KR20070039315A - 웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치 - Google Patents

웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20070039315A
KR20070039315A KR1020050094506A KR20050094506A KR20070039315A KR 20070039315 A KR20070039315 A KR 20070039315A KR 1020050094506 A KR1020050094506 A KR 1020050094506A KR 20050094506 A KR20050094506 A KR 20050094506A KR 20070039315 A KR20070039315 A KR 20070039315A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
manufacturing apparatus
semiconductor manufacturing
alignment sensor
misaligned
Prior art date
Application number
KR1020050094506A
Other languages
English (en)
Inventor
함규환
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020050094506A priority Critical patent/KR20070039315A/ko
Publication of KR20070039315A publication Critical patent/KR20070039315A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

웨이퍼 이송시 웨이퍼가 정위치에 위치되었는지 명확히 구분할 수 있는 웨이퍼 얼라인 센서를 구비하는 반도체 제조 장치를 개시한다. 개시된 본 발명의 반도체 제조 장치는, 반응 공간 사이에 웨이퍼를 이송시키는 반도체 제조 장치에 있어서, 웨이퍼가 정위치에 위치하는지 여부를 감지하는 웨이퍼 얼라인 센서와, 상기 웨이퍼 얼라인 센서에서 감지된 데이터와 웨이퍼가 정상적으로 얼라인되었을때의 데이터를 비교하여 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 판단하는 제어부, 및 상기 제어부의 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 표시하는 표시부를 포함한다.
표시부, 디짓 계기판, 웨이퍼 이송 장치

Description

웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치{Semiconductor manufacturing apparatus having sensor for aligning wafer}
도 1은 종래의 웨이퍼 이송 장치에 있어서 웨이퍼 얼라인 센서를 나타내는 사진이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 제조 장치의 블록도이다.
도 3은 도 2의 표시부가 장착된 반도체 제조 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
110 : 웨이퍼 얼라인 센서 120 : 제어부 130 : 표시부
210 : 웨이퍼 이송 장치의 벽 220 : 웨이퍼 이송부
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치에 관한 것이다.
일반적으로 웨이퍼상에 형성되는 반도체 소자는 여러 단계의 공정을 통해 제 조된다. 이들 각각의 공정은 각기 다른 가스, 온도, 압력등의 조건하에서 진행되므로, 상기 각각의 공정을 진행하기 위하여 웨이퍼는 서로 다른 반도체 제조 장치에서 처리될 수 있다. 이때, 상기 웨이퍼는 웨이퍼 이송 장치에 의해 반도체 제조 장치간을 이송한다.
상기 웨이퍼 이송 장치는 다수의 웨이퍼가 수용된 캐리어를 이송시킬 수 있고, 캐리어에 수용된 낱장의 웨이퍼를 제조 장치의 척 상으로 이송시킬 수도 있다. 이때, 상기 웨이퍼 이송 장치는 낱장의 웨이퍼 이송시 웨이퍼의 플랫존(flat zone)을 얼라인시키기 위한 센서를 구비하고 있어, 단위 웨이퍼 이송시 웨이퍼 얼라인을 이루고 있다
이러한 종래의 얼라인 센서, 일명 오리플라(Oripla) 센서는 도 1에 도시된 바와 같이, 발광부(10)와 수광부(20)를 포함한다. 발광부(10)와 수광부(20)는 웨이퍼의 플랫존이 정위치에 놓여졌을 때 일치되도록 설계되어 있으며, 발광부(10)와 수광부(20)가 일치되는 경우 수광부(20)를 통해 불빛이 나오도록 되어 있다.
만일, 웨이퍼의 플랫존이 정위치에 놓여져 있지 않다면, 발광부(10)와 수광부(20)의 위치가 틀어지게 되어, 수광부(20)를 통해 희미한 불빛이 발현되고, 엔지니어는 수광부(20)의 발광 감도를 통해 웨이퍼의 플랫존이 정위치에 놓여있는지, 아니면 미스얼라인되었는지를 판단한다.
그러나, 상기 웨이퍼 얼라인 센서의 발광 감도는 상대적인 값이어서, 엔지니어에 따라 웨이퍼 얼라인 센서의 발광 감도를 느끼는 차이가 있다. 이에 따라, 정확히 웨이퍼가 얼라인이 되었는지 아니면 미스 얼라인이 되었는지 결정을 내리기 어렵고 이로 인해 에러가 발생하였는데도 불구하고 이를 인지하지 못하는 경우가 빈번하다.
따라서, 본 발명의 목적은 웨이퍼 이송시 웨이퍼가 정위치에 위치되었는지 명확히 구분할 수 있는 웨이퍼 얼라인 센서를 구비하는 반도체 제조 장치를 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 반도체 제조 장치는, 반응 공간 사이에 웨이퍼를 이송시키는 반도체 제조 장치에 있어서, 웨이퍼가 정위치에 위치하는지 여부를 감지하는 웨이퍼 얼라인 센서와, 상기 웨이퍼 얼라인 센서에서 감지된 데이터와 웨이퍼가 정상적으로 얼라인되었을때의 데이터를 비교하여 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 판단하는 제어부, 및 상기 제어부의 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 표시하는 표시부를 포함한다.
상기 표시부는 디짓 계기판일 수 있으며, 상기 표시부는 정상 얼라인시와 미스얼라인시 서로 다른 숫자를 표시한다.
이하 첨부한 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하도록 한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이며, 도면상에서 동일한 부호로 표시된 요소는 동일한 요소를 의미한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 제조 장치의 블록도이고, 도 3은 도 2의 표시부가 장착된 반도체 제조 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하여, 본 발명의 반도체 제조 장치(100)는 웨이퍼의 위치를 감지하는 웨이퍼 얼라인 센서(110) 및 웨이퍼 얼라인 센서(110)를 통하여 얻어진 웨이퍼의 위치 데이터에 의해 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 판단하는 제어부(120)를 포함한다. 또한, 본 발명의 반도체 제조 장치(100)는 제어부(120)의 미스얼라인 결정 여부를 표시하기 위한 표시부(130)를 더 포함한다.
여기서, 반도체 제조 장치(100)는 웨이퍼 이송 장치일 수 있으며, 상기 웨이퍼 얼라인 센서(110)는 웨이퍼 이송 장치에 의해 웨이퍼 이송후, 웨이퍼의 플랫존이 정위치에 놓여졌는지를 감지한다.
제어부(120)는 웨이퍼 얼라인 센서(110)로부터 감지된 웨이퍼 위치 데이터와 제어부(120)내에 내장되어 있는 웨이퍼 위치 데이터를 비교하여, 상기 이송되는 웨이퍼가 제조 장치의 척의 정위치에 놓여져있는지 여부를 판단한다.
상기 표시부(130)는 0-9까지의 숫자를 표현하는 디짓(digit) 계기판일 수 있다. 표시부(130)는 도 3에 도시된 바와 같이 웨이퍼 이송 장치의 벽(210) 부분 예컨대 엔지니어의 시야에 쉽게 들어올 수 있는 위치에 설치됨이 바람직하다. 이 표시부(130)는 웨이퍼가 미스얼라인되었을때와 정상 얼라인되었을 때 서로 다른 숫자 를 표시하도록 설계되어 있다. 예컨대, 웨이퍼가 미스얼라인이 된 경우는 "0"을 표시하고, 웨이퍼가 정상 얼라인되었을 경우는 "9"를 표시하도록 설계될 수 있다. 도 3에서 미설명 도면 부호 220는 웨이퍼 이송부를 나타내며, 이 웨이퍼 이송부는 실질적으로 웨이퍼를 이송시키면서 수직 및 수평 방향으로 이송이 가능하다.
이와같이, 웨이퍼 이송 장치내에 디짓 계기판 형태의 표시부(130)를 설치하면, 웨이퍼가 미스얼라인되었을 때 엔지니어가 한눈에 얼라인 불량 여부를 인지할 수 있어, 공정 불량을 방지할 수 있다.
이상에서 자세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 웨이퍼 이송 장치의 소정 부분에 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 표시하는 표시부를 설치한다. 표시부는 정상 얼라인시와 미스 얼라인시 서로 다른 숫자를 표시하므로써, 엔지니어에게 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 정확히 전달한다.
그러므로, 엔지니어는 웨이퍼 미스얼라인 여부에 대한 혼동이 방지되어, 공정 불량을 감소시킬 수 있다.
이상 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.

Claims (3)

  1. 반응 공간 사이에 웨이퍼를 이송시키는 반도체 제조 장치에 있어서,
    웨이퍼가 정위치에 위치하는지 여부를 감지하는 웨이퍼 얼라인 센서,
    상기 웨이퍼 얼라인 센서에서 감지된 데이터와 웨이퍼가 정상적으로 얼라인되었을때의 데이터를 비교하여 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 판단하는 제어부, 및
    상기 제어부의 웨이퍼의 미스얼라인 여부를 표시하는 표시부를 포함하는 반도체 제조장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 표시부는 디짓 계기판인 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 표시부는 정상 얼라인시와 미스얼라인시 서로 다른 숫자를 표시하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치.
KR1020050094506A 2005-10-07 2005-10-07 웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치 KR20070039315A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050094506A KR20070039315A (ko) 2005-10-07 2005-10-07 웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050094506A KR20070039315A (ko) 2005-10-07 2005-10-07 웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070039315A true KR20070039315A (ko) 2007-04-11

Family

ID=38160206

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050094506A KR20070039315A (ko) 2005-10-07 2005-10-07 웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20070039315A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7406360B2 (en) Method for detecting transfer shift of transfer mechanism and semiconductor processing equipment
KR100862702B1 (ko) 기판 정렬 감지장치
KR20070039315A (ko) 웨이퍼 얼라인 센서를 구비한 반도체 제조 장치
KR20070069952A (ko) 턴 오버 모듈에서 웨이퍼 얼라인 불량 검출장치
KR100244918B1 (ko) 반도체 패턴 검사장치 및 그 검사방법
KR20080008443A (ko) 반도체 코팅설비의 웨이퍼 플랫존 정렬상태 검출장치
KR20060116912A (ko) 웨이퍼 이송 장치
KR20080017212A (ko) 바큠센서가 설치된 웨이퍼 홀더 및 이를 이용한 웨이퍼홀더상의 웨이퍼 정위치 감지 방식과 웨이퍼 위치 조정방식
KR20060118194A (ko) 반도체 웨이퍼 매핑 장치
JP4973091B2 (ja) 半導体試験装置
KR20020062437A (ko) 웨이퍼의 베이크 장치 및 그 방법
KR100840712B1 (ko) 위치센서를 이용한 웨이퍼 센터링 방법
KR20040005359A (ko) 기판 안착상태 감지장치
KR100847576B1 (ko) 센서 작동 확인 방법 및 이를 이용하는 테스트 트레이의정위치 확인 방법
KR20210130365A (ko) 반도체 설비의 자가 진단 및 자동 포지셔닝 시스템
KR20070053477A (ko) 웨이퍼 이탈 감지장치를 포함하는 반도체 제조장치
KR20060036302A (ko) 냉각 챔버의 인터락을 위한 웨이퍼 감지 장치를 구비하는고밀도 플라즈마 설비
KR20030045946A (ko) 베이크 장치
KR20050108039A (ko) 웨이퍼 미끄러짐을 방지할 수 있는 반도체 제조 장치
KR100709563B1 (ko) 웨이퍼이송장치 및 그 이송방법
KR20060113157A (ko) 로봇 암을 갖는 반도체 제조 설비
KR20050011403A (ko) 섀도우 링 내에 웨이퍼 검출 센서를 갖는 반도체 식각장치 및 이를 이용한 식각 방법
KR20030061032A (ko) 반도체 제조설비
KR20060061096A (ko) 웨이퍼 정렬 장치
KR19990039601A (ko) 반도체 웨이퍼 정렬 방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination