KR20070035306A - Light emitting diode and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20070035306A KR1020050089994A KR20050089994A KR20070035306A KR 20070035306 A KR20070035306 A KR 20070035306A KR 1020050089994 A KR1020050089994 A KR 1020050089994A KR 20050089994 A KR20050089994 A KR 20050089994A KR 20070035306 A KR20070035306 A KR 20070035306A
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조인성
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Abstract

본 발명은 발광 소자에 관한 것으로, 특히 기판의 상부에 각기 다른 파장의 광을 방출하는 활성층들이 적층된 발광 다이오드를 제조함으로써, 각각의 활성층에서 방출된 광을 혼합시켜 가시광선 영역의 다양한 파장의 광을 방출시키는 발광 다이오드 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 이와 같은 본 발명에 따른 발광 소자는 기판 위에 제 1 도전형 클래드층, 활성층, 제 2 도전형 클래드층이 순차적으로 적층된 반도체 발광 소자에 있어서, 상기 활성층은 In의 조성을 각각 달리한 x y,z 활성층이 순차적으로 적층된 구조이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device, and in particular, by manufacturing a light emitting diode in which active layers emitting different wavelengths of light are stacked on top of a substrate, the light emitted from each active layer is mixed to provide light of various wavelengths in the visible region. A light emitting diode that emits light and a method of manufacturing the same. The light emitting device according to the present invention is a semiconductor light emitting device in which a first conductive cladding layer, an active layer, and a second conductive cladding layer are sequentially stacked on a substrate, wherein the active layer has an xy, z active layer having a different composition of In. This is a sequentially stacked structure.

발광 소자, 양자 우물(QW) Light Emitting Device, Quantum Well (QW)

Description

발광 다이오드 및 그 제조 방법{Light emitting diode and manufacturing method thereof}Light emitting diode and manufacturing method thereof

도 1은 종래의 발광 다이오드 구조를 나타낸 단면도1 is a cross-sectional view showing a conventional light emitting diode structure

도 2는 본 발명에 따른 발광 다이오드 구조를 나타낸 단면도2 is a cross-sectional view showing a light emitting diode structure according to the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for main parts of drawings *

100 : 기판 200 : 제 1 도전형 클래드층100 substrate 200 first conductive clad layer

300 : 활성층 400 : 제 2 도전형 클래드층300: active layer 400: second conductivity type clad layer

500 : 접촉층 600 : 제 1 전극500: contact layer 600: first electrode

700 : 제 2 전극700: second electrode

본 발명은 발광 소자에 관한 것으로, 특히 기판의 상부에 각기 다른 파장의 광을 방출하는 활성층들이 적층된 발광 다이오드를 제조함으로써, 각각의 활성층에서 방출된 광을 혼합시켜 가시광선 영역의 다양한 파장의 광을 방출시키는 발광 다이오드 및 그 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device, and in particular, by manufacturing a light emitting diode in which active layers emitting different wavelengths of light are stacked on top of a substrate, the light emitted from each active layer is mixed to provide light of various wavelengths in the visible region. A light emitting diode that emits light and a method of manufacturing the same.

현재 화합물 반도체를 이용한 광소자에 대한 연구 동향은 최근에 가정용 형 광등과, LCD(Liquid Crystal Display) 백 라이트 등 조명 분야에 상당한 시장성을 가지고 있으며, 백색 발광 다이오드에 많은 관심이 모아지고 있다. Currently, research trends on optical devices using compound semiconductors have recently had considerable marketability in lighting fields such as home fluorescent lamps and liquid crystal display (LCD) backlights, and attention has been focused on white light emitting diodes.

일반적으로 발광 다이오드(Light Emitting Diode)는 화합물 반도체의 특성을 이용하여 전기를 적외선 또는 빛으로 변화시켜 신호를 보내고 받는데 사용되는 반도체의 일종으로 가정용 가전제품, 리모콘, 전광판, 표시기기, 각종 자동화 기기 등에 사용된다.In general, a light emitting diode (Light Emitting Diode) is a kind of semiconductor used to send and receive signals by converting electricity into infrared or light by using the characteristics of compound semiconductors, such as home appliances, remote control, display boards, display devices, various automation devices, etc. Used.

상기 발광 다이오드의 동작원리는 특정 원소의 반도체에 순방향 전압을 인가하여 양극과 음극(Positive-negative)의 접합(junction) 부분을 통해 전자와 정공이 이동하면서 서로 재결합하는데, 전자와 정공의 결합에 의하여 에너지 준위가 떨어져 빛이 방출되는 것이다. The operation principle of the light emitting diode is to apply a forward voltage to a semiconductor of a specific element and recombine with each other while electrons and holes are moved through a junction of a positive and a negative electrode. The energy level drops and light is emitted.

또한, 발광 다이오드는 보편적으로 0.23 제곱 밀리미터의 매우 작은 크기로 제작되며, 에폭시 몰드와 리드 프레임 및 PCB에 실장 된 구조를 하고 있다. 현재 가장 보편적으로 사용하는 발광 다이오드는 5밀리미터 플라스틱 패키지(package)나특정 응용 분야에 따라 새로운 형태의 패키지를 개발하고 있다. 발광 다이오드에서 방출되는 빛의 색깔은 반도체 칩 구성원소의 배합에 따라 파장을 만들며 이러한 파장이 빛의 색깔을 결정 짓는다. In addition, the light emitting diode is generally manufactured in a very small size of 0.23 square millimeters, and has an epoxy mold, a lead frame and a PCB mounted structure. Currently, the most commonly used light emitting diodes are either 5mm plastic packages or new types of packages depending on the specific application. The color of light emitted from the light emitting diodes creates wavelengths depending on the composition of the semiconductor chip components, and these wavelengths determine the color of the light.

그리고, 기존의 AlGaAs 또는 AlGaInP 물질을 이용한 적색과 녹색 LED 개발에 이어 최근에는 Ⅲ-Ⅴ족 질화물 반도체를 이용한 청색과 녹색 등 여러 가시광 영역의 파장뿐만 아니라 자외선과 백색 LED의 개발도 진행되고 있는 상황이다.In addition to the development of red and green LEDs using AlGaAs or AlGaInP materials, the development of ultraviolet and white LEDs as well as the wavelengths of various visible light areas such as blue and green using III-V nitride semiconductors are underway. .

상기 백색 발광 다이오드에는 YAG-GaN 백색 발광 다이오드와 ZnSe 헤테로에 피텍시(heteroepitaxy)를 기본으로 하는 백색 발광 다이오드와, 삼색(적색, 녹색, 청색) 발광 다이오드를 이용한 백색 발광 다이오드 등이 있다. The white light emitting diode includes a YAG-GaN white light emitting diode, a white light emitting diode based on ZnSe heteroepitaxy, and a white light emitting diode using three color (red, green, blue) light emitting diodes.

여기서 상기 YAG-GaN 백색 발광 다이오드는 InGaN계 재료를 이용한 발광소자의 개발로 시작된 백색 발광 다이오드 소자 및 자외선 발광 다이오드 소자의 개발 및 상품화에 발맞추어 InGaN 청색 발광 다이오드와 YAG(Yittrium Aluminum Garnet) 인광 물질을 조합하여 구성된다. Herein, the YAG-GaN white light emitting diode uses an InGaN blue light emitting diode and YAG (Yittrium Aluminum Garnet) phosphor in accordance with the development and commercialization of a white light emitting diode device and an ultraviolet light emitting diode device started with the development of a light emitting device using an InGaN-based material. It is composed in combination.

또한 Ⅲ족 질화물 화합물 반도체를 이용하여 자외선부터 적색까지 발광하는 발광 다이오드 소자에 관심이 모아지고 있고, 자외선/청색/청록색/황색/백색 영역을 발광하는 InGaN계 발광 다이오드가 실용화되고 있지만, GaN 활성층을 이용한 경우 고효율의 발광 소자를 제작하기 어렵다. In addition, attention has been focused on light emitting diode devices that emit light from ultraviolet to red using group III nitride compound semiconductors. InGaN-based light emitting diodes emitting ultraviolet / blue / blue / yellow / white regions have been put to practical use. When used, it is difficult to fabricate a light emitting device having high efficiency.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 따른 발광 소자를 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a light emitting device according to the prior art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 발광 소자의 구조를 나타낸 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a general light emitting device.

이하에서, 설명되는 발광 소자는 질화물 반도체를 이용한 것이며, 그 중에서도 질화 갈륨이 사용된 것으로 한다. In the following, the light emitting element described below uses a nitride semiconductor, and gallium nitride is used.

도 1에 의하면, 종래의 발광 소자는 사파이어 기판(10) 상에 순차적으로 형성된, n형 제 1 도전형 클래드층(20),활성층(30), p형 제 2 도전형 클래드층(40), p형 접촉층(50), n형 전극(50), p형 전극(70)으로 구성된다. Referring to FIG. 1, a conventional light emitting device includes an n-type first conductive cladding layer 20, an active layer 30, a p-type second conductive cladding layer 40, which are sequentially formed on a sapphire substrate 10. It consists of the p-type contact layer 50, the n-type electrode 50, and the p-type electrode 70.

여기서, 상기 활성층(30)은 InGaN 우물층(QW)/GaN 배리어(Barrier) 구조로 이루어졌으며, InGaN 우물층에서 In의 조성과 InGaN 우물층의 두께에 의해 출사하 는 광의 파장을 결정할 수 있다.The active layer 30 has an InGaN well layer (QW) / GaN barrier structure, and the wavelength of light emitted from the InGaN well layer may be determined by the composition of In and the thickness of the InGaN well layer.

즉, 상기와 같이 구성된 발광소자를 이용하여 가시광 영역의 모든 파장대를 구현하는 방법에는 In의 함유량을 조절하는 방법이 있는데 이 방법으로는 모든 파장대의 광을 정확히 구현하기가 어렵다. That is, there is a method of adjusting the content of In in the method of implementing all wavelength bands in the visible light region using the light emitting device configured as described above, and it is difficult to accurately implement light in all wavelength bands.

또 다른 방법은 청색, 녹색과 적색 발광 다이오드를 조합하여 파장을 조절하는 방법이 있다. Another method is to adjust the wavelength by combining blue, green and red light emitting diodes.

즉, 노란색 광 파장을 만들기 위하여 청색과 녹색을 조합하여 황색광 파장을 만들기 때문에 녹색, 적색을 적절히 조합하는 방법이다. In other words, in order to create a yellow light wavelength, blue and green are combined to make a yellow light wavelength.

마지막으로, 자외선 발광 다이오드에 여러가지 표현하고 싶은 색깔의 포스퍼(phosphor)를 사용하는 방법이 있다.Finally, there is a method of using phosphors of various colors to be expressed in ultraviolet light emitting diodes.

즉, 오렌지색을 만들려면 이에 해당하는 오렌지색 포스퍼를 자외선 발광 다이오드 상부에 덮어 발광 다이오드를 만들면 된다. In other words, if you want to create an orange color, the corresponding orange phosphor is covered on top of the ultraviolet light emitting diode to make a light emitting diode.

그러나, 이와 같은 종래의 방법 중에서 단일 발광 다이오드를 사용하는 경우, 정확한 파장의 구현이 쉽지 않으며 적색, 녹색과 청색 발광 다이오드를 혼합하여 사용하는 방법은 조립이 어려우며 다른 방법에 비하여 제조 비용이 많이 드는 단점이 있다. However, in the case of using a single light emitting diode of such a conventional method, it is not easy to implement the correct wavelength, and the method of using a mixture of red, green and blue light emitting diodes is difficult to assemble and costly compared with other methods. There is this.

또한, 상기 발광 다이오드를 혼합하여 제작된 백색 발광 다이오드는 공간상의배치 등에도 어려운 문제가 있다. In addition, the white light emitting diode manufactured by mixing the light emitting diode has a problem that is difficult to arrange in space.

본 발명의 이러한 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 본 발명은 화이트 발광 다이오드를 구현하는데 있어, 적색, 녹색, 청색 발광 다이오드를 혼합하지 않고 직접 구조를 가지는 발광 다이오드 및 그 제조 방법을 제공하는데 목적이 있다. It is an object of the present invention to provide a light emitting diode having a direct structure without mixing red, green, and blue light emitting diodes, and a method of manufacturing the same. have.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 특징은 기판 위에 제 1 도전형 클래드층, 활성층, 제 2 도전형 클래드층이 순차적으로 적층된 반도체 발광 소자에 있어서, 상기 활성층은 In의 조성을 각각 달리한 x y,z 활성층이 순차적으로 적층된 구조이다. According to an aspect of the present invention for achieving the above object, in a semiconductor light emitting device in which a first conductive type cladding layer, an active layer, and a second conductive type cladding layer are sequentially stacked on a substrate, the active layer may have a different composition of In. The xy, z active layers are stacked in this order.

바람직하게는 상기 x, y, z 활성층은 각각 적색, 청색, 녹색 파장을 방출한다. Preferably, the x, y and z active layers emit red, blue and green wavelengths, respectively.

그리고, 상기 x, y, z 활성층의 In의 조성값은 0<x<y<z<1 이다. In addition, the composition value of In of the x, y, and z active layers is 0 <x <y <z <1.

또한, 상기 x, y, z 활성층의 양자 우물(QW)은 10개 이하이다. In addition, the quantum wells QW of the x, y, and z active layers are 10 or less.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다른 특징은 기판 위에 제 1 도전형 클래드층을 형성하는 단계, 상기 제 1 도전형 클래드층상에 x, y, z 활성층을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 x, y, z 활성층 상에 제 2 도전형 클래드층을 형성하는 단계와, 상기 제 1 도전형 클래드층의 일부분이 노출되도록 식각하여 제 1 전극을 형성하는 단계와, 상기 제 2 도전형 클래드층 상에 제 2 전극을 형성하는 단계로 이루어진다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of forming a first conductive cladding layer on a substrate, and sequentially forming x, y, and z active layers on the first conductive cladding layer. forming a second conductive cladding layer on the x, y, z active layer, etching to expose a portion of the first conductive cladding layer to form a first electrode, and the second conductive cladding layer Forming a second electrode on the substrate.

바람직하게는 상기 x, y, z 활성층 각각은 In의 조성이 다르다. Preferably, each of the x, y, z active layers has a different composition of In.

그리고, 상기 In의 조성값은 0<x<y<z<1 이다. The composition value of In is 0 <x <y <z <1.

도 2는 본 발명에 따른 발광 소자의 구조를 나타낸 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing the structure of a light emitting device according to the present invention.

먼저, 본 발명의 실시예를 설명함에 있어서, 본 발명에 의한 발광 소자는 GaN(질화 갈륨), AlN(질화 알루미늄), InN(질화 인듐) 등의 3족 및 5족 화합물을 이용한 질화물 반도체가 사용된 것으로 하고, 그 중에서 질화 갈륨이 적용된 것으로 한다. First, in describing the embodiments of the present invention, the light emitting device according to the present invention is used by nitride semiconductors using Group 3 and 5 compounds such as GaN (gallium nitride), AlN (aluminum nitride), InN (indium nitride), and the like. The gallium nitride is applied to it.

도 2에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 발광 소자는 기판(100) 상에 순차적으로 형성된 제 1 도전형 클래드층(200), 활성층(300), 제 2 도전형 클래드층(400), 접촉층(500)을 형성한다. As shown in FIG. 2, the light emitting device according to the present invention includes a first conductive cladding layer 200, an active layer 300, a second conductive cladding layer 400, and a contact layer sequentially formed on the substrate 100. Form 500.

여기서 상기 기판(100)은 상기 제 1 도전형 클래드층(200)과 동종 물질 또는 이종 물질로 형성한다. The substrate 100 may be formed of the same material or different materials as the first conductive cladding layer 200.

예를 들어, 상기 제 1 도전형 클래드층(200)이 Si-GaN이면, 상기 이종 물질 기판은 사파이어(Sapphire)기판 또는 실리콘 카바이드(SiC) 기판이며, 상기 동종 물질 기판은 GaN 기판이다. For example, when the first conductivity type cladding layer 200 is Si-GaN, the dissimilar material substrate is a sapphire substrate or a silicon carbide (SiC) substrate, and the homogeneous material substrate is a GaN substrate.

이후, 상기 제 1 도전형 클래드층(200)의 상부에 활성층(300)을 형성한다.Thereafter, the active layer 300 is formed on the first conductive cladding layer 200.

여기서, 상기 활성층(300)은 InGaN 양자우물(QW)/GaN 베리어(Barrier)구조로 이루어져 있으며, 이후에 형성될 p형 전극(700)을 통하여 흐르는 정공과 상기 n형 전극(600)을 통하여 흐르는 전자가 결합됨으로써 광을 발생시키는 층이다. Here, the active layer 300 is formed of an InGaN quantum well (QW) / GaN barrier (Barrier) structure, the hole flowing through the p-type electrode 700 to be formed later and flows through the n-type electrode 600 The electrons are bonded to each other to generate light.

상기 활성층(300)은 InGaN QW에서 In의 조성을 각각 x, y, z로 달리하여 적색, 청색, 녹색 발광 다이오드를 구현한다. The active layer 300 implements red, blue, and green light emitting diodes by varying the composition of In in x, y, and z in InGaN QW, respectively.

예를 들면, x, y, z 값의 조성은 0<x<y<z<1으로 구성되며, x의 In 조성을 갖는 QW와, y의 In 조성을 갖는 QW, 그리고, z의 In 조성을 갖는 QW의 수는 10개 이 하이다. For example, the composition of x, y, and z values is composed of 0 <x <y <z <1, and QW having In composition of x, QW having In composition of y, and QW having In composition of z. The number is less than ten.

즉, 활성층(300)의 InGaN QW에서 x y,z 에 In의 조성이 다른 QW을 사용하여 백색 발광 다이오드를 구현하는 것으로, 상기 제 1 도전형 클래드층(200) 위에 QW를 성장하고 그 다음에 다른 동일한 조성을 갖는 QW을 성장한다. In other words, a white light emitting diode is implemented by using QW having a composition of In different in xy, z in InGaN QW of the active layer 300, and grows QW on the first conductive cladding layer 200, and then Grow QWs with the same composition.

QW 성장시에 광출력이 주로 나오는 방향에 In 조성이 작은 InGaN QW를 위치하도록 하면 보다 효율적인 광출력을 얻을 수 있다.More efficient light output can be obtained by placing InGaN QW with a small In composition in the direction where light output mainly occurs during QW growth.

이어서, 상기 활성층(300) 상에 제 2 도전형 클래드층(400)을 형성한다. Subsequently, a second conductive cladding layer 400 is formed on the active layer 300.

상기와 같은 구성에서는 제 1 도전형 클래드층(200)은 n형이며, 제 2 도전형 클래드층(400)은 P형이다. 이는 가장 일반적인 발광 다이오드 구성이다. In the above configuration, the first conductive cladding layer 200 is n-type and the second conductive cladding layer 400 is p-type. This is the most common light emitting diode configuration.

이와 반대로 제 1 도전형 클래드층(200)이 p형이고, 제 2 도전형 클래드층(400)이 n형인 발광 다이오드를 형성할 수 있다. On the contrary, the first conductive cladding layer 200 may be a p-type, and the second conductive cladding layer 400 may be an n-type light emitting diode.

그리고, 상기 제 1 도전형 클래드층(200)의 일부분이 노출되도록 식각된 제 1 도전형 클래드층(200) 상부에 제 1 전극(600)을 형성하고, 제 2 도전형 클래드층(400)상에 형성된 접촉층(500) 상에 제 2 전극(700)을 형성한다. In addition, a first electrode 600 is formed on the first conductive cladding layer 200 etched to expose a portion of the first conductive cladding layer 200, and on the second conductive cladding layer 400. The second electrode 700 is formed on the contact layer 500 formed on the contact layer 500.

상기와 같이 구성된 발광 소자에서 상기 제 2 전극(700)과 제 1 전극(600)에 전압이 인가되면, 제 1 도전형 클래드층(200)으로부터 활성층(300)으로 전자가 주입되고, 제 2 도전형 클래드층(400)으로부터 상기 활성층(300)으로 정공이 주입된다. When a voltage is applied to the second electrode 700 and the first electrode 600 in the light emitting device configured as described above, electrons are injected from the first conductive cladding layer 200 to the active layer 300, and the second conductive Holes are injected into the active layer 300 from the type cladding layer 400.

이때, 상기 활성층(300) 영역으로 주입된 전자와 정공은 재결합하여 빛이 생성되게 된다. At this time, electrons and holes injected into the active layer 300 region are recombined to generate light.

이상에서 본 발명에 대하여 그 바람직한 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. The present invention has been described above with reference to the preferred embodiments, which are merely examples and are not intended to limit the invention, and those of ordinary skill in the art do not depart from the essential characteristics of the present invention. It will be appreciated that various modifications and applications are not possible.

예를 들어, 본 발명의 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. For example, each component specifically shown in the embodiment of the present invention can be modified. And differences relating to such modifications and applications will have to be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.

이상에서 자세히 설명된 바와 같이, 본 발명은 기존의 일반적인 발광 다이오드 구조와는 달리 우물층(QW) 영역에 조성이 다른 InGaN QW를 사용하여 화이트 발광 다이오드를 구현함으로써 보다 효율적인 광 출력을 얻을 수 있으며, 적색, 녹색과 청색 발광 다이오드를 혼합하여 화이트 발광 다이오드 제작시 발생하는 공간상배치의 어려움을 해결하는 효과가 있다. As described in detail above, the present invention can achieve a more efficient light output by implementing a white light emitting diode using InGaN QW having a different composition in the well layer (QW) region, unlike the conventional general light emitting diode structure, By mixing red, green and blue light emitting diodes, there is an effect of solving the difficulty of spatial arrangement that occurs during the production of white light emitting diodes.

Claims (7)

기판 위에 제 1 도전형 클래드층, 활성층, 제 2 도전형 클래드층이 순차적으로 적층된 반도체 발광 소자에 있어서, In a semiconductor light emitting device in which a first conductive cladding layer, an active layer, and a second conductive cladding layer are sequentially stacked on a substrate, 상기 활성층은 In의 조성을 각각 달리한 x y,z 활성층이 순차적으로 적층된 구조인 것을 특징으로 하는 발광 소자. The active layer is a light emitting device, characterized in that the x y, z active layer having a different composition of In is laminated sequentially. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 x, y, z 활성층은 각각 적색, 청색, 녹색 파장을 방출하는 것을 특징으로 하는 발광 소자.And the x, y, and z active layers emit red, blue, and green wavelengths, respectively. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 x, y, z 활성층의 In의 조성값은 0<x<y<z<1 인 것을 특징으로 하는 발광 소자.The composition value of In of the x, y, z active layers is 0 <x <y <z <1. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 x, y, z 활성층의 양자 우물(QW)은 10개 이하인 것을 특징으로 하는 발광 소자.The quantum wells (QW) of the x, y, z active layer is 10 or less light emitting device. 기판 위에 제 1 도전형 클래드층을 형성하는 단계;Forming a first conductivity type clad layer on the substrate; 상기 제 1 도전형 클래드층상에 x, y, z 활성층을 순차적으로 형성하는 단계와;Sequentially forming an x, y, z active layer on the first conductivity type clad layer; 상기 x, y, z 활성층 상에 제 2 도전형 클래드층을 형성하는 단계와;Forming a second conductive cladding layer on the x, y, z active layer; 상기 제 1 도전형 클래드층의 일부분이 노출되도록 식각하여 제 1 전극을 형성하는 단계와;Etching a portion of the first conductive clad layer to form a first electrode; 상기 제 2 도전형 클래드층 상에 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 제조 방법.And forming a second electrode on the second conductive cladding layer. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, 상기 x, y, z 활성층 각각은 In의 조성이 다른 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 제조 방법. The x, y, z active layer is a light emitting diode manufacturing method, characterized in that the composition of In different. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 In의 조성값은 0<x<y<z<1 인 것을 특징으로 하는 발광 다이오드 제조 방법.The composition value of In is 0 <x <y <z <1.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10211418B2 (en) 2016-07-15 2019-02-19 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting device and fabricating method thereof
CN111490137A (en) * 2020-06-23 2020-08-04 华灿光电(浙江)有限公司 Light emitting diode epitaxial wafer, display array and manufacturing method thereof
US11005009B2 (en) 2016-07-15 2021-05-11 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting device and fabricating method thereof
US12034097B2 (en) 2016-07-15 2024-07-09 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting device and fabricating method thereof

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10211418B2 (en) 2016-07-15 2019-02-19 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting device and fabricating method thereof
US10714701B2 (en) 2016-07-15 2020-07-14 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting display device
US11005009B2 (en) 2016-07-15 2021-05-11 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting device and fabricating method thereof
US11127914B2 (en) 2016-07-15 2021-09-21 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting device and fabricating method thereof
US12034097B2 (en) 2016-07-15 2024-07-09 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting device and fabricating method thereof
CN111490137A (en) * 2020-06-23 2020-08-04 华灿光电(浙江)有限公司 Light emitting diode epitaxial wafer, display array and manufacturing method thereof
CN111490137B (en) * 2020-06-23 2020-10-16 华灿光电(浙江)有限公司 Light emitting diode epitaxial wafer, display array and manufacturing method thereof

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