다양한 구성이 적용될 수 있으며 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. Although the above embodiments have described that the unevenness is formed as an example of the contact area increasing portion, the present invention is not limited thereto. Therefore, various configurations that can increase the contact area between the first electrode and the porous membrane can be applied, which is also within the scope of the present invention.

또한, 상기에서는 태양 전지의 일례로 염료 감응 태양 전지를 도시 및 설명하였으나 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니며 다른 종류의 태양 전지에도 적용될 수 있으며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. In addition, although the dye-sensitized solar cell is illustrated and described as an example of the solar cell, the present invention is not limited thereto, and may be applied to other types of solar cells, which also belong to the scope of the present invention.

즉, 상기에서는 본 발명의 실시 형태 및 실시예에 대하여 설명하였지만 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다. That is, while the embodiments and examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. In addition, it is natural that it belongs to the scope of the present invention.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 태양 전지는 광흡수층이 형성되는 제1 전극에 접촉 면적 증대부를 형성하여, 광흡수층과 제1 전극의 접촉 특성을 향상시키고 접촉 면적을 증가시킬 수 있다. 이에 따라 여기 상태의 전자의 이동도 및 이동 속도가 향상되어 단략 전류 밀도를 증가시킬 수 있고, 결과적으로 태양 전지의 광전변환 효율을 향상시킬 수 있다. As described above, the solar cell according to the present invention may form a contact area increase part in the first electrode on which the light absorbing layer is formed, thereby improving contact characteristics between the light absorbing layer and the first electrode and increasing the contact area. As a result, the mobility and the moving speed of the electrons in the excited state can be improved to increase the current density, and consequently, the photoelectric conversion efficiency of the solar cell can be improved.

Claims (14)

기판; Board; 상기 기판에 형성되는 전극; 및An electrode formed on the substrate; And 상기 전극에 형성되는 광흡수층; A light absorption layer formed on the electrode; 포함하고,Including, 상기 전극과 상기 광흡수층 사이에 접촉 면적 증대부가 형성되는 태양 전지. And a contact area increasing portion is formed between the electrode and the light absorption layer. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 접촉 면적 증대부가 요철로 이루어지는 태양 전지. The solar cell which the said contact area increase part consists of an unevenness | corrugation. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 기판에 요철이 형성되고, Irregularities are formed on the substrate, 상기 기판에 형성된 요철에 의해 상기 전극에 요철이 형성되는 태양 전지. A solar cell in which irregularities are formed in the electrode by the irregularities formed in the substrate. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 요철이 계단 형상, 메쉬 형상, 스크래치 형상, 스카 형상 및 침상 중 적어도 어느 하나를 포함하는 형상인 태양 전지. The unevenness is a solar cell having a shape including at least one of step shape, mesh shape, scratch shape, ska shape and needle shape. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 내지 3000nm인 태양 전지. A solar cell having a mean square surface roughness of the electrode of 10nm to 3000nm. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 기판에서 상기 전극이 형성된 일면의 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 내지 3000nm인 태양 전지. A solar cell having a mean square surface roughness of 10 nm to 3000 nm on one surface of the substrate on the substrate. 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판; A first substrate and a second substrate disposed to face each other; 상기 제1 기판에 형성되는 제1 전극; A first electrode formed on the first substrate; 상기 제1 전극에 형성되는 광흡수층; 및 A light absorption layer formed on the first electrode; And 상기 제2 기판에 형성되는 제2 전극A second electrode formed on the second substrate 포함하고,Including, 상기 제1 전극의 표면 거칠기가 상기 제2 전극의 표면 거칠기보다 큰 태양 전지. The solar cell of which the surface roughness of the first electrode is larger than the surface roughness of the second electrode. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 제1 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값이 상기 제2 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값보다 큰 태양 전지. The solar cell square average value of the surface roughness of the first electrode is larger than the square average surface roughness of the second electrode. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 제1 전극의 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 내지 3000nm인 태양 전지. The solar cell of claim 1, wherein the root mean square of the surface roughness is 10 nm to 3000 nm. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 제1 기판에서 상기 제1 전극이 형성된 일면의 표면 거칠기 제곱 평균값이 10nm 내지 3000nm인 태양 전지. The solar cell of claim 1, wherein the square root of the surface roughness of one surface on which the first electrode is formed is 10 nm to 3000 nm. 접촉 면적 증대부를 구비하는 전극을 형성하는 단계; 및Forming an electrode having a contact area increasing portion; And 상기 전극에 광흡수층을 형성하는 단계Forming a light absorption layer on the electrode 를 포함하는 태양 전지의 제조 방법. Method for manufacturing a solar cell comprising a. 제11항에 있어서, The method of claim 11, 상기 접촉 면적 증대부를 구비하는 전극을 형성하는 단계에서는, 요철이 형성된 기판에 상기 전극을 형성하는 태양 전지의 제조 방법. In the step of forming an electrode having the contact area increasing portion, the manufacturing method of a solar cell to form the electrode on a substrate on which irregularities are formed. 제12항에 있어서, The method of claim 12, 상기 기판의 요철은 기계적 식각법 또는 화학적 식각법에 의해 형성되는 태양 전지의 제조 방법. The unevenness of the substrate is a method of manufacturing a solar cell is formed by mechanical etching or chemical etching. 제13항에 있어서, The method of claim 13, 상기 기계적 식각법은 샌드블라스트 법, 스크래치 법 및 플라즈마 식각법으로 이루어진 군에서 선택되고, 상기 화학적 식각법은 질산, 염산, 불산 및 이들의 혼합액으로 이루어진 군에서 선택된 용액을 사용하는 태양 전지의 제조 방법.The mechanical etching method is selected from the group consisting of sandblasting method, scratch method and plasma etching method, the chemical etching method of manufacturing a solar cell using a solution selected from the group consisting of nitric acid, hydrochloric acid, hydrofluoric acid and a mixture thereof. .
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