KR20070032487A - Slit-door valve of semiconductor manufacturing equipment - Google Patents

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KR20070032487A KR1020050086754A KR20050086754A KR20070032487A KR 20070032487 A KR20070032487 A KR 20070032487A KR 1020050086754 A KR1020050086754 A KR 1020050086754A KR 20050086754 A KR20050086754 A KR 20050086754A KR 20070032487 A KR20070032487 A KR 20070032487A
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이병록
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Abstract

A slit door valve of semiconductor manufacturing equipment is provided to prevent mis-operation of the slit door valve and to uniformly maintain a vacuum status of a process chamber by using a fan for flowing the outer air into the slit door valve and exhausting the flowed air. A slit door(200) is prepared to open and shut a slit of a process chamber. A valve main frame(110) moves the slit door to open and shut the slit. A cooling fan is formed on the valve main frame to cool it. The valve main frame includes an operation unit and a pair of cover members(120a). The operation unit moves the slit door. The cover members form both surfaces of the outside of the operation unit. The cooling fan is a sucking fan(130a). The sucking fan is prepared on the lateral cover member to suck the outer air of the valve main frame.

Description

반도체 제조설비의 슬릿도어 밸브{slit-door valve of semiconductor manufacturing equipment}Slit-door valve of semiconductor manufacturing equipment

도 1은 본 발명에 따른 슬릿도어 밸브를 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view showing a slit door valve according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 슬릿도어 밸브를 나타낸 분해사시도이다. Figure 2 is an exploded perspective view showing a slit door valve according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 슬릿도어 밸브의 설치상태를 나타낸 측면도이다. Figure 3 is a side view showing the installation state of the slit door valve according to the present invention.

**도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **

100 : 슬릿도어 밸브100: slit door valve

110 : 밸브 본체110: valve body

112 : 작동부112: operating part

114 : 액추에이터114: Actuator

120a, 120b : 커버부재120a, 120b: cover member

122a : 유입구122a: inlet

122b : 배출구122b: outlet

130a : 흡입팬130a: suction fan

130b : 배출팬130b: exhaust fan

본 발명은 반도체 제조장비의 슬릿도어 밸브에 관한 것으로 보다 상세하게는 서로 다른 압력상태인 두 개의 챔버 사이에 형성된 슬릿도어를 개폐하도록 마련되는 슬릿밸브의 온도 상승을 방지할 수 있는 반도체제조장비의 슬릿도어 밸브에 관한 것이다. The present invention relates to a slit door valve of a semiconductor manufacturing equipment, and more particularly, to a slit of a semiconductor manufacturing equipment capable of preventing a temperature rise of a slit valve provided to open and close a slit door formed between two chambers under different pressure conditions. Relates to a door valve.

일반적으로 반도체 제조장치는 진공상태로 공정이 수행되는 프로세스 챔버 외에 이 프로세스 챔버와 인접하여 설치된 기타 챔버를 구비하고 있다.In general, a semiconductor manufacturing apparatus includes a process chamber in which a process is performed in a vacuum state, and other chambers installed adjacent to the process chamber.

즉 웨이퍼가공 공정이 수행되는 프로세스 챔버, 가공을 위한 웨이퍼를 로드 또는 언로드 하는 로드락 챔버 그리고 프로세스 챔버와 로드락 챔버 사이에 설치되어 웨이퍼를 이송시키는 트랜스퍼 챔버로 되어 있다.That is, a process chamber in which a wafer processing process is performed, a load lock chamber for loading or unloading a wafer for processing, and a transfer chamber installed between the process chamber and the load lock chamber to transfer wafers.

또한, 상술한 각 챔버에서 웨이퍼의 가공공정 진행될 때에는 각 공정이 진행되는 프로세스 챔버 등에서 웨이퍼 가공공정 진행에 따른 열이 외부로 전달된다. 이러한 열은 각 챔버에 인접한 다른 장비에 영향을 미치게 된다. In addition, when the wafer processing process is performed in each of the above-described chambers, heat in accordance with the progress of the wafer processing process is transferred to the outside in a process chamber in which each process is performed. This heat will affect other equipment adjacent to each chamber.

그리고 상술한 각각의 챔버들 사이에는 웨이퍼를 통과시키기 위한 슬릿이 형성되어 있고, 슬릿에는 슬릿을 개폐하는 슬릿도어와 슬릿도어를 작동시키는 밸브가 설치되어 슬릿의 개폐가 이루어지도록 되어 있다.A slit for passing the wafer is formed between the above-mentioned chambers, and a slit door for opening and closing the slit and a valve for operating the slit door are installed in the slit to open and close the slit.

이러한, 슬릿도어 밸브는 주로 공압으로 작동하며, 그 구성은 밸브 플레이트와 이 밸브 플레이트를 동작시키는 액추에이터로 되어 있고, 이 액추에이터의 작동 을 위한 동작 압력을 제공하는 동작 압력원이 반도체 제조장치에 구비된다.This slit door valve is mainly operated by pneumatic pressure, the configuration is composed of a valve plate and an actuator for operating the valve plate, the operating pressure source for providing an operating pressure for the operation of the actuator is provided in the semiconductor manufacturing apparatus. .

이러한 슬릿밸브는 공정 진행 중 챔버와 챔버 사이의 압력이 맞추어진 상태에서 일반적으로 동작한다.Such slit valves generally operate with the pressure between the chamber and the chamber being adjusted during the process.

한편, 상술한 슬릿도어 밸브는 각 챔버와 챔버 사이에 마련되는 것으로 각 챔버의 외부로 배출되는 열에 무방비 상태로 방치되어 있어 각 챔버에서 발생되는 열에 영향을 받게 되고, 슬릿도어 밸브의 정상적인 작동을 보장할 수 있는 온도를 넘어갈 경우 슬릿도어 밸브의 오작동을 유발한다. On the other hand, the above-mentioned slit door valve is provided between each chamber and the chamber is left unprotected in the heat discharged to the outside of each chamber is affected by the heat generated in each chamber, ensuring the normal operation of the slit door valve Exceeding the temperature can cause the slit door valve to malfunction.

상술한 바와 같이 슬릿도어 밸브의 오작동을 유발할 경우 슬릿도어가 챔버를 완전히 밀폐시키지 못하여 챔버 및 각 챔버간의 압력 차이가 발생하고, 이때의 압력차로 인하여 많은 문제를 유발시킨다.As described above, when the malfunction of the slit door valve is caused, the slit door does not completely close the chamber, causing a pressure difference between the chamber and each chamber, and causes a lot of problems due to the pressure difference at this time.

즉, 압력차로 인하여 챔버 내부에 위치한 웨이퍼의 쏠림과 파손 그리고 급작스런 진공상태의 훼손으로 인한 웨이퍼의 손상 및 진공펌프의 파손 등이 발생할 수 있다.That is, due to the pressure difference, the wafer may be damaged and the vacuum pump may be damaged due to the tipping and breakage of the wafer located inside the chamber, and the sudden vacuum may be damaged.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 반도체 웨이퍼의 제조공정이 진행되는 각 챔버의 사이에 마련되어 웨이퍼의 이동 경로를 개폐하는 슬릿도어 밸브의 온도를 제어할 수 있도록 한 반도체 제조설비의 슬릿도어 밸브를 제공함에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and is provided between semiconductor chambers in which a semiconductor wafer manufacturing process is performed, and a semiconductor manufacturing facility for controlling a temperature of a slit door valve for opening and closing a movement path of a wafer. The purpose is to provide a slit door valve.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 슬릿도어 밸브는, 프로세스 챔버의 슬릿을 개폐하도록 마련되는 슬릿도어; 상기 슬릿도어를 이동시켜 상기 슬릿을 개폐하는 밸브 본체; 상기 밸브 본체에 상기 밸브 본체를 냉각시키는 냉각팬을 구비한다. The slit door valve of the semiconductor manufacturing equipment according to the present invention for achieving the above object, the slit door is provided to open and close the slit of the process chamber; A valve body which opens and closes the slit by moving the slit door; The valve body is provided with a cooling fan for cooling the valve body.

또한, 상기 밸브본체는 상기 슬릿도어를 이동시키는 작동부와, 상기 작동부의 외측 양면을 형성하는 한쌍의 커버부재를 구비하며, 상기 냉각팬은 상기 한쌍의 커버부재 중 일측 커버부재에 마련되어 상기 밸브 본체의 외부공기를 유입하는 흡입팬인 것이 바람직하다. In addition, the valve body has an operation unit for moving the slit door, and a pair of cover members to form the outer both sides of the operating unit, the cooling fan is provided on one side cover member of the pair of cover members the valve body It is preferable that it is a suction fan which introduces external air of the.

또한, 상기 한쌍의 커버부재 중 타측 커버부재에 상기 밸브 본체로 유입된 공기를 상기 밸브 본체의 외부로 배출하는 배출팬이 더 마련되는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that a discharge fan for discharging air introduced into the valve body to the outside of the valve body is provided on the other cover member of the pair of cover members.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 슬릿도어 밸브를 상세히 설명한다.Hereinafter, a slit door valve of a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명을 설명함에 있어서, 정의되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의 내려진 것으로, 본 발명의 기술적 구성요소를 한정하는 의미로 이해되어서는 아니 될 것이다.In the following description of the present invention, the terms defined are defined in consideration of functions in the present invention, and should not be understood as a meaning of limiting the technical components of the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 슬릿도어 밸브를 나타낸 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 슬릿도어 밸브를 나타낸 분해사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 슬릿도어 밸브의 설치상태를 나타낸 측면도이다.1 is a perspective view showing a slit door valve according to the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view showing a slit door valve according to the present invention, Figure 3 is a side view showing the installation state of the slit door valve according to the present invention.

도시한 바와 같이 본 발명에 따른 슬릿도어 밸브(100)는, 프로세스 챔버 (300, 도 3참조)의 슬릿(310, 도 3참조)을 개폐하는 슬릿도어(200)와, 프로세스 챔버(300)의 일측에 고정되고 슬릿도어(200)를 이동시키는 밸브 본체(110)가 마련된다. 여기서 슬릿도어(200)의 기능 및 형상은 공지의 기술이므로 그 상세한 설명을 생략한다. As shown, the slit door valve 100 according to the present invention includes a slit door 200 for opening and closing the slit 310 (see FIG. 3) of the process chamber 300 (see FIG. 3), and the process chamber 300. A valve body 110 fixed to one side and moving the slit door 200 is provided. Since the function and shape of the slit door 200 is a known technique, detailed description thereof will be omitted.

상기 밸브 본체(110)는 슬릿도어(200)를 이동시키는 작동부(112)와 작동부(112)의 양면을 덮는 한쌍의 커버부재(120a, 120b)가 마련되며, 한쌍의 커버부재(120a, 120b)에는 밸브 본체(110) 외부의 공기를 유입함과 동시에 유입된 공기를 밸브 본체(110)의 외부로 배출하는 흡입·배출팬(130b)이 각각 마련된다.The valve body 110 is provided with an operation unit 112 for moving the slit door 200 and a pair of cover members 120a and 120b covering both sides of the operation unit 112, and a pair of cover members 120a, 120b) is provided with an intake / discharge fan 130b for introducing air outside the valve body 110 and discharging the introduced air to the outside of the valve body 110, respectively.

상기 작동부(112)는 프로세스 챔버(300)의 일측에 고정되는 고정프레임(113)과, 고정프레임(113)의 하면에 고정되는 액추에이터(114)와, 액추에이터(114)에 의해 승강되는 작동프레임(115)과, 상기 작동프레임(115)의 양단에 각각 결합되고 상기 고정프레임(113)을 관통하도록 마련되며 그 단부가 슬릿도어(200)에 결합되는 한쌍의 리프트로드(116)가 마련되며, 한쌍의 리프트로드(116)의 외측에는 양측면에 커버부재(120a, 120b)가 각각 결합되는 커버프레임(117)이 각각 마련된다.The operation unit 112 is a fixed frame 113 fixed to one side of the process chamber 300, the actuator 114 is fixed to the lower surface of the fixed frame 113, and the operation frame lifted by the actuator 114 115 and a pair of lift rods 116 coupled to both ends of the operation frame 115 and provided to penetrate the fixing frame 113, and end portions thereof are coupled to the slit door 200, are provided. Outside the pair of lift rods 116 are provided with cover frames 117 to which the cover members 120a and 120b are coupled to both sides, respectively.

여기서, 액추에이터(114)는 공압에 의해 작동되는 공압실린더로 마련될 수 있으나 이를 한정하는 것은 아니다.Here, the actuator 114 may be provided as a pneumatic cylinder operated by pneumatic pressure, but is not limited thereto.

상기 한쌍의 커버부재(120a, 120b)는 작동부(112)에 양측에 마련되는 커버프레임(117)에 결합되는 사각의 판 현상으로 마련되며, 일측 커버부재(120a)의 중앙부에는 공기의 유입을 위한 유입구(122a)가 마련되며, 타측 커버부재(120b)의 중앙부에는 유입된 공기를 배출하기 위한 배출구(122b)가 마련된다. The pair of cover members (120a, 120b) is provided with a square plate phenomenon coupled to the cover frame 117 provided on both sides of the operating portion 112, the inlet of the air in the central portion of one cover member (120a) The inlet 122a is provided, and the outlet 122b for discharging the introduced air is provided at the center of the other cover member 120b.

또한, 일측 커버부재(120a)의 유입구(122a)의 외측에는 작동부(112)의 액추에이터(114) 측으로 외부의 공기를 유입하는 흡입팬(130a)이 마련되고, 타측 커버부재(120b)의 배출구(122b)의 외측에는 작동부(112)의 액추에이터(114) 측으로 유입된 공기를 외부로 배출하는 배출팬(130b)이 마련된다.In addition, the inlet 122a of the inlet 122a of the one side cover member 120a is provided with a suction fan 130a for introducing external air to the actuator 114 side of the operation unit 112, and the outlet of the other cover member 120b. The outer side of the 122b is provided with a discharge fan 130b for discharging the air introduced to the actuator 114 side of the operation unit 112 to the outside.

이에 따라, 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 슬릿도어 밸브(100)의 작동을 실시예를 통하여 상세히 설명한다. 이하에서 언급되는 각각의 요소들은 상술한 설명과 도 1 내지 도 3을 참조하여 이해하여야 한다.Accordingly, the operation of the slit door valve 100 of the semiconductor manufacturing equipment according to the present invention will be described in detail through the embodiment. Each of the elements mentioned below should be understood with reference to the above description and FIGS. 1 to 3.

먼저, 프로세스 챔버(300)의 공정진행에 따라 슬릿도어(200)가 슬릿도어 밸브(100)에 의해 프로세스 챔버(300)의 슬릿(310)을 개폐한다. First, as the process chamber 300 progresses, the slit door 200 opens and closes the slit 310 of the process chamber 300 by the slit door valve 100.

이때 슬릿도어 밸브(100)의 액추에이터(114)로 소정 압력의 압력기체가 공급됨에 따라 액추에이터(114)에 결합된 작동프레임(115)이 승강 또는 하강되면서 작동프레임(115)에 마련된 한쌍의 리프트로드(116)가 승강 또는 하강되며 이에 리프트로드(116)의 단부에 마련된 슬릿도어(200)가 프로세스 챔버(300)의 슬릿(310)을 개방 또는 폐쇄하게 된다.At this time, as the pressure gas of a predetermined pressure is supplied to the actuator 114 of the slit door valve 100, the operation frame 115 coupled to the actuator 114 is raised or lowered, and a pair of lift rods provided in the operation frame 115 are provided. 116 is raised or lowered so that the slit door 200 provided at the end of the lift rod 116 opens or closes the slit 310 of the process chamber 300.

여기서, 슬릿도어 밸브(100)의 일측 커버부재(120a)에 마련된 흡입팬(130a)에 의해 슬릿도어 밸브(100)의 내부로 슬릿도어 밸브(100)의 외부 공기가 강제 유입되면서 액추에이터(114) 및 액추에이터(114)에 결합된 작동부(112)의 각 구성부를 냉각시킨다. Here, the actuator 114 is forced into the outside air of the slit door valve 100 by the suction fan 130a provided in one cover member 120a of the slit door valve 100 into the slit door valve 100. And each component of the actuating portion 112 coupled to the actuator 114.

그리고 작동부(112)를 냉각시키면서 가열되는 공기는 슬릿도어 밸브(100)의 타측 커버부재(120b)에 마련된 배출팬(130b)에 의해 슬릿도어 밸브(100)의 외부로 강제 배출된다.The air heated while cooling the operation unit 112 is forcibly discharged to the outside of the slit door valve 100 by a discharge fan 130b provided in the other cover member 120b of the slit door valve 100.

따라서 프로세스 챔버(300)에서 발생되는 열에 의해 슬릿도어 밸브(100)가 가열될 경우 슬릿도어 밸브(100)의 온도를 강제 냉각시켜 슬릿도어 밸브(100)의 작동환경을 일정하게 유지 할 수 있다.Therefore, when the slit door valve 100 is heated by the heat generated in the process chamber 300 by forced cooling the temperature of the slit door valve 100 can maintain a constant operating environment of the slit door valve 100.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 기술되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야에 있어서 통상의 지식을 가진 사람이라면, 첨부된 청구 범위에 정의된 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 본 발명을 여러 가지로 변형하여 실시할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 앞으로의 실시예들의 변경은 본 발명의 기술을 벗어날 수 없을 것이다.Although described in detail with respect to preferred embodiments of the present invention as described above, those of ordinary skill in the art, without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims Various modifications may be made to the invention. Therefore, changes in the future embodiments of the present invention will not be able to escape the technology of the present invention.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 슬릿도어 밸브에 따르면, 슬릿도어 밸브에 밸브 외부의 공기를 유입하고, 유입된 공기를 배출하는 팬을 마련함으로써, 반도체 제조설비의 프로세스 챔버에서 발생되는 열에 의한 슬릿도어 밸브의 오작동을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다. As described above, according to the slit door valve of the semiconductor manufacturing equipment according to the present invention, by providing a fan for introducing the air outside the valve to the slit door valve, and discharges the introduced air, in the process chamber of the semiconductor manufacturing equipment Malfunction of the slit door valve due to the generated heat can be prevented in advance.

또한, 슬릿도어 밸브의 오작동이 미연에 방지됨에 따라 프로세스 챔버의 진공상태를 균일하게 유지할 수 있어 프로세스 챔버의 공정불량 요인을 감소시킬 수 있다. In addition, since the malfunction of the slit door valve is prevented in advance, the vacuum state of the process chamber can be maintained uniformly, thereby reducing the process defect factor of the process chamber.

또한, 슬릿도어 밸브의 오작동에 의한 프로세스 챔버의 압력차로 인하여 챔버 내부에 위치한 웨이퍼의 쏠림과 파손 그리고 급작스런 진공상태의 훼손으로 인 한 웨이퍼의 손상 및 진공펌프의 파손 등을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, due to the pressure difference in the process chamber due to the malfunction of the slit door valve, it is possible to prevent the wafer damage and the vacuum pump damage due to the tipping and damage of the wafer located inside the chamber and the sudden vacuum damage. .

Claims (3)

프로세스 챔버의 슬릿을 개폐하도록 마련되는 슬릿도어;A slit door provided to open and close the slit of the process chamber; 상기 슬릿도어를 이동시켜 상기 슬릿을 개폐하는 밸브 본체; A valve body which opens and closes the slit by moving the slit door; 상기 밸브 본체에 상기 밸브 본체를 냉각시키는 냉각팬을 구비하는 것을 특징으로 하는 슬릿도어 밸브.And a cooling fan for cooling the valve body in the valve body. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 밸브본체는 상기 슬릿도어를 이동시키는 작동부와, 상기 작동부의 외측 양면을 형성하는 한쌍의 커버부재를 구비하며,The valve body has an operating part for moving the slit door, and a pair of cover members forming outer side surfaces of the operating part, 상기 냉각팬은 상기 한쌍의 커버부재 중 일측 커버부재에 마련되어 상기 밸브 본체의 외부공기를 유입하는 흡입팬인 것을 특징으로 하는 슬릿도어 밸브.The cooling fan is a slit-door valve, characterized in that the suction fan is provided in one cover member of the pair of cover members to introduce the outside air of the valve body. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 한쌍의 커버부재 중 타측 커버부재에 상기 밸브 본체로 유입된 공기를 상기 밸브 본체의 외부로 배출하는 배출팬이 더 마련되는 것을 특징으로 하는 슬릿도어 밸브.Slit door valve, characterized in that the other cover member of the pair of cover member is further provided with a discharge fan for discharging the air flowing into the valve body to the outside of the valve body.
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KR1020050086754A KR20070032487A (en) 2005-09-16 2005-09-16 Slit-door valve of semiconductor manufacturing equipment

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200470864Y1 (en) * 2011-12-27 2014-01-22 이호영 Chamber door

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