KR20060104287A - Apparatus and method of clamping mask for organic electro luminescence display device - Google Patents

Apparatus and method of clamping mask for organic electro luminescence display device Download PDF

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Abstract

본 발명은 마스크의 스트레칭 효율을 향상시킬 수 있는 유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a clamping apparatus and method for a mask for an organic light emitting display device capable of improving the stretching efficiency of the mask.

본 발명의 유기 전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치는 증착물을 선택적으로 투과시키며 기판 상의 박막 형성영역과 대응되는 유효영역 및 상기 유효영역을 둘러싸는 비유효영역을 가지는 마스크와; 상기 마스크의 비유효영역을 클램핑하여 상기 마스크를 스트레칭시키는 스트레칭 장치를 구비하고, 상기 마스크의 비유효영역은 부분적으로 식각된 것을 특징으로 한다.A clamping apparatus for a mask for an organic electroluminescent display device according to the present invention comprises: a mask selectively transmitting a deposit and having an effective region corresponding to a thin film formation region on a substrate and an invalid region surrounding the effective region; And a stretching device for stretching the mask by clamping the invalid area of the mask, wherein the invalid area of the mask is partially etched.

Description

유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD OF CLAMPING MASK FOR ORGANIC ELECTRO LUMINESCENCE DISPLAY DEVICE}Clamping apparatus and method for masks for organic light emitting display devices {APPARATUS AND METHOD OF CLAMPING MASK FOR ORGANIC ELECTRO LUMINESCENCE DISPLAY DEVICE}

도 1은 종래의 유기 전계발광표시소자의 하나의 픽셀을 나타내는 도면이다. 1 is a view showing one pixel of a conventional organic electroluminescent display device.

도 2는 마스크가 마스크 클램핑 장치에 의해 스트레칭되는 공정을 설명하기 위한 도면이다.2 is a diagram for explaining a process in which a mask is stretched by a mask clamping device.

도 3은 본 발명에서의 마스크 클램핑 장치를 나타내는 평면도이다. 3 is a plan view showing a mask clamping device in the present invention.

도 4는 도 3의 Ⅰ-Ⅰ'선을 절취하여 도시한 단면도이다. 4 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 3.

도 5는 본 발명의 식각된 영역의 다양한 형태를 나타내는 도면이다. 5 illustrates various forms of etched regions of the present invention.

도 6a 내지 도 6d는 도 4의 마스크의 제조공정을 단계적으로 설명하기 위한 도면이다. 6A to 6D are diagrams for explaining a manufacturing process of the mask of FIG. 4 step by step.

도 7은 본 발명에 따른 마스크 클램핑 장치에 의해 형성된 마스크를 이용하여 형성된 유기 전계발광표시소자를 나타내는 도면이다. 7 illustrates an organic electroluminescent display device formed using a mask formed by a mask clamping device according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>     <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

2,102 : 기판 4,104 : 애노드 전극 2,102: substrate 4,104: anode electrode

108 : 격벽 10,110 : 유기발광층 108: partition 10,110: organic light emitting layer

10c : 발광층 12,112 : 캐소드 전극 10c: light emitting layer 12, 112: cathode electrode

63,163 : 글리퍼 171 : 파워트리 레버 63,163: Gripper 171: Power Tree Lever

169 : 동력 전달부 167 : 볼 스크류 박스 169: power transmission unit 167: ball screw box

166 : 모터 60,160 : 마스크 166: motor 60160: mask

199 : 식각영역 197 : 투과영역 199: etching region 197: transmission region

본 발명은 유기 전계발광표시소자에 관한 것으로, 특히, 마스크의 스트레칭 효율을 향상시킬 수 있는 유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑을 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an organic electroluminescent display device, and more particularly, to an apparatus and method for clamping a mask for an organic electroluminescent display device that can improve the stretching efficiency of the mask.

최근 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시 장치들이 대두되고 있다. 이러한 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display), 플라즈마 표시패널(Plasma Display Panel) 및 유기 전계발광(Electro-Luminescence : 이하, EL이라 함)표시소자 등이 있다. Recently, various flat panel display devices that can reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes, have emerged. Such flat panel displays include a liquid crystal display, a field emission display, a plasma display panel, and an organic electroluminescence display. Etc.

이들 중 유기EL표시소자는 전자와 정공의 재결합으로 형광체를 발광시키는 자발광 소자로, 그 형광체로 무기 화합물을 사용하는 무기 EL과 유기 화합물을 사용하는 유기 EL로 대별된다. 이러한 EL 표시소자는 액정표시장치와 같이 별도의 광 원을 필요로 하는 수동형 발광소자에 비하여 응답속도가 음극선관과 같은 수준으로 빠르다는 장점을 갖고 있다. 또한, EL 표시소자는 저전압 구동, 자기발광, 박막형, 넓은 시야각, 빠른 응답속도, 높은 콘트라스트 등의 많은 장점을 가지고 있어 차세대 표시 장치로 기대되고 있다. Among these, organic EL display devices are self-luminous devices that emit phosphors by recombination of electrons and holes, and are classified into inorganic ELs using inorganic compounds and organic ELs using organic compounds. Such an EL display element has an advantage that the response speed is as fast as that of a cathode ray tube as compared to a passive light emitting element requiring a separate light source such as a liquid crystal display device. In addition, the EL display element has many advantages such as low voltage driving, self-luminous, thin film type, wide viewing angle, fast response speed, high contrast, and the like, and is expected to be the next generation display device.

도 1은 유기EL표시소자의 발광원리를 설명하기 위한 일반적인 유기EL셀 구조를 도시한 단면도이다. 유기EL셀은 애노드전극(4)과 캐소드전극(12) 사이에 위치하는 유기발광층(10)을 구비하고, 유기발광층(10)은 전자주입층(10a), 전자수송층(10b), 발광층(10c), 정공수송층(10d), 정공주입층(10e)을 구비한다. 1 is a cross-sectional view showing a general organic EL cell structure for explaining the light emission principle of an organic EL display element. The organic EL cell has an organic light emitting layer 10 positioned between the anode electrode 4 and the cathode electrode 12, and the organic light emitting layer 10 includes an electron injection layer 10a, an electron transport layer 10b, and a light emitting layer 10c. ), A hole transport layer 10d, and a hole injection layer 10e.

애노드전극(4)과 캐소드전극(12) 사이에 전압을 인가하면, 캐소드전극(12)으로부터 발생된 전자는 전자주입층(10a) 및 전자수송층(10b)을 통해 발광층(10c) 쪽으로 이동한다. 또한, 에노드전극(4)으로부터 발생된 정공은 정공주입층(10e) 및 정공수송층(10d)을 통해 발광층(10c) 쪽으로 이동한다. 이에 따라, 발광층(10c)에서는 전자수송층(10b)과 정공수송층(10d)으로부터 공급되어진 전자와 정공이 충돌하여 재결합함에 의해 빛이 발생하게 되고, 이 빛은 애노드전극(4)을 통해 외부로 방출되어 화상이 표시되게 한다. When a voltage is applied between the anode electrode 4 and the cathode electrode 12, electrons generated from the cathode electrode 12 move toward the light emitting layer 10c through the electron injection layer 10a and the electron transport layer 10b. In addition, holes generated from the anode electrode 4 move toward the light emitting layer 10c through the hole injection layer 10e and the hole transport layer 10d. Accordingly, in the light emitting layer 10c, light is generated by collision and recombination of electrons and holes supplied from the electron transport layer 10b and the hole transport layer 10d, and the light is emitted to the outside through the anode electrode 4. To display an image.

한편, 종래의 유기 EL표시소자의 발광층(10c)은 그릴마스크를 이용한 열증착 및 진공증착 공정에 의해 형성되며, 이때 이용되는 그릴마스크는 별도의 공정에 의해 제작된 후 마스크 클램프장치를 이용하여 사용자와 원하는 크기로 스트레칭 된 후 마스크 프레임에 고정되어 발광층(10c) 형성시 이용된다. Meanwhile, the light emitting layer 10c of the conventional organic EL display device is formed by a thermal deposition and vacuum deposition process using a grill mask, and the grill mask used at this time is manufactured by a separate process and then used by a mask clamp device. After stretching to the desired size and fixed to the mask frame is used to form the light emitting layer (10c).

도 2는 마스크가 마스크 클램핑 장치에 의해 스트레칭되는 마스크를 나타내 는 도면이다. 2 shows a mask in which the mask is stretched by a mask clamping device.

먼저, 마스크(60)가 소정의 시스템에 로딩된 후 상하 운동에 의해 마스크(60)스트레칭시키기 위한 글리퍼(63)가 위치하는 영역에 정렬된다. 이후, 글리퍼(63)가 전진하여 마스크(60)를 클램핑(clamping)함으로써 마스크(60)가 스트레칭 된다. 여기서, 마스크(60)는 기판 상에서 박막이 형성될 영역과 대응되는 투과영역(97)(투과영역은 증착물의 용도에 따라 다시 전면투과영역만으로 이루어 지거나 선택적투광영역으로 이루어 질 수 있다) 등이 구비되는 유효영역(P1)과 유효영역(P1)을 둘러싸며 글리퍼(63)에 의해 클램핑되는 영역인 비유효영역(P2)을 포함한다. First, the mask 60 is loaded into a given system and then aligned in the region where the glyph 63 for stretching the mask 60 by vertical motion is located. Thereafter, the glyph 63 advances and the mask 60 is stretched by clamping the mask 60. Here, the mask 60 includes a transmission region 97 corresponding to the region where the thin film is to be formed on the substrate (the transmission region may be formed of only the front transmissive region or the selective transmissive region depending on the purpose of the deposit). It includes an effective area (P1) and an invalid area (P2) that surrounds the effective area (P1) to be clamped by the gripper 63.

이후, 사용자가 설정한 크기로 마스크(60)가 신장되면, 마스크 프레임(80)이 마스크(60) 하단에 정렬되고 레이저 장치(90)에서 조사되는 레이저(92)를 이용한 용접에 의해 마스크(60)가 마스크 프레임(80)에 부착되게 된다. Subsequently, when the mask 60 is stretched to a size set by the user, the mask frame 80 is aligned with the bottom of the mask 60 and the mask 60 is welded using the laser 92 irradiated from the laser device 90. ) Is attached to the mask frame 80.

한편, 종래의 마스크(60)의 비유효영역(P2)은 유효영역(P1)에서의 투과영역(97) 등이 구비되지 않게 됨으로써 스트레칭시 많은 동력을 필요로 하게 된다. 이와 같이 큰 동력으로 마스크(60)를 스트레칭하는 경우 마스크(60)의 스트레칭율을 정확하게 제어할 수 없게 된다. 즉, 비유효영역(P2)에서 스트레칭을 위한 동력이 크게 필요하게 됨에 반해 유효영역(P1)에서는 상대적으로 작은 동력이 필요하게 됨으로써 스트레칭을 정확하게 제어할 수 없는 등 스트레칭 효율이 저하되는 문제가 발생된다. On the other hand, the non-effective area P2 of the conventional mask 60 does not include the transmission area 97 in the effective area P1, and thus requires a lot of power during stretching. When the mask 60 is stretched by such a large power, the stretching ratio of the mask 60 cannot be accurately controlled. That is, while the power for stretching in the non-effective area (P2) is largely required, a relatively small power is required in the effective area (P1), which causes a problem that the stretching efficiency is lowered, such as inability to accurately control stretching. .

따라서, 본 발명의 목적은 마스크의 스트레칭 효율을 향상시킬 수 있는 유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치 및 방법을 제공하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a clamping apparatus and method for a mask for an organic light emitting display device capable of improving the stretching efficiency of the mask.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 유기 전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치는 증착물을 선택적으로 투과시키며 기판 상의 박막 형성영역과 대응되는 유효영역 및 상기 유효영역을 둘러싸는 비유효영역을 가지는 마스크와; 상기 마스크의 비유효영역을 클램핑하여 상기 마스크를 스트레칭시키는 스트레칭 장치를 구비하고, 상기 마스크의 비유효영역은 부분적으로 식각된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the clamping apparatus of the mask for an organic electroluminescent display device according to the present invention selectively transmits the deposit, and has an effective region corresponding to the thin film formation region on the substrate and an invalid region surrounding the effective region. A mask; And a stretching device for stretching the mask by clamping the invalid area of the mask, wherein the invalid area of the mask is partially etched.

상기 비유효영역의 식각영역은 상기 비유효영역을 클램핑하는 스트레칭 장치와 나란한 것을 특징으로 한다.The etching area of the invalid area is characterized in that parallel to the stretching device for clamping the invalid area.

상기 식각영역은 상기 마스크의 양면에 각각 형성된 것을 특징으로 한다.The etching regions are formed on both surfaces of the mask, respectively.

상기 식각영역은 적어도 하나의 라인 형태인 것을 특징으로 한다.The etching region is characterized in that at least one line shape.

상기 식각영역은 다수의 반구 형상의 홈이 불규칙적으로 배열된 형태인 것을 특징으로 한다.The etching region is characterized in that a plurality of hemispherical grooves are irregularly arranged.

상기 식각영역은 다수의 반구 형상의 홈이 불규칙적으로 배열된 형태인 것을 특징으로 한다.The etching region is characterized in that a plurality of hemispherical grooves are irregularly arranged.

상기 식각영역은 요철형태인 것을 특징으로 한다.The etching region is characterized in that the irregular shape.

본 발명에 따른 유기 전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 방법은 증착물을 선택적으로 투과시키며 기판 상의 박막 형성영역과 대응되는 유효영역 및 상기 유효영역을 둘러싸는 비유효영역을 가지는 마스크를 형성하는 단계와; 마스크 스트레칭 장치를 이용하여 상기 마스크의 비유효영역을 클램핑하여 상기 마스크를 스트레칭시키는 단계를 포함하고, 상기 마스크를 형성하는 단계는 상기 마스크의 비유효영역을 부분적으로 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of clamping a mask for an organic light emitting display device, the method comprising: forming a mask having an effective region corresponding to a thin film formation region on a substrate and having an invalid region surrounding the effective region; And stretching the mask by clamping an invalid area of the mask using a mask stretching device, wherein forming the mask includes partially etching the invalid area of the mask. do.

상기 비유효영역의 식각영역은 상기 비유효영역을 클램핑하는 스트레칭 장치와 나란하게 형성되는 것을 특징으로 한다.The etching area of the invalid area is formed side by side with the stretching device for clamping the invalid area.

상기 식각영역은 상기 마스크의 양면에 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.The etching regions are formed on both surfaces of the mask, respectively.

상기 마스크를 부분적으로 식각하는 단계는 상기 마스크의 비유효영역을 부분적으로 노출시키는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트 패턴에 의해 노출된 비유효영역을 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The partially etching the mask may include forming a photoresist pattern partially exposing the non-effective region of the mask; And etching the non-effective area exposed by the photoresist pattern.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. Other objects and features of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 3 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 6.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 클램핑 장치를 나타내는 평면도이고, 도 4는 도 3에서의 Ⅰ-Ⅰ' 선을 절취하여 도시한 단면도이다. 3 is a plan view illustrating a mask clamping apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 3.

도 3 및 도 4에 도시된 마스크 클램핑 장치(130)는 마스크(160)의 장변 및 단변에 위치하여 상기 마스크(160)를 물어주는 글리퍼(163)와, 마스크(160)를 스트레칭할 수 있도록 동력을 공급하는 동력공급부(165)와, 상기 동력공급부(165)와 글 리퍼(163) 사이에 위치하여 상기 동력공급부(165)에서 공급되는 동력을 글리퍼(163)로 전달하는 동력전달부(169)를 구비한다. 이러한, 마스크 클램프 장치(130)는 클램프 다이(미도시)에 의해 지지된다. The mask clamping device 130 shown in FIGS. 3 and 4 is located at the long side and the short side of the mask 160 so as to stretch the mask 160 and the glyph 163 which bites the mask 160. A power transmission unit 165 positioned between the power supply unit 165 for supplying power and the power supply unit 165 and the gripper 163 to transfer the power supplied from the power supply unit 165 to the gripper 163. 169). Such a mask clamp device 130 is supported by a clamp die (not shown).

글리퍼(163)는 마스크(60)의 장변에 예를 들어, 10개 정도 배치되고, 단변에는 예를 들어, 8개 정도 배치된다. 또한, 글리퍼(163)에는 글리퍼(163)의 마찰저항을 조정할 수 있는 조정나사가 장착되어 있다. About 10 glippers 163 are arranged on the long side of the mask 60 and about 8 on the short side, for example. The gripper 163 is also equipped with an adjustment screw for adjusting the frictional resistance of the gripper 163.

동력공급부(165)는 상기 마스크(160)의 각 변에 예를 들어, 3개씩 배치되도록 상기 동력전달부(169)에 연결된 다수의 모터(166)와, 상기 모터(166)에 각각 연결되어 모터(166)의 회전운동을 직선운동으로 변환시키는 볼 스크류 박스(167)로 구성되어 있다. The power supply unit 165 includes a plurality of motors 166 connected to the power transmission unit 169 and three motors 166 connected to the power transmission unit 169 so as to be arranged at each side of the mask 160, respectively. It is comprised by the ball screw box 167 which converts the rotational motion of 166 into linear motion.

동력전달부(169)는 파워트리(power tree) 레버(171)와 다수의 파워트리 레버(171)의 결합에 의해 이루어지며, 각각의 파워트리 레버(171)는 다수의 브렌치(branch)(172)들의 조합으로 이루어진다. The power transmission unit 169 is formed by a combination of a power tree lever 171 and a plurality of power tree levers 171, and each power tree lever 171 has a plurality of branches 172. ) Is a combination of

마스크(160)는 유기 EL표시소자의 캐소드 전극, 유기발광층(R,G,B 별 발광층 등을 포함한다)등을 형성하는 경우 이용되는 마스크(160)로써 증착물을 투과시키는 투과영역(197)이 일정간격 배열되는 유효영역(P1)과 유효영역(P1)을 제외한 비유효영역(P2)을 구비한다. 마스크(160)의 유효영역(P1)에는 증착물을 선택적으로 투과시키는 투과영역(197)이 다수 형성되고, 유효영역(P1)에서의 외곽에는 마스크(160) 스트레칭시 기준을 제공하는 다수의 포인트(161)가 형성된다. 즉, 사용자는 마스크(160)에 표시된 다수의 포인트(161)를 기준으로 마스크(160)의 스트레칭 정도를 설 정한 후 이에 대응되는 크기의 힘으로 마스크(160)를 스트레칭시킨다. 비유효영역(P2)은 유효영역(P1)을 제외한 외곽영역으로써 글리퍼(163)에 물리게 되어 스트레칭시 가장 먼저 인장력을 받게 된다. The mask 160 is a mask 160 used to form a cathode electrode of an organic EL display device, an organic light emitting layer (including R, G, and B light emitting layers), and the like. The effective area P1 and the invalid area P2 except for the effective area P1 arranged at regular intervals are provided. In the effective region P1 of the mask 160, a plurality of transmission regions 197 are formed to selectively transmit deposits, and a plurality of points that provide a reference when stretching the mask 160 are formed outside the effective region P1. 161 is formed. That is, the user sets the degree of stretching of the mask 160 based on the plurality of points 161 displayed on the mask 160, and then stretches the mask 160 with a force of a corresponding size. The ineffective region P2 is an outer region excluding the effective region P1 and is bitten by the glyph 163 to receive a tensile force first when stretching.

본 발명에서는 마스크(160)의 비유효영역(P2)이 부분적으로 식각되게 된다. 이에 따라, 마스크(160)의 스트레칭시 비유효영역(P2)에 큰 동력이 필요하지 않게 됨으로써 스트레칭 효율이 향상된다. In the present invention, the non-effective area P2 of the mask 160 is partially etched. Accordingly, when the mask 160 is stretched, a large power is not required in the ineffective area P2, so that the stretching efficiency is improved.

이를 좀더 구체적으로 설명하면 다음과 같다. This will be described in more detail as follows.

본 발명에서는 마스크(160)의 비유효영역(P2)에 글리퍼(163)의 배열방향과 나란한 방향으로 식각영역(199)이 형성된다. 이 식각영역(199)은 마스크(160)의 상면 및 하면 중 적어도 어느 하나에 형성되게 된다. 이러한 식각영역(199)에 의해 마스크의 비유효영역(P2)의 두께가 얇아지게 됨으로써 마스크(160)의 비유효영역(P2)에의 스트레칭을 위한 동력 편중이 방지되게 된다. 그 결과, 적은 동력으로 마스크(160)의 스트레칭을 정확하게 제어할 수 있게 되는 등 스트레칭 효율이 향상된다. 본 발명에서의 식각영역(199)은 도 3 및 도 4에 도시된 라인형태이외에 도 5에 도시된 바와 같이 다양한 형태로 형성될 수 도 있다. 즉, 하나의 라인 형태 이외에 적어도 둘 이상으로 나란하게 형성되고나 부분적으로 단선되게 패터닝될 수 도 있고, 요철모양으로 패터닝될 수 도 있다.In the present invention, the etching region 199 is formed in the non-effective region P2 of the mask 160 in a direction parallel to the arrangement direction of the glyph 163. The etching region 199 is formed on at least one of an upper surface and a lower surface of the mask 160. The etching area 199 decreases the thickness of the non-effective area P2 of the mask, thereby preventing power bias for stretching the mask 160 to the non-effective area P2. As a result, the stretching efficiency is improved such that the stretching of the mask 160 can be precisely controlled with little power. In the present invention, the etching region 199 may be formed in various shapes as shown in FIG. 5 in addition to the line shapes shown in FIGS. 3 and 4. That is, in addition to one line shape, at least two or more patterns may be formed side by side or partly disconnected, or may be patterned into irregularities.

더 나가서, 식각에 의해 형성된 식각영역(199)은 다수의 반구 형태의 홈들이 규칙적으로 배열된 형태일 수 있고 불규칙적으로 랜덤하게 배열될 수 도 있다. 이러한, 식각영역(199)의 형상은 포토리쏘그래피 공정에 의해 더욱 다양하게 사용자 의 필요에 따라 패터닝될 수 있다. Further, the etching region 199 formed by etching may have a shape in which a plurality of hemispherical grooves are regularly arranged or irregularly arranged at random. The shape of the etching region 199 may be patterned according to the needs of the user in a variety of ways by the photolithography process.

이하, 도 6a 내지 도 6d를 참조하여 마스크의 식각영역 형성방법에 대해 단계적으로 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a method of forming an etching region of a mask will be described step by step with reference to FIGS. 6A to 6D.

먼저, 어떠한 패턴도 형성되지 않은 마스크(160)를 마련한 뒤 별도의 포토마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정을 이용하여 도 6a에 도시된 바와 같이 포토레지스트 패턴(210)이 형성된다. 여기서, 포토 마스크로는 하프톤 마스크 또는 반투과 마스크 등이 이용됨으로써 식각영역에서 상대적으로 작은 두께를 가지는 포토레지스트 패턴(210a,210b)이 형성된다. First, a photoresist pattern 210 is formed as shown in FIG. 6A using a photolithography process using a separate photomask after preparing a mask 160 on which no pattern is formed. Here, the photoresist patterns 210a and 210b having a relatively small thickness in the etching region are formed by using a halftone mask or a transflective mask as a photo mask.

이러한, 포토레지스트 패턴(210a,210b)에 의해 노출되는 영역이 식각공정에 의해 식각됨으로써 도 6b에 도시된 바와 같이 마스크(160)의 투과영역(197)이 형성된다. As the regions exposed by the photoresist patterns 210a and 210b are etched by the etching process, the transmission region 197 of the mask 160 is formed as shown in FIG. 6B.

이후, 식각공정이 실시됨으로서 상대적으로 높은 높이의 포토레지스트 패턴(210a)이 제거됨으로써 도 6c에 도시된 바와 같이 비유효영역(P2)이 부분적으로 노출된다. Thereafter, as the etching process is performed, the relatively high height photoresist pattern 210a is removed to partially expose the ineffective region P2 as shown in FIG. 6C.

이어서, 노출된 비유효영역(P2)이 소정깊이 식각됨으로서 도 6d에 도시된 바와 같이 비유효영역(P2)에 식각영역(199)이 형성된다. Subsequently, the exposed invalid area P2 is etched to a predetermined depth, thereby forming an etching area 199 in the invalid area P2 as shown in FIG. 6D.

이하, 도 3 및 4에 도시된 마스크 클램핑 장치(130)를 이용한 마스크의 클램핑 동작 및 방법을 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the clamping operation and method of the mask using the mask clamping device 130 illustrated in FIGS. 3 and 4 will be described.

먼저, 마스크(160)가 소정의 시스템에 로딩된 후 상하 운동에 의해 글리퍼(163)가 위치하는 영역에 정렬된다. 이후, 글리퍼(163)가 전진하여 마스크(160)를 클램핑(clamping)하고, 모터(166)가 구동되어 모터(166)의 회전운동이 볼 스크류 박스(167)에 의하여 직선운동으로 변환되어 동력이 동력전달부(169)를 경유하여 글리퍼(163)에 전달된다. 이때, 모터(166)의 동력을 전달받은 동력전달부(169)가 후진되면 글리퍼(163)가 후진되고, 그에 따라 글리퍼(163)가 마스크(160)를 클램핑(clamping)함으로써 마스크(160)가 스트레칭 된다. First, the mask 160 is loaded into a given system and then aligned with the region where the glyph 163 is located by vertical motion. Thereafter, the gripper 163 moves forward to clamp the mask 160, and the motor 166 is driven to convert the rotational motion of the motor 166 into a linear motion by the ball screw box 167, thereby driving power. It is transmitted to the glyph 163 via this power transmission unit 169. At this time, when the power transmission unit 169 received the power of the motor 166 is reversed, the gripper 163 is reversed, and accordingly, the gripper 163 clamps the mask 160 to clamp the mask 160. ) Is stretched.

이러한, 마스크는 예를 들어, 적색, 녹색 및 청색 중 적어도 어느 하나를 구현하는 발광영역 중 적어도 어느 하나를 선택적으로 노출시켜 유기물질을 소정의 기판 상에 형성되게 한다. Such a mask selectively exposes at least one of the light emitting regions implementing at least one of red, green, and blue, for example, to form an organic material on a predetermined substrate.

이와 같이, 본 발명에 따른 유기 전계발광표시소자용 마스크 클램핑 장치 및 방법은 마스크의 비유효영역에 식각영역을 형성시키킨다. 이러한 식각영역(199)에 의해 마스크(160)의 비유효영역(P2)의 두께가 얇아지게 됨으로써 적은 동력으로 마스크의 스트레칭을 정확하게 제어할 수 있게 되는 등 스트레칭 효율이 향상된다.As described above, the mask clamping apparatus and method for an organic light emitting display device according to the present invention form an etching region in an ineffective region of the mask. By the etching region 199, the thickness of the ineffective region P2 of the mask 160 is reduced, so that the stretching efficiency can be precisely controlled with a small power.

도 7은 본 발명에서의 비유효영역에 식각영역이 구비되는 마스크를 이용하여 형성된 유기 EL표시소자를 나타내는 사시도이다. 7 is a perspective view showing an organic EL display device formed using a mask having an etching region in an invalid region in the present invention.

도 7에 도시된 유기 EL표시소자는 기판(102) 상에 제1 전극(또는 애노드전극)(104)과 제2 전극(또는 캐소드전극)(112)이 서로 교차하는 방향으로 형성된다. In the organic EL display device illustrated in FIG. 7, the first electrode (or anode electrode) 104 and the second electrode (or cathode electrode) 112 are formed on the substrate 102 in a direction crossing each other.

제1 전극(104)은 기판(102) 상에 소정간격으로 이격되어 다수개 형성된다. 이러한 제1 전극(104)이 형성된 기판(102) 상에는 EL셀(EL) 영역마다 개구부를 갖는 절연막(미도시)이 형성된다. 절연막 상에는 그 위에 형성되어질 유기발광층(110) 및 제2 전극(112)의 분리를 위한 격벽(108)이 위치한다. 격벽(108)은 제2 전 극(104)을 가로지르는 방향으로 형성되며, 상단부가 하단부보다 넓은 폭을 가지게 되는 역 테퍼(taper) 구조를 갖게 된다. 격벽(108)이 형성된 절연막 상에는 유기화합물로 구성되는 유기발광층(110)과 제2 전극(112)이 순차적으로 전면 증착된다. 유기발광층(110)은 도 1에 도시된 바와 같이 정공주입층(10e), 정공수송층(10d), 발광층(10c), 전자수송층(10b) 및 전자주입층(10a)이 적층되어 형성된다. The first electrode 104 is formed on the substrate 102 spaced apart by a predetermined interval. On the substrate 102 on which the first electrode 104 is formed, an insulating film (not shown) having an opening for each EL cell EL region is formed. On the insulating layer, a partition 108 for separating the organic light emitting layer 110 and the second electrode 112 to be formed thereon is positioned. The partition 108 is formed in a direction crossing the second electrode 104 and has a reverse taper structure in which the upper end portion has a wider width than the lower end portion. On the insulating film on which the partition 108 is formed, the organic light emitting layer 110 and the second electrode 112 made of an organic compound are sequentially deposited on the entire surface. As shown in FIG. 1, the organic light emitting layer 110 is formed by stacking a hole injection layer 10e, a hole transport layer 10d, a light emitting layer 10c, an electron transport layer 10b, and an electron injection layer 10a.

여기서, 유기발광층의 발광층(10c)은 본 발명에서의 제조장치를 이용하여 스트레칭된 마스크(160)를 이용하여 R,G,B 별 발광층이 순차적으로 형성된다. Here, in the light emitting layer 10c of the organic light emitting layer, light emitting layers for R, G, and B are sequentially formed by using the mask 160 stretched using the manufacturing apparatus of the present invention.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치 및 방법은 마스크의 비유효영역을 부분적으로 식각함으로써 마스크의 비유효영역의 두께가 얇아지게 된다. 이에 따라, 적은 동력으로 마스크의 스트레칭을 정확하게 제어할 수 있게 되는 등 스트레칭 효율이 향상된다. As described above, in the clamping apparatus and method of the mask for an organic light emitting display device according to the present invention, the non-effective area of the mask is partially etched to reduce the thickness of the non-effective area of the mask. As a result, the stretching efficiency is improved, such that the stretching of the mask can be precisely controlled with little power.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다. Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (11)

증착물을 선택적으로 투과시키며 기판 상의 박막 형성영역과 대응되는 유효영역 및 상기 유효영역을 둘러싸는 비유효영역을 가지는 마스크와; A mask selectively transmitting the deposit and having an effective region corresponding to the thin film forming region on the substrate and an invalid region surrounding the effective region; 상기 마스크의 비유효영역을 클램핑하여 상기 마스크를 스트레칭시키는 스트레칭 장치를 구비하고, A stretching device for stretching the mask by clamping an invalid area of the mask; 상기 마스크의 비유효영역은 부분적으로 식각된 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치. And the ineffective region of the mask is partially etched. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비유효영역의 식각영역은 The etching area of the invalid area is 상기 비유효영역을 클램핑하는 스트레칭 장치와 나란한 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치. And a stretching device for clamping the invalid area. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 식각영역은 적어도 하나의 라인 형태인 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치.And the etching region has at least one line shape. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 식각영역은 다수의 반구 형상의 홈이 불규칙적으로 배열된 형태인 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치.The etching region is a mask clamping device, characterized in that the plurality of hemispherical grooves are irregularly arranged. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 식각영역은 다수의 반구 형상의 홈이 불규칙적으로 배열된 형태인 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치.The etching region is a mask clamping device, characterized in that the plurality of hemispherical grooves are irregularly arranged. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 식각영역은 요철형태인 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치.The etching region is a mask clamping device, characterized in that the irregular shape. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 식각영역은 상기 마스크의 양면에 각각 형성된 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 장치. The etching region is a mask clamping device, characterized in that formed on both sides of the mask. 증착물을 선택적으로 투과시키며 기판 상의 박막 형성영역과 대응되는 유효영역 및 상기 유효영역을 둘러싸는 비유효영역을 가지는 마스크를 형성하는 단계와; Forming a mask that selectively transmits the deposit and has an effective region corresponding to the thin film forming region on the substrate and an invalid region surrounding the effective region; 마스크 스트레칭 장치를 이용하여 상기 마스크의 비유효영역을 클램핑하여 상기 마스크를 스트레칭시키는 단계를 포함하고, Stretching the mask by clamping an invalid area of the mask using a mask stretching device; 상기 마스크를 형성하는 단계는 Forming the mask 상기 마스크의 비유효영역을 부분적으로 식각하는 단계를 포함하는 것을 특 징으로 하는 마스크 클램핑 방법. And partially etching the non-effective area of the mask. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 비유효영역의 식각영역은 The etching area of the invalid area is 상기 비유효영역을 클램핑하는 스트레칭 장치와 나란하게 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 방법. Mask clamping method characterized in that formed in parallel with the stretching device for clamping the invalid area. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 식각영역은 상기 마스크의 양면에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 방법. And the etching regions are formed on both surfaces of the mask. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 마스크를 부분적으로 식각하는 단계는 Partially etching the mask 상기 마스크의 비유효영역을 부분적으로 노출시키는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와; Forming a photoresist pattern that partially exposes the non-effective area of the mask; 상기 포토레지스트 패턴에 의해 노출된 비유효영역을 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 클램핑 방법. And etching the non-effective area exposed by the photoresist pattern.
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