KR20060126757A - 기록 및 재생용 광학장치 - Google Patents

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KR20060126757A
KR20060126757A KR1020067015631A KR20067015631A KR20060126757A KR 20060126757 A KR20060126757 A KR 20060126757A KR 1020067015631 A KR1020067015631 A KR 1020067015631A KR 20067015631 A KR20067015631 A KR 20067015631A KR 20060126757 A KR20060126757 A KR 20060126757A
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요리스 프레헨
피터 유트
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코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
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Abstract

본 발명은, 방사빔을 발생하는 방사원(101)과, 그 방사빔을 광 경로를 따라 정보매체(100)에 포커싱하는 수단(103,106)을 구비한 광학장치에 관한 것이다. 그 방사빔은 중심축, 외부 테두리 및 강도 분포를 갖는다. 상기 광학장치는 광 경로에, 림 강도와, 적어도 중심 축 근처의 방사빔이 회절된다는 점에서 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율을, 증가시키도록 설계된 광학부재(104)를 더 구비한다.
광학장치, 기록, 재생, 림 강도, 회절.

Description

기록 및 재생용 광학장치{OPTICAL DEVICE FOR RECORDING AND REPRODUCING}
본 발명은 정보매체에 기록 및/또는 정보매체로부터의 판독을 행하는 광학장치에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 정보매체에 기록하고 정보매체로부터 판독을 하는 방법에 관하 것이다.
또한, 본 발명은 광학부재에 관한 것이다.
특히, 본 발명은, 예를 들면 광 디스크에 기록 및 광 디스크로부터 판독을 하기 위한 광 디스크 장치, 예를 들면 CD, DVD 또는 블루레이 디스크(BD) 레코더 및 재생장치에 관한 것이다.
광 디스크 등의 정보매체에 데이터를 기록하고 그 정보매체로부터 데이터를 판독하기 위해서, 광학장치에서는 방사빔을 사용한다. 상기 정보매체는, 고강도 방사빔을 인가한다는 점에서 그 특성이 국부적으로 변경될 수 있는 기록층을 구비한다. 상기 기록층에서 일어난 국부적 변화는, 기록된 데이터에 해당하고, 이어서 저강도 방사빔에 의해 정보를 재생하는데 사용된다. 예를 들면, 상변이 물질은, 기록 층으로서 사용된다. 기록시에, 기록층은, 고강도 방사빔에 의해 변경되지만, 그 결과의 정보층은 저강도 방사빔이 판독을 위해 사용되기 때문에, 판독시에 변경되지 않는다.
방사빔은, 방사원에서 발생되고, 시준렌즈와 대물렌즈에 의해 광 경로를 따라 정보층에 포커싱된다. 그 광 경로를 따라, 방사빔은, 주로 중심축과 외부 테두리를 갖는 평행빔이다. 방사빔의 강도 분포는, 방사원과 광학장치에 의존한다. 공지된 광학장치에서, 중심축 근처의 그 빔의 강도는, 방사빔의 외부 테두리 근처의 강도보다 크다. 외부 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율은 림 강도라고 불린다.
정보매체의 정보층에 대해 데이터를 기록 및 판독하기 위해서, 특정량의 림 강도가 필요하다. 실제로, 림 강도가 너무 낮은 경우, 빔에 의해 정보층에 형성된 스폿의 품질은 불량하여, 기록 및 판독처리에 영향을 미친다.
림 강도를 증가시키기 위해서, 시준렌즈의 초점 길이와 대물렌즈의 동공에 의해 정의된 것과 같은 방사원으로부터 얻어진 개구수는 종래의 광학장치에서는 감소된다. 이러한 개구수를 시준렌즈 개구수라고 한다. 상기 시준렌즈 개구수를 증가시키는 경우, 림 강도는 상승한다. 이 때문에, 방사빔의 원시야는 더 축소된다.
그러나, 방사빔의 원시야의 보다 큰 부분을 축소한다는 의미는, 방사원으로부터 정보매체까지의 광학 스루풋이 감소된다는 것이다. 상기 광학 스루풋은, 정보매체의 방사빔의 전력과 상기 방사원에서 생성된 방사빔의 전력간의 비율이다. 특정 강도의 방사빔이 정보매체에 기록하고 이 정보매체로부터 판독하는데 필요한데, 이것의 의미는, 상기 방사원의 전력이 원하는 빔 강도를 얻기 위해서 증가되어야 한다는 것이다.
이것은, 방사원, 예를 들면, 레이저 다이오드의 수명을 줄이거나, 또는 최대 기록속도를 제한하기 때문에, 단점이이다. 더욱이, 이것은, 전력소모를 증가시키는데, 특히 이것은 휴대용 장치의 단점이다.
(발명의 요약)
본 발명의 목적은, 림 강도를 증가시키는 수단을 구비하고, 광학 처리율이 비교적 높은 광학장치를 제공하는데 있다.
이를 위해, 본 발명은, 방사빔을 발생하는 방사원과, 그 방사빔을 광 경로를 따라 정보매체에 포커싱하는 수단을 구비한 광학장치를 제안하되, 상기 방사빔은 중심축과 외부 테두리를 갖고, 상기 방사빔은 강도 분포를 갖고, 상기 광학장치는 광 경로에, 적어도 중심 축 근처의 방사빔이 회절된다는 점에서 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율을 증가시키도록 설계된 광학부재를 더 구비한다.
본 발명에 의하면, 방사빔의 중심축 근처의 강도는 감소된다. 실제로, 중심 축 근처의 방사빔이 회절되는 경우, 상기 중심축 근처의 방사빔의 일부만이 정보매체에 전송된다. 방사빔의 테두리 근처의 강도도 감소되지만, 광학부재는, 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율이 증가되도록 설계된다. 이 때문에, 림 강도는 증가된다. 더욱이, 방사빔의 원시야는 축소되지 않는데, 그것이 의미하 는 것은, 스루풋이 비교적 높다, 시준기의 개구수를 감소시키는 공지의 광학장치에서보다 적어도 높다는 것이다.
바람직한 실시예에서, 방사빔은 중심축에 수직한 적어도 제 1 및 제 2 방향을 포함하고, 그 방사빔은, 제 1 방향으로 제 1 평균 강도를 갖는 제 1 강도분포와, 제 2 방향으로 제 2 평균 강도를 갖는 제 2 강도 분포를 갖고, 상기 제 2 평균 강도는 제 1 평균 강도보다 크고, 상기 광학부재는 제 1 방향에서 보다 강하게 제 2 방향으로 방사빔을 회절시키도록 설계된다.
광학장치에 통상 사용된 방사원은, 1보다 큰 빔 발산 애스팩트비를 갖는다. 이것에 의해 스폿이 타원형으로 되어, 데이터의 기록 및 판독에 영향을 준다. 공지된 광학장치에서, 이것은, 레이저의 타원형 원시야를 보다 둥근 원시야로 변환하는 빔 성형기에 의해 보상된다. 그러나, 이러한 빔 성형기는, 광학장치의 조립공정을 복잡하게 하는 시준렌즈 및 대물렌즈와 조심스럽게 정렬하는 것을 필요로 한다. 본 바람직한 실시예에서는, 광학부재가 방사원의 발산 애스팩트비를 보상하도록 설계될 때, 빔 성형기를 필요로 하지 않는다. 이 때문에, 광학장치의 부피는 보다 적고, 광학장치의 조립공정은 보다 쉽다.
바람직하게는, 상기 광학부재는 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로 감소하는 위상 깊이를 갖는 위상 구조를 갖는다. 이러한 위상 구조는, 중심축으로부터 외부 테두리로 감소되는 강도를 갖는 방사빔의 림 강도를 증가시키도록 알맞게 구성된다. 위상 구조의 위상 깊이의 분포는, 방사빔의 강도 분포를 일치시키도록 배치되고, 그 경우에, 림 강도는 1에 가깝다. 상기 위상 구조는, 광 경로에 이미 존재하는 광학부재에서 쉽게 몰딩되거나 복제될 수 있다.
바람직하게는, 광학부재는, 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로 감소하는 듀티 사이클을 갖는 위상 구조를 갖는다. 상기 위상 구조는, 중심축으로부터 외부 테두리로 감소하는 강도를 갖는 방사빔의 림 강도를 증가시키도록 알맞게 구성된다. 더욱이, 상기 위상 구조의 위상 깊이가 일정하므로, 상기 위상 구조는, 방사빔의 파면 수차를 일으키지 않는다.
바람직하게는, 광학부재는, 광학장치의 동작모드에 따라 변화될 수 있는 회절 프로파일을 갖는 위상 구조를 갖는다. 특히, 이것은, 방사빔의 필요한 강도와 필요한 림 강도가 기록 및 판독시에 같지 않기 때문에 바람직하다. 실제로, 방사빔의 비교적 낮은 강도와 비교적 높은 림 강도는 판독시에 필요하다. 기록시에, 보다 높은 강도의 방사빔을 필요로 하지만, 보다 낮은 림 강도를 사용하여도 된다. 광학장치가 기록모드에서 판독모드로 가는 경우, 위상 구조의 회절 프로파일이 변화될 수 있으므로, 필요한 림 강도와 방사빔의 강도를 고려하는 것이 가능하다.
바람직하게는, 광학부재는, 주기적 위상 구조를 갖는다. 이 경우에, 위상 구조는, 3차 회절을 한다. 이 때문에, 하나의 주 스폿과 2개의 주변 스폿이 생성된다. 이들 3개의 스폿은, 소위 "3 스폿 푸시풀 트랙킹" 방법에 사용될 수 있다. 따라서, 림 강도를 증가시키기 위해 방사빔으로부터 제거된 광을 사용하여 3스폿 푸시풀 트랙킹 방법에서 사용된 2개의 주변 스폿을 생성한다. 이 때문에, 상기와 같은 광 주사장치에서 광이 손실되는데, 이것이 의미하는 것은, 광학 스루풋이 비교적 높다.
또한, 본 발명은, 중심축과 외부 테두리를 갖고 강도 분포를 갖는 방사빔을 발생하는 방사원과, 그 방사빔을 광 경로를 따라 정보매체에 포커싱하는 수단을 구비한 광학장치로 정보매체에 기록 및 정보매체로부터 판독하는 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은, 중심축 근처의 빔의 제 1 퍼센트가 회절된다는 점에서 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율을 증가시키도록 설계된 광학부재를, 기록시에, 광 경로에 설치하는 단계와, 상기 광학부재가 중심축 근처의 빔의 강도의제 2 퍼센트를 회절시키도록, 판독시에 상기 광학부재의 회절 프로파일을 변화시키는 단계를 포함하되, 상기 제 2 퍼센트는 제 1 퍼센트보다 크다.
또한, 본 발명은, 가변 위상 깊이를 갖는 위상 구조를 구비한 광학부재와, 가변 듀티 사이클을 갖는 위상 구조를 구비한 광학부재에 관한 것이다. 바람직하게는, 상기 부재의 위상 구조는 주기적이다.
본 발명의 이들 및 다른 국면은, 이후 설명된 실시예로부터 명백해지고 그 실시예를 참조하여 설명된다.
본 발명은 아래의 첨부도면을 참조하여 예시에 의해 보다 상세히 설명하겠다:
- 도 1은 본 발명에 따른 광학장치를 나타내고,
- 도 2는 도 1의 광학부재의 단면도,
- 도 3a, 3b, 3c 및 3d는 도 1의 광학부재의 평면도,
- 도 4a는 본 발명의 바람직한 실시예의 광학부재의 단면도 및 도 4b는 본 발명의 바람직한 실시예의 광학부재의 단면도,
- 도 5는 전환가능형 회절 프로파일을 갖는 광학부재의 단면도이다.
본 발명의 광학장치는 도 1에 도시되어 있다. 이러한 광학장치는 방사빔(102)을 발생하는 방사원(101), 시준렌즈(103), 광학부재(104), 빔 스플리터(105), 대물렌즈(106), 서보렌즈(107), 검출수단(108), 측정수단(109) 및 제어기(110)를 구비한다. 이러한 광학장치는, 정보매체(100)를 주사하도록 구성된다.
기록동작 또는 판독동작이어도 되는 주사동작시에, 정보매체(100)는, 방사원(101)에서 발생된 방사빔(102)에 주사된다. 시준렌즈(103) 및 대물렌즈(106)는 방사빔(102)을 정보매체(100)의 정보층에 포커싱한다. 시준렌즈(103) 및 대물렌즈(106)는, 포커싱수단이다. 주사동작시에, 방사빔(102)을 정보층에 위치지정하는 것의 오차에 해당하는 포커스 오차신호를 검출하여도 된다. 이러한 포커스 오차신호를 사용하여, 대물렌즈(106)의 축방향 위치를 정정하여서, 방사빔(102)의 포커스 오차를 보상한다. 신호는, 액추에이터를 구동하여 대물렌즈(106)를 축방향으로 이동하는 제어기(110)에 보내진다.
포커스 오차신호 및 상기 정보층에 기록된 데이터는, 검출수단(108)에 의해 검출된다. 정보매체(100)에서 반사된 방사빔(102)은, 대물렌즈(106)에 의해 평행빔으로 변환된 후, 빔 스플리터(105)를 사용하여 서보렌즈(107)에 도달된다. 그 후, 이 반사빔은, 검출수단(108)에 도달된다.
광학부재(104)는, 대물렌즈(106)를 향하여 방사빔(102)의 강도의 특정 퍼센트만을 투과하도록 구성된다. 이를 위해, 광학부재(104)는, 방사빔(102)의 적어도 일부를 회절시키도록 구성된다. 본 발명에 의하면, 광학부재(104)는, 방사빔(102)의 외부 테두리 근처에 위치된 방사빔(102)의 일부의 강도의 비교적 낮은 퍼센트와, 방사빔(102)의 중심축 근처에 위치된 방사빔(102)의 일부의 강도의 비교적 높은 퍼센트를 회절시킨다. 광학주사장치는, 상기 회절된 광이 정보매체(100)의 스폿 형성에 도움이 되지 못하고, 반사 후 검출수단(108)에 도달되지 못하도록 설계된다.
이 때문에, 대물렌즈(106) 앞의 방사빔(102)의 림 강도는 증가된다. 이러한 증가는, 방사빔(102)의 원시야를 축소하지 않고 얻어진다. 대물렌즈(106) 앞의 방사빔(102)의 강도가 감소되는 경우라도, 그 방사빔의 원시야가 고 림 강도일 경우에 훨씬 더 축소되는 종래 기술에서보다 덜 강하게 감소된다. 이 때문에, 소정의 림 강도라면, 보다 높은 광 스루풋은 본 발명에 따라 얻어진다. 따라서, 방사원(101)은, 광학장치의 전력소모를 감소시키고 방사원(101)의 수명을 증가시키거나 기록속도를 증가시키는 보다 낮은 전력에서 작동될 수 있다.
광학부재(104)는, 방사원(101)으로부터 정보매체(100)로 방사빔(102)에 의해 왕복 이동하는 통로에 해당하는 방사빔의 광 경로에 설치된다. 본 예시에서, 광학부재(104)는, 시준렌즈(103)와 빔 스플리터(105) 사이에 설치되지만, 광 경로 상의 어디든지 설치되어도 된다. 특히, 적어도 중심축 근처의 방사빔이 회절된다는 점에 서 상기 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율을 증가시키도록 설계된 광학부재(104)는, 시준렌즈(103) 등의 광 주사장치에 이미 존재하는 광학부재이어도 된다. 이 경우에, 위상 구조는, 상기 시준렌즈(103)에 설치되고, 이때의 위상구조는, 중심축 근처의 적어도 방사빔을 회절시키도록 구성된다. 상기 위상구조의 예시는 다음 도면에 나타내어져 있다.
도 2는 광학부재(104)의 예시를 나타낸다. 본 예시에서, 광학부재(104)는, 방사빔(104)의 중심축 둘레에 설치된 위상구조를 구비한다. 상기 위상구조를 통과하는 방사빔(102)의 일부는 회절되는 반면에, 상기 위상구조를 통과하지 못하는 방사빔의 일부는 상기 광학부재(104)에서 완전히 투과된다. 도 2는 광학부재(104) 앞 및 뒤에 방사빔(102)의 강도 분포를 나타낸다. 상기 위상구조에 의해, 방사빔(102)의 중심축 근처의 강도는 감소되는 반면에, 외부 테두리 근처의 강도는 변경되지 않고 있다. 이 때문에, 림 강도는 증가된다.
도 2의 예시에서, 위상구조는 주기적이다. 이 때문에, 상기 방사빔(102)의 중심축 근처에 설치된 방사빔(102)의 일부는, 3개의 차수의 회절로 회절된다. 0차는 도 2에 나타내어져 있다. 2개의 나머지 차수의 회절로 2개의 스폿이 일어남에 따라서, 정보매체(100)에 포커싱된다. 광학부재(104)에 의해 생성된 이들 2개의 추가의 스폿은, 공지의 3 스폿 푸시풀 트랙킹 방법을 사용하여 트랙킹을 하는데 사용될 수 있다. 이 때문에, 림 강도를 증가시키기 위해서 방사빔(102)으로부터 제거되는 광은 트랙킹을 하는데 사용되고, 이것이 의미하는 것은, 광 주사장치에서 광이 손실되지 않아, 광학 스루풋을 증가시킨다는 것이다.
도 3a 내지 도 3d는 광학부재(104)의 가능한 평면도를 나타내고, 그 단면은 도 2에 나타내어져 있다. 도 3a의 예시에서, 광학부재(104)는, 1차원만으로 광을 회절시키는 종래의 회절격자를 구비한다. 이러한 광학부재는 도 3a에 나타낸 트랙에 수직인 일 바람직한 방향에 따라 변화하는 강도 분포를 갖는 방사빔에 대해 적절하게 변경된다.
도 3b의 예시에서, 광학부재(104)는, 2차원으로 광을 회절시키는 원형 회절격자를 구비한다. 이러한 광학부재는, 원형으로 분포된 강도를 갖는 방사빔에 대해 적절하게 변경된다.
도 3c의 예시에서, 광학부재(104)는, 2차원으로 광을 회절시키는 타원형 회절격자를 구비한다. 이러한 광학부재는, 타원형으로 분포된 강도를 갖는 방사빔에 대해 적절하게 변경된다. 상기 방사빔은, 중심축에 수직한 제 1 및 제 2 방향을 구비하고, 제 1 방향의 제 1 평균 강도를 갖는 제 1 강도 분포와, 제 2 방향의 제 2 평균 강도를 갖는 제 2 강도 분포를 갖되, 상기 제 2 평균 강도는 제 1 평균 강도보다 크다. 타원형 회절격자를 갖는 상기 광학부재(104)는, 제 1 방향보다 더 강하게 제 2 방향으로 방사빔을 회절시키도록 구성된다.
도 3d의 예시에서, 광학부재(104)는, 2차원으로 광을 회절시키는 바둑판형 위상구조를 갖는 회절격자로 이루어진다.
도 4a는 본 발명의 바람직한 실시예의 광학부재의 단면도이다. 이러한 광학부재는, 광학부재가 광 경로에 설치되는 경우 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로의 감소하는 위상 깊이 δ(x)를 갖는 위상구조를 갖는다. d(x)가 위상구조의 기계적 깊이인 경우, 상기 위상 깊이 δ(x)는 다음식으로 정의된다:
δ(x)=(n-1)d(x)π/λ,
여기서, n은 광학부재의 굴절률이고, λ는 방사빔(102)의 파장이다. 또한, 광학부재의 투과도 T(x)는 다음식으로 정의된다:
T(x)=cos2δ(x).
이 때문에, 광학부재의 투과도 T(x)는, 광학부재가 광 경로에 설치되는 경우 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로 증가한다. 위상 깊이 δ(x)가 방사빔의 강도 분포와 같은 방식으로 변화하는 경우, 림 강도는 1에 가까울 수도 있다.
도 4a의 본 예시에서, 위상 구조는, "x"로 나타낸 축을 중심으로 대칭적이다. 이 경우에, 상기 광학부재는, 그 방사빔에서 임의의 파면수차를 일으키지 않는다.
도 4b는 본 발명의 바람직한 실시예의 광학부재의 단면도이다. 이 광학부재는, 광학부재가 광 경로에 설치되는 경우 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로 감소하는 듀티 사이클을 갖는 위상 구조를 갖는다. 듀티 사이클은, D(x)/P로서 정의되고, 이때 P는 위상 구조의 주기이고, D(x)는 도 4b에 나타낸 양이다. 도 4b의 광학부재의 투과도는, 다음식으로 나타내어진다:
T(x)=1-D(x)(1-cos2δ)/P,
여기서, δ는 이전에 정의된 것과 같은 위상 깊이이고, δ는 본 바람직한 실시예에 따른 광학부재에서 일정하다. 듀티 사이클이 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로 감소할 때, 그 광학부재의 투과도는 증가한다. 도 4b의 광학부재는, 특히 회절된 및 비회절된 빔의 파면수차를 일으키지 않기 때문에 이롭다. 실제로, 위상 구조의 위상깊이 δ는 일정하다. 도 4b의 광학부재의 위상 구조는 주기적이고, 이것이 의미하는 것은, 3 스폿 푸시풀 트랙킹 방법에 사용된 2개의 주변 스폿을 생성하는데 사용될 수 있다는 것이다.
도 5는 전환가능형 회절 프로파일을 갖는 광학부재를 나타낸다. 도 5의 광학부재는 도 4b의 하나와 유사하지만, 위상 구조는 액정 분자의 액정 재료를 포함한다. 본 예시에서, 광학부재의 굴절률은, 액정 재료의 정상 굴절률 no과 같도록 선택된다. 액정분자는, 도 5에 도시되지 않은, 적절한 전위차가 전극 사이에 인가된다는 점에서 회전될 수 있다. 액정분자가 도 1의 방사빔(102)의 편광에 수직하게 배향되는 경우, 그 액정분자의 유효 굴절률은 no이다. 이 때문에, 광학부재는 중립 소자이고, 이것이 의미하는 것은, 방사빔이 상기 광학소자에 의해 회절되지 않는다는 것이다. 액정 분자가 도 1의 방사빔의 편광에 평행하게 배향되는 경우, 액정분자의 유효 굴절률은 액정 재료의 이상 굴절률 ne이다. 이 때문에, 광학부재는 도 4b에 도시된 것과 같은 회절격자이다.
이 때문에, 도 5의 광학부재는, 제 1 회절 프로파일을 갖는 제 1 모드와 제 2 회절 프로파일을 갖는 제 2 모드 사이에서 전환될 수 있다. 광학장치의 동작모드, 즉 기록 또는 판독모드에 따라, 광학부재의 모드는, 상기 광학부재의 전극에 인가된 전압에 의해 선택된다. 기록시에, 액정분자는, 방사빔(102)의 편광에 수직 하게 배향된다. 따라서, 방사빔은 회절되지 않고, 림 강도는 비교적 낮다. 판독시에, 액정분자는, 방사빔(102)의 편광에 평행하게 배향된다. 따라서, 방사빔은 도 4b에 나타낸 것처럼 회절되고, 림 강도는 증가된다.
도 5의 광학부재는, 전환 가능형 회절 프로파일을 갖는 광학부재의 일예일 뿐이다는 것을 주목해야 한다. 예를 들면, 액정분자를 갖는 도 4a의 광학부재에 의거하여 광학부재에 의거한 광학부재도 가능하다.
이하의 청구항에서의 임의의 참조부호는, 청구항을 한정하는 것으로서 파악되어서는 않된다. 동사 "포함하는"의 사용 및 그것의 활용은, 임의의 청구항에 기재된 것들 외의 임의의 다른 구성요소의 존재를 배제하지 않는다. 구성요소 앞의 단어 "a" 또는 "an"은 상기 구성요소의 복수개의 존재를 배제하지 않는다.

Claims (10)

  1. 방사빔을 발생하는 방사원(101)과, 그 방사빔을 광 경로를 따라 정보매체(100)에 포커싱하는 수단(103,106)을 구비한 광학장치로서, 상기 방사빔은 중심축과 외부 테두리를 갖고, 상기 방사빔은 강도 분포를 갖고, 상기 광학장치는 광 경로에, 적어도 중심 축 근처의 방사빔이 회절된다는 점에서 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율을 증가시키도록 설계된 광학부재(104)를 더 구비한 것을 특징으로 하는 광학장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 방사빔은 중심축에 수직한 적어도 제 1 및 제 2 방향을 포함하고, 상기 방사빔은, 제 1 방향으로 제 1 평균 강도를 갖는 제 1 강도분포와, 제 2 방향으로 제 2 평균 강도를 갖는 제 2 강도 분포를 갖고, 상기 제 2 평균 강도는 제 1 평균 강도보다 크고, 상기 광학부재는 제 1 방향에서 보다 강하게 제 2 방향으로 방사빔을 회절시키도록 설계된 것을 특징으로 하는 광학장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학부재는 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로 감소하는 위상 깊이를 갖 는 위상 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학부재는, 방사빔의 중심축으로부터 외부 테두리로 감소하는 듀티 사이클을 갖는 위상 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학부재는, 광학장치의 동작모드에 따라 변화될 수 있는 회절 프로파일을 갖는 위상 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학부재는, 주기적 위상 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  7. 중심축과 외부 테두리를 갖고 강도 분포를 갖는 방사빔을 발생하는 방사원과, 그 방사빔을 광 경로를 따라 정보매체에 포커싱하는 수단을 구비한 광학장치로 정보매체에 기록 및 정보매체로부터 판독하는 방법으로서,
    중심축 근처의 빔의 제 1 퍼센트가 회절된다는 점에서 테두리 근처의 강도와 중심축 근처의 강도간의 비율을 증가시키도록 설계된 광학부재를, 기록시에, 광 경로에 설치하는 단계와,
    상기 광학부재가 중심축 근처의 빔의 강도의 제 2 퍼센트를 회절시키도록, 판독시에 상기 광학부재의 회절 프로파일을 변화시키는 단계를 포함하되, 상기 제 2 퍼센트는 제 1 퍼센트보다 큰 것을 특징으로 하는 정보매체에 대한 기록 및 판독방법.
  8. 가변 위상 깊이를 갖는 위상 구조로 이루어진 광학부재.
  9. 가변 듀티 사이클을 갖는 위상 구조로 이루어진 광학부재.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 위상 구조는 주기적인 것을 특징으로 하는 광학부재.
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