KR20070024820A - Laser induced thermal imaging apparatus and preparing method of organic light emitting device using the same - Google Patents

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KR20070024820A
KR20070024820A KR1020050080345A KR20050080345A KR20070024820A KR 20070024820 A KR20070024820 A KR 20070024820A KR 1020050080345 A KR1020050080345 A KR 1020050080345A KR 20050080345 A KR20050080345 A KR 20050080345A KR 20070024820 A KR20070024820 A KR 20070024820A
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Abstract

A laser induced thermal imaging apparatus and a method of manufacturing an organic light emitting diode using the same are provided to facilitate thermal imaging of a light emitting layer of the OLED by preventing pores from being formed between an acceptor substrate and a donor film. A LITI(Laser Induced Thermal Imaging) apparatus forms a light emitting layer of an OLED(Organic Light Emitting Diode). The LITI apparatus includes a substrate stage(110), a laser resonator(120), an attachment frame(130), and an attachment frame conveyor unit(140). An acceptor substrate and a donor film are sequentially moved to the substrate stage which includes a magnet. A pixel defining region is formed on the acceptor substrate. The laser resonator irradiates a laser on the donor film. The attachment frame is arranged between the substrate stage and the laser resonator and includes an aperture and a magnet. The laser passes through the aperture. The magnet generates a magnetic force with respect to the substrate stage. The attachment frame conveyor unit reciprocally moves the attachment frame toward the substrate stage. A first attachment frame unit having a first aperture and a second attachment frame unit having a second aperture are alternatively mounted on the substrate stage. The first aperture forms first and second sub-pixels. The second aperture forms two third sub-pixels.

Description

레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법{Laser induced thermal imaging apparatus and preparing method of organic light emitting device using the same}Laser induced thermal imaging apparatus and preparing method of organic light emitting device using the same

도 1은 종래기술에 따른 레이저 열전사 장치를 도시하는 단면도. 1 is a cross-sectional view showing a laser thermal transfer apparatus according to the prior art.

도 2는 본 발명에 따른 레이저 열전사 장치의 일실시예를 도시하는 사시도. Figure 2 is a perspective view showing one embodiment of a laser thermal transfer apparatus according to the present invention.

도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 레이저 열전사장치의 기판스테이지의 실시예를 도시하는 투시평면도.3A and 3B are perspective plan views showing an embodiment of a substrate stage of the laser thermal transfer apparatus according to the present invention.

도 4는 본 발명에 사용되는 레이저 열전사장치의 레이저 발진기의 일실시예를 보이는 구조도.Figure 4 is a structural diagram showing an embodiment of a laser oscillator of the laser thermal transfer apparatus used in the present invention.

도 5a 및 도 5b는 각각 본 발명에 따른 레이저 열전사장치의 제 1 밀착프레임 및 제 2 밀착프레임의 일실시예를 보이는 평면도.Figure 5a and Figure 5b is a plan view showing an embodiment of the first contact frame and the second contact frame of the laser thermal transfer apparatus according to the present invention, respectively.

도 5c는 도 5a 및 도 5b에 의해 형성된 유기발광소자의 화소배열을 보이는 평면도.5C is a plan view illustrating a pixel array of the organic light emitting diode formed by FIGS. 5A and 5B.

도 5d 및 도 5e는 각각 본 발명에 따른 제 1 밀착프레임 및 제 2 밀착프레임의 다른 실시예를 보이는 평면도. Figure 5d and Figure 5e is a plan view showing another embodiment of the first contact frame and the second contact frame according to the present invention, respectively.

도 5f는 도 5d 및 도 5e에 의해 형성된 유기발광소자의 화소배열을 보이는 평면도.5F is a plan view illustrating a pixel array of the organic light emitting diode formed by FIGS. 5D and 5E.

도 6은 본 발명에 따른 본 발명에 따른 레이저 열전사 장치의 밀착판 이송수단을 보이는 사시도. Figure 6 is a perspective view showing the contact plate conveying means of the laser thermal transfer apparatus according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 유기발광소자의 제작방법을 설명하는 공정도.7 is a process chart illustrating a method of manufacturing an organic light emitting device according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 레이저 열전사장치 110 : 기판스테이지 100: laser thermal transfer device 110: substrate stage

120 : 레이저 발진기 130 : 밀착프레임 120: laser oscillator 130: contact frame

133, 133a, 133b, 133c, 133d : 개구홈 133, 133a, 133b, 133c, 133d: opening groove

140 : 밀착프레임 이동수단 150 : 챔버 140: close contact frame moving means 150: chamber

200 : 도너필름 300 : 어셉터기판200: donor film 300: acceptor substrate

본 발명은 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자기력을 이용하여 도너필름과 어셉터기판을 라미네이팅하는 공정을 포함하는 레이저 열전사 장치 및 상기 장치를 이용한 유기발광소자의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a laser thermal transfer apparatus and a method of manufacturing an organic light emitting device using the same, and more particularly, a laser thermal transfer apparatus and a method including laminating a donor film and an acceptor substrate using a magnetic force. It relates to a method of manufacturing an organic light emitting device.

본 발명의 적용분야는 특정 산업분야에 한정되는 것은 아니고, 다양하게 적용될 수 있지만, 유기발광소자 제작시 유기 발광층등을 형성하는 데 유용할 것으로 예상된다. 유기발광소자는 제 1 전극과 제 2 전극사이에 발광층을 형성하고, 전극 사이에 전압을 인가함으로써, 발광층에서 정공과 전자가 합쳐짐으로써 자체발광하 는 소자이다. 이하에서는 유기발광소자에 사용되는 레이저 열전사 장치를 기준으로 본 발명의 종래기술 및 본 발명의 구성등이 설명될 것이나 이에 한정되는 것은 아니다.The field of application of the present invention is not limited to a specific industrial field and may be applied in various ways, but it is expected to be useful for forming an organic light emitting layer and the like in manufacturing an organic light emitting device. The organic light emitting device is a device that emits self by forming a light emitting layer between the first electrode and the second electrode and applying a voltage between the electrodes, whereby holes and electrons are combined in the light emitting layer. Hereinafter, the prior art of the present invention and the configuration of the present invention will be described with reference to the laser thermal transfer apparatus used in the organic light emitting device, but is not limited thereto.

레이저 열전사법은 기재기판, 광열변환층, 및 전사층을 포함하는 도너기판에 레이저를 조사시켜 기재기판을 통과한 레이저를 광열변환층에서 열로 변화시켜 광열변환층을 변형팽창시킴으로써, 인접한 전사층을 변형팽창시켜, 어셉터기판에 전사층이 접착되어 전사되게 하는 방법이다.In the laser thermal transfer method, a donor substrate including a base substrate, a photothermal conversion layer, and a transfer layer is irradiated with a laser to transform a laser that has passed through the substrate substrate from a photothermal conversion layer to heat to deform and expand the photothermal conversion layer, thereby forming an adjacent transfer layer. It deforms and expands, and the transfer layer adheres to the acceptor substrate so as to be transferred.

레이저 열전사법을 실시할 경우, 전사가 이루어지는 챔버 내부는 발광소자 형성시의 증착공정과 동조되도록 하기위하여 진공상태가 이루어지는 것이 바람직하나, 종래에 진공상태에서 레이저 열전사를 행하는 경우 도너기판과 어셉터기판 사이에 이물질이나 공간이 생기게 되어 전사층의 전사가 잘 이루어지지 않는 문제점이 있다. 따라서, 레이저 열전사법에 있어서, 도너기판과 어셉터기판을 라미네이팅시키는 방법은 중요한 의미를 가지며 이를 해결하기 위한 여러가지 방안이 연구되고 있다. In the case of performing the laser thermal transfer method, it is preferable that a vacuum state is formed in the chamber in which the transfer is performed so as to be synchronized with the deposition process at the time of forming the light emitting element. However, in the case of conventional laser thermal transfer in a vacuum state, a donor substrate and an acceptor are used. Foreign substances or spaces are generated between the substrates, so that the transfer layer is not easily transferred. Therefore, in the laser thermal transfer method, a method of laminating a donor substrate and an acceptor substrate has an important meaning, and various methods for solving the problem have been studied.

도 1은 상술한 문제점을 해결하기 위한 종래기술에 따른 레이저 열전사 장치의 부분단면도이다. 이에 따르면, 레이저 열전사 장치(10)는 챔버(11) 내부에 위치하는 기판스테이지(12) 및 챔버(11) 상부에 위치한 레이저 조사장치(13)를 포함하여 구성된다.1 is a partial cross-sectional view of a laser thermal transfer apparatus according to the prior art for solving the above problems. According to this, the laser thermal transfer apparatus 10 includes a substrate stage 12 positioned inside the chamber 11 and a laser irradiation apparatus 13 positioned above the chamber 11.

기판스테이지(12)는 챔버(11)로 도입되는 어셉터기판(14)과 도너필름(15)을 각각 순차적으로 위치시키기위한 스테이지이다.The substrate stage 12 is a stage for sequentially positioning the acceptor substrate 14 and the donor film 15 introduced into the chamber 11, respectively.

이 때, 어셉터기판(14)과 도너필름(15)이 그 사이에 이물질이나 공간없이 라미네이팅되게 하기 위하여, 이 경우 레이저 열전사가 이루어지는 챔버(11)내부를 진공으로 유지하지 않고, 기판스테이지(12) 하부에 호스(16)를 연결하여 진공펌프(P)로 빨아들여서, 어셉터기판(14)과 도너필름(15)을 합착시킨다. At this time, in order to allow the acceptor substrate 14 and the donor film 15 to be laminated without foreign matter or space therebetween, in this case, the substrate stage 12 is not maintained in a vacuum in the chamber 11 where laser thermal transfer is performed. The hose 16 is connected to the lower part and sucked by the vacuum pump P to bond the acceptor substrate 14 and the donor film 15 to each other.

그러나 이러한 종래기술에 있어서도 어셉터기판(14)과 도너필름(15) 사이의 이물질(1)과 공간이 발생하는 것을 완전히 방지하지 못하고, 더욱이 챔버(11) 내부의 진공상태를 유지하지 못하게 됨으로써, 제품의 신뢰성과 수명에 좋지 못한 영향을 미치는 것으로 알려져 있다.However, even in such a prior art, the foreign matter 1 and the space between the acceptor substrate 14 and the donor film 15 cannot be completely prevented from being generated, and furthermore, the vacuum state inside the chamber 11 can not be maintained. It is known to adversely affect the reliability and longevity of the product.

본 발명은 전술한 종래 기술의 문제점을 해결하고, 본 출원인에 의해 제안된 기술적 사상을 보다 완전하게 하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 진공상태에서 자기력을 이용하여 어셉터기판과 도너기판을 라미네이팅시키고, 어셉터기판상의 특정 화소배열에 유리하게 사용되는 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기발광소자의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art and to more completely complete the technical idea proposed by the present applicant, and an object of the present invention is to use an acceptor substrate and a donor substrate in a vacuum state by using a magnetic force. An object of the present invention is to provide a laser thermal transfer apparatus and a method for manufacturing an organic light emitting device using the same, which is laminated and advantageously used for a specific pixel array on an acceptor substrate.

본 발명의 일측면에 따른 유기발광소자의 발광층을 형성하는 레이저 열전사 장치는 제 1 서브화소, 제 2 서브화소, 및 2개의 제 3 서브화소가 하나의 화소를 이루는 화소정의영역이 형성된 어셉터기판 및 상기 화소정의영역으로 전사될 유기발광층을 구비하는 각 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되고, 자석을 포함하는 기판스테이지; 상기 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기; 상기 기판스테 이지와 상기 레이저 조사장치 사이에 설치되며, 레이저를 통과시키는 개구홈과, 상기 기판스테이지와 자기력을 형성하는 자석을 포함하는 밀착프레임; 및 상기 밀착프레임을 상기 기판스테이지 방향으로 왕복이동하게 하는 밀착프레임 이동수단;을 포함하여 구성되며, 상기 밀착프레임은 상기 제 1 서브화소 및 상기 제 2 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 1 밀착프레임과, 상기 2개의 제 3 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 2 밀착프레임이 번갈아 장착되면서 유기발광소자의 발광층을 형성하는 것을 특징으로 한다. In a laser thermal transfer apparatus for forming an emission layer of an organic light emitting device according to an aspect of the present invention, an acceptor in which a pixel definition region in which a first subpixel, a second subpixel, and two third subpixels constitute one pixel is formed. A substrate stage including a donor film having a substrate and an organic light emitting layer to be transferred to the pixel definition region, sequentially transferred and stacked, and including a magnet; A laser oscillator for irradiating a laser onto the donor film; An adhesion frame installed between the substrate stage and the laser irradiation apparatus, the adhesion frame including an opening groove through which a laser passes and a magnet forming a magnetic force with the substrate stage; And a close frame moving means for reciprocating the close contact frame in the substrate stage direction, wherein the close contact frame has a first close contact with an opening groove forming the first sub pixel and the second sub pixel. The frame and the second contact frame having the opening grooves forming the two third sub-pixels are alternately mounted to form a light emitting layer of the organic light emitting device.

또한, 본 발명에 일측면에 따른 유기발광소자의 발광층을 형성하는 레이저 열전사 장치는 제 1 서브화소, 제 2 서브화소, 및 2개의 제 3 서브화소가 하나의 화소를 이루는 화소정의영역이 형성된 어셉터기판 및 상기 화소정의영역으로 전사될 유기발광층을 구비하는 각 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되고, 자석을 포함하는 기판스테이지; 상기 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기; 상기 기판스테이지와 상기 레이저 조사장치 사이에 설치되며, 레이저를 통과시키는 개구홈과, 상기 기판스테이지와 자기력을 형성하는 자성체를 포함하는 밀착프레임; 및 상기 밀착프레임을 상기 기판스테이지 방향으로 왕복이동하게 하는 밀착프레임 이동수단;을 포함하여 구성되며, 상기 밀착프레임은 상기 제 1 서브화소 및 상기 제 2 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 1 밀착프레임과, 상기 2개의 제 3 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 2 밀착프레임이 번갈아 장착되면서 유기발광소자의 발광층을 형성하는 것을 특징으로 한다. In addition, the laser thermal transfer apparatus for forming an emission layer of an organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention includes a pixel definition region in which a first subpixel, a second subpixel, and two third subpixels form one pixel. A substrate stage comprising a donor film having an acceptor substrate and an organic light emitting layer to be transferred to the pixel definition region, sequentially transferred and stacked, and including magnets; A laser oscillator for irradiating a laser onto the donor film; An adhesion frame installed between the substrate stage and the laser irradiation apparatus and including an opening groove through which a laser passes and a magnetic material forming a magnetic force with the substrate stage; And a close frame moving means for reciprocating the close contact frame in the substrate stage direction, wherein the close contact frame has a first close contact with an opening groove forming the first sub pixel and the second sub pixel. The frame and the second contact frame having the opening grooves forming the two third sub-pixels are alternately mounted to form a light emitting layer of the organic light emitting device.

본 발명의 다른 측면에 따라 레이저 열전사법으로 유기발광소자를 제조하는 방법은 자석을 포함한 기판스테이지 상에 제 1 서브화소, 제 2 서브화소, 및 2개의 제 3 서브화소가 하나의 화소를 이루는 화소정의영역이 형성된 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계; 상기 어셉터기판 상에 상기 제 1 서브화소에 전사될 제 1 색상 유기발광층을 구비하는 도너필름을 위치시키는 제 1 도너필름 이송단계; 상기 제 1 색상 및 제 2 색상 유기발광층을 전사하기 위한 레이저가 통과되는 개구홈이 형성되고 자석을 포함하는 제 1 밀착프레임을 상기 제 1 도너필름에 자기적 인력으로 밀착하는 제 1 밀착프레임 밀착단계; 상기 제 1 밀착프레임의 개구홈을 통해 상기 제 1 도너필름 상으로 레이저를 조사하여 제 1 색상 유기발광층을 제 1 서브화소영역으로 전사하는 제 1 전사단계; 상기 제 1 밀착프레임을 상기 제 1 도너필름으로부터 분리하는 제 1 밀착프레임 분리단계; 상기 어셉터기판 상에 제 2 색상 유기발광층을 구비하는 제 2 도너필름을 상기 제 1 도너필름과 교환하여 위치시키는 제 2 도너필름 이송단계; 상기 제 1 밀착프레임을 상기 제 2 도너필름에 자기적 인력으로 재밀착하는 제 1 밀착프레임 재밀착단계; 상기 제 1 밀착프레임의 개구홈을 통해 상기 제 2 도너필름 상으로 레이저를 조사하여 제 2 색상 유기발광층을 제 2 서브화소영역으로 전사하는 제 2 전사단계; 상기 제 1 밀착프레임을 상기 제 2 도너필름으로부터 분리하고, 상기 제 3 도너필름의 제 3 색상 유기발광층을 전사하기 위한 레이저가 통과되는 개구홈이 형성되며, 자석을 포함한 제 2 밀착프레임으로 교환하는 제 2 밀착프레임 교환단계; 상기 어셉터기판 상에 제 3 색상 유기발광층을 구비하는 제 3 도너필름을 상기 제 2 도너필름과 교환하여 위치시키는 제 2 도너필름 이송단계; 상기 제 2 밀착프레임을 상기 제 3 도너필름에 자기적 인력으로 밀착하는 제 2 밀착프레임 밀착단계; 및 상기 제 2 밀착프레임의 개구홈을 통해 상기 제 3 도너필름 상으로 레이저를 조사하여 제 3 색상 유기발광층을 2개의 제 3 서브화소영역으로 전사하는 제 3 전사단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing an organic light emitting diode by a laser thermal transfer method includes a pixel in which a first subpixel, a second subpixel, and two third subpixels form one pixel on a substrate stage including a magnet. An acceptor substrate transfer step of positioning an acceptor substrate on which a definition region is formed; A first donor film transfer step of placing a donor film having a first color organic light emitting layer to be transferred to the first subpixel on the acceptor substrate; A first contact frame contact step of forming an opening groove through which a laser for transferring the first color and the second color organic light emitting layer passes, and a first contact frame including a magnet to the first donor film by magnetic attraction. ; A first transfer step of transferring a first color organic light emitting layer to a first subpixel region by irradiating a laser onto the first donor film through the opening groove of the first contact frame; A first adhesion frame separation step of separating the first adhesion frame from the first donor film; A second donor film transfer step of placing a second donor film having a second color organic light emitting layer on the acceptor substrate in exchange with the first donor film; A first adhesion frame re-adhesion step of re-adhering the first adhesion frame to the second donor film with magnetic attraction; A second transfer step of transferring a second color organic light emitting layer to a second subpixel region by irradiating a laser onto the second donor film through the opening groove of the first contact frame; The first contact frame is separated from the second donor film, and an opening groove through which a laser passes for transferring the third color organic light emitting layer of the third donor film is formed, and is replaced with a second contact frame including a magnet. A second contact frame replacement step; A second donor film transfer step of placing a third donor film having a third color organic light emitting layer on the acceptor substrate in exchange with the second donor film; A second contact frame contacting step of contacting the second contact frame to the third donor film with magnetic attraction; And a third transfer step of transferring a third color organic light emitting layer into two third subpixel regions by irradiating a laser onto the third donor film through the opening groove of the second close frame. It is done.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 레이저 열전사장치의 분해사시도이다. 이에 따르면, 레이저 열전사장치(100)는 기판스테이지(110), 레이저 발진기(120), 밀착프레임(130), 밀착프레임 이동수단(140), 및 챔버(150)를 포함하여 구성된다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail. Figure 2 is an exploded perspective view of a laser thermal transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. Accordingly, the laser thermal transfer apparatus 100 includes a substrate stage 110, a laser oscillator 120, a close contact frame 130, a close contact frame moving unit 140, and a chamber 150.

먼저, 챔버(150)는 통상의 레이저 열전사 장치(100)에서 사용되는 챔버(150)를 사용할 수 있고, 챔버(150) 내부에는 적어도 기판스테이지(110) 및 밀착프레임(130)등이 장착된다. 챔버(150) 내에는 도너필름(200) 및 어셉터기판(300)이 이송되며 이를 위하여 챔버(150) 외부에는 도너필름(200) 및 어셉터기판(300)을 챔버 (150)내부로 이송하기 위한 이송수단(미도시)이 구비된다.First, the chamber 150 may use the chamber 150 used in the conventional laser thermal transfer apparatus 100, and at least the substrate stage 110 and the adhesion frame 130 may be mounted in the chamber 150. . The donor film 200 and the acceptor substrate 300 are transferred in the chamber 150, and the donor film 200 and the acceptor substrate 300 are transferred to the inside of the chamber 150 outside the chamber 150. Transfer means (not shown) are provided.

기판스테이지(110)는 챔버(150)의 저면에 위치하며, 본 실시예에서 기판스테이지(110)에는 적어도 하나의 전자석(미도시)이 포함되어 있다. 다만, 전자석 대신에 영구자석 또는 자성체로 구현되는 다른 실시예를 당업자는 용이하게 추고할 수 있을 것이며, 본 발명의 범주에 포함된다. The substrate stage 110 is located at the bottom of the chamber 150. In the present embodiment, the substrate stage 110 includes at least one electromagnet (not shown). However, those skilled in the art will readily be able to contemplate other embodiments that are implemented as permanent magnets or magnetic materials instead of electromagnets, and are included in the scope of the present invention.

기판스테이지에 포함된 전자석을 보다 상세하게 설명하기 위해 도 3a 및 도 3b를 참조한다. 도 3a 및 도 3b는 각각 기판스테이지(110) 내부에 전자석(113)이 동심원 및 복수의 열로 형성된 것을 보이는 투시평면도이다. 기판스테이지(110)의 전자석(113)이 도 3a와 같이 동심원상으로 배치될 경우, 가장 내부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 먼저 전력을 인가하고, 그 상태에서 다음 외부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 전력을 인가하고, 그 상태에서 다시 그 외부에 있는 동심원을 이루는 전자석에 전력을 인가함으로써 후술할 밀착프레임의 자석과 자기적 인력을 발생케 하여 도너기판과 어셉터기판 사이의 이물질이나 공간이 생성되는 것을 극소화하면서 라미네이팅할 수 있다. 3A and 3B, the electromagnet included in the substrate stage will be described in more detail. 3A and 3B are perspective plan views showing that the electromagnet 113 is formed in a concentric circle and a plurality of rows in the substrate stage 110, respectively. When the electromagnet 113 of the substrate stage 110 is arranged concentrically as shown in FIG. 3A, power is first applied to an electromagnet constituting the innermost concentric circle, and in that state, power is applied to an electromagnet constituting the next concentric circle. By applying power to the concentric electromagnets in the state again in that state to generate a magnet and magnetic attraction of the close contact frame to be described later to create a foreign matter or space between the donor substrate and the acceptor substrate It can be laminated while minimizing.

또한, 기판스테이지의 전자석이 도 3b와 같이 가로 및 세로로 다수의 열을 형성하면서 배치될 경우, 레이저가 조사되는 전자석 또는 그 열의 전자석에만 전력을 인가하여, 후술할 밀착프레임의 자석과 자기적 인력을 발생케 하고, 레이저가 조사되는 부분에만 연속적으로 국소적인 라미네이팅이 이루어지게 함으로써 보다 이물질이나 공간이 생성되는 것을 줄이면서 라미네이팅할 수 있다. 한편, 도시되지는 않았으나 각 전자석에는 전력을 인가하는 전기배선이 형성된다.In addition, when the electromagnet of the substrate stage is arranged while forming a plurality of rows horizontally and vertically, as shown in FIG. It is possible to produce lamination, and to perform local lamination only on the part where the laser is irradiated. On the other hand, although not shown, each electromagnet is formed with an electrical wiring for applying power.

한편, 기판스테이지(110)는 이동되기 위한 구동수단(미도시)을 더 구비할 수 있다. 기판스테이지(110)가 이동될 경우 레이저 발진기(120)는 일방향으로만 레이저를 조사하도록 구성될 수 있다. 예컨데, 레이저가 세로방향으로 조사되고, 가로방향으로 기판스테이지(110)를 이동시키는 구동수단을 더 구비할 경우, 도너필름(200) 전면적에 대해 레이저가 조사될 수 있다. On the other hand, the substrate stage 110 may further include a driving means (not shown) for moving. When the substrate stage 110 is moved, the laser oscillator 120 may be configured to irradiate the laser only in one direction. For example, when the laser is irradiated in the longitudinal direction and further provided with a driving means for moving the substrate stage 110 in the horizontal direction, the laser may be irradiated with respect to the entire area of the donor film 200.

또한, 기판스테이지(110)는 어셉터기판(300) 및 도너필름(200)을 수납하여 장착시키는 장착수단을 구비할 수 있다. 장착수단은 이송수단에 의해 챔버(150)내 로 이송되어온 어셉터기판(300) 및 도너필름(200)이 기판스테이지의 정해진 위치에 정확히 장착되도록 한다. In addition, the substrate stage 110 may include mounting means for receiving and mounting the acceptor substrate 300 and the donor film 200. The mounting means allows the acceptor substrate 300 and the donor film 200, which have been transferred into the chamber 150 by the transfer means, to be accurately mounted at a predetermined position of the substrate stage.

본 실시예에서, 장착수단은 관통홀(410, 510), 가이드바(420, 520), 이동플레이트(430, 530), 지지대(440, 540), 및 장착홈(450, 550)을 포함하여 구성될 수 있다. 이 때, 가이드바(420)는 이동플레이트(430) 및 지지대(440)와 동반하여 상승 또는 하강운동하는데, 가이드바(420)가 관통홀(410)을 통과하여 상승하면서 어셉터기판(300)을 수용하고, 하강하면서 어셉터기판(300)을 기판스테이지(110) 상에 형성된 장착홈(450)에 안착시키게 되는 구조이다. 상기 장착수단은 당업자에 의해 다양하게 변형실시될 수 있으므로 이에 대한 상세한 설명은 지면상 생략한다.In the present embodiment, the mounting means includes through holes 410 and 510, guide bars 420 and 520, moving plates 430 and 530, supporters 440 and 540, and mounting grooves 450 and 550. Can be configured. At this time, the guide bar 420 moves up or down in conjunction with the movable plate 430 and the support 440, while the guide bar 420 rises through the through hole 410 and the acceptor substrate 300 is moved. It is a structure that seats the acceptor substrate 300 to the mounting groove 450 formed on the substrate stage 110 while lowering. Since the mounting means may be variously modified by those skilled in the art, a detailed description thereof will be omitted on the page.

레이저 발진기(120)는 챔버(150)의 외부 또는 내부에 설치될 수 있으며, 레이저가 상부에서 비춰질 수 있도록 설치되는 것이 바람직하다. 레이저 발진기(120)의 개략적인 구성도인 도 4에 따르면, 본 실시예에서 레이저 발진기(120)는 CW ND:YAG 레이저(1604nm)를 사용하고, 2개의 갈바노미터 스캐너(121, 123)를 구비하며, 스캔렌즈(125) 및 실린더렌즈(127)를 구비하나 이에 제한되는 것은 아니다.The laser oscillator 120 may be installed outside or inside the chamber 150, and the laser oscillator 120 may be installed to allow the laser to shine from above. According to FIG. 4, which is a schematic configuration diagram of the laser oscillator 120, the laser oscillator 120 in this embodiment uses a CW ND: YAG laser (1604 nm) and uses two galvanometer scanners 121 and 123. And a scan lens 125 and a cylinder lens 127, but is not limited thereto.

밀착프레임(130)은 전자석, 영구자석, 또는 자성체를 포함하여 구성되어, 기판스테이지의 자석과 자기력을 형성하여 기판스테이지(110)와 밀착프레임(130) 사이에 위치하는 도너필름(200)과 어셉터기판(300)을 강력하게 라미네이팅한다. 또한, 밀착프레임(130)은 레이저가 통과할 수 있는 개구홈(133)을 구비하는데, 이에 따라 밀착프레임(130)은 레이저가 소정위치에만 조사될 수 있는 마스크 역할을 동시에 수행할 수 있다. 한편, 본 실시예에서 자성체란 강자성체와 약자성체를 포함 하는 개념이며, Fe, Ni, Cr, Fe2O3, Fe3O4, CoFe2O4, 자성나노입자 및 그 혼합물등이 바람직하게 사용될 수 있다. The close contact frame 130 includes an electromagnet, a permanent magnet, or a magnetic material. The close contact frame 130 forms a magnetic force with a magnet of the substrate stage, and the donor film 200 positioned between the substrate stage 110 and the close contact frame 130. Strongly laminating the acceptor substrate 300. In addition, the close contact frame 130 is provided with an opening groove 133 through which the laser can pass, so that the close contact frame 130 may simultaneously serve as a mask in which the laser can be irradiated only at a predetermined position. In the present embodiment, the magnetic material is a concept including a ferromagnetic material and a weak magnetic material, and Fe, Ni, Cr, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , CoFe 2 O 4 , magnetic nanoparticles, and mixtures thereof are preferably used. Can be.

이 때, 밀착프레임(130)은 전사될 유기발광층에 따라 유기발광소자의 제 1 서브화소 및 제 2 서브화소를 형성하게될 적어도 하나의 개구홈(133)이 형성된 제 1 밀착프레임과, 2개의 제 3 서브화소를 형성하게될 적어도 하나의 개구홈(133)이 형성된 제 2 밀착프레임이 구비되며, 2 개의 제 1 밀착프레임과 제 2 밀착프레임은 서로 교환되면서 운전된다. In this case, the close contact frame 130 may include a first close contact frame having at least one opening groove 133 formed to form the first subpixel and the second subpixel of the organic light emitting device according to the organic light emitting layer to be transferred, and A second contact frame having at least one opening groove 133 to form a third sub-pixel is provided, and the two first contact frames and the second contact frame are operated while being interchanged with each other.

본 실시예에서와 같이 3개의 서브화소를 3장의 밀착프레임을 사용하지 않고, 2장의 밀착프레임으로 사용함으로써 밀착프레임의 교환을 1회 줄일 수 있어 공정상 유리하게 된다. 또한, 개구홈을 전면에 형성하고 하나의 밀착프레임을 사용하여 제조하는 공정도 불가능하지 않으나, 이 경우 밀착프레임에 자석이 테두리부에만 포함되어 도너기판과 어셉터기판 사이의 자력에 의한 라미네이팅이 실질적으로 일어나지 않는다. 따라서, 자석이 포함되는 면적은 밀착프레임의 적어도 50%이상인 것이 바람직하다. As in this embodiment, three sub-pixels are used as two close frames instead of three close frames, so that the replacement of the close frames can be reduced once, which is advantageous in the process. In addition, the process of forming the opening groove on the front surface and manufacturing using one contact frame is not impossible, but in this case, the magnet is included only in the edge portion of the contact frame so that lamination by the magnetic force between the donor substrate and the acceptor substrate is practical. Does not happen. Therefore, the area in which the magnet is included is preferably at least 50% or more of the close contact frame.

도 5a, 도 5b는 서로 교환되면서 장착되는 제 1 밀착프레임(130a)과 제 2 밀착프레임(130b)의 일 실시예를 도시한다.5A and 5B illustrate an embodiment of a first contact frame 130a and a second contact frame 130b mounted while being interchanged with each other.

도 5a의 제 1 밀착프레임(130a)은 제 1 서브화소 및 제 2 서브화소를 형성하게될 개구홈(133a)이 복수로 형성되어 있고, 도 6b의 제 2 밀착프레임(130b)은 제 1 밀착프레임(130a)과 겹쳐질 경우 제 1 밀착프레임(130a) 개구홈(133a)의 하부에 위치되는 2개의 제 3 서브화소를 형성하게될 개구홈(133b)이 복수로 형성되어 있다. 이 때, 각 밀착프레임에는 자석 또는 자성체(137)가 포함되어 있다. 한편, 이에 의해 형성된 어셉터기판의 화소배열은 도 5c에 도시되어 있다. The first contact frame 130a of FIG. 5A has a plurality of opening grooves 133a to form the first subpixel and the second subpixel, and the second contact frame 130b of FIG. 6B has a first contact When overlapped with the frame 130a, a plurality of opening grooves 133b are formed to form two third subpixels positioned below the opening grooves 133a of the first close contact frame 130a. At this time, each close contact frame includes a magnet or a magnetic body 137. On the other hand, the pixel arrangement of the acceptor substrate formed thereby is shown in Fig. 5C.

또한, 도 5d, 도 5e는 서로 교환되면서 장착되는 제 1 밀착프레임과 제 2 밀착프레임의 다른 실시예를 도시하고, 도 5f는 제 1 밀착프레임(130a)와 제 2 밀착프레임(130b)에 의해 형성된 화소배열을 도시한다.다. 이에 따르면, 도 5c의 제 1 밀착프레임(130c)은 제 1 서브화소 및 제 2 서브화소를 형성하게될 개구홈(133c)이 복수로 형성되어 있고, 도 5d의 제 2 밀착프레임(130d)은 제 1 밀착프레임(130c)과 겹쳐질 경우 제 1 밀착프레임(130a)의 개구홈의 우측에 위치되는 2개의 제 3 서브화소를 형성하게될 개구홈(133d)이 복수로 형성되어 있다. 이 때, 각 밀착프레임에는 자석 또는 자성체(137)가 포함되어 있다. 한편, 이에 의해 형성된 어셉터기판의 화소배열은 도 5f에 도시되어 있다. 5D and 5E illustrate another embodiment of the first and second close contact frames mounted while being interchanged with each other, and FIG. 5F illustrates the first close contact frame 130a and the second close contact frame 130b. The pixel array formed is shown. Accordingly, the first close contact frame 130c of FIG. 5C has a plurality of opening grooves 133c to form the first subpixel and the second subpixel, and the second close contact frame 130d of FIG. A plurality of opening grooves 133d are formed to form two third sub-pixels positioned on the right side of the opening groove of the first contact frame 130a when overlapping with the first contact frame 130c. At this time, each close contact frame includes a magnet or a magnetic body 137. On the other hand, the pixel arrangement of the acceptor substrate formed thereby is shown in Fig. 5F.

밀착프레임 이동수단(140)은 밀착프레임(130)을 기판스테이지 방향으로 왕복이동하게 하는 수단으로서, 다양하게 제작될 수 있으나, 도 6에 도시된 실시예에 따르면, 거치홈(142)을 구비한 거치대(141)와 챔버(150) 상면에서 거치대(141)에 연결되는 연결바(143) 및 연결바(143)와 이에 연결된 거치대(141)를 상하로 구동시키는 구동수단(미도시)을 포함한다. 이 때, 밀착프레임(130)은 도시된 바와 같이 이동수단에 의해 이동될 경우 거치돌부(134)를 구비한 트레이(135)에 장착되어 이동된다. The close contact frame moving unit 140 is a means for reciprocating the close contact frame 130 in the substrate stage direction, but may be manufactured in various ways, according to the embodiment shown in FIG. It includes a connecting bar 143 and a connecting bar 143 connected to the cradle 141 on the upper surface of the cradle 141 and the chamber 150 and a driving means (not shown) for driving the cradle 141 connected to the cradle 141 up and down. . At this time, when the close contact frame 130 is moved by the moving means as shown is mounted on the tray 135 having a mounting protrusion 134 is moved.

한편, 제 1 밀착프레임과 제 2 밀착프레임의 교환은 로봇팔등의 교환수단이 이용될 수 있다. 예컨데, 거치대 위에 놓여 있는 제 1 밀착프레임으로 제 1 서브화소 및 제 2 서브화소를 형성한 후, 로봇팔이 제 1 밀착프레임을 거치대로부터 외부로 이송시키고, 제 2 밀착프레임을 거치대에 위치시킴으로써 교환이 이루어질 수 있다.On the other hand, the exchange of the first contact frame and the second contact frame can be used for replacement means such as robot arm. For example, after forming the first subpixel and the second subpixel with the first contact frame placed on the holder, the robot arm transfers the first contact frame from the holder to the outside and replaces the second contact frame with the holder. This can be done.

다음으로, 도 2 및 도 7을 참조하면서, 전술한 레이저 열전사 장치에 의하여 유기발광소자를 형성하는 방법을 설명한다. 유기발광소자의 발광층을 형성하는 데 있어서, 전술한 레이저 열전사장치를 이용하는 방법은, 어셉터기판 이송단계(ST100), 제 1 도너필름 이송단계(ST200), 제 1 밀착프레임 밀착단계(ST300), 제 1 서브화소 전사단계(ST400), 제 1 밀착프레임 분리단계(ST500), 제 2 도너필름 이송단계(ST600), 제 1 밀착프레임 재밀착단계(ST700), 제 2 서브화소 전사단계(ST800), 제 2 밀착프레임 교환단계(ST900), 제 3 도너필름 이송단계(ST1000); 제 2 밀착프레임 밀착단계(ST1100), 제 3 서브화소 전사단계(ST1200)를 포함한다. Next, referring to FIGS. 2 and 7, a method of forming an organic light emitting device by the above-described laser thermal transfer apparatus will be described. In forming the light emitting layer of the organic light emitting device, the method using the above-described laser thermal transfer device, the acceptor substrate transfer step (ST100), the first donor film transfer step (ST200), the first contact frame contact step (ST300), First sub-pixel transfer step (ST400), the first contact frame separation step (ST500), the second donor film transfer step (ST600), the first contact frame re-adhesion step (ST700), the second sub-pixel transfer step (ST800) A second contact frame exchange step (ST900) and a third donor film transfer step (ST1000); A second contact frame contact step (ST1100), the third sub-pixel transfer step (ST1200).

어셉터기판 이송단계(ST100)는 자석 또는 자성체를 포함하는 기판스테이지(110) 상에 유기발광층이 형성될 어셉터기판(300)을 위치하는 단계이다. 어셉터기판(300)에는 도너필름으로부터 전사될 발광층이 형성될 화소영역이 정의되어 있다. 어셉터기판(300)의 화소영역은 4개의 서브화소가 1개의 화소를 형성하도록 배열되어 있다. The acceptor substrate transfer step ST100 is a step of placing the acceptor substrate 300 on which the organic light emitting layer is to be formed on the substrate stage 110 including a magnet or a magnetic material. The acceptor substrate 300 defines a pixel region in which an emission layer to be transferred from the donor film is to be formed. The pixel region of the acceptor substrate 300 is arranged such that four subpixels form one pixel.

제 1 도너필름 이송단계(ST200)는 어셉터기판(300) 상으로 전사될 발광층이 구비되어 있는 제 1 도너필름을 이송하는 단계이다. 이 때, 발광층은 어느 1 색상으로 구성될 수 있고, 예를 들어 R일 수 있다. The first donor film transfer step ST200 is a step of transferring the first donor film having a light emitting layer to be transferred onto the acceptor substrate 300. At this time, the light emitting layer may be of any one color, for example, may be R.

제 1 밀착프레임 밀착단계(ST300)는 제 1 도너필름의 제 1 색상 유기발광층을 전사하기 위한 레이저가 통과되는 개구홈이 형성되며 자석 또는 자성체를 포함하는 제 1 밀착프레임을 제 1 도너필름에 자기적 인력으로 밀착하는 단계이다. 이 때, 제 1 밀착프레임은 1차적으로는 밀착프레임 이동수단에 의해 밀착프레임을 기판스테이지 상으로 이동시켜서 밀착하고, 2차적으로 보다 강력하게 자기적 인력으로 밀착하는 것이 바람직하다. In the first close contact frame (ST300), an opening groove through which a laser passes to transfer the first color organic light emitting layer of the first donor film is formed, and the first close contact frame including a magnet or a magnetic material is magnetized to the first donor film. It is the stage of close contact with enemy personnel. At this time, it is preferable that the first close contact frame is primarily adhered by moving the close contact frame onto the substrate stage by the close contact frame moving means, and the second close contact frame is strongly adhered by magnetic attraction.

제 1 전사단계(ST400)는 제 1 밀착프레임의 개구홈을 통해 제 1 도너필름 상으로 레이저를 조사하여, 제 1 도너필름에 구비된 제 1 색상 유기발광층을 팽창시켜 어셉터기판의 제 1 서브화소영역으로 전사하는 단계이다. 이 때, 개구홈 중 제 1 화소영역으로만 레이저가 조사될 수 있도록 레이저 조사범위가 조절된다. In the first transfer step (ST400), the laser is irradiated onto the first donor film through the opening groove of the first contact frame to expand the first color organic light emitting layer provided on the first donor film so as to expand the first sub of the acceptor substrate. Transferring to the pixel area is performed. At this time, the laser irradiation range is adjusted so that the laser is irradiated only to the first pixel region of the opening groove.

제 1 밀착프레임 분리단계(ST500)는 제 1 밀착프레임을 1차적으로 자기적 척력으로 분리하고, 2차적으로 밀착프레임 이동수단에 의해 챔버 상부로 밀착프레임을 상승시켜 제 1 밀착프레임을 제 1 도너기판으로부터 분리하는 단계이다.In the first contact frame separating step (ST500), the first contact frame is first separated by magnetic repulsive force, and the second contact frame is moved upwardly to the upper part of the chamber by the contact frame moving means. Separating from the substrate.

제 2 도너필름 이송단계(ST600)는 제 1 도너필름을 어셉터기판상에서 챔버 외부로 이송하고, 어셉터기판 상에 제 2 색상 유기발광층을 구비하는 제 2 도너필름을 이송하는 단계이다. 즉, 제 1 도너필름이 도너필름 이송수단에 의해서 제 2 도너필름으로 교환되는 단계이다. The second donor film transfer step (ST600) is a step of transferring the first donor film on the acceptor substrate to the outside of the chamber, and transferring the second donor film including the second color organic light emitting layer on the acceptor substrate. That is, the first donor film is replaced with the second donor film by the donor film conveying means.

제 1 밀착프레임 재밀착단계(ST700)는 제 1 밀착프레임 분리단계(ST500)에서 도너기판으로부터 분리된 제 1 밀착프레임을 다시 제 2 도너필름에 자기적 인력으로 밀착하는 단계이다. 이 때, 제 1 밀착프레임은 1차적으로는 밀착프레임 이동수 단에 의해 밀착프레임을 기판스테이지 상으로 이동시켜서 밀착하고, 2차적으로 보다 강력하게 자기적 인력으로 밀착하는 것이 바람직하다. The first contact frame re-adhesion step ST700 is a step of contacting the first contact frame separated from the donor substrate with magnetic attraction to the second donor film again in the first contact frame separation step ST500. At this time, it is preferable that the first close contact frame is primarily adhered by moving the close contact frame onto the substrate stage by the close contact frame movement, and the second close contact frame is more strongly magnetically attracted.

제 2 전사단계(ST800)는 제 1 밀착프레임의 개구홈을 통해 제 2 도너필름 상으로 레이저를 조사하여, 제 2 도너필름에 구비된 제 2 색상 유기발광층을 팽창시켜 어셉터기판의 제 2 서브화소영역으로 전사하는 단계이다. 이 때, 개구홈 중 제 2 화소 영역만으로 레이저가 조사될 수 있도록 레이저 조사범위를 조절한다. In the second transfer step ST800, the laser is irradiated onto the second donor film through the opening groove of the first contact frame to expand the second color organic light emitting layer provided on the second donor film to form the second sub of the acceptor substrate. Transferring to the pixel area is performed. At this time, the laser irradiation range is adjusted so that the laser can be irradiated only to the second pixel area of the opening groove.

제 2 밀착프레임 교환단계(ST900)에서는 제 1 밀착프레임과 기판스테이지 사이의 자기력을 없애거나, 자기적 척력을 발생하여 제 1 밀착프레임을 제 2 도너필름으로부터 분리한 후, 제 1 밀착프레임을 제 3 도너필름의 제 3 색상 유기발광층을 전사하기 위한 레이저가 통과되는 개구홈이 형성되며, 자석 또는 자성체가 포함된 제 2 밀착프레임으로 교환한다. In the second contact frame replacement step (ST900), a magnetic force between the first contact frame and the substrate stage is removed or a magnetic repulsive force is generated to separate the first contact frame from the second donor film and then remove the first contact frame. An opening groove through which a laser passes for transferring the third color organic light emitting layer of the 3 donor film is formed, and is replaced with a second close contact frame including a magnet or a magnetic material.

제 3 도너필름 이송단계(ST1000)는 제 2 도너필름을 어셉터기판상에서 챔버 외부로 이송하고, 어셉터기판 상에 제 3 색상 유기발광층을 구비하는 제 3 도너필름을 이송하는 단계이다. 즉, 제 1 도너필름이 도너필름 이송수단에 의해서 제 2 도너필름으로 교환되는 단계이다. The third donor film transfer step (ST1000) is a step of transferring the second donor film on the acceptor substrate to the outside of the chamber, and transferring the third donor film including the third color organic light emitting layer on the acceptor substrate. That is, the first donor film is replaced with the second donor film by the donor film conveying means.

제 2 밀착프레임 밀착단계(ST1100)는 제 3 도너필름의 제 3 색상 유기발광층을 전사하기 위한 레이저가 통과되는 개구홈이 형성되며 자석 또는 자성체를 포함하는 제 2 밀착프레임을 제 3 도너필름에 자기적 인력으로 밀착하는 단계이다. 이 때, 제 1 밀착프레임은 1차적으로는 밀착프레임 이동수단에 의해 밀착프레임을 기판스테이지 상으로 이동시켜서 밀착하고, 2차적으로 보다 강력하게 자기적 인력으 로 밀착하는 것이 바람직하다. In the second close contact frame adhesion step (ST1100), an opening groove through which a laser passes for transferring the third color organic light emitting layer of the third donor film is formed, and the second close contact frame including a magnet or a magnetic material is magnetized to the third donor film. It is the stage of close contact with enemy personnel. At this time, it is preferable that the first close contact frame adheres primarily by moving the close contact frame onto the substrate stage by the close contact frame moving means, and the second close contact frame adheres with magnetic force more strongly.

제 3 전사단계(ST1200)는 제 2 밀착프레임의 개구홈을 통해 제 3 도너필름 상으로 레이저를 조사하여, 제 3 도너필름에 구비된 제 3 색상 유기발광층을 팽창시켜 어셉터기판의 제 3 서브화소영역으로 전사하는 단계이다. 이 때, 레이저가 제 2 밀착프레임의 전영역에 조사될 수 있도록 레이저 조사범위를 조절한다.In the third transfer step ST1200, the laser is irradiated onto the third donor film through the opening groove of the second contact frame to expand the third color organic light emitting layer provided on the third donor film to form the third sub of the acceptor substrate. Transferring to the pixel area is performed. At this time, the laser irradiation range is adjusted so that the laser can be irradiated to the entire area of the second close contact frame.

한편, 각 전사단계에서 유기발광층은 화소정의영역에 다양하게 전사될 수 있다. 되는 유기발광층은 의 전사의 배열에 따라서, 레이저 조사방법은 달라질 수 있다. 예컨데, 네개의 서브화소가 2×2 화소를 이루는 경우, 제 1 전사단계에서 제 1 서브화소는 좌상단의 화소영역에 형성되고, 제 2 전사단계에서 제 2 서브화소는 제 1 서브화소의 오른 쪽에 형성되도록 전사하고, 제 3 전사단계에서 제 3 서브화소는 제 1 서브화소 및 제 2 서브화소의 아래에 하나씩 형성되도록 전사할 수 있다. 또는, 제 1 전사단계에서 제 1 서브화소는 좌상단의 화소영역에 형성되고, 제 2 전사단계에서 제 2 서브화소는 제 1 서브화소의 아래에 형성되도록 전사하고, 제 3 전사단계에서 제 3 서브화소는 제 1 서브화소 및 제 2 서브화소의 오른쪽에 하나씩 형성되도록 전사할 수 있다. Meanwhile, in each transfer step, the organic light emitting layer may be variously transferred to the pixel definition region. Depending on the arrangement of the transfer of the organic light emitting layer, the laser irradiation method may vary. For example, when four subpixels form 2x2 pixels, in the first transfer step, the first subpixel is formed in the upper left pixel area, and in the second transfer step, the second subpixel is positioned to the right of the first subpixel. The third subpixel may be transferred to be formed one by one under the first subpixel and the second subpixel in the third transfer step. Alternatively, the first subpixel is formed in the upper left pixel area in the first transfer step, the second subpixel is transferred under the first subpixel in the second transfer step, and the third subpixel is formed in the third transfer step. The pixels may be transferred to be formed one by one on the right side of the first subpixel and the second subpixel.

이 때, 2개의 서브화소를 이루는 색상은 B가 바람직하다. 예컨데, 각 전사단계에서 상기 제 1 전사단계에서 전사되는 제 1 색상 발광층의 색상은 R이고, 상기 제 2 전사단계에서 전사되는 제 2 색상 발광층의 색상은 G이며, 상기 제 3 전사단계에서 전사되는 제 3 색상 발광층의 색상은 B인 것으로 제조될 수 있다. 또는, 제 1 전사단계에서 전사되는 제 1 색상 발광층의 색상은 G이고, 상기 제 2 전사단 계에서 전사되는 제 2 색상 발광층의 색상은 R이며, 상기 제 3 전사단계에서 전사되는 제 3 색상 발광층의 색상은 B인 것으로 제조될 수 있다. In this case, B is preferably a color forming two sub-pixels. For example, in each transfer step, the color of the first color light emitting layer transferred in the first transfer step is R, the color of the second color light emitting layer transferred in the second transfer step is G, and transferred in the third transfer step. The color of the third color light emitting layer may be manufactured to be B. Alternatively, the color of the first color light emitting layer transferred in the first transfer step is G, the color of the second color light emitting layer transferred in the second transfer step is R, and the third color light emitting layer transferred in the third transfer step. The color of can be prepared to be B.

본 발명은 상기 실시예를 기준으로 주로 설명되어졌으나, 발명의 요지와 범위를 벗어나지 않고 많은 다른 가능한 수정과 변형이 이루어 질 수 있다. 예컨데, 4개의 서브화소로 하나의 화소를 경우 대각선으로 동일한 색상을 전사하는 밀착프레임, 레이저 발진기 종류의 변경, 각종 이동수단, 교환수단의 변경등은 당업자가 용이하게 도출할 수 있는 변경일 것이다. Although the present invention has been described primarily with reference to the above embodiments, many other possible modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the invention. For example, a close frame that transfers the same color diagonally with four sub-pixels, a change in the type of laser oscillator, a change in various moving means, exchange means, etc. may be easily changed by those skilled in the art.

본 발명에 따른 레이저 열전사장치에 따르면, 진공하에서 자력을 이용하여 도너기판과 어셉터기판을 라미네이팅 할 수 있게 되어 유기발광소자의 이전 공정과 동일하게 진공상태를 유지할 수 있을 뿐만아니라, 도너기판과 어셉터기판 사이에 이물질이나 빈공간을 생기게 하지 않으면서 라미네이팅하여 유기발광소자의 발광층 전사가 보다 효율적으로 이루어지게 하는 효과가 있다.According to the laser thermal transfer apparatus according to the present invention, the donor substrate and the acceptor substrate can be laminated using a magnetic force under vacuum, so that not only the donor substrate and the donor substrate can be maintained as in the previous process of the organic light emitting device. There is an effect that the light emitting layer transfer of the organic light emitting device is made more efficient by laminating without creating foreign matter or empty space between the acceptor substrates.

또한, 본 발명에 따른 유기발광소자의 제조방법에 따르면, 3색상의 서브화소를 형성하는데 2개의 밀착프레임을 사용함으로써, 3개의 밀착프레임이나 1개의 밀착프레임을 사용하는 것보다 공정 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. In addition, according to the manufacturing method of the organic light emitting device according to the present invention, by using two close contact frame to form a three-color sub-pixel, it is possible to improve the process efficiency than using three close contact frame or one close contact frame It can be effective.

전술한 발명에 대한 권리범위는 이하의 청구범위에서 정해지는 것으로써, 명세서 본문의 기재에 구속되지 않으며, 청구범위의 균등범위에 속하는 변형과 변경은 모두 본 발명의 범위에 속할 것이다. The scope of the above-described invention is defined in the following claims, and is not bound by the description in the text of the specification, all modifications and variations belonging to the equivalent scope of the claims will fall within the scope of the present invention.

Claims (13)

유기발광소자의 발광층을 형성하는 레이저 열전사 장치에 있어서,In the laser thermal transfer apparatus for forming the light emitting layer of the organic light emitting element, 제 1 서브화소, 제 2 서브화소, 및 2개의 제 3 서브화소가 하나의 화소를 이루는 화소정의영역이 형성된 어셉터기판 및 상기 화소정의영역으로 전사될 유기발광층을 구비하는 각 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되고, 자석을 포함하는 기판스테이지;Each donor film including an acceptor substrate having a pixel definition region in which a first subpixel, a second subpixel, and two third subpixels form one pixel, and an organic light emitting layer to be transferred to the pixel definition region is sequentially A substrate stage which is transported and stacked and comprises a magnet; 상기 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기;A laser oscillator for irradiating a laser onto the donor film; 상기 기판스테이지와 상기 레이저 조사장치 사이에 설치되며, 레이저를 통과시키는 개구홈과, 상기 기판스테이지와 자기력을 형성하는 자석을 포함하는 밀착프레임; 및An adhesion frame disposed between the substrate stage and the laser irradiation apparatus, the adhesion frame including an opening groove through which a laser passes and a magnet forming a magnetic force with the substrate stage; And 상기 밀착프레임을 상기 기판스테이지 방향으로 왕복이동하게 하는 밀착프레임 이동수단;을 포함하여 구성되며,And a close frame moving means for reciprocating the close contact frame in the substrate stage direction. 상기 밀착프레임은 상기 제 1 서브화소 및 상기 제 2 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 1 밀착프레임과, 상기 2개의 제 3 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 2 밀착프레임이 번갈아 장착되면서 유기발광소자의 발광층을 형성하는 레이저 열전사 장치.The close contact frame is alternately mounted with a first close contact frame having an opening groove forming the first subpixel and the second subpixel, and a second close contact frame having an opening groove forming the two third subpixels. A laser thermal transfer apparatus forming a light emitting layer of an organic light emitting device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 적어도 상기 기판스테이지와 상기 밀착프레임을 내부에 포함하는 챔버를 포 함하여 구성되는 레이저 열전사 장치.And a chamber including at least the substrate stage and the contact frame therein. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판스테이지를 이동시키는 구동수단이 더 구비되는 레이저 열전사 장치.Laser thermal transfer apparatus further comprises a driving means for moving the substrate stage. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 각 밀착프레임의 개구홈의 크기는 상기 밀착프레임의 면적의 1% 내지 50%인 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 장치.The size of the opening groove of each of the contact frame is a laser thermal transfer apparatus, characterized in that 1% to 50% of the area of the contact frame. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 밀착프레임의 자석 또는 기판스테이지의 자석 중 적어도 하나는 전자석인 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 장치.And at least one of the magnet of the close contact frame and the magnet of the substrate stage is an electromagnet. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판스테이지의 자석 또는 상기 밀착프레임의 자석 중 적어도 하나는 영구자석인 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 장치.At least one of the magnet of the substrate stage or the magnet of the contact frame is a permanent magnet. 유기발광소자의 발광층을 형성하는 레이저 열전사 장치에 있어서,In the laser thermal transfer apparatus for forming the light emitting layer of the organic light emitting element, 제 1 서브화소, 제 2 서브화소, 및 2개의 제 3 서브화소가 하나의 화소를 이 루는 화소정의영역이 형성된 어셉터기판 및 상기 화소정의영역으로 전사될 유기발광층을 구비하는 각 도너필름이 순차적으로 이송되어 적층되고, 자석을 포함하는 기판스테이지;Each donor film including an acceptor substrate having a pixel definition region in which a first subpixel, a second subpixel, and two third subpixels form one pixel, and an organic light emitting layer to be transferred to the pixel definition region is provided. A substrate stage including sequentially transferred and stacked magnets; 상기 도너필름에 레이저를 조사하는 레이저 발진기;A laser oscillator for irradiating a laser onto the donor film; 상기 기판스테이지와 상기 레이저 조사장치 사이에 설치되며, 레이저를 통과시키는 개구홈과, 상기 기판스테이지와 자기력을 형성하는 자성체를 포함하는 밀착프레임; 및An adhesion frame installed between the substrate stage and the laser irradiation apparatus and including an opening groove through which a laser passes and a magnetic material forming a magnetic force with the substrate stage; And 상기 밀착프레임을 상기 기판스테이지 방향으로 왕복이동하게 하는 밀착프레임 이동수단;을 포함하여 구성되며,And a close frame moving means for reciprocating the close contact frame in the substrate stage direction. 상기 밀착프레임은 상기 제 1 서브화소 및 상기 제 2 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 1 밀착프레임과, 상기 2개의 제 3 서브화소를 형성하는 개구홈이 형성된 제 2 밀착프레임이 번갈아 장착되면서 유기발광소자의 발광층을 형성하는 레이저 열전사 장치.The close contact frame is alternately mounted with a first close contact frame having an opening groove forming the first subpixel and the second subpixel, and a second close contact frame having an opening groove forming the two third subpixels. A laser thermal transfer apparatus forming a light emitting layer of an organic light emitting device. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 자성체는 Fe, Ni, Cr, Fe2O3, Fe3O4, CoFe2O4, 자성나노입자 및 그 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 하나인 레이저 열전사 장치. The magnetic material is a laser thermal transfer device is one selected from the group consisting of Fe, Ni, Cr, Fe2O3, Fe3O4, CoFe2O4, magnetic nanoparticles and mixtures thereof. 제 1 항 내지 제 8 항의 레이저 열전사 장치에 의해 전극 사이의 발광층이 형성되는 유기발광소자를 제조하는 방법에 있어서, In the method of manufacturing an organic light emitting device in which the light emitting layer between the electrodes is formed by the laser thermal transfer apparatus of claim 1, 자석을 포함한 기판스테이지 상에 제 1 서브화소, 제 2 서브화소, 및 2개의 제 3 서브화소가 하나의 화소를 이루는 화소정의영역이 형성된 어셉터기판을 위치시키는 어셉터기판 이송단계;An acceptor substrate transfer step of positioning an acceptor substrate on which a pixel definition region in which a first subpixel, a second subpixel, and two third subpixels constitute one pixel is formed on a substrate stage including a magnet; 상기 어셉터기판 상에 상기 제 1 서브화소에 전사될 제 1 색상 유기발광층을 구비하는 도너필름을 위치시키는 제 1 도너필름 이송단계;A first donor film transfer step of placing a donor film having a first color organic light emitting layer to be transferred to the first subpixel on the acceptor substrate; 상기 제 1 색상 및 제 2 색상 유기발광층을 전사하기 위한 레이저가 통과되는 개구홈이 형성되고 자석을 포함하는 제 1 밀착프레임을 상기 제 1 도너필름에 자기적 인력으로 밀착하는 제 1 밀착프레임 밀착단계;A first contact frame contact step of forming an opening groove through which a laser for transferring the first color and the second color organic light emitting layer passes, and a first contact frame including a magnet to the first donor film by magnetic attraction. ; 상기 제 1 밀착프레임의 개구홈을 통해 상기 제 1 도너필름 상으로 레이저를 조사하여 제 1 색상 유기발광층을 제 1 서브화소영역으로 전사하는 제 1 전사단계;A first transfer step of transferring a first color organic light emitting layer to a first subpixel region by irradiating a laser onto the first donor film through the opening groove of the first contact frame; 상기 제 1 밀착프레임을 상기 제 1 도너필름으로부터 분리하는 제 1 밀착프레임 분리단계;A first adhesion frame separation step of separating the first adhesion frame from the first donor film; 상기 어셉터기판 상에 제 2 색상 유기발광층을 구비하는 제 2 도너필름을 상기 제 1 도너필름과 교환하여 위치시키는 제 2 도너필름 이송단계;A second donor film transfer step of placing a second donor film having a second color organic light emitting layer on the acceptor substrate in exchange with the first donor film; 상기 제 1 밀착프레임을 상기 제 2 도너필름에 자기적 인력으로 재밀착하는 제 1 밀착프레임 재밀착단계;A first adhesion frame re-adhesion step of re-adhering the first adhesion frame to the second donor film with magnetic attraction; 상기 제 1 밀착프레임의 개구홈을 통해 상기 제 2 도너필름 상으로 레이저를 조사하여 제 2 색상 유기발광층을 제 2 서브화소영역으로 전사하는 제 2 전사단계;A second transfer step of transferring a second color organic light emitting layer to a second subpixel region by irradiating a laser onto the second donor film through the opening groove of the first contact frame; 상기 제 1 밀착프레임을 상기 제 2 도너필름으로부터 분리하고, 상기 제 3 도너필름의 제 3 색상 유기발광층을 전사하기 위한 레이저가 통과되는 개구홈이 형 성되며, 자석을 포함한 제 2 밀착프레임으로 교환하는 제 2 밀착프레임 교환단계;The first contact frame is separated from the second donor film, and an opening groove through which a laser passes for transferring the third color organic light emitting layer of the third donor film is formed, and replaced with a second contact frame including a magnet. A second close frame replacement step; 상기 어셉터기판 상에 제 3 색상 유기발광층을 구비하는 제 3 도너필름을 상기 제 2 도너필름과 교환하여 위치시키는 제 2 도너필름 이송단계;A second donor film transfer step of placing a third donor film having a third color organic light emitting layer on the acceptor substrate in exchange with the second donor film; 상기 제 2 밀착프레임을 상기 제 3 도너필름에 자기적 인력으로 밀착하는 제 2 밀착프레임 밀착단계; 및A second contact frame contacting step of contacting the second contact frame to the third donor film with magnetic attraction; And 상기 제 2 밀착프레임의 개구홈을 통해 상기 제 3 도너필름 상으로 레이저를 조사하여 제 3 색상 유기발광층을 2개의 제 3 서브화소영역으로 전사하는 제 3 전사단계;를 포함하여 구성되는 유기발광소자의 제조방법.And a third transfer step of transferring a third color organic light emitting layer to two third sub-pixel regions by irradiating a laser onto the third donor film through the opening groove of the second close contact frame. Manufacturing method. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 네개의 서브화소가 2×2 행렬을 이루며 하나의 화소를 형성하고, 상기 제 1 전사단계에서 제 1 색상 유기발광층은 상기 화소 내의 좌상단에 형성되도록 전사되고, 상기 제 2 전사단계에서 제 2 색상 유기발광층은 상기 제 1 서브화소의 우측에 형성되도록 전사하고, 상기 제 3 전사단계에서 제 3 색상 유기발광층은 상기 제 1 서브화소 및 상기 제 2 서브화소의 아래에 각각 하나씩 형성되도록 전사하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법. The four subpixels form a pixel in a 2 × 2 matrix, and in the first transfer step, the first color organic light emitting layer is transferred to be formed at the upper left of the pixel, and the second color in the second transfer step. The organic light emitting layer is transferred so as to be formed on the right side of the first subpixel, and in the third transfer step, the third color organic light emitting layer is transferred so as to be formed under each of the first subpixel and the second subpixel. A method of manufacturing an organic light emitting device. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 네개의 서브화소가 2×2 행렬을 이루며 하나의 화소를 형성하고, 상기 제 1 전사단계에서 제 1 색상 유기발광층은 상기 화소 내의 좌상단에 형성되도록 전사되고, 상기 제 2 전사단계에서 제 2 색상 유기발광층은 상기 제 1 서브화소의 아래측에 형성되도록 전사하고, 상기 제 3 전사단계에서 제 3 색상 유기발광층은 상기 제 1 서브화소 및 상기 제 2 서브화소의 각 우측에 형성되도록 전사하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자의 제조방법. The four subpixels form a pixel in a 2 × 2 matrix, and in the first transfer step, the first color organic light emitting layer is transferred to be formed at the upper left of the pixel, and the second color in the second transfer step. The organic light emitting layer is transferred to be formed below the first subpixel, and in the third transfer step, the third color organic light emitting layer is transferred to be formed on each right side of the first subpixel and the second subpixel. A method of manufacturing an organic light emitting device. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 제 1 전사단계에서 전사되는 제 1 색상 발광층의 색상은 R이고, 상기 제 2 전사단계에서 전사되는 제 2 색상 발광층의 색상은 G이며, 상기 제 3 전사단계에서 전사되는 제 3 색상 발광층의 색상은 B인 유기발광소자의 제조방법.The color of the first color light emitting layer transferred in the first transfer step is R, the color of the second color light emitting layer transferred in the second transfer step is G, and the color of the third color light emitting layer transferred in the third transfer step The manufacturing method of the organic light emitting element which is B. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 제 1 전사단계에서 전사되는 제 1 색상 발광층의 색상은 G이고, 상기 제 2 전사단계에서 전사되는 제 2 색상 발광층의 색상은 R이며, 상기 제 3 전사단계에서 전사되는 제 3 색상 발광층의 색상은 B인 유기발광소자의 제조방법.The color of the first color light emitting layer transferred in the first transfer step is G, the color of the second color light emitting layer transferred in the second transfer step is R, and the color of the third color light emitting layer transferred in the third transfer step The manufacturing method of the organic light emitting element which is B.
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