KR20060108285A - 증착 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판상에 증착물을 형성함에 있어서, 수소가 거의 포함되지 않은 고품질의 절연막을 형성하기 위해 플라즈마 방식 및 가열체 방식을 동시에 이용할 수 있는 증착 장치를 제공하고 있다.
플라즈마 방식, 가열체 방식

Description

증착 장치{Deposition equipment}
도 1은 종래 기술의 ICP-CVD 장치의 단면도;
도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 증착 장치의 단면도;
도 3은 본 발명의 일실시 예에 따른 증착 장치의 작동 원리를 설명한 단면도; 및
도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 샤워 헤드와 가열체의 평면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
200 : 챔버 211 : 제1가스 주입구
212 : 분배부 213 : 플라즈마 발생 영역
214 : 제1노즐부 215 : 제2가스 주입구
216 : 제2노즐부 220 : 가열체
230 : 척 231 : 기판
본 발명은 증착 장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 플라즈마 방식 및 가열체 방식을 동시에 구현할 수 있는 증착 장치에 관한 것이다.
플라즈마 분위기는 화학기상증착이나 에칭, 표면처리 등의 박막 관련 분야에서 다양하게 사용되고 있다. 이는 플라즈마 상태가 이들 공정에서 반응의 효율성을 높이고, 유리한 조건 하에서 공정을 수행할 수 있도록 해주는 장점을 가지기 때문이다.
플라즈마가 이용되는 목적에 따라 플라즈마의 형성 방법도 다양하고 이에 따른 플라즈마 형성 장치도 다양하게 개발되고 있다. 최근에는 반도체 제조공정 등에서 공정 효율을 더욱 높일 수 있는 고밀도 플라즈마를 사용하는 플라즈마 처리장치를 이용하는 경우가 증가하고 있다. 고밀도 플라즈마 처리장치로는 공진주파수의 마이크로파를 이용하는 ECR(Electron Cyclotron Resonance) 플라즈마 처리장치, 헬리콘(helicon) 또는 휘슬러파(whistler wave)를 이용하는 헬리콘 플라즈마 처리장치 및 고온 저압의 플라즈마를 이용하는 유도결합형(inductively coupled) 플라즈마 처리장치 등이 있다.
화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition) 장치 중 상기 유도결합형 플라즈마 처리장치를 적용한 ICP-CVD(Induced Couple Plasma Chemical Vapor Deposition) 장치를 나타낸 단면도인 도 1를 참조하면, 절연체로 이루어져 있고, 진공을 유지할 수 있는 챔버(Chamber)(101), 상기 챔버(101)의 상단부에 규칙적으로 배열되고 유도결합형 플라즈마를 발생시키는 안테나(102)를 구비하고 있다. 이 때, 상기 안테나(102)에 전원을 공급하는 제1전원(103)이 연결되어 있다.
상기 안테나(102)의 하부에는 챔버(101) 내부로 가스(104)를 주입하는 가스 주입구(105)가 위치하고 있다. 이때, 상기 가스 주입구(105)는 일반적으로 샤워 헤드로 형성되는데, 이는 상기 안테나(102)에 의해 형성된 플라즈마에 가스(104)를 균일하게 공급하기 위해서이다.
상기 챔버(101)의 하단부에는 상기 ICP-CVD 장치에 의해 처리되는 피처리물, 즉 기판(106)을 가열, 냉각 또는 고정하는 척(107)이 위치하고, 상기 척(107)에 전원을 공급하는 제2전원(108)이 연결되어 있다. 이때, 상기 제2전원(108)은 상기 척(107)을 가열하기 위한 전원 또는 상기 척(107)이 전극으로의 기능을 갖게 하기 위한 전원으로 이용될 수 있다.
상기 챔버(101)의 측벽는 상기 기판(106)을 상기 챔버(101) 내부 또는 외부로 이송하기 위한 문(109)이 부착되어 있고, 상기 챔버(101)의 공기 또는 가스를 배기하는 진공 펌프(110)를 포함하는 배기구(111)가 부착되어 있다.
그러나, 상기의 화학 기상 장치는 플라즈마 방식만을 이용하여 절연막을 증착함으로서 소스 가스의 분해가 완벽하게 이루어지지 않아 소스 가스의 사용 효율이 나쁠 뿐만 아니라 형성된 절연막에 다량의 수소를 포함하고 있어 고품질의 절연막을 얻기 힘들다는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 플라즈마 방식과 가열체 방식을 동시에 구현할 수 있어 고품질의 증착막을 형성할 수 있는 증착 장치를 제공함에 본 발명의 목적이 있다.
본 발명의 상기 목적은 진공 펌프를 포함하는 챔버; 및 상기 챔버 내부의 소정 영역에 위치한 샤워 헤드를 포함하며, 상기 샤워 헤드는 제1가스 주입구 및 제2가스 주입구; 상기 제1가스 주입구와 연결된 분배부; 상기 분배부와 연결된 플라즈마 발생 영역; 상기 플라즈마 발생 영역과 연결되고, 상기 샤워 헤드의 일측 표면에 균일하게 분포된 복수 개의 노즐로 이루어진 제1노즐부; 및 상기 제2가스 주입구에 연결되고, 상기 샤워 헤드의 일측 표면에 균일하게 분포된 복수 개의 노즐로 이루어진 제2노즐부를 포함하고, 상기 샤워 헤드의 상기 제1노즐부 및 제2노즐부에 대응하는 위치에 가열체가 위치하는 것로 이루어진 증착 장치에 의해 달성된다.
또한, 본 발명의 상기 목적은 상기 제1노즐부 및 제2노즐부가 배열된 표면은 사각형인 것으로 이루어진 증착 장치에 의해서도 달성된다.
또한, 본 발명의 상기 목적은 상기 제1가스 주입구는 제1가스를 주입하는 가스관이고, 상기 제2가스 주입구는 제2가스를 주입하는 가스관이고, 상기 제1가스는 상기 제2가스 보다 분해 에너지가 높은 가스인 것으로 이루어진 증착 장치에 의해서도 달성된다.
본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설 명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다. 또한 도면들에 있어서, 층 및 영역의 길이, 두께등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 증착 장치의 단면도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 증착 장치는 외부 환경에 대해 내부 환경을 격리하는 챔버(200)와 상기 챔버(200) 내부의 소정 영역에 위치한 샤워 헤드(210), 가열체(220) 및 척(230)로 구성되어 있다.
상기 챔버(200)는 상기 챔버(200) 내부의 진공도를 유지하는 진공 펌프(201)를 포함하는 배기구(202)가 상기 챔버(200)와 연결되어 있다.
이때, 상기 도 2에서는 도시하지 않았지만, 상기 챔버(200)의 일측 측벽에 상기 챔버(200) 내부로 소자를 장입할 수 있는 문(door)가 위치할 수 있다.
상기 샤워 헤드(210)는 제1가스를 주입하는 제1가스 주입구(211), 상기 제1가스 주입구(211)에 연결되어 있고, 상기 주입된 제1가스가 아래에서 언급되는 플라즈마 발생 영역에 균일하게 분사될 수 있도록 상기 제1가스를 분배하는 분배부(212), 상기 분배부(212)와 연결된 플라즈마 발생 영역(213), 상기 플라즈마 발생 영역(213)에 연결되고, 상기 샤워 헤드(210)의 일측 표면에 균일하게 분포된 복수 개의 노즐로 이루어진 제1노즐부(214), 제2가스를 주입하는 제2가스 주입구(215) 및 상기 제2가스 주입구(215)에 연결되고, 상기 샤워 헤드(210)의 일측 표면에 균일하게 분포된 복수 개의 노즐로 이루어진 제2노즐부(216)로 이루어져 있다. 이때, 상기 제2노즐부(216)의 노즐 개수는 상기 제1노즐부(214)의 노즐 개수 보다 적어도 두 배 이상 많다.
이때, 상기 제2노즐부(216)는 적어도 둘 이상의 가지(branch)를 갖는 형태로 상기 제2가스 주입구(215)에 연결되어 있다. 즉, 도 2에서 도시한 바와 같이 상기 제2가스 주입구(215)에 상기 제2노즐부(216)의 연결부(216a)가 연결되어 있고, 상기 연결부(216a)에서 두 개의 가지(216b)로 나누어져 제2노즐부(216)로 연결된다.
이때, 상기 플라즈마 발생 영역(213)에는 상기 플라즈마 발생 영역(213)에 플라즈마를 발생시킬 수 있는 전극(217)이 포함될 수 있다. 이때, 상기 전극(217)은 상기 플라즈마 발생 영역(213)의 소정 영역에 위치할 수 있는데, 도 2에서는 일측 측면에 위치하고 있는 것을 도시하고 있다. 또한, 상기 전극(217)은 상기 전극(217)에 전원을 인가할 수 있는 제1전원(218)과 연결되어 있다.
상기 가열체(220)는 상기 제1노즐부(214) 및 상기 제2노즐부(216)에 대응하는 위치에 위치한다. 또한, 상기 가열체(220)는 외부에서 전원을 인가하는 제2전원(221)과 연결되어 있다.
상기 척(230)은 상기 샤워 헤드(210) 및 가열체(220)에 대응하는 위치에 위치하고, 상기 척(230)상에는 본 발명의 증착 장치에 의해 처리되는 피처리물(231), 즉, 기판이 장착될 수 있다. 이때, 상기 척(230) 내부에는 상기 척(230)상에 장착된 상기 피처리물(231)인 기판을 냉각시키거나, 일정한 온도를 유지하기 위한 냉각 라인(232)이 포함되어 있을 수 있다.
도 3은 본 발명의 일실시 예에 따른 증착 장치의 작동 원리를 설명한 단면도이다.
도 3를 참조하면, 상기 제1가스 주입구(211)에 제1가스(301)를 주입하고, 상기 제2가스 주입구(215)에 제2가스(311)를 주입한다.
이때, 상기 제1가스(301)는 상기 제2가스(311)보다 가스를 분해하는데 필요한 에너지인 분해 에너지가 더 높다. 또한, 상기 제1가스(301)은 암모니아(NH3) 가스 또는 질소(N2) 가스이고, 상기 제2가스(311)은 실란(SiH4) 가스이다. 또한 상기 제1가스(301)에는 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 가스를 더 포함할 수 있다.
이때, 상기 플라즈마 발생 가스는 아르곤(Ar) 또는 헬륨(He)과 같은 비활성 가스이고, 상기 플라즈마 발생 영역(213)에 플라즈마를 발생시키는 역할을 하게 된다.
상기 제1가스 주입구(301)에 주입된 제1가스(301)은 상기 분배부(212)에 의해 상기 플라즈마 발생 영역(213) 내부로 균일하게 주입된다.
이어서, 상기 분배부(212)에 의해 제1가스(301)가 상기 플라즈마 발생 영역(213)에 주입되면, 상기 전극(217)에 상기 제1전원(218)에서 전원을 인가하게 되고, 이로 인해 상기 플라즈마 발생 영역(213)에 플라즈마가 발생하고, 상기 발생된 플라즈마에 의해 상기 주입된 제1가스(301)가 분해되어 1차 분해된 제1가스(302)가 된다.
이어서, 상기 플라즈마 발생 영역(213)에 연결된 제1노즐부(214)로 상기 플라즈마에 의해 1차 분해된 제1가스(302)가 분사되고, 상기 1차 분사된 제1가스 (302)는 상기 제2전원(221)에서 인가된 전원에 의해 가열된 상기 가열체(220)를 지나치면서 2차 분해되어 제1라디컬(303)을 형성하게 된다.
이때, 상기 가열체(220)은 텅스텐(W)과 같은 저항 발열 물질로된 필라멘트로서, 상기 제2전원(221)에서 인가된 전원에 의해 1000도 이상의 열을 발생하게 된다.
상기 제2가스 주입구(215)로 주입된 제2가스(311)는 상기 제2노즐부(216)를 통해서 분사되는데, 상기 제2노즐부(216)의 노즐이 상기 샤워 헤드(210)의 표면에 균일하게 분포하고 있어 균일하게 분사된다.
이어서, 상기 제2노즐부(216)에서 분사된 제2가스(311)는 상기 가열된 가열체(220)를 지나치면서 분해되어 제2라디컬(312)을 형성하게 된다.
이때, 상기 제1라디컬(303)과 상기 제2라디컬(312)은 동시에 형성되고, 상기 가열체(221)를 지나면서 생성된 상기 제1라디컬(303) 및 상기 제2라디컬(312)이 반응하여 기판(도시 안함)상에 증착막을 형성하게 된다.
도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 샤워 헤드와 가열체의 평면도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 증착 장치는 여러 분야에 이용할 수 있으나, 유기 전계 발광 소자를 제조하는 공정에 이용되는 경우에는 상기 샤워 헤드(210)의 형상이 사각형인 것이 바람직한데, 이는 상기 유기 전계 발광 소자를 형성하는 기판의 경우, 기판의 형상이 사각형이기 때문에 상기 샤워 페드(210)의 평면은 삭가형인 것이 바람직하다.
상기 샤워 헤드(210)의 표면에 위치한 제1노즐부(214) 및 제2노즐부(216)의 노즐들의 배열은, 본 발명의 증착 장치가 유기 전계 발광 소자를 제조하는 증착 장치로 이용되는 경우, 사각형을 이루는 것이 바람직하다.
또한 상기 제2노즐부(216)의 노즐 개수는 상기 제1노즐부(214)의 노즐 개수 보다 적어도 두 배 이상인 것이 바람직하다. 이는 상기 제1노즐부(214)는 제1가스 주입구(211)에 주입된 제1가스는 상기 플라즈마 발생 영역(213)에 1차 분해된 후, 분사되는 노즐부인데 반해, 상기 제2노즐부(216)는 분해되지 않은 제2가스를 분사하는 노즐부임으로 상기 가열체(220)에 상기 제2가스(311)를 더 많이 접촉시키기 위해서 더 많은 노즐이 있다.
또한 상기 제1노즐부(214) 및 제2노즐부(216)의 노즐들 각각의 직경은 0.1 내지 5mm로 형성하는 것이 바람직하다. 상기 제1노즐부(214) 및 제2노즐부(216)는 각각 1차 분해된 제1가스(211)과 제2가스(311)을 상기 챔버 내부로 균일하게 분사하게 됨으로 노즐부들의 직경은 작을 수록 바람직하나 현재 가공 기술로는 0.1mm 이하의 노줄을 균일하게 형성하는 것이 어렵다. 또한, 상기 노즐부들의 직경이 5mm 이상으로 너무 커지게 되면 상기 가열체(220)의 간격에 영향을 줄 뿐만 아니라 분사되는 가스들이 균일하게 분사되지 않는 문제점이 있다.
상기 가열체(220)는 상기 제1노즐부(214) 및 제2노즐부(216)의 노즐들의 중심선을 지나가는 복수 개의 가열체 배선(220a, 220b)으로 일정한 간격을 두고 배열된다. 또한, 상기 가열체 배선들의 전체 형태는 상기 제1노즐부(214) 및 제2노즐부(216)의 노즐들의 배열과 마찬가지로 사각형인 것이 바람직하다. 이때, 상기 가열체(220)가 상기 제1노즐부(214) 및 제2노즐부(216)의 노즐들의 중심선을 지나가는 이유는 상기 노즐들에서 분사되는 가스들(1차 분해된 제1가스와 제2가스)이 되도록이면 많은 양이 상기 가열체(220)를 지나가도록 하기 위해서이다.
본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 증착 장치는 가열체 방식 및 플라즈마 방식이 동시에 가능하여 고품질의 증착막을 형성할 수 있는 증착 장치를 제공하는 효과가 있다.

Claims (20)

  1. 진공 펌프를 포함하는 챔버; 및 상기 챔버 내부의 소정 영역에 위치한 샤워 헤드를 포함하며,
    상기 샤워 헤드는
    제1가스 주입구 및 제2가스 주입구;
    상기 제1가스 주입구와 연결된 분배부;
    상기 분배부와 연결된 플라즈마 발생 영역;
    상기 플라즈마 발생 영역과 연결되고, 상기 샤워 헤드의 일측 표면에 균일하게 분포된 복수 개의 노즐로 이루어진 제1노즐부; 및
    상기 제2가스 주입구에 연결되고, 상기 샤워 헤드의 일측 표면에 균일하게 분포된 복수 개의 노즐로 이루어진 제2노즐부를 포함하고,
    상기 샤워 헤드의 상기 제1노즐부 및 제2노즐부에 대응하는 위치에 가열체가 위치하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1노즐부 및 제2노즐부가 배열된 표면은 사각형인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2노즐부의 노즐이 상기 제1노즐부의 노즐보다 적어도 2배 이상 많은 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열체는 상기 제1노즐부의 노즐 및 상기 제2노즐부의 노즐의 중심을 지나가는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열체는 복수 개의 가열체 배선으로 일정한 간격을 두고 배열하되, 상기 배열된 형태는 사각형인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1가스 주입구는 상기 제1가스를 주입하는 가스관이고, 상기 제2가스 주입구는 상기 제2가스를 주입하는 가스관인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제1가스는 상기 제2가스 보다 분해 에너지가 높은 가스인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 제1가스는 암모니아 가스 또는 질소 가스 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 제2가스는 실란 가스인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 제1가스는 플라즈마 생성 가스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열체는 필라멘트인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열체의 재질은 텅스텐인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1노즐부의 노즐 및 상기 제2노즐부의 노즐의 크기는 0.1 내지 5mm인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 증착 장치는 실리콘 질화막을 증착하는 증착 장치인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생 영역은 플라즈마 발생을 위한 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 전극에 전원을 공급하는 제1전원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 가열체에 전원을 공급하는 제2전원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  18. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1노즐부, 제2노즐부 및 가열체에 대응하는 위치에 기판을 장착하는 척을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 기판은 유기 전계 발광 소자가 형성된 기판인 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 척 내부에는 냉각 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
KR1020050030423A 2005-04-12 2005-04-12 증착 장치 KR100700655B1 (ko)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100905464B1 (ko) * 2007-07-09 2009-07-02 한양대학교 산학협력단 활성화된 플라즈마 처리장치
KR20170083159A (ko) * 2012-08-08 2017-07-17 카티바, 인크. 프린트 간격을 제어하기 위한 장치 및 방법
KR20210148370A (ko) * 2012-08-08 2021-12-07 카티바, 인크. 프린팅 시스템, 프린팅 장치 및 가스 베어링

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6336832A (ja) 1986-07-28 1988-02-17 Canon Inc 反応装置
JPH02250314A (ja) * 1989-03-23 1990-10-08 Mitsubishi Electric Corp プラズマｃｖｄ装置
JP4346741B2 (ja) * 1999-08-05 2009-10-21 キヤノンアネルバ株式会社 発熱体ｃｖｄ装置及び付着膜の除去方法
KR100478404B1 (ko) * 2002-03-26 2005-03-23 한국화학연구원 플라즈마 화학 기상 증착장치 및 이를 이용한 박막 형성방법
KR100457455B1 (ko) * 2002-10-17 2004-11-17 디지웨이브 테크놀러지스 주식회사 박막 증착 속도를 조절하는 샤워헤드를 구비한 화학 기상증착 장치.

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100905464B1 (ko) * 2007-07-09 2009-07-02 한양대학교 산학협력단 활성화된 플라즈마 처리장치
KR20170083159A (ko) * 2012-08-08 2017-07-17 카티바, 인크. 프린트 간격을 제어하기 위한 장치 및 방법
KR20170084344A (ko) * 2012-08-08 2017-07-19 카티바, 인크. 프린트 간격을 제어하기 위한 장치 및 방법
KR20190038949A (ko) * 2012-08-08 2019-04-09 카티바, 인크. 프린팅 방법
KR20200106993A (ko) * 2012-08-08 2020-09-15 카티바, 인크. 프린팅 시스템, 프린팅 장치 및 가스 베어링 시스템
KR20210102997A (ko) * 2012-08-08 2021-08-20 카티바, 인크. 프린팅 시스템, 프린팅 장치 및 가스 베어링
KR20210148370A (ko) * 2012-08-08 2021-12-07 카티바, 인크. 프린팅 시스템, 프린팅 장치 및 가스 베어링

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