KR20070040997A - Apparatus of sensing for wafer alignment - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼 정렬 검지장치에 관한 것이다. 본 발명은 다수개의 웨이퍼 하단에 수직하게 접촉하면서 회전하고, 일정한 간격으로 평행하게 위치하여 상기 웨이퍼의 플랫존을 일치시키는 한 쌍의 정렬롤러; 상기 웨이퍼를 가이드하는 가이드롤러; 상기 웨이퍼의 플랫존을 검지하기 위하여 광신호를 발생시키는 발광센서; 및 상기 발광센서에서 발생된 광신호를 수신하는 수광센서;를 구비하는 웨이퍼 정렬 검지장치에 있어서, 상기 수광센서는 높이조절이 가능한 수광부 패널에 구비되고, 상기 수광부 패널의 테두리는 지지프레임에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 검지장치를 제공한다. 이와 같은 본 발명의 웨이퍼 정렬 검지장치에 의하면, 수광부 패널을 지지프레임 및 지지플레이트로 지지 및 고정시킴으로써, 카세트를 웨이퍼 정렬대 위에 올려놓을 때 진동이 발생하거나 가이드롤러나 정렬롤러의 회전으로 진동이 발생하더라도 수광부 패널이 틀어지거나 위치변경이 되지 않아 웨이퍼의 플랫존을 제대로 검지할 수 있으므로 에러발생을 방지할 수 있고 웨이퍼의 깨짐을 방지할 수 있으며, 기기의 오작동으로 인한 작업 로스를 방지할 수 있다.The present invention relates to a wafer alignment detection device. The present invention comprises a pair of alignment rollers that rotate while being in vertical contact with the bottom of the plurality of wafers, are arranged in parallel at regular intervals to match the flat zone of the wafer; A guide roller for guiding the wafer; A light emitting sensor for generating an optical signal to detect a flat zone of the wafer; And a light receiving sensor configured to receive an optical signal generated by the light emitting sensor, wherein the light receiving sensor is provided in a light receiving panel that is height-adjustable, and an edge of the light receiving panel is supported by a support frame. It provides a wafer alignment detection device, characterized in that. According to the wafer alignment detection device of the present invention, by holding and fixing the light receiving unit panel with the support frame and the support plate, vibration occurs when the cassette is placed on the wafer alignment table, or vibration is generated by rotation of the guide roller or the alignment roller. Even if the light-receiving panel is not twisted or changed in position, the flat zone of the wafer can be properly detected, thereby preventing the occurrence of an error, preventing the wafer from being broken, and preventing work loss due to malfunction of the device.
웨이퍼 정렬 검지장치, 수광센서, 발광센서, 수광부 패널, 지지프레임 Wafer alignment detector, light receiving sensor, light emitting sensor, light receiving panel, support frame
Description
도 1은 종래의 웨이퍼 정렬 검지장치의 개략적 구성도.1 is a schematic configuration diagram of a conventional wafer alignment detection device.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 정렬 검지장치의 개략적 사시도.Figure 2 is a schematic perspective view of the wafer alignment detection device according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 수광부 패널의 고정상태를 보인 도면.3 is a view showing a fixed state of the light receiving panel according to the present invention.
도 4는 지지프레임의 가로봉과 세로봉의 결합상태를 나타낸 단면도.Figure 4 is a cross-sectional view showing a coupling state of the horizontal bar and the vertical bar of the support frame.
도 5는 웨이퍼가 정렬상태일 때, 도 2의 Ⅴ선의 단면도.FIG. 5 is a sectional view taken along the line V of FIG. 2 when the wafer is in alignment;
도 6은 웨이퍼가 비정렬상태일 때, 도 2의 Ⅵ선의 단면도.6 is a cross-sectional view taken along the line VI of FIG. 2 when the wafer is in an unaligned state.
도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼 플랫존을 확인하는 방법을 설명하기 위한 웨이퍼 정렬 검지장치의 개략적 사시도.Figure 7 is a schematic perspective view of the wafer alignment detection device for explaining the method for confirming the wafer flat zone according to the present invention.
도 8은 도 7의 Ⅷ-Ⅷ선의 단면도.8 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 7.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10; 웨이퍼 정렬대 13; 카세트10; Wafer
15; 정렬롤러 17; 가이드롤러15;
20; 발광부 패널 22,24; 발광센서20;
30; 수광부 패널 40; 지지프레임30; Light-receiving
50; 지지플레이트50; Support Plate
본 발명은 웨이퍼 정렬 검지장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 주변의 진동에도 불구하고 수광센서의 높이가 쉽게 변하지 않는 웨이퍼 정렬 검지장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer alignment detection device, and more particularly, to a wafer alignment detection device in which the height of the light receiving sensor does not change easily in spite of the surrounding vibration.
반도체소자의 제조공정에는 웨이퍼에 불순물을 확산시키기 위한 확산설비, 웨이퍼위에 포토레지스트를 도포하기 위한 설비, 소정의 패턴이 형성된 마스크를 통하여 그 포토레지스트를 노광시키고 현상하기 위한 설비 등 다수의 설비가 필요하다. The manufacturing process of the semiconductor device requires a number of facilities such as diffusion equipment for diffusing impurities on the wafer, equipment for applying photoresist on the wafer, and equipment for exposing and developing the photoresist through a mask having a predetermined pattern. Do.
상술한 설비에 의해 프로세스가 진행될 웨이퍼는 카세트에 적재되어 소정 단계의 각 설비로 이동하여 공정이 진행된다.The wafer to be processed by the above-described facilities is loaded in a cassette and moved to each facility of a predetermined step to proceed with the process.
이러한 반도체 제조 설비 중 KOKUSAI 확산설비의 웨이퍼 정렬장치에 대해 도 1을 참조하여 설명한다.A wafer aligning device of KOKUSAI diffusion equipment among such semiconductor manufacturing facilities will be described with reference to FIG. 1.
도 1은 종래의 웨이퍼 정렬 검지장치의 개략적 구성도이다,1 is a schematic configuration diagram of a conventional wafer alignment detection device.
도 1에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 정렬 검지장치는 카세트(13)가 로딩되는 웨이퍼 정렬대(10), 발광센서(22,24) 및 수광센서 등으로 이루어진다.As shown in FIG. 1, the wafer alignment detection device includes a wafer alignment table 10 on which a
웨이퍼 정렬대(10) 상부에는 가이드롤러(미도시) 및 정렬롤러(미도시)가 구비되어 있고, 가이드롤러 및 정렬롤러 위에 다수매의 웨이퍼(W)가 적재된 카세트(13)가 놓여진다.A guide roller (not shown) and an alignment roller (not shown) are provided on the wafer alignment table 10, and a
상기 카세트(13)를 사이에 두고 웨이퍼(W)의 플랫존을 검지하기 위한 발광 센서(22,24) 및 수광센서가 대응되는 높이에 마주보고 설치되며, 발광센서(22,24)는 발광부 패널(20)에 부착되어 있고, 수광센서는 수광부 패널(30)에 부착되어 있다. The
상기 발광부 패널(20) 및 수광부 패널(30)은 웨이퍼 정렬대(10)에 대해 수직으로 설치되며, 발광부 패널(20)은 웨이퍼 정렬대(10)에 고정설치되는 반면, 수광부 패널(30)은 웨이퍼 정렬대(10)의 측벽에 높이 조절이 가능하도록 설치된다.The
수광부 패널(30)에는 웨이퍼 정렬대(10)의 측벽과 결합할 수 있도록 높이 조절 나사홈이 길이방향으로 길게 두 개 형성되어 있어 상기 나사홈에 나사(36)를 삽입함으로써 수광부 패널(30)을 웨이퍼 정렬대(10)의 측벽에 고정시킬 수 있고, 발광센서(22,24)와 대응하는 높이에 위치할 수 있도록 조절할 수 있다. The light receiving
또한, 두 개의 수광센서는 각각 두 개의 고정나사(32,34)에 의해 수광부 패널(30)에 부착되어 있으며, 고정나사(32,34)가 삽입되는 나사홈이 좌우방향으로 길게 형성되어 있다. 이와 같이 나사홈이 좌우방향으로 길게 형성되어 있으므로 수광센서의 좌우위치를 적절하게 조절할 수 있다.In addition, the two light receiving sensors are attached to the light
이와 같이 수광부 패널(30)의 위치를 적절하게 조절하여 발광센서(22,24)와의 위치를 맞추어야 하는 이유는 웨이퍼(W)의 플랫존이 제대로 정렬되었는지를 발광센서(22,24)에서 발광된 신호를 수광센서가 감지하는지 여부로 확인하기 때문이다.The reason why the position of the light
그러나, 이와 같이 구성된 종래의 웨이퍼 정렬장치는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the conventional wafer alignment device configured as described above has the following problems.
즉, 수광부 패널이 웨이퍼 정렬대의 측벽에 두 개의 고정나사로 고정되어 있고, 수광부 패널을 고정하는 두 개의 나사 및 수광센서를 수광부 패널에 부착시키는 각 고정나사가 길이방향 및 좌우방향으로 길게 형성되어 있는 고정나사홈에 삽입되어 있으므로, 웨이퍼 정렬대에 카세트를 로딩하거나, 가이드롤러 및 정렬롤러의 회전에 따라 발생하는 진동으로 수광부 패널의 위치가 변경될 수 있다. That is, the light receiving unit panel is fixed to the sidewall of the wafer alignment unit with two fixing screws, and two screws for fixing the light receiving unit panel and each fixing screw for attaching the light receiving sensor to the light receiving unit panel are formed long in the longitudinal direction and the left and right directions. Since it is inserted into the screw groove, the position of the light receiving unit panel may be changed by the vibration generated by loading the cassette on the wafer alignment table or by rotation of the guide roller and the alignment roller.
이와 같이 수광부 패널의 위치가 변경되면 수광센서의 위치 또한 변경되므로 웨이퍼의 플랫존을 정확하게 검지할 수 없어 에러가 발생하게 되며, 제대로 정렬되지 않은 웨이퍼를 이송하는 과정에서 웨이퍼를 떨어뜨리는 등으로 웨이퍼의 깨짐을 발생시킬 수 있으며, 오작동으로 인해 진행작업이 지연되는 문제점 등이 발생한다.In this way, if the position of the light receiving panel is changed, the position of the light receiving sensor is also changed. Therefore, the flat zone of the wafer cannot be accurately detected, and an error occurs. It may cause cracking, and problems such as delayed work due to malfunctions occur.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 수광부 패널을 웨이퍼 정렬대에 고정설치 시 지지프레임 및 지지플레이트로 견고하게 지지 및 고정시킴으로써 카세트를 웨이퍼 정렬대 위에 올려놓거나 가이드롤러 및 정렬롤러의 회전으로 발생하는 진동에도 수광부 패널의 위치가 변하지 않는 웨이퍼 정렬 검지장치를 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to securely support and fix the cassette by the support frame and the support plate when the light receiving panel is fixed to the wafer alignment stand, the wafer alignment stand The present invention provides a wafer alignment detecting device which does not change the position of the light receiving unit panel even on the vibration caused by the rotation of the guide roller and the alignment roller.
이상과 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 다수개의 웨이퍼 하단에 수직하게 접촉하면서 회전하고, 일정한 간격으로 평행하게 위치하여 상기 웨이퍼의 플랫존을 일치시키는 한 쌍의 정렬롤러; 상기 웨이퍼를 가이드하는 가이드롤러; 상기 웨이퍼의 플랫존을 검지하기 위하여 광신호를 발생시키는 발광센서; 및 상기 발 광센서에서 발생된 광신호를 수신하는 수광센서;를 구비하는 웨이퍼 정렬 검지장치에 있어서, 상기 수광센서는 높이조절이 가능한 수광부 패널에 구비되고, 상기 수광부 패널의 테두리는 지지프레임에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 정렬 검지장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a pair of alignment roller to rotate while being in contact with the lower end of the plurality of wafers vertically, parallel to the regular interval to match the flat zone of the wafer; A guide roller for guiding the wafer; A light emitting sensor for generating an optical signal to detect a flat zone of the wafer; And a light receiving sensor for receiving an optical signal generated by the light emitting sensor, wherein the light receiving sensor is provided on a light receiving panel that is height-adjustable, and an edge of the light receiving panel is supported by a support frame. Provided is a wafer alignment detection device, characterized in that supported.
바람직하게는 상기 수광부 패널은, 상기 정렬롤러 및 상기 가이드롤러가 설치된 웨이퍼 정렬대의 일측벽과 평형하게 설치된다.Preferably, the light receiving unit panel is provided in parallel with one side wall of the wafer alignment unit on which the alignment roller and the guide roller are installed.
또한, 바람직하게는 상기 지지프레임의 세로봉 중 적어도 하나와 일체로 형성되고, 상기 웨이퍼 정렬대의 일측벽과 평형하게 설치되는 지지플레이트를 더 구비한다.In addition, the support frame is formed integrally with at least one of the vertical rods, and further provided with a support plate installed in parallel with one side wall of the wafer alignment table.
또한, 바람직하게는 상기 수광부 패널 및 상기 지지플레이트는 상기 웨이퍼 정렬대의 일측벽에 고정 설치된다.In addition, the light receiving unit panel and the support plate are preferably fixed to one side wall of the wafer alignment table.
또한, 바람직하게는 상기 지지프레임은 가로봉과 세로봉으로 이루어지며, 상기 수광부 패널과 면접하는 상기 가로봉 또는 세로봉의 면접부위에는 상기 수광부 패널을 끼울 수 있는 홈이 형성되어 있으며, 더욱 바람직하게는 상기 지지프레임의 세로봉에는 상기 가로봉의 양단을 삽입하여 가로봉의 위치를 변경할 수 있는 홈이 하나 이상 형성되어 있다.In addition, the support frame is preferably made of a horizontal rod and a vertical rod, the groove is formed in the interview portion of the horizontal rod or the vertical rod to be interviewed with the light receiving unit panel, the light receiving unit panel is formed, more preferably the support At least one groove is formed in the vertical rod of the frame to change the position of the horizontal rod by inserting both ends of the horizontal rod.
이하, 본 발명에 따른 일 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, an embodiment according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 정렬 검지장치의 개략적 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 수광부 패널의 고정상태를 보인 도면이며, 도 4는 지지프레임의 가로봉과 세로봉의 결합상태를 나타낸 단면도이다. 도 2, 도 3 및 도 4에서 도 1과 동일한 구성요소는 동일한 부호를 붙인다.Figure 2 is a schematic perspective view of a wafer alignment detection device according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a view showing a fixed state of the light receiving unit panel according to the present invention, Figure 4 is a coupling state of the horizontal bar and the vertical rod of the support frame It is sectional drawing shown. In Fig. 2, Fig. 3 and Fig. 4, the same components as those in Fig. 1 are denoted by the same reference numerals.
웨이퍼 정렬 검지장치는 정렬롤러(15), 가이드롤러(17), 발광센서(22,24) 및 수광센서 등으로 이루어진다.The wafer alignment detection device includes an
상기 정렬롤러(15) 및 가이드롤러(17)는 웨이퍼 정렬대(10) 상면에 구비되며, 정렬롤러(15) 및 가이드롤러(17)의 상부에는 웨이퍼(W)의 플랫존을 검지하기 위하여 웨이퍼가 적재된 카세트가 이송되어 로딩된다.The
상기 카세트(13)를 사이에 두고 웨이퍼(W)의 플랫존을 검지하기 위한 발광센서(22,24) 및 수광센서가 대응되는 높이에 마주보고 설치되며, 발광센서(22,24)는 발광부 패널(20)에 부착되어 있고, 수광센서는 수광부 패널(30)에 부착되어 있다.The
상기 발광부 패널(20) 및 수광부 패널(30)은 웨이퍼 정렬대(10)에 대해 수직으로 설치되며, 발광부 패널(20)은 웨이퍼 정렬대(10)에 고정설치되는 반면, 수광부 패널(30)은 웨이퍼 정렬대(10)의 측벽에 높이 조절이 가능하도록 설치된다.The
수광부 패널(30)에는 웨이퍼 정렬대(10)의 측벽과 결합할 수 있도록 높이 조절 나사홈이 길이방향으로 길게 두 개가 형성되어 있어 상기 나사홈에 나사(36)를 삽입함으로써 수광부 패널(30)을 웨이퍼 정렬대(10)의 측벽에 고정시킬 수 있고, 발광센서(22,24)와 대응하는 높이에 위치할 수 있도록 조절할 수 있다. The light
또한, 두 개의 수광센서는 각각 두 개의 고정나사(32,34)에 의해 수광부 패널(30)에 부착되어 있으며, 고정나사가 삽입되는 나사홈이 좌우방향으로 길게 형성되어 있다. 이와 같이 나사홈이 좌우방향으로 길게 형성되어 있으므로 수광센서의 좌우 위치를 적절하게 조절할 수 있다.In addition, the two light receiving sensors are attached to the light
이와 같이 수광부 패널(30)의 위치를 적절하게 조절하여 발광센서(22,24)와의 위치를 맞추어야 하는 이유는 웨이퍼(W)의 플랫존이 제대로 정렬되었는지를 발광센서(22,24)에서 발광된 신호를 수광센서가 감지하는지 여부로 확인하기 때문이다.The reason why the position of the light
본 발명은 종래의 기술과 달리 수광부 패널(30)을 웨이퍼 정렬대(10)에 보다 견고하게 고정하기 위하여 수광부 패널(30)의 테두리에 지지프레임(40)을 설치하며, 상기 지지프레임(40)을 지지플레이트(50)를 매개로 웨이퍼 정렬대(10)에 고정부착시킨다.The present invention, unlike the prior art, to install the
즉, 도 3에 도시된 바와 같이 수광부 패널(30)의 상하부 테두리에 가로봉(41)을 설치하고 좌우 테두리에는 세로봉(42)을 설치하며, 세로봉(42)은 지지플레이트(50)와 일체로 형성되어 웨이퍼 정렬대(10)의 측벽에 고정된다.That is, as shown in FIG. 3,
가로봉(41) 및 세로봉(42)의 구조에 대하여 도 3 및 도 4를 참조하여 설명하면, 가로봉(41)은 내부가 중공되어 있으며, 수광부 패널(30)과의 면접부위에 홈(41a)이 형성되어 있어, 수광부 패널(30)이 가로봉의 홈(41a)에 끼워져 고정설치된다.The structure of the
그리고, 세로봉(42) 또한 내부가 중공되어 있으며, 수광부 패널(30)과의 면접부위에 홈이 형성되어 있어 수광부 패널(30)이 상기 홈에 끼워져 고정설치된다. 세로봉(42)에는 가로봉(41) 양단과의 면접부에 가로봉(41)이 삽입되는 홀이 형성되어 있으며, 상기 홀은 수직방향으로 다수 개 형성되어 있어 가로봉(41)의 높이를 적절하게 맞출 수 있다.In addition, the
수광부 패널(30)의 테두리를 가로봉(41)이나 세로봉(42)에 모두 끼울 필요는 없으므로, 수광부 패널(30)을 견고하게 지지할 수 있다면 가로봉(41)이나 세로봉(42) 중 어느 하나에만 수광부 패널(30)을 끼울 수 있는 홈이 형성되어도 무방하다.Since the edges of the light receiving
가로봉(41)의 양단을 세로봉(42)의 홀에 끼운 후 가로봉(41)과 세로봉(42)이 보다 견고하게 체결될 수 있도록 체결나사(43)로 가로봉(41) 및 세로봉(42)을 체결한다.Insert both ends of the
상기 지지프레임(40)은 지지플레이트(50)에 의해 보다 견고하게 수광부 패널(30)을 지지할 수 있다. 즉, 도 3과 같이 세로봉(42)과 일체로 형성된 지지플레이트(50)를 웨이퍼 정렬대(10)에 고정시킴으로써 지지플레임(40)이 수광부 패널(30)을 보다 더 견고하게 고정 및 지지시킬 수 있게 된다.The
상기 지지프레임(40)의 가로봉(41) 및 세로봉(42)은 반드시 도 3 및 도 4와 같이 체결될 필요는 없으며, 가로봉(41)과 세로봉(42)을 체결나사(43)로 체결하지 않고 단순히 세로봉(42)의 홀에 가로봉(41)을 끼운 후 가로봉(41)만을 고정나사로 수광부 패널(30)에 고정시킬 수도 있다.The
이와 같이 수광부 패널(30)을 지지프레임(40) 및 지지플레이트(50)로 지지 및 고정시키면, 카세트(13)를 웨이퍼 정렬대(10) 위에 올려놓을 때 발생하는 진동 또는 정렬롤러(15) 및 가이드롤러(17)의 회전에 의해 발생하는 진동에도 불구하고 수광부 패널(30)이 틀어지거나 위치변경이 되지 않아 웨이퍼의 플랫존을 제대로 검지할 수 있다. 따라서 웨이퍼의 플랫존을 잘못 검지함으로 인해 발생하는 에러 및 웨이퍼의 깨짐 등을 방지할 수 있고 기기오작동으로 인한 작업로스를 방지할 수 있다.When the light receiving
이하, 이와 같이 구성되는 본 발명의 웨이퍼 정렬 검지장치의 작용에 대하여 설명한다.Hereinafter, the effect | action of the wafer alignment detection apparatus of this invention comprised in this way is demonstrated.
도 5는 웨이퍼가 정렬상태일 때, 도 2의 Ⅴ선의 단면도이며, 도 6은 웨이퍼가 비정렬상태일 때, 도 2의 Ⅵ선의 단면도이다.5 is a cross sectional view taken along the line V of FIG. 2 when the wafer is aligned, and FIG. 6 is a cross sectional view taken along the line VI of FIG. 2 when the wafer is unaligned.
카세트(13) 내의 웨이퍼(W)가 정렬되어 있을 때에는, 도 5에 도시된 바와 같이 웨이퍼의 플랫존(F)이 정하방을 향하며, 가이드롤러(17)가 웨이퍼의 플랫존(F)의 일측 끝부분에 접촉된다. 이 경우 정렬롤러(15)가 화살표 방향으로 회전하더라도, 웨이퍼(W)는 플랫존(F)과 가이드롤러(17)간의 간섭에 의해 회전이 방지되어 정렬된 상태를 유지하게 된다.When the wafers W in the
그러나, 카세트(13) 내의 웨이퍼(W)가 비정렬상태일 때에는, 도 6에 도시된 바와 같이 가이드롤러(17)가 웨이퍼의 플랫존(F)이 아닌 웨이퍼(W)의 원주면에 접촉하게 된다. 이 경우에는 정렬롤러(15)가 화살표 방향으로 회전하면 비정렬된 웨이퍼는 가이드롤러(17)의 간섭을 받지 않고 가이드롤러(17)와 접촉된 상태에서 회전하게 되며, 정렬롤러(15)가 소정 각도 회전하면, 웨이퍼의 플랫존(F)이 가이드롤러(17)에 걸리게 된다.However, when the wafer W in the
이와 같이 웨이퍼의 플랫존(F)이 가이드롤러(17)에 걸리면 정렬롤러(15)가 회전하더라도 웨이퍼(W)는 회전하지 않게되며 정렬이 완료된다.As such, when the flat zone F of the wafer is caught by the
상술한 과정을 거쳐 웨이퍼가 정렬되는데, 상기 웨이퍼가 제대로 정렬되었는 지는 발광센서(22,24)와 수광센서의 광로를 통해 확인하는 바, 도 7 및 도 8을 참조하여 이를 설명한다.The wafer is aligned through the above-described process, and it is checked whether the wafer is properly aligned through the light paths of the
도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼 플랫존을 확인하는 방법을 설명하기 위한 웨이퍼 정렬 검지장치의 개략적 사시도이고, 도 8은 도 7의 Ⅷ-Ⅷ선의 단면도이다.FIG. 7 is a schematic perspective view of a wafer alignment detection apparatus for explaining a method of confirming a wafer flat zone according to the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line VII-VII of FIG. 7.
설명의 편의를 위하여 제1정렬확인지점(F1)과 제2 정렬확인지점(F2)을 도입하기로 한다. 정렬확인지점은 하나일 수도 있고, 2개 이상일 수도 있다. For convenience of description, a first alignment check point F1 and a second alignment check point F2 will be introduced. There may be one alignment check point or two or more alignment check points.
제1 정렬확인지점(F1)은 웨이퍼의 플랫존(F)의 일치여부를 확인할 수 있는 가상 지점의 하나로서, 정렬롤러(15) 내에 위치하고 웨이퍼 플랫존(F)의 하단 소정 거리에 위치하며, 웨이퍼 플랫존(F)이 이 지점을 침범하면 웨이퍼(W)가 정렬되지 않은 것을 의미한다. The first alignment check point (F1) is one of the virtual points that can confirm whether the flat zone (F) of the wafer is matched, is located in the
또한, 제1 정렬확인지점(F1)과 동일한 목적으로 정렬롤러(15) 내에 위치하고 웨이퍼 플랫존(F)의 하단 소정의 거리에 위치하는 제2 정렬확인지점(F2)을 정의한다. 제1 정렬확인지점(F1)과 제2 정렬확인지점(F2)은 모두 정렬된 웨이퍼의 플랫존(F)의 하단에 동일한 거리만큼 이격되어 있다.Also, for the same purpose as the first alignment check point F1, a second alignment check point F2 is defined in the
제1 정렬확인지점(F1)과 제2 정렬확인지점(F2)은 발광센서(22,24) 및 이에 대응하는 수광센서로 이루어지는 제 1센서부 및 제 2센서부로 검지한다.The first alignment check point F1 and the second alignment check point F2 are detected by the first sensor unit and the second sensor unit including the
즉, 발광센서(22,24)와 수광센서로 이루어진 제1 센서부로 제1 정렬확인지점(F1)을 검지하고, 또 다른 발광센서(22,24)와 수광센서로 이루어진 제2 센서부로 제2 정렬확인지점(F2)을 검지한다.That is, the first alignment check point F1 is detected by the first sensor part including the
웨이퍼(W)의 정렬 검지는 제1 센서부 및 제2 센서부의 발광센서(22,24)에서 광신호를 발생하면 수광센서에서 그 신호를 읽어들이면서 수행된다. 이때, 제1 정렬확인지점(F1)과 상기 제2 정렬확인지점(F2)의 검지 허용오차가 +1.0㎜인 것이 바람직하다.The alignment detection of the wafer W is performed by reading the signal from the light receiving sensor when the light signal is generated by the
만일, 웨이퍼(W)가 정렬된 상태라면 제1 센서부의 발광센서(22)와 제2 센서부의 발광센서(24)에서 발생한 광신호가 동시에 제1 센서부의 수광센서와 제2 센서부의 수광센서에서 읽혀지게 된다.If the wafer W is aligned, the optical signals generated by the
반면, 웨이퍼의 플랫존이 정렬되지 않은 상태라면 제1 센서부의 수광센서와제2 센서부의 수광센서 중 어느 하나라도 광신호를 읽지 못하게 된다. 왜냐하면 웨이퍼의 플랫존이 기울어짐으로써 제1 센서부나 제2 센스부에 의한 광로가 방해되기 때문이다. 웨이퍼 플랫존이 정렬되지 않은 경우에는 이를 경고음(alarm)이나 모니터(monitor)로 작업자에게 알려줄 수 있다.On the other hand, if the flat zone of the wafer is not aligned, any one of the light receiving sensor of the first sensor unit and the light receiving sensor of the second sensor unit may not read the optical signal. This is because the optical path by the first sensor portion or the second sense portion is disturbed by the tilting of the flat zone of the wafer. If the wafer flat zone is not aligned, this can be alerted to the operator by an alarm or monitor.
이상에서는 도면과 명세서에 최적 실시예를 개시하였다. 여기서는 설명을 위해 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이며, 의미를 한정하거나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 한다.In the above, the best embodiment has been disclosed in the drawings and the specification. Although specific terms have been used herein for the purpose of description, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not intended to limit the meaning or the scope of the invention as set forth in the claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be defined by the technical spirit of the appended claims.
본 발명에 의하면, 수광부 패널을 지지프레임 및 지지플레이트로 지지 및 고 정시킴으로써, 카세트를 웨이퍼 정렬대 위에 올려놓을 때 발생하는 진동 또는 정렬롤러나 가이드롤러의 회전에 의해 발생하는 진동에도 불구하고 수광부 패널이 틀어지거나 위치변경이 되지 않아 웨이퍼의 플랫존을 제대로 검지할 수 있게 되므로 웨이퍼의 플랫존을 잘못 검지하여 발생하는 웨이퍼 깨짐을 방지할 수 있고, 기기의 오작동으로 인한 에러 및 작업로스를 방지할 수 있다.According to the present invention, by holding and fixing the light receiving unit panel with the support frame and the support plate, the light receiving unit panel despite the vibration generated when the cassette is placed on the wafer alignment table or the vibration generated by the rotation of the alignment roller or the guide roller. Since the flat zone of the wafer can be properly detected because there is no misalignment or change of position, it is possible to prevent wafer cracking caused by incorrect detection of the flat zone of the wafer, and to prevent errors and work losses due to malfunction of the device. have.
Claims (6)
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Publications (1)
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ID=38176524
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108717207A (en) * | 2018-05-21 | 2018-10-30 | 深圳市杰普特光电股份有限公司 | Panel places detection device and panel places detection method |
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2005
- 2005-10-13 KR KR1020050096630A patent/KR20070040997A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN108717207A (en) * | 2018-05-21 | 2018-10-30 | 深圳市杰普特光电股份有限公司 | Panel places detection device and panel places detection method |
CN108717207B (en) * | 2018-05-21 | 2024-03-29 | 深圳市杰普特光电股份有限公司 | Panel placement detection device and panel placement detection method |
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