KR20070004177A - 포토레지스트 코팅 장치 - Google Patents

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KR20070004177A
KR20070004177A KR1020050059554A KR20050059554A KR20070004177A KR 20070004177 A KR20070004177 A KR 20070004177A KR 1020050059554 A KR1020050059554 A KR 1020050059554A KR 20050059554 A KR20050059554 A KR 20050059554A KR 20070004177 A KR20070004177 A KR 20070004177A
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coating
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KR1020050059554A
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최광석
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삼성전자주식회사
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Abstract

반도체 제조 공정에 사용되는 포토레지스트 코팅 장치에서, 기판 상에 포토레지스트를 코팅하는 포토레지스트 코팅유닛이 구비된다. 상기 포토레지스트 코팅유닛으로 공급하기 위한 포토레지스트를 수용하는 버퍼 탱크가 구비된다. 상기 버퍼 탱크로 공급하기 위한 포토레지스트를 저장하는 포토레지스트 저장부가 구비된다. 상기 버퍼 탱크의 포토레지스트와 상기 포토레지스트 저장부의 포토레지스트가 실질적으로 동일한 가를 판단하기 위하여 상기 포토레지스트 저장부에 저장된 포토레지스트의 특성을 분석하는 크로마토그래피 유닛(Chromatography Unit)이 구비된다. 따라서, 포토레지스트는 유기성액체로서 보관 방법이나 상온에 노출된 시간과 제조사에 따라 특성이 다를 수 있음으로, 기판 상에 포토레지스트를 코팅하기 전에 상기 크로마토그래피 유닛을 이용하여 특성을 미리 분석함으로써, 기판 상에 특성이 동일한 포토레지스트를 균일하게 코팅할 수 있다.

Description

포토레지스트 코팅 장치{APPARATUS COATING A PHOTORESIST }
도 1은 종래 기술에 따른 포토레지스트 코팅 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 코팅 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 3은 도 2의 포토레지스트 코팅 장치의 포토레지스트 코팅 모듈을 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 포토레지스트 코팅 장치 W : 반도체 기판
112 : 포토레지스트 저장부 114 : 버퍼 탱크
116 : 크로마토그래피 유닛 120 : 제1 공급라인
122 : 개폐 밸브 124 : 포토레지스트 감지 센서
126 : 제어부 128 : 제2 공급라인
130 : 유량 제어 밸브 132 : 펌프
134 : 여과 유닛 150 : 포토레지스트 코팅 모듈
152 : 공정 챔버 154 : 제1 구동부
156 : 회전척 158 : 회전축
160 : 공급 노즐 164 : 제2 구동부
170 : 보울 174 : 제1 배출부
178 : 제2 배출부 180 : 차단부
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 포토레지스트를 코팅하기 위한 장치에 관한 것이다.
최근, 컴퓨터와 같은 정보 매체의 급속한 보급에 따라 반도체 장치도 비약적으로 발전하고 있다. 그 기능 면에 있어서, 상기 반도체 장치는 고속으로 동작하는 동시에 대용량의 저장 능력을 가질 것이 요구된다. 이러한 요구에 부응하여, 상기 반도체 장치는 집적도, 신뢰도 및 응답 속도 등을 향상시키는 방향으로 반도체 공정 기술이 발전되고 있다.
일반적으로 반도체 장치는 반도체 기판으로 사용되는 실리콘 기판 상에 전기적인 회로를 형성하는 팹(Fab) 공정과, 상기 팹 공정에서 형성된 반도체 장치들의 전기적인 특성을 검사하는 EDS(electrical die sorting)공정과, 상기 반도체 장치들을 각각 에폭시 수지로 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정을 통해 제조된다.
상기 팹 공정은 반도체 기판 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정과, 상기 막을 평탄화하기 위한 화학적 기계적 연마 공정과, 상기 막 상에 포토레지스트 패턴 을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정과, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각 공정과, 반도체 기판의 소정 영역에 특정 이온을 주입하기 위한 이온 주입 공정과, 반도체 기판 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정과, 상기 막 또는 패턴이 형성된 반도체 기판의 표면을 검사하기 위한 검사 공정 등을 포함한다.
상기와 같은 단위 공정들 중에서 포토리소그래피 공정은 반도체 기판 상에 포토레지스트 막(photoresist film)을 형성하고 이를 경화시키는 공정과, 반도체 기판 상에 형성된 포토레지스트 막을 원하는 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위해 소정 부위를 제거하는 노광 공정 및 현상 공정을 포함한다.
이때, 상기 포토레지스트는 일반적으로 스피너(SPINNER)라 불리는 코팅 장치에 의해 상기 반도체 기판 상에 코팅되고, 상기 코팅 장치는 상기 포토레지스트를 항상 일정하게 공급하기 위한 공급 모듈과, 상기 공급 모듈에서 공급된 상기 포토레지스트를 상기 기판 상에 코팅하기 위한 코팅 모튤을 포함한다.
도 1은 종래 기술에 따른 포토레지스트 코팅 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 종래의 포토레지스트 코팅 장치(10)는 포토레지스트가 저장된 다수의 포토레지스트 저장부(12)들을 구비한다. 상기 포토레지스트 저장부(12)들은 연결라인에 의해 서로 연결된다. 상기 포토레지스트 저장부(12)로부터 상기 포토레지스트를 공급받아 임시 저장하는 버퍼 탱크(14)는 상기 연결라인에서 분기된 공급라인과 연결된다. 여기서, 상기 연결라인과 상기 공급라인은 개폐 밸브 (18)에 의해 서로 연결된다. 상기 버퍼 탱크(14)에 저장된 상기 포토레지스트는 반도체 기판을 코팅하기 위한 포토레지스트 코팅 모듈(16)에 공급된다.
상술한 구성을 갖는 포토레지스트 코팅 장치(10)에서 상기 각 포토레지스트 저장부(12)에 저장된 상기 포토레지스트를 모두 사용하면, 상기 포토레지스트 저장부(12)를 교체해야 한다.
하지만, 상기 포토레지스트는 감광성 조성물로 이루어진 유기성 액체이므로 시간이 경과함에 따라 특성이 변화며, 이러한 특성 변화는 사진 식각 공정에 의해 형성되는 포토레지스트 패턴의 크기 등에 많은 영향을 줄 수 있다. 또한, 상기 포트레지스트를 제조하는 회사마다 일정기간의 유효기간을 두지만, 보관방법이나 상온에 노출된 시간에 따라 상기 포토레지스트의 특성이 많이 달라질 수 있다.
이에 따라, 상기 교체되는 포토레지스트 저장부(12)에 저장된 포토레지스트가 상기 기판 상에 기 제공된 포토레지스트의 특성과 상이한 경우에는 상기 기판 상에 특성이 동일한 포토레지스트를 코팅할 수 없음으로, 상기 기판 상에 설계자가 의도하는 포토레지스트 패턴을 형성할 수 없게 되는 문제가 발생한다.
따라서, 상기 포토레지스트 저장부(12)를 교체하는 경우에도 상기 기판 상에 기 제공된 포토레지스트의 특성과 동일한 포토레지스트를 제공할 수 있도록 종래 포토레지스트 코팅 장치(10)의 구조를 개선할 필요가 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 포토레지스트 교체 시 새로이 유입되는 포토레지스트 특성의 변화 여부를 미연에 판단할 수 있는 개선 된 구조를 갖는 포토레지스트 코팅 장치를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 코팅 장치는, 반도체 기판 상에 포토레지스트를 코팅하기 위한 포토레지스트 코팅 모듈과, 상기 포토레지스트 코팅 모듈로 공급하기 위한 포토레지스트를 수용하는 버퍼 탱크와, 상기 버퍼 탱크로 공급하기 위한 포토레지스트를 저장하는 포토레지스트 저장부와, 상기 버퍼 탱크의 포토레지스트와 상기 포토레지스트 저장부의 포토레지스트가 실질적으로 동일한 가를 판단하기 위하여 상기 포토레지스트 저장부에 저장된 포토레지스트의 특성을 분석하는 크로마토그래피 유닛(Chromatography Unit)을 포함한다.
여기서, 상기 크로마토그래피 유닛은 분자 크기의 차이를 이용하여 물질의 특성을 분석하는 겔 투과 크로마토그래피(Gel Permeation Chromatography, GPC)를 이용하는 유닛(Unit)인 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같은 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 포토레지스트 저장부의 교체 시 상기 크로마토그래피 유닛을 이용하여 상기 버퍼 탱크로 새로이 공급되는 상기 포토레지스트의 특성을 미연에 분석할 수 있다.
이에 따라, 상기 포토레지스트 저장부를 교체하는 경우에도 상기 기판 상에 기 코팅된 포토레지스트의 특성과 동일한 포토레지스트를 코팅할 수 있다.
때문에, 포토레지스트 패턴에 영향을 주지 않고 설계자가 의도한 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있음으로, 반도체 소자의 특성 및 신뢰성을 향상시킬 있다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 코팅 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2를 참조하면, 상기 포토레지스트 코팅 장치(100)는 포토레지스트를 저장하기 위한 포토레지스트 저장부(112)와, 상기 저장부에 저장된 상기 포토레지스트의 특성을 분석하기 위한 크로마토그래피 유닛(116)과, 상기 포토레지스트 저장부(112)로부터 공급되는 포토레지스트를 일시적으로 수용하기 위한 버퍼 탱크(114)와, 상기 코팅 장치(100)를 제어하는 제어부(126)와, 상기 기판(W) 상에 포토레지스트를 코팅하기 위한 포토레지스트 코팅 모듈(150)을 포함한다.
상기 포토레지스트 저장부(112)는 포토레지스트를 저장하기 위한 제1 저장부(112a)와 제2 저장부(112b)를 포함한다. 그러나, 상기 포토레지스트 저장부(112)의 수량은 다양하게 변경될 수 있으며, 본 실시예에 따른 상기 포토레지스트 저장부(112)의 수량에 한정되지는 않는다. 상기 제1 저장부(112a)와 제2 저장부(112b)는 상기 크로마토그래피 유닛(116)에 연결된다.
여기서, 상기 제1 저장부(112a)와 상기 제2 저장부(112b)에 저장된 상기 포토레지스트는 빛의 감도에 의해 포토레지스트 패턴의 크기를 결정하는 감광성 물질이 첨가되어 있다. 그러므로, 일정한 기간이 지나면 특성이 변하게 된다. 또한, 상기 포트레지스트를 제조하는 회사마다 일정 기간의 유효기간을 두지만, 보관방법이나 상온에 노출된 시간에 따라 상기 포토레지스트의 특성이 많이 달라질 수 있다.
때문에, 종래에는 반도체 소자를 제조하는 팹(FAB) 공정에서는 상기 포토레지스트 코팅 장치(100)에 새로운 포토레지스트를 셋팅한 후에 기 사용된 포토레지스트와의 특성을 비교하기 위하여 상기 기판(W)에 샘플로서 포토레지스트 패턴의 크기를 측정한다.
이에 따라, 상기 새로운 포토레지스트의 특성이 상기 기 사용된 포토레지스트의 특성과 동일한 경우에는 상기 포토레지스트 코팅 장치(100)에 셋팅하여 사용하고, 특성이 서로 상이한 문제가 발생한 경우에는 특성이 동일한 포토레지스트가 셋팅될 때까지 새로운 포토레지스트를 셋팅한 후 상기 포토레지스트 패턴의 크기를 측정하는 방법을 반복하게 된다.
하지만, 종래와 같은 방법을 수행함에 있어서는 많은 인력이 소모되고 포토레지스트가 상기 포토레지스트 코팅 장치(100)에 셋팅된 후에 문제 발생의 여부를 알 수 있기 때문에 그만큼 공정 시간이 길어지게 된다.
따라서, 상기와 같은 종래의 단점들을 보완하기 위해 본 실시예에 따른 포토레지스트 코팅 장치(100)는 상기 크로마토그래피 유닛(116)을 설치하여 상기 포토레지스트가 상기 기판(W) 상에 코팅되기 전에 상기 포토레지스트의 특성을 분석할 수 있도록 하였다. 이에 따라, 상기 포토레지스트 코팅 장치(100)에 기 사용된 포토레지스트의 특성과 동일한 특성을 갖는 다른 포토레지스트를 신속하게 셋팅할 수 있음으로 공정 시간을 단축시킬 수 있고 인력 소모를 최소화할 수 있다.
이에, 상기 크로마토그래피 유닛(116)을 구체적으로 살펴보면, 상기 크로마토그래피 유닛(116)은 분자 크기의 차이를 이용하여 물질의 특성을 분석하는 겔 투 과 크로마토그래피(Gel Permeation Chromatography, GPC)를 이용하는 유닛(Unit)이다.
도시되지 않았지만, 상기 겔 투과 크로마토그래피를 이용하는 유닛에는 펌프, 검출기를 포함한다. 상기 펌프는 유속을 정확하게 유지할 수 있어야 하고, 유속의 재현성과 고분자의 점도에 무관한 재현성이 요구된다. 상기 검출기는 가장 광범위하게 사용되는 미분 굴절계와 자외선 및 적외선 영역에서 작동되는 분광광도법 검출기이다. 상기 검출기는 3-6m길이의 배제관에 1-10ml의 작동부피를 갖고 분석시간은 보통 30분 미만이다.
여기서, 상기 겔 투과 크로마토 그래피는 용출법에 의한 액상-고상형의 액체 크로마토그래피의 일종이다. 이 방법에 의한 분리는 용질 분자의 크기(분자의 길이, 부피 등)에 기인하는 것이고, 분자의 크기가 큰 것부터 용출한다. 분자의 크기가 같으면 용질의 종류, 관능기의 종류 등에 관계없이 같은 위치에서 용출된다. 겔 투과 크로마토그래피는 고분자의 물성을 이해하고 예측할 수 있다.
이와 같이, 상기 겔 투과 크로마토 그래피에 의한 포토레지스트 특성의 분리 방법을 이용하는 상기 크로마토그래피 유닛(116)은 상기 기판(W) 상에 특성이 동일한 포토레지스트가 코팅되도록 상기 버퍼 탱크(114)에 기 수용된 포토레지스트와 동일한 특성을 갖는 포토레지스트를 상기 버퍼 탱크(114)로 공급하기 위하여, 기 사용되는 포토레지스트 저장부(112)와 교체되는 새로운 포토레지스트 저장부(112)에 저장된 포토레지스트가 상기 버퍼 탱크(114)로 공급되기 전에 포토레지스트의 특성을 분석한다.
상기 분석된 결과 데이터는 상기 제어부(126)에 저장된다. 또한, 상기 제어부(126)에는 상기 버퍼 탱크(114)에 기 수용된 포토레지스트의 특성에 관한 데이터가 미리 저장되어 있다. 그리하여, 상기 제어부(126)는 상기 분석된 결과 데이터와 상기 기 수용된 포토레지스트의 특성에 관한 데이터를 비교함으로써, 상기 기 수용된 포토레지스트와 상기 교체되는 포토레지스트의 물성이 동일한 가를 판단한다.
이에 따라, 상기 제어부(126)는 상기 크로마토그래피 유닛(116)으로부터 제공 받은 정보에 의해 상기 버퍼 탱크(114)에 기 수용된 포토레지스트와 새로 교체되는 상기 포토레지스트 저장부(112)에 저장된 포토레지스트의 특성이 상이한 경우, 상기 포토레지스트 저장부(112)에 저장된 포토레지스트가 상기 버퍼 탱크(114)로 공급되는 것을 차단시킨다.
이에 반해, 상기 버퍼 탱크(114)에 기 수용된 포토레지스트와 새로 교체되는 상기 포토레지스트 저장부(112)에 저장된 포토레지스트의 특성이 동일한 경우, 상기 제어부(126)는 상기 포토레지스트 저장부(112)에 저장된 포토레지스트가 상기 버퍼 탱크(114)로 공급되게 한다.
상기 버퍼 탱크(114)는 제1 공급라인(120)에 의해 상기 크로마토그래피 유닛(116)과 연결된다. 또한, 상기 버퍼 탱크(114)에는 상기 버퍼 탱크(114)에 수용된 포토레지스트에 포함된 가스를 제거하기 위한 가스 배출부(미도시)가 구비된다.
도시되지 않았지만, 상기 버퍼 탱크(114)에는 포토레지스트의 잔류 량을 판단하는 감지 센서가 구비된다. 상기 감지 센서는 버퍼 탱크(114) 내에 잔류하는 포토레지스트의 량이 센서가 존재하는 위치 이상일 경우 오프 상태를 유지하고, 잔류 하는 포토레지스트의 량이 센서가 존재하는 위치 이하일 경우 감지신호를 상기 제어부(126)에 전송한다.
상기 제1 공급라인(120)에는 상기 제1 공급라인(120)을 개폐시키는 개폐 밸브(122)가 설치된다. 상기 개폐 밸브(122)의 개폐 동작은 상기 제어부(126)에 의해 조절된다.
구체적으로, 상기 제어부(126)는 상기 버퍼 탱크(114)에 기 수용된 포토레지스트와 새로 교체되는 상기 포토레지스트 저장부(112)에 저장된 포토레지스트의 특성이 동일한 경우 상기 개폐 밸브(122)를 개방시킨다.
이에 반해, 상기 버퍼 탱크(114)에 기 수용된 포토레지스트와 새로 교체되는 상기 포토레지스트 저장부(112)에 저장된 포토레지스트의 특성이 상이한 경우에는 상기 제어부(126)는 상기 개폐 밸브(122)를 폐쇄시킴으로써 상기 교체되는 포토레지스트가 상기 버퍼 탱크(114)로 공급되지 못하게 한다.
상기 제1 공급라인(120)에는 상기 포토레지스트 저장부(112)로부터 공급되는 포토레지스트를 감지하기 위한 포토레지스트 감지 센서(124)가 설치된다.
상기 버퍼 탱크(114)와 상기 포토레지스트 코팅 모듈(150) 사이에는 상기 버퍼 탱크(114)의 하부에 연결된 제2 공급라인(128)과, 상기 제2 공급라인(128)에 설치되어 포토레지스트의 유량을 조절하기 위한 유량 제어 밸브(130)와, 상기 제2 공급라인(128)과 연결되어 상기 포토레지스트 코팅 모듈(150)에 포토레지스트를 공급하기 위한 가압력을 제공하는 펌프(132)와, 상기 제2 공급라인(128)으로 공급되는 포토레지스트에 포함된 오염물질 등을 제거하기 위한 포토레지스트 여과 유닛(134) 및 상기 제2 공급라인(128)의 단부에 연결되며 상기 포토레지스트를 상기 기판(W) 상으로 공급하기 위해 상기 포토레지스트 코팅 모듈(150)의 상기 기판(W) 상부에 배치되는 공급 노즐(160)을 포함한다.
도 3은 도 2의 포토레지스트 코팅 장치의 포토레지스트 코팅 모듈을 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 3을 참조하면, 상기 포토레지스트 코팅 모듈(150)은 상기 반도체 기판(W)을 지지하고 회전시키는 회전척(156)과, 상기 회전척(156)을 둘러싸도록 구비되는 보울(170)과, 상기 회전척(156)과 상기 보울(170)을 내장하는 공정 챔버(152) 등을 포함한다.
상기 회전척(156)의 하부에는 회전력을 전달하는 상기 회전축(158)이 연결되고, 상기 회전축(158)은 회전력을 제공하는 제1 구동부(154)와 연결된다.
상기 회전척(156)의 상부에는 상기 기판(W) 상에 포토레지스트를 제공하는 공급 노즐(160)이 구비되며, 상기 공급 노즐(160)은 제2 구동부(164)에 의해 상기 기판(W)을 가로질러 이동 가능하도록 설치된다.
상기 보울(170)은 상기 기판(W)의 회전에 의해 상기 기판(W)으로부터 비산된 포토레지스트를 차단하기 위해 구비되며, 제3 구동부(미도시)에 의해 상기 기판(W)의 로딩 및 언로딩에 따라 상하 구동된다.
상기 보울(170)의 하부에는 포토레지스트로부터 발생된 연무(fume) 및 상기 공정 챔버(152) 내부에서 부유하는 미세한 파티클들을 배출하기 위한 제1 배출부(174)가 연결된다. 상기 제1 배출부(174)는 상기 회전척(156)의 양측에 연결되며, 진공이 제공되는 진공 라인(미도시)과 연결된다. 상기 진공 라인은 진공 펌프(미도시)와 연결되며, 상기 진공 라인에는 진공 라인의 개폐 정도를 조절하는 밸브가 설치되어 있다. 또한, 상기 보울(170)의 하부 가장자리에는 상기 기판(W)으로부터 비산되어 상기 보울(170)에 의해 차단된 포토레지스트를 배출하기 위한 제2 배출부(178)가 연결된다.
상기 보울(170)의 바닥에는 상기 제1 배출부(174)로 포토레지스트가 유입되는 것을 방지하기 위한 차단부(180)가 설치되어 있다. 상기 차단부(180)는 상기 보울(170)의 측벽에 의해 차단된 포토레지스트가 상기 보울(170)의 바닥으로 이동하여 상기 회전축(158)의 양측에 연결된 상기 제1 배출부(174)로 유입되는 것을 방지하도록 상기 제1 배출부(174)와 상기 제2 배출부(178) 사이에 설치되며, 원형 링 형상을 갖는다.
또한, 상기와 같은 포토레지스트 코팅 모듈(150)은 기포 배출부(미도시)에 의해 기포가 제거된 포토레지스트를 사용하므로 상기 기판(W) 상에 균일한 감광막을 형성할 수 있다.
본 실시예에 의하면, 상기 크로마토그래피 유닛(116)을 이용하여 새로이 교체되는 포토레지스트가 상기 버퍼 탱크(114)에 공급되기 전에 상기 교체되는 포토레지스트의 특성을 미리 분석하고, 상기 분석된 데이터를 상기 버퍼 탱크(114)에 기 제공된 포토레지스트와 비교한다. 그리하여, 상기 버퍼 탱크(114)에 기 제공된 포토레지스트와 동일한 특성을 갖는 상기 교체되는 포토레지스트를 상기 버퍼 탱크(114)에 공급한다.
이에 따라, 상기 포토레지스트 수용부가 교체되더라도 상기 기판(W) 상에 물성이 동일한 포토레지스트를 신속 정확하게 제공하여 상기 기판(W) 상에 우수한 포토레지스트를 코팅할 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 상기 포토레지스트 저장부의 교체 시 상기 크로마토그래피 유닛을 이용하여 상기 버퍼 탱크로 새로이 공급되는 상기 포토레지스트의 특성을 미연에 분석할 수 있다.
이에 따라, 상기 포토레지스트 저장부를 교체하는 경우에도 상기 기판 상에 기 코팅된 포토레지스트의 특성과 동일한 포토레지스트를 코팅할 수 있다.
때문에, 포토레지스트 패턴에 영향을 주지 않고 설계자가 의도한 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있음으로, 반도체 소자의 특성 및 신뢰성을 향상시킬 있다.
상기에서 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (3)

  1. 반도체 기판 상에 포토레지스트를 코팅하기 위한 포토레지스트 코팅 모듈;
    상기 포토레지스트 코팅 모듈로 공급하기 위한 포토레지스트를 수용하는 버퍼 탱크;
    상기 버퍼 탱크로 공급하기 위한 포토레지스트를 저장하는 포토레지스트 저장부; 및
    상기 버퍼 탱크의 포토레지스트와 상기 포토레지스트 저장부의 포토레지스트가 실질적으로 동일한 가를 판단하기 위하여 상기 포토레지스트 저장부에 저장된 포토레지스트의 특성을 분석하는 크로마토그래피 유닛(Chromatography Unit)을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 크로마토그래피 유닛은 분자 크기의 차이를 이용하여 물질의 특성을 분석하는 겔 투과 크로마토그래피(Gel Permeation Chromatography, GPC)를 이용하는 유닛(Unit)인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 크로마토그래피 유닛에 의해 상기 버퍼 탱크의 포토레지스트와 상기 포토레지스트 저장부의 포토레지스트가 서로 다르다고 판단할 때 상기 포토레지스트 저장부의 포토레스트가 상기 버퍼 탱크로 공급되는 것을 차단하기 위한 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅 장치.
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