KR20060086602A - System for managing semiconductor manufacture equipment - Google Patents

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KR20060086602A
KR20060086602A KR1020050007457A KR20050007457A KR20060086602A KR 20060086602 A KR20060086602 A KR 20060086602A KR 1020050007457 A KR1020050007457 A KR 1020050007457A KR 20050007457 A KR20050007457 A KR 20050007457A KR 20060086602 A KR20060086602 A KR 20060086602A
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KR1020050007457A
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이재훈
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삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 반도체 제조설비의 관리시스템에 대하여 개시한다. 그의 시스템은, 소정의 반도체 제조공정이 수행되는 반도체 제조설비의 관리 시스템에 있어서; 상기 반도체 제조설비가 일련의 상기 반도체 제조공정을 수행토록 상기 반도체 제조설비를 제어하는 설비 컴퓨터; 상기 반도체 제조설비에서 해당 공정을 수행하기 위한 각종 데이터를 제공하는 데이터 베이스를 구비하고, 상기 설비 컴퓨터에 온라인으로 연결되어 상기 데이터 베이스에서 제공되는 상기 데이터를 이용하여 상기 반도체 제조설비에서 상기 해당 공정이 수행되도록 상기 설비 컴퓨터에 제어신호를 출력하는 상기 호스트 컴퓨터; 및 상기 호스트 컴퓨터 또는 상기 설비 컴퓨터의 과열에 의한 손상 및 오동작을 방지하기 위해 상기 호스트 컴퓨터 또는 상기 설비 컴퓨터의 온도를 설정된 온도 이하로 제어하는 온도조절장치를 포함함에 의해 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터 내부에서 발생되는 고열을 억제하여 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터의 손상 또는 오동작을 방지할 수 있기 때문에 생산성을 향상시킬 수 있다.The present invention discloses a management system for semiconductor manufacturing equipment that can increase or maximize productivity. The system includes a management system of a semiconductor manufacturing facility in which a predetermined semiconductor manufacturing process is performed; A facility computer for controlling said semiconductor manufacturing facility such that said semiconductor manufacturing facility performs a series of said semiconductor manufacturing processes; The database includes a database for providing various data for performing the process in the semiconductor manufacturing facility, and the process is performed in the semiconductor manufacturing facility using the data provided in the database by being connected to the facility computer online. The host computer outputting a control signal to the facility computer to be performed; And a temperature controller for controlling a temperature of the host computer or the facility computer to be lower than a set temperature to prevent damage and malfunction due to overheating of the host computer or the facility computer. By suppressing the high heat generated in the system can prevent the damage or malfunction of the facility computer or the host computer, thereby improving productivity.

컴퓨터(computer), 서버(sever), 호스트(host), 온도조절장치, 열전대(thermocouple)Computer, server, host, thermostat, thermocouple

Description

반도체 제조설비의 관리시스템{System for managing semiconductor manufacture equipment} System for managing semiconductor manufacture equipment             

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 제조설비의 관리시스템을 개략적으로 나타낸 블록도.1 is a block diagram schematically showing a management system of a semiconductor manufacturing facility according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 온도조절장치를 개략적으로 나타내는 블록도.Figure 2 is a block diagram schematically showing the temperature control device of FIG.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*      * Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100 : 반도체 제조설비 110 : 설비 컴퓨터100: semiconductor manufacturing equipment 110: equipment computer

120 : 서버 130 : 호스트 컴퓨터120: server 130: host computer

140 : 온도조절장치 142 : 온도 감지부140: temperature controller 142: temperature sensing unit

144 : 냉각부 146 : 제어부144: cooling unit 146: control unit

148 : 표시부
148: display unit

본 발명은 반도체 제조설비의 관리시스템에 관한 것으로, 상세하게는 반도체 제조설비를 제어하는 설비 컴퓨터 또는 상기 설비 컴퓨터에 소정의 제어신호를 출력하는 호스트 컴퓨터의 내부에서 발생되는 고열을 억제하는 온도조절장치를 구비한 반도체 제조설비의 관리시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a management system for a semiconductor manufacturing facility, and more particularly, to a temperature control device for suppressing high heat generated inside a facility computer controlling a semiconductor manufacturing facility or a host computer outputting a predetermined control signal to the facility computer. It relates to a management system for semiconductor manufacturing equipment having a.

최근 정보 통신 분야의 급속한 발달과, 컴퓨터와 같은 정보 매체의 대중화에 따라 반도체 설비도 비약적으로 발전하고 있다. 또한, 그 기능적인 면에 있어서 상기 반도체 설비는 고속으로 동작하는 동시에 대용량의 저장 능력을 가질 것이 요구되고 있다. 이에 따라, 상기 반도체 설비의 제조 기술은 집적도, 신뢰도 및, 응답 속도 등을 극대화하는 방향으로 연구 개발되고 있다.In recent years, with the rapid development of the information and communication field and the popularization of information media such as computers, semiconductor facilities are also rapidly developing. In terms of its functionality, the semiconductor equipment is required to operate at high speed and to have a large storage capacity. Accordingly, the manufacturing technology of the semiconductor equipment has been researched and developed in the direction of maximizing integration, reliability, response speed, and the like.

반도체 장치의 제조 기술은 크게 반도체 기판 상에 가공막을 형성하는 증착(deposition)공정과, 상기 증착공정으로 형성된 가공막 상에 피가공막을 형성하여 패터닝 하는 포토리소그래피(photo-lithography) 공정과, 상기 포토리소그래피 공정에 의해 형성된 상기 피가공막을 마스크로 사용하여 상기 가공막을 식각하는 식각 공정과, 상기 피가공막을 이온주입마스크로 사용하여 불순물이온을 주입하는 이온주입공정과, 각종 열처리 공정을 포함하여 이루어진다. 이와 같은 다수의 공정은 일련의 정해진 흐름을 따라 정확한 관리 감독이 요구되고, 인체에 유해한 각종 가스로부터 작업자를 보호하기 위해 무인 로봇과 같은 자동설비를 관리하는 자동 시스템이 요구되고 있는 실정이다.The manufacturing technology of the semiconductor device is largely a deposition process for forming a process film on a semiconductor substrate, a photo-lithography process for forming and patterning a process film on the process film formed by the deposition process, and the photo An etching process of etching the processed film using the processed film formed by the lithography process as a mask, an ion implantation process of implanting impurity ions using the processed film as an ion implantation mask, and various heat treatment processes. Many of these processes require accurate management and supervision along a series of defined flows, and an automatic system for managing an automatic facility such as an unmanned robot to protect an operator from various gases harmful to a human body is required.

이때, 상기 식각공정은 습식식각과 건식식각에 의해 수행될 수 있는 데, 최근의 서브마이크론 디자인 룰을 요구하는 미세 패턴을 형성하기 위한 식각은 주로 건식식각에 의해 이루어지고 있다. In this case, the etching process may be performed by wet etching and dry etching, and etching for forming a fine pattern requiring a recent submicron design rule is mainly performed by dry etching.                         

이와 같은 건식식각은 챔버내에 충만한 불활성 기체 및 식각용 반응가스에 RF(Radio Frequency)의 높은 전압을 인가하여 상기 반응가스를 플라즈마(plasma) 상태로 만들고, 상기 플라즈마 상태의 반응가스가 상기 피가공막으로부터 노출된 상기 가공막을 선택적으로 제거하는 식각설비에 의해 이루어진다. Such dry etching applies a high voltage of RF (Radio Frequency) to an inert gas and an etching reaction gas filled in the chamber to make the reaction gas into a plasma state, and the reaction gas in the plasma state is formed in the processing film. And an etching facility for selectively removing the processed film exposed from the.

상기 건식식각 공정을 진행하는 식각설비와 같은 반도체 제조공정을 진행하기 위한 여러 반도체 제조설비 등은 다수개의 웨이퍼가 탑재된 하나의 카세트, 즉 한 롯(lot)을 기준으로 하나의 공정을 수행토록 제어된다.Various semiconductor manufacturing facilities for performing a semiconductor manufacturing process, such as an etching apparatus for performing the dry etching process, are controlled to perform one process based on one cassette, that is, a lot, on which a plurality of wafers are mounted. do.

예를 들어, 복수개의 게이트 스택사이에 콘택홀을 형성하기 위해 절연막을 식각하고자 할 때, 보통 25개의 웨이퍼가 수납되는 카세트를 상기 식각 설비와 연동되는 로드락 챔버의 포트에 로딩시킨 후, 25개의 웨이퍼들이 상기 식각 설비를 통해 식각 공정이 순차적으로 진행된다. For example, when an insulating film is to be etched to form a contact hole between a plurality of gate stacks, a cassette in which 25 wafers are usually loaded is loaded into a port of a load lock chamber linked with the etching facility, and then 25 The wafers are sequentially etched through the etching facility.

이때, 25개의 묶음을 나타내는 하나의 롯(lot)에 대해 각기 다른 소정의 식각공정이 프로그램에 설정된다. 또한, 상기 식각 설비를 제어하는 설비 컴퓨터는 상기 로드락 챔버의 포트에 해당 롯이 자동으로 투입되거나, 상기 해당 롯 이외에 또 다른 롯이 위치되어 있는지를 간단하게 점검하여 상기 롯이 상기 식각 공정을 수행할 수 있는지를 스스로 판단하거나 상기 설비 컴퓨터에 온라인으로 연결되는 호스트 컴퓨터로부터 확인 받고 상기 식각 공정이 진행되도록 상기 식각 설비를 제어한다. At this time, different predetermined etching processes are set in the program for one lot representing 25 bundles. In addition, the facility computer for controlling the etching facility is automatically inserted into the port of the load lock chamber, or simply check whether another lot is located in addition to the lot, the lot performs the etching process The etch facility is controlled to determine whether or not it can be done or to be confirmed by a host computer connected to the facility computer online.

여기서, 상기 설비 컴퓨터는 상기 반도체 제조설비에서 수행될 각종 수행 레시피(process recipe)를 포함하는 데이터를 저장하고 있다. 상기 수행 레시피는 해 당 웨이퍼에 따라 다수개의 고유명(number)을 기준으로 상기 고유명에 해당되는 수많은 조건들이 포함되어 있다. 또한, 상기 설비 컴퓨터는 상기 반도체 제조설비를 제어하는 제어신호를 생성하기 위한 복수개의 메인보드뿐만 아니라, 상기 반도체 제조설비에서 상기 웨이퍼를 이송시키기 위해 다수개의 구동부에 공급되는 전원을 생성하는 각종 반도체 소자가 집적된 복수개의 메인보드를 포함하여 이루어진다. 이때, 상기 반도체 제조설비에서 수행되는 공정이 섬세해지고 다양하게 수행되고 있는 시점에서 상기 반도체 제조설비를 제어하는 상기 설비 컴퓨터의 수행 능력의 증가가 점차적으로 요구되고 있는 실정이다. 따라서, 상기 설비 컴퓨터에서 상기 반도체 제조설비를 제어하는 제어신호를 생성시키고, 상기 반도체 제조설비에서 웨이퍼를 이동시키기 위한 상기 구동부에 공급되는 전원과 상기 제어신호를 생성시키는 상기 메인보드와 같은 제어장치가 계속적으로 증가되고 있다. Here, the facility computer stores data including various process recipes to be performed in the semiconductor manufacturing facility. The performance recipe includes a number of conditions corresponding to the unique name based on a plurality of unique names according to the corresponding wafer. In addition, the facility computer is not only a plurality of main boards for generating control signals for controlling the semiconductor manufacturing facility, but also various semiconductor devices for generating power supplied to the plurality of driving units for transferring the wafers from the semiconductor manufacturing facility. It consists of a plurality of integrated motherboard. At this time, when the process performed in the semiconductor manufacturing facility is delicate and variously performed, an increase in the performance of the facility computer that controls the semiconductor manufacturing facility is gradually required. Therefore, a control device such as the main board that generates a control signal for controlling the semiconductor manufacturing facility in the facility computer, and generates the control signal and the power supplied to the driver for moving the wafer in the semiconductor manufacturing facility. It is constantly increasing.

그리고, 상기 호스트 컴퓨터는 상기 설비 컴퓨터와 온라인으로 연결되어 상기 반도체 제조설비에서 수행되어야 할 각종 데이터 즉, 식각 공정과 같은 각 공정에서의 적합한 기준 레시피(standard recipe)가 저장된 데이터 베이스를 구비하여 상기 데이터 베이스에서 제공된 상기 기준 레시피와 상기 설비 컴퓨터에서 입력된 상기 수행 레시피를 비교하여 상기 기준 레시피 내에 상기 수행 레시피가 들어 있을 경우 해당 반도체 제조설비에서의 공정을 수행토록 제어한다. 또한, 상기 호스트 컴퓨터는 상기 반도체 제조설비가 증가함에 따라 상기 기준 레시피와 같은 데이터를 저장하기 위한 데이터 베이스에서의 메모리와 상기 데이터 베이스에서 제공되는 데이터를 보다 신속하게 처리하기 위해 상기 메인보드와 같은 제어장치가 많이 요구되어지고 있다. In addition, the host computer is connected to the facility computer online and has a database storing various data to be performed in the semiconductor manufacturing facility, that is, a suitable standard recipe in each process such as an etching process. When the reference recipe provided from the base and the performance recipe inputted from the facility computer are compared, and the performance recipe is included in the reference recipe, the control is performed to perform the process in the semiconductor manufacturing facility. In addition, the host computer is controlled such as the main board to more quickly process the data provided in the database and the memory in the database for storing data such as the reference recipe as the semiconductor manufacturing equipment increases. Many devices are in demand.

하지만, 종래 기술에 따른 반도체 제조설비의 관리시스템은 다음과 같은 문제점이 있었다.However, the management system of the semiconductor manufacturing equipment according to the prior art had the following problems.

종래 기술에 따른 반도체 제조설비의 관리시스템은 반도체 제조설비를 제어하기 위한 설비 컴퓨터, 또는 상기 설비 컴퓨터에 온라인으로 연결된 호스트 컴퓨터에서 메인보드와 같은 제어장치가 증가함으로 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터에서 고열이 발생되고 상기 고열에 의한 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터의 손상 또는 오동작이 유발되기 때문에 생산성이 떨어질 수 있는 단점이 있었다.
The management system of a semiconductor manufacturing facility according to the prior art has a high temperature in the facility computer or the host computer due to an increase in a control device such as a main board in the facility computer for controlling the semiconductor manufacturing facility, or a host computer online connected to the facility computer. There is a disadvantage that the productivity can be reduced because of the occurrence of damage or malfunction of the facility computer or the host computer due to the high temperature.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 목적은, 설비 컴퓨터 또는 호스트 컴퓨터에서 메인보드와 같은 제어장치가 증가함으로 인한 고열의 발생을 억제하고, 상기 고열에 의한 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터의 손상 또는 오동작의 유발을 방지하여 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 반도체 제조설비의 관리시스템을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to solve the above problems, to suppress the occurrence of high heat caused by the increase in the control device, such as the motherboard in the facility computer or host computer, damage to the facility computer or the host computer by the high temperature Another object is to provide a management system for semiconductor manufacturing equipment that can increase or maximize productivity by preventing the occurrence of malfunctions.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 양태는, 반도체 제조설비의 관리시스템은, 소정의 반도체 제조공정이 수행되는 반도체 제조설비의 관리 시스템에 있어서; 상기 반도체 제조설비가 일련의 상기 반도체 제조공정을 수행토록 상기 반도체 제조설비를 제어하는 설비 컴퓨터; 상기 반도체 제조설비에서 해당 공정을 수행하 기 위한 각종 데이터를 제공하는 데이터 베이스를 구비하고, 상기 설비 컴퓨터에 온라인으로 연결되어 상기 데이터 베이스에서 제공되는 상기 데이터를 이용하여 상기 반도체 제조설비에서 상기 해당 공정이 수행되도록 상기 설비 컴퓨터에 제어신호를 출력하는 상기 호스트 컴퓨터; 및 상기 호스트 컴퓨터 또는 상기 설비 컴퓨터의 과열에 의한 손상 및 오동작을 방지하기 위해 상기 호스트 컴퓨터 또는 상기 설비 컴퓨터의 온도를 설정된 온도 이하로 제어하는 온도조절장치를 포함함을 특징으로 한다.
An aspect of the present invention for achieving the above object is a management system of a semiconductor manufacturing equipment, comprising: a management system of a semiconductor manufacturing equipment in which a predetermined semiconductor manufacturing process is performed; A facility computer for controlling said semiconductor manufacturing facility such that said semiconductor manufacturing facility performs a series of said semiconductor manufacturing processes; And a database for providing various data for performing the process in the semiconductor manufacturing facility, and connected to the facility computer online and using the data provided in the database. The host computer outputting a control signal to the facility computer to perform this; And a temperature controller for controlling a temperature of the host computer or the facility computer to be lower than or equal to a set temperature in order to prevent damage and malfunction due to overheating of the host computer or the facility computer.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 반도체 제조설비의 관리시스템을 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시 예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다. Hereinafter, a management system of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 제조설비의 관리시스템을 개략적으로 나타낸 블록도이다.1 is a block diagram schematically illustrating a management system of a semiconductor manufacturing facility according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 관리시스템은, 식각설비와 같은 상기 반도체 제조설비(100)가 일련의 상기 반도체 제조공정을 수행토록 상기 반도체 제조설비(100)를 제어하는 설비 컴퓨터(110)와, 상기 반도체 제조설비(100)에서 해당 공정을 수행하기 위한 각종 데이터를 제공하는 데이터 베이스(도시하지 않음)를 구비하고, 상기 설비 컴퓨터(110)에 온라인으로 연결되어 상기 데이터 베이스에서 제공되는 상기 데이터를 이용하여 상기 반도체 제조설비(100)에서 상기 해당 공정이 수행되도록 상기 설비 컴퓨터(110)에 제어신호를 출력하는 상기 호스트 컴퓨터(130)와, 상기 호스트 컴퓨터(130)와 복수개의 상기 설비 컴퓨터(110)사이에서 온라인으로 연결되어 상기 호스트 컴퓨터(130)에서 제공된 각종 데이터와 제어 신호를 해당 설비 컴퓨터(110)에 전송하고, 상기 설비 컴퓨터(110)에서 출력된 데이터를 상기 호스트 컴퓨터(130)에 전송하는 서버(server, 120), 및 상기 호스트 컴퓨터(130) 또는 상기 설비 컴퓨터(110)의 과열에 의한 손상 및 오동작을 방지하기 위해 상기 호스트 컴퓨터(130) 또는 상기 설비 컴퓨터(110)의 온도를 설정된 온도 이하로 제어하는 온도조절장치(140)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the management system for semiconductor manufacturing equipment according to the present invention controls the semiconductor manufacturing equipment 100 such that the semiconductor manufacturing equipment 100, such as an etching equipment, performs a series of the semiconductor manufacturing processes. And a database (not shown) that provides various data for performing a corresponding process in the semiconductor manufacturing facility 100, and is connected to the facility computer 110 online. The host computer 130 and a host computer 130 for outputting a control signal to the facility computer 110 to perform the corresponding process in the semiconductor manufacturing facility 100 using the data provided from a database. And a plurality of data and control signals provided from the host computer 130 are connected online between the plurality of the facility computer 110 and the corresponding facility. A server (120) for transmitting to the computer (110) and transmitting the data output from the facility computer (110) to the host computer (130), and the host computer (130) or the facility computer (110). In order to prevent damage and malfunction due to overheating, the temperature controller 140 is configured to control the temperature of the host computer 130 or the facility computer 110 below a set temperature.

여기서, 상기 설비 컴퓨터(110)와 상기 서버(120)는 전송된 데이터를 인지하고 응답할 수 있도록 상호간의 통신을 규정하는 반도체 장비 표준 통신 규약인 SECS(Semi Equipment Communication Standard) 프로토콜에 의하여 상호 통신하며 데이터를 공유하며, 상기 서버(120)와 호스트 컴퓨터(130)는 일반적으로 널리 알려진 통신 규약인 TCP/IP(Transmission Control Protocol/Internet Protocol)에 의해 통신을 하면서 상호 데이터를 서로 주고받는다. Here, the facility computer 110 and the server 120 communicate with each other by the SECS (Semi Equipment Communication Standard) protocol, which is a semiconductor equipment standard communication protocol that defines communication between each other so as to recognize and respond to the transmitted data. Data is shared, and the server 120 and the host computer 130 exchange data with each other while communicating by Transmission Control Protocol / Internet Protocol (TCP / IP), which is a widely known communication protocol.

따라서, 상기 서버(120)는 상기 설비 컴퓨터(110)와 상기 호스트 컴퓨터(130) 사이에서 온라인으로 서로를 연결한다. 예컨대, 상기 호스트 컴퓨터(130)가 해당 설비 컴퓨터(110)에 소정의 제어신호를 출력하면 상기 서버(120)는 해당되는 주소를 갖는 상기 설비 컴퓨터(110)에 상기 제어신호를 출력하고, 다시 상기 설비 컴퓨터(110)에서 소정의 데이터가 출력되면 상기 호스트 컴퓨터(130)로 상기 데이터를 전송하는 중계기 역할을 수행한다. 이때, 상기 서버(120)는 상기 호스트 컴퓨터(130) 또는 상기 설비 컴퓨터(110)에서 입출력되는 입출력 신호만을 변환할 수 있는 간단한 소자로 이루어져 있기 때문에 고열이 발생되지 않으며, 상기 고열을 억제시킬 상기 온도조절장치(140)가 필요치 않을 수도 있다. Thus, the server 120 connects each other online between the facility computer 110 and the host computer 130. For example, when the host computer 130 outputs a predetermined control signal to the facility computer 110, the server 120 outputs the control signal to the facility computer 110 having a corresponding address, and then again When predetermined data is output from the facility computer 110, the host computer 130 serves as a relay for transmitting the data. At this time, since the server 120 is made of a simple element capable of converting only the input and output signals input and output from the host computer 130 or the facility computer 110, no high heat is generated, and the temperature to suppress the high heat. The adjuster 140 may not be necessary.

그리고, 상기 설비 컴퓨터(110)는 상기 반도체 제조설비(100)에서 수행되는 공정이 섬세해지고 다양화되는 시점에서 상기 반도체 제조설비(100)를 제어하는 제어신호를 생성하기 위한 복수개의 메인보드뿐만 아니라, 상기 반도체 제조설비(100)에서 상기 웨이퍼를 이송시키기 위해 다수개의 구동부에 공급되는 전원을 생성하는 각종 반도체 소자가 집적된 복수개의 메인보드가 요구된다.In addition, the facility computer 110 may include not only a plurality of main boards for generating a control signal for controlling the semiconductor manufacturing facility 100 at a time when a process performed in the semiconductor manufacturing facility 100 becomes delicate and diversified. In order to transfer the wafers from the semiconductor manufacturing facility 100, a plurality of main boards in which various semiconductor devices are generated to generate power supplied to a plurality of driving units are required.

또한, 상기 호스트 컴퓨터(130)는 상기 반도체 제조설비(100)가 증가함에 따라 반도체 제조공정을 수행하기 위해 증가되는 각종 데이터를 저장하기 위한 데이터 베이스에서의 메모리와 상기 데이터 베이스에서 제공되는 데이터를 보다 신속하게 처리하기 위해 상기 메인보드와 같은 제어장치가 더욱 더 많이 요구된다. In addition, the host computer 130 may view a memory in a database for storing a variety of data that is increased to perform a semiconductor manufacturing process as the semiconductor manufacturing facility 100 increases, and the data provided in the database. More and more control devices, such as the mainboard, are required to process quickly.

이때, 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130)의 메인보드와 같은 제어장치는 연산처리장치(CPU)와 같은 주요부분에 국부적으로 일정 속도로 회전하는 냉각 팬을 구비하지만, 상기 연산처리장치를 포함한 반도체 소자가 집적된 상기 메인보드와 같은 제어장치 전체를 냉각시키기 위한 상기 온도조절장치(140)가 필요하다.In this case, a control device such as the main board of the facility computer 110 or the host computer 130 includes a cooling fan that rotates at a constant speed locally at a main part such as a processing unit (CPU). There is a need for the temperature control device 140 to cool the entire control device, such as the motherboard, in which semiconductor devices, including devices, are integrated.

도 2는 도 1의 온도조절장치(140)를 개략적으로 나타내는 블록도로서, 상기 온도조절장치(140)는 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130) 내부의 메인보드와 같은 제어장치에서 발생되는 고열의 온도를 감지하는 온도 감지부(142)와, 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130) 내부에서 발생되는 상기 고열을 냉각하는 냉각부(144)와, 상기 온도 감지부(142)에서 감지된 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130) 내부의 온도가 상기 설정 온도 이상일 경우, 상기 냉각부(144)를 선택적으로 가동시켜 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130) 내부의 온도가 상기 설정 온도이하로 냉각되도록 제어하는 제어부(146)와, 상기 온도 감지부(142)에서 감지된 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130) 내부의 온도를 상기 제어부(146)의 제어 신호에 따라 표시하는 표시부(148)를 포함하여 이루어진다.FIG. 2 is a block diagram schematically illustrating the temperature control device 140 of FIG. 1, wherein the temperature control device 140 is a control device such as a main board inside the facility computer 110 or the host computer 130. A temperature sensing unit 142 for sensing a high temperature of heat generated, a cooling unit 144 for cooling the high heat generated inside the facility computer 110 or the host computer 130, and the temperature sensing unit ( When the temperature inside the facility computer 110 or the host computer 130 detected by the 142 is greater than or equal to the set temperature, the cooling unit 144 may be selectively operated to operate the facility computer 110 or the host computer. 130, the control unit 146 for controlling the internal temperature is cooled below the set temperature, and the temperature of the inside of the facility computer 110 or the host computer 130 detected by the temperature sensing unit 142 It comprises a display 148 for displaying in response to the control signal 146.

여기서, 상기 온도 감지부(142)는 상기 호스트 컴퓨터(130) 내부에서 발생되는 상기 고열을 감지하기 위해 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130)의 내벽에 설치되거나, 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130)의 상기 메인보드에 내장되어 형성될 수도 있다. 예컨대, 상기 온도 감지부(142)는 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130)의 내벽에 설치될 경우, 주위의 온도에 따라 접촉저항이 달라지는 복수개의 도선에 상기 제어부(146) 또는 외부에서 인가되는 소정의 전압을 흘려주어 상기 고열에 의한 전압을 온도로 계산하여 상기 제어부(146)에 출력하는 열전대(thermocouple)로 이루어질 수 있다. Here, the temperature sensor 142 is installed on the facility computer 110 or the inner wall of the host computer 130 to detect the high heat generated inside the host computer 130, or the facility computer 110 Or may be embedded in the main board of the host computer 130. For example, when the temperature sensing unit 142 is installed on the inner wall of the facility computer 110 or the host computer 130, the temperature control unit 142 or the control unit 146 is connected to a plurality of conductors whose contact resistance varies according to ambient temperature. The thermocouple may be formed by supplying a predetermined voltage applied by and calculating the voltage due to the high temperature as a temperature and outputting the temperature to the controller 146.                     

또한, 상기 냉각부(144)는 공냉방식을 사용하여 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130)의 메인보드를 냉각시킬 수 있다. 예컨대, 상기 냉각부(144)는 상기 제어부(146)에서 입력되는 제어신호에 의해 회전 구동되는 모터와 상기 모터의 회전 구동에 의해 상기 메인보드에 공기를 송풍하는 냉각 팬을 포함하여 이루어진다.In addition, the cooling unit 144 may cool the main board of the facility computer 110 or the host computer 130 by using an air cooling method. For example, the cooling unit 144 includes a motor driven by rotation by a control signal input from the controller 146 and a cooling fan that blows air to the main board by rotational driving of the motor.

따라서, 본 발명에 따른 반도체 제조설비(100)의 관리시스템은, 설비 컴퓨터(110) 또는 호스트 컴퓨터(130) 내의 온도를 감지하여 설정된 온도 이하로 냉각시키는 온도조절장치(140)를 구비하여 설비 컴퓨터(110) 또는 호스트 컴퓨터(130)에서 메인보드와 같은 제어장치가 증가함으로 인한 고열의 발생을 억제하고, 상기 고열에 의한 상기 설비 컴퓨터(110) 또는 상기 호스트 컴퓨터(130)의 손상 또는 오동작의 유발을 방지할 수 있기 때문에 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있다.Accordingly, the management system of the semiconductor manufacturing facility 100 according to the present invention, the facility computer 110 is equipped with a temperature control device 140 for sensing the temperature in the facility computer 110 or the host computer 130 and cooling below a set temperature. It is possible to suppress the generation of high heat due to the increase of the control device such as the main board in the 110 or the host computer 130, and cause damage or malfunction of the facility computer 110 or the host computer 130 by the high heat. This can increase or maximize productivity.

또한, 상기한 실시예의 설명은 본 발명의 더욱 철저한 이해를 제공하기 위하여 도면을 참조로 예를 든 것에 불과하므로, 본 발명을 한정하는 의미로 해석되어서는 안될 것이다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기본적 원리를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 물론이다. 예컨대, 사안에 따라 반도체 제조설비(100)의 관리시스템에 있어서, 상기 온도조절장치(140)는 설비 컴퓨터(110) 또는 호스트 컴퓨터(130)뿐만 아니라, 반도체 제조설비(100)를 제어하기 위한 제어 신호를 출력하는 또 다른 컴퓨터에서 고열에 의한 손상 또는 오동작을 방지할 수 있도록 설치되거나, 각각의 상기 컴퓨터에서 상기 온도조절장치(140)의 수가 가감되어도 무방하다. In addition, the description of the above embodiment is merely given by way of example with reference to the drawings in order to provide a more thorough understanding of the present invention, it should not be construed as limiting the present invention. In addition, various changes and modifications are possible to those skilled in the art without departing from the basic principles of the present invention. For example, in the management system of the semiconductor manufacturing facility 100 according to the case, the temperature control device 140 controls not only the facility computer 110 or the host computer 130 but also the semiconductor manufacturing facility 100. Another computer that outputs a signal may be installed to prevent damage or malfunction due to high heat, or the number of the temperature regulating device 140 may be added or subtracted from each computer.

이상 상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 설비 컴퓨터 또는 호스트 컴퓨터 내의 온도를 감지하여 설정된 온도 이하로 냉각시키는 온도조절장치를 구비하여 설비 컴퓨터 또는 호스트 컴퓨터에서 메인보드와 같은 제어장치가 증가함으로 인한 고열의 발생을 억제하고, 상기 고열에 의한 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터의 손상 또는 오동작의 유발을 방지할 수 있기 때문에 생산성을 증대 또는 극대화할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, a high temperature due to an increase in a control device such as a main board in the facility computer or the host computer is provided with a temperature controller for sensing the temperature in the facility computer or the host computer and cooling it below a set temperature. Can be suppressed and the damage or malfunction of the facility computer or the host computer due to the high heat can be prevented, thereby increasing or maximizing the productivity.

Claims (5)

소정의 반도체 제조공정이 수행되는 반도체 제조설비의 관리 시스템에 있어서;A management system of a semiconductor manufacturing facility in which a predetermined semiconductor manufacturing process is performed; 상기 반도체 제조설비가 일련의 상기 반도체 제조공정을 수행토록 상기 반도체 제조설비를 제어하는 설비 컴퓨터;A facility computer for controlling said semiconductor manufacturing facility such that said semiconductor manufacturing facility performs a series of said semiconductor manufacturing processes; 상기 반도체 제조설비에서 해당 공정을 수행하기 위한 각종 데이터를 제공하는 데이터 베이스를 구비하고, 상기 설비 컴퓨터에 온라인으로 연결되어 상기 데이터 베이스에서 제공되는 상기 데이터를 이용하여 상기 반도체 제조설비에서 상기 해당 공정이 수행되도록 상기 설비 컴퓨터에 제어신호를 출력하는 상기 호스트 컴퓨터; 및The database includes a database for providing various data for performing the process in the semiconductor manufacturing facility, and the process is performed in the semiconductor manufacturing facility using the data provided in the database by being connected to the facility computer online. The host computer outputting a control signal to the facility computer to be performed; And 상기 호스트 컴퓨터 또는 상기 설비 컴퓨터의 과열에 의한 손상 및 오동작을 방지하기 위해 상기 호스트 컴퓨터 또는 상기 설비 컴퓨터의 온도를 설정된 온도 이하로 제어하는 온도조절장치를 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 관리 시스템.And a temperature control device for controlling a temperature of the host computer or the facility computer to be lower than a set temperature to prevent damage and malfunction due to overheating of the host computer or the facility computer. . 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 온도조절장치는 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터 내부의 온도를 감지하는 온도 감지부와,The temperature control device includes a temperature sensing unit for sensing a temperature inside the facility computer or the host computer; 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터 내부를 냉각하는 냉각부와,A cooling unit for cooling the facility computer or the inside of the host computer; 상기 온도 감지부에서 감지된 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터 내부의 온도가 상기 설정 온도 이상일 경우, 상기 냉각부를 선택적으로 가동시켜 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터 내부의 온도가 상기 설정 온도이하로 냉각되도록 제어하는 제어부를 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 관리 시스템. When the temperature inside the facility computer or the host computer sensed by the temperature sensing unit is greater than or equal to the set temperature, the cooling unit is selectively operated to control the temperature inside the facility computer or the host computer to cool below the set temperature. A control system for semiconductor manufacturing equipment, characterized in that it comprises a control unit. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 온도 감지부는 열전대로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 관리 시스템.The temperature sensing unit management system of a semiconductor manufacturing facility, characterized in that made of a thermocouple. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 냉각부는 상기 제어부의 제어신호에 의해 회전되는 모터와, 상기 모터의 회전에 의해 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터의 메인보드를 공냉시키는 냉각 팬으로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 관리 시스템.And a cooling unit comprises a motor rotated by a control signal of the controller, and a cooling fan for cooling the main board of the facility computer or the host computer by the rotation of the motor. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 온도조절장치는 상기 온도 감지부에서 감지된 상기 설비 컴퓨터 또는 상기 호스트 컴퓨터 내부의 온도를 표시하는 표시부를 더 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 관리 시스템.The temperature control device further comprises a display unit for displaying a temperature inside the facility computer or the host computer sensed by the temperature sensing unit.
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