KR20070016970A - 진공 처리 챔버의 rf 매칭 네트워크와 그 구성 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (26)
- 각각 다른 주파수를 가진 제 1내지 제 n의 RF 발진기와 각각 연결된 제 1내지 n 번째의 RF 입력 포트 및 상기 다중 RF 발진기의 에너지를 진공 처리 챔버로 출력하는 출력포트를 포함하고, 상기 제 1내지 제 n의 RF 입력 포트의 주파수는 순차적으로 감소하며,제 i RF 입력 포트와 출력 포트 사이에는 제 i 회로가 있고 이 제 i 회로는 출력 포트에서 제 i 주파수 이외에 다른 모든 RF 발진기 주파수에 대하여 고임피던스를 가지고,상기 제 i 회로가 제 i 주파수를 가진 RF발진기에 연결되면, 상기 제 i 회로는 상기 출력 포트로부터 제 i 회로까지 측정되는 임피던스로서 상기 제 i 주파수에서 제 1 임피던스를 가지는 한편, 상기 출력포트로부터 상기 제 i 회로의 반대 방향으로 측정되는 임피던스로서 상기 제 i 주파수에서 제 2 임피던스를 가지며, 상기 제 1 임피던스는 상기 제 2 임피던스와 실질적으로 공액 매칭이 되는 진공처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 1항에 있어서.이웃한 두 주파수 사이에서 고주파와 저주파의 비율은 5보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 1항에 있어서,각각의 상기 회로는 적어도 커패시터, 인덕터 및 접지 커패시터를 포함하고, 상기 커패시터는 인덕터와 직렬이며, 상기 접지 커패시터와 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 3항에 있어서,상기 커패시터와 접지 커패시터는 전부 또는 부분적으로 가변 커패시터인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 3항에 있어서,각각의 상기 회로의 연결은 L-형, 역 L-형, T-형 또는 p-형인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 1항에 있어서,상기 n은 2보다 크거나 같은 정수이고, 상기 i는 2보다 작지 않고 n보다 크지 않은 정수인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 1항에 있어서상기 진공 처리 챔버는 플라즈마 증착 챔버인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 1항에 있어서,상기 진공 처리 챔버는 플라즈마 에칭 챔버인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 1 주파수 RF 발진기에 연결된 제 1 주파수 RF 입력포트, 제 2 RF발진기에 연결된 제 2 주파수 RF 입력포트, 및 진공 처리 챔버로 하나 또는 복수의 RF발진기의 에너지를 출력하는 출력포트를 포함하고, 상기 제 1 주파수는 제 2 주파수보다 더 높으며,상기 제 1 주파수 RF 입력 포트와 출력포트 사이에는 제 1 회로가 있고, 상기 제 1회로는 상기 제 2 주파수에서 출력포트에 대해 고임피던스를 가지고,상기 제 2 주파수 입력 포트와 출력포트 사이에는 제 2 회로가 있고, 상기 제 2회로는 제 1 주파수에서 출력포트에 대해 고임피던스를 가지며,상기 제 1 회로가 제 1 주파수 RF 발진기에 연결되면, 상기 출력 포트로부터 제 1 회로까지 측정되는 임피던스로서 제 i 주파수에서 제 1 임피던스를 가지는 한편, 상기 출력 포트로부터 상기 제 1 회로의 반대방향으로 측정되는 임피던스로서 제 i 주파수에서 제 2 임피던스를 가지고, 상기 제 1 임피던스는 제 2 임피던스와 실질적으로 공액 매칭인, 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 9항에 있어서,상기 제 1 회로와 제 2 회로는 각각 적어도 커패시터, 인덕터 및 접지 커패시터를 포함하고, 상기 커패시터는 인덕터와 직렬이며, 상기 접지 커패시터와 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 10항에 있어서,상기 커패시터와 접지 커패시터는 전부 또는 부분적으로 가변 커패시터인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 11항에 있어서,각각의 상기 회로의 연결은 L-형, 역 L-형, T-형 또는 p-형인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 9항에 있어서,상기 제 1 주파수와 제 2 주파수 사이의 비율은 5보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 10항에 있어서,상기 제 1 회로의 출력포트와 진공 처리 챔버 사이에 도전 커넥터가 직렬로 연결되며, 상기 도전 커넥터의 선단은 상기 진공 처리 챔버의 하부전극에 하나 또는 다중 분기로서 연결되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워 크.
- 제 10항에 있어서,상기 제 2 회로의 인덕터를 이루는 도선들 간의 간극은 상기 출력 포트에 가까운 단부가 상기 제 2 주파수 RF입력 포트에 가까운 단부보다 더 큰 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 9항에 있어서,상기 진공 처리 챔버는 플라즈마 증착 챔버인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- 제 9항에 있어서,상기 진공 처리 챔버는 플라즈마 에칭 챔버인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크.
- a. 제 1 주파수 RF 발진기에 제 1 주파수 RF 입력 포트를 연결하고 제 2 주파수 RF 발진기에 제 2 주파수 RF 입력 포트를 연결하며, 다중 RF 발진기의 에너지를 진공 처리 챔버로 출력하도록 출력 포트를 설정하는 단계로서, 상기 제 1 주파수는 제 2 주파수보다 더 높은 단계;b. 상기 제 1 주파수 RF 입력 포트와 출력 포트 사이에 제 1 회로를 배치하 는 단계로서, 상기 제 1 회로는 상기 제 2 주파수에서 출력 포트에 대하여 고임피던스를 가지는 단계;c. 상기 제 2 주파수 RF 입력 입력 포트와 출력 포트 사이에 제 2 회로를 배치하는 단계로서, 상기 제 2 회로는 상기 제 1 주파수에서 출력 포트에 대하여 고임피던스를 가지는 단계;를 포함하고상기 제 1 회로가 상기 제 1 주파수 RF 발진기에 연결되면, 상기 출력 포트로부터 상기 제 1회로까지 측정되는 임피던스로서 제i 주파수에서 제 1 임피던스를 가지는 한편, 상기 출력 포트로부터 제 1회로의 반대 방향으로 측정되는 임피던스로서 제 i 주파수에서 제 2 임피던스를 가지며; 상기 제 1 임피던스는 제 2 임피던스와 실질적으로 공액 매칭을 이루는, 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 18항에 있어서,상기 제 1 회로와 제 2 회로는 각각 적어도 커패시터, 인덕터 및 접지 커패시터를 포함하고, 상기 커패시터는 인덕터와 직렬이며 상기 접지 커패시터와 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 19항에 있어서,상기 커패시터와 접지 커패시터는 전부 또는 부분적으로 가변 커패시터인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 20항에 있어서,각각의 상기 회로의 연결은 L-형, 역 L-형, T-형 또는 p-형인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 18항에 있어서,상기 제 1 주파수와 제 2 주파수 간의 비율은 5보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 19항에 있어서,상기 제 1 회로의 출력포트와 진공 처리 챔버 사이에 도전 커넥터가 직렬로 연결되며, 상기 도전 커넥터의 선단은 상기 진공 처리 챔버의 하부전극에 하나 또는 다중 분기로서 연결되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 19항에 있어서,상기 제 2 회로의 인덕터의 도선들 간의 간극은 상기 출력 포트에 가까운 단부가 상기 제 2 주파수 RF입력 포트에 가까운 단부보다 더 큰 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 18항에 있어서,상기 진공 처리 챔버는 플라즈마 증착 챔버인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
- 제 18항에 있어서,상기 진공 처리 챔버는 프라즈마 에칭 챔버인 것을 특징으로 하는 진공 처리 챔버의 RF 매칭 네트워크의 구성 방법.
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2006
- 2006-07-31 KR KR1020060072184A patent/KR100809764B1/ko active IP Right Grant
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