KR20060079696A - Thin film transistor array panel and method for repairing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판의 수리 방법에서는, 나란히 뻗어 있는 보조 게이트선을 포함하는 게이트선, 서로 서로 평행하게 뻗은 제1 부분과 제2 부분을 포함하며 제1 부분과 제2 부분을 연결하는 하나 이상인 공통 전극을 포함하는 공통 전극선, 게이트선 및 공통 전극선과 절연되어 교차하는 데이터선, 데이터선으로부터 분리되어 있는 드레인 전극, 드레인 전극과 연결되어 있으며 공통 전극과 평행하게 교대로 배치되어 있는 하나 이상의 화소 전극, 그리고 복수의 화소 전극을 공통으로 연결하며 보조 게이트선과 중첩하는 돌출부를 가지는 화소 전극선을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판에 있어서, 우선 공통 전극선과 데이터선이 교차하는 두 부분을 단락시킨 다음, 단락된 두 부분과 단락된 두 부분을 연결하는 하나의 공통 전극을 공통 전극선으로부터 분리한다.In a repairing method of a thin film transistor array panel according to an exemplary embodiment of the present invention, a gate line including an auxiliary gate line extending in parallel, and including a first portion and a second portion extending in parallel with each other, A common electrode line including at least one common electrode to be connected, a gate line and a data line insulated from and intersecting with the common electrode line, a drain electrode separated from the data line, and connected to the drain electrode and alternately arranged in parallel with the common electrode In the thin film transistor array panel including at least one pixel electrode and a pixel electrode line having a protrusion connecting the plurality of pixel electrodes in common and overlapping the auxiliary gate line, first, a shorting of two portions where the common electrode line and the data line cross each other is performed. One common connecting two shorted parts and two shorted parts Disconnect the pole from the common electrode.

박막트랜지스터, 수평전계, 단락, 단선, 공통 전극, 화소 전극 Thin film transistor, horizontal electric field, short circuit, disconnection, common electrode, pixel electrode

Description

박막 트랜지스터 표시판 및 그의 수리 방법{Thin film transistor array panel and method for repairing the same}Thin film transistor array panel and method for repair thereof {Thin film transistor array panel and method for repairing the same}

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 배치도이고, 1 is a layout view of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3은 도 1의 박막 트랜지스터 표시판을 II-II' 선 및 III-III'선을 따라 잘라 도시한 단면도이고,2 and 3 are cross-sectional views of the thin film transistor array panel of FIG. 1 taken along lines II-II 'and III-III',

본 발명은 박막 트랜지스터 표시판 및 그의 수리 방법에 관한 것으로, 특히 액정 표시 장치의 한 기판으로 사용하는 박막 트랜지스터 표시판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film transistor array panel and a repair method thereof, and more particularly, to a thin film transistor array panel used as a substrate of a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 화소 전극과 공통 전극 등 전계 생성 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어지며, 전계 생성 전극에 전압을 인가하여 액정층에 전계를 생성하고 이를 통하여 액정층의 액정 분자들의 배향을 결정하고 입사광의 편광을 제어함으로써 영상을 표시한다. The liquid crystal display is one of the most widely used flat panel display devices. The liquid crystal display includes two display panels on which field generating electrodes such as a pixel electrode and a common electrode are formed, and a liquid crystal layer interposed therebetween. Is applied to generate an electric field in the liquid crystal layer, thereby determining the orientation of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer and controlling the polarization of incident light to display an image.                         

액정 표시 장치 중에서 한 표시판에는 복수의 화소 전극이 행렬의 형태로 배열되어 있고 다른 표시판에는 하나의 공통 전극이 표시판 전면을 덮고 있는 구조의 액정 표시 장치가 주류이며, 최근에는 기판에 거의 평행한 전계를 형성하여 액정 분자를 구동하는 수평 전계형 (IPS:In Plane Switching mode) 액정 표시 장치가 개발되고 있다. 이러한 수평 전계형 액정 표시 장치는 광시야각을 구현하는데 유리한 것으로 알려져 있다.Among the liquid crystal display devices, a liquid crystal display device having a structure in which a plurality of pixel electrodes are arranged in a matrix form on one display panel and one common electrode covering the entire surface of the display panel on the other display panel has been mainstream. In-plane switching mode (IPS) liquid crystal displays are being developed to form and drive liquid crystal molecules. Such horizontal field type liquid crystal display devices are known to be advantageous in implementing a wide viewing angle.

이러한 액정 표시 장치에서의 화상의 표시는 각 화소 전극에 별도의 전압을 인가함으로써 이루어진다. 이를 위해서 화소 전극에 인가되는 전압을 스위칭하기 위한 삼단자 소자인 박막 트랜지스터를 각 화소 전극에 연결하고 이 박막 트랜지스터를 제어하기 위한 신호를 전달하는 게이트선과 화소 전극에 인가될 전압을 전달하는 데이터선을 표시판에 설치한다. 이때, 수형 전계형은 화소 전극이 선형을 이루고 있으며, 공통 전극 또한 선형을 이루어 화소 전극과 평행하게 마주하여 동일한 표시판에 설치한다The display of an image in such a liquid crystal display is performed by applying a separate voltage to each pixel electrode. To this end, a thin film transistor, which is a three-terminal element for switching a voltage applied to a pixel electrode, is connected to each pixel electrode, and a gate line for transmitting a signal for controlling the thin film transistor and a data line for transmitting a voltage to be applied to the pixel electrode are provided. Install on the display panel. In this case, in the male electric field type, the pixel electrode is linear, and the common electrode is also linear to face the pixel electrode and be installed on the same display panel.

이러한 액정 표시 장치를 제조하는 공정에서 제조 원가를 상승시키는 원인 중 하나는 신호선이 화소 불량(pixel defect)이며, 이는 신호선이 단선되거나 단락되어 발생하는데, 박막 트랜지스터 표시판은 이러한 화소 불량을 용이하게 수리할 수 있어야 한다.One of the causes of the increase in manufacturing cost in the process of manufacturing such a liquid crystal display is a signal defect caused by a pixel defect, which is caused by disconnection or short circuit of the signal line. It should be possible.

본 발명은 이와 같은 과제를 해결하기 위해 불량을 용이하게 수리할 수 있는 박막 트랜지스터 표시판 및 그의 수리 방법을 제공한다. The present invention provides a thin film transistor array panel and a repair method thereof capable of easily repairing defects in order to solve such a problem.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에서는 공통 전극선과 게이트선을 이중으로 배치하여 단선된 데이터선을 수리하는데 사용한다.In the present invention for achieving the above object, the common electrode line and the gate line are arranged in double to use to repair the disconnected data line.

본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판은 나란히 뻗어 있는 보조 게이트선을 포함하는 게이트선, 서로 서로 평행하게 뻗어 있으며, 하나 이상인 공통 전극을 포함하는 공통 전극선, 게이트선 및 공통 전극선과 절연되어 교차하는 데이터선, 데이터선으로부터 분리되어 있는 드레인 전극, 드레인 전극과 연결되어 있으며, 공통 전극과 평행하게 교대로 배치되어 있는 하나 이상의 화소 전극, 그리고 복수의 화소 전극을 공통으로 연결하며 보조 게이트선과 중첩하는 돌출부를 가지는 화소 전극선을 포함한다.A thin film transistor array panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a gate line including an auxiliary gate line extending side by side, parallel to each other, and insulated from and cross the common electrode line, the gate line, and the common electrode line including one or more common electrodes. One or more pixel electrodes connected to the data line, the drain electrode separated from the data line, and the drain electrode, and alternately arranged in parallel with the common electrode, and a protrusion that connects the plurality of pixel electrodes in common and overlaps the auxiliary gate line. It includes a pixel electrode line having.

공통 전극선은 서로 평행하게 이중으로 나란하게 뻗어 쌍으로 이루어져 있으며, 공통 전극은 쌍으로 이루어진 공통 전극선을 서로 연결하는 것이 바람직하다.The common electrode line extends in parallel and parallel to each other in a pair, and the common electrode preferably connects the pair of common electrode lines to each other.

화소 전극선은 쌍의 공통 전극선과 각각 중첩하는 제1 부분과 제2 부분으로 이루어진 것이 바람직하고, 제1 부분은 드레인 전극과 연결되어 있으며, 제2 부분은 돌출부와 연결되어 있는 것이 바람직하고, 보조 게이트선은 제2 부분과 중첩하는 공통 전극선과 인접하게 배치되어 있는 것이 바람직하다.Preferably, the pixel electrode line includes a first portion and a second portion overlapping each of the pair of common electrode lines, the first portion is connected to the drain electrode, and the second portion is connected to the protrusion. The line is preferably disposed adjacent to the common electrode line overlapping the second portion.

본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판의 수리 방법에서는, 나란히 뻗어 있는 보조 게이트선을 포함하는 게이트선, 서로 서로 평행하게 뻗은 제1 부분과 제2 부분을 포함하며 제1 부분과 제2 부분을 연결하는 하나 이상인 공통 전극을 포함하는 공통 전극선, 게이트선 및 공통 전극선과 절연되어 교차하는 데이터 선, 데이터선으로부터 분리되어 있는 드레인 전극, 드레인 전극과 연결되어 있으며 공통 전극과 평행하게 교대로 배치되어 있는 하나 이상의 화소 전극, 그리고 복수의 화소 전극을 공통으로 연결하며 보조 게이트선과 중첩하는 돌출부를 가지는 화소 전극선을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판에 있어서, 우선 공통 전극선과 데이터선이 교차하는 두 부분을 단락시킨 다음, 단락된 두 부분과 단락된 두 부분을 연결하는 하나의 공통 전극을 공통 전극선으로부터 분리한다.In a repairing method of a thin film transistor array panel according to an exemplary embodiment of the present invention, a gate line including an auxiliary gate line extending in parallel, and including a first portion and a second portion extending in parallel with each other, A common electrode line including at least one common electrode to be connected, a gate line and a data line insulated from and intersecting with the common electrode line, a drain electrode separated from the data line, and connected to the drain electrode and alternately arranged in parallel with the common electrode In the thin film transistor array panel including at least one pixel electrode and a pixel electrode line having a protrusion connecting the plurality of pixel electrodes in common and overlapping the auxiliary gate line, first, a shorting of two portions where the common electrode line and the data line cross each other is performed. One common connecting two shorted parts and two shorted parts The electrode is separated from the common electrode line.

이때, 단락된 두 부분의 양쪽에 배치되어 있는 화소 전극선과 드레인 전극을 분리하고, 단락된 두 부분의 양쪽에 배치되어 있는 화소 전극선과 공통 전극선을 단락시키고, 보조 게이트선과 돌출부를 단락시키고, 게이트선으로부터 돌출부에 단락된 보조 게이트선 일부를 단선시키는 것이 바람직하다.At this time, the pixel electrode line and the drain electrode which are disposed on both of the two shorted parts are separated, and the pixel electrode line and the common electrode line which are arranged on both of the shorted two parts are shorted, the auxiliary gate line and the protrusion part are shorted, and the gate line It is preferable to disconnect a part of the auxiliary gate line short-circuited from the projection.

첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. In the drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity. Like parts are designated by like reference numerals throughout the specification. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the other part being "right over" but also another part in the middle. On the contrary, when a part is "just above" another part, there is no other part in the middle.                     

우선, 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조에 대하여 설명한다.First, a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 배치도이고, 도 2 및 도 3은 도 1의 박막 트랜지스터 표시판을 II-II' 선 및 III-III' 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다. 1 is a layout view of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are cut along the lines II-II 'and III-III' of FIG. It is sectional drawing.

도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 절연 기판(110) 위에 복수의 게이트선(gate line, 121)과 쌍으로 이루어진 복수의 공통 전극선(common electrode line, 131a, 131b)이 형성되어 있다. 1 and 2, a plurality of common electrode lines 131a and 131b paired with a plurality of gate lines 121 are formed on the insulating substrate 110.

게이트선(121)은 주로 가로 방향으로 뻗어 있고 서로 분리되어 있으며, 가로 방향으로 뻗어 있으며 게이트 연결부(123)를 통하여 연결되어 있는 보조 게이트선(122)을 포함하고, 게이트 신호를 전달한다. 각 게이트선(121)은 복수의 게이트 전극(gate electrode)(124)을 이루는 복수의 돌출부를 가진다. 그리고 게이트선(121) 각각은 다른 층 또는 외부 장치의 접속을 위한 면적이 넓은 끝 부분을 가질 수 있다. The gate line 121 mainly includes an auxiliary gate line 122 extending in the horizontal direction and separated from each other, extending in the horizontal direction, and connected through the gate connection part 123, and transmitting a gate signal. Each gate line 121 has a plurality of protrusions forming a plurality of gate electrodes 124. Each of the gate lines 121 may have an end portion having a large area for connecting another layer or an external device.

각 쌍은 공통 전극선(common electrode line, 131a, 131b)은 주로 가로 방향으로 뻗어 있으며, 서로 이웃하는 게이트선(121)과 게이트선(121) 사이에 위치하며, 게이트선(121)과 인접하게 배치되어 있다. 쌍의 공통 전극선(131a, 131b)은 주로 세로 방향으로 뻗어 있으며, 공통 전극선(131a, 131b)을 전기적으로 연결하는 복수의 공통 전극(common electrode, 133, 134)을 포함하는데, 최외각에 배치되어 있는 공통 전극(134)은 나머지 공통 전극(133)보다 넓은 폭을 가지는데, 그렇지 않 을 수도 있다. 공통 전극선(131a, 131b)은 공통 전압(common voltage) 따위의 기준 전압을 전달한다.Each pair of common electrode lines 131a and 131b mainly extends in the horizontal direction, and is disposed between the gate lines 121 and the gate lines 121 that are adjacent to each other, and are disposed adjacent to the gate lines 121. It is. The pair of common electrode lines 131a and 131b mainly extend in the vertical direction, and include a plurality of common electrodes 133 and 134 electrically connecting the common electrode lines 131a and 131b to each other. The common electrode 134 has a wider width than the remaining common electrode 133, but may not be. The common electrode lines 131a and 131b deliver a reference voltage such as a common voltage.

게이트선(121) 및 공통 전극선(131a, 131b)은 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를 들면 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열의 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등 은 계열의 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등 구리 계열의 도전막으로 형성될 수 있으며, 이러한 도전막에 더하여 다른 도전막을 포함할 수 있다. 다른 도전막은, 특히 ITO(indium tin oxide) 및 IZO(indium zinc oxide)와의 물리적, 화학적, 전기적 접촉 특성이 우수한 물질, 이를테면 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 몰리브덴 합금, 탄탈륨(Ta), 또는 티타늄(Ti) 등으로 이루어질 수 있다. 이러한 도전막의 조합의 좋은 예로는 몰리브덴 또는 몰리브덴 텅스텐 합금 또는 크롬/알루미늄-네오디뮴 합금을 들 수 있다. The gate line 121 and the common electrode lines 131a and 131b are metals of low resistivity, for example, aluminum-based metals such as aluminum (Al) and aluminum alloys, and silver-based metals such as silver (Ag) and silver alloys. , Copper (Cu) or a copper alloy may be formed of a copper-based conductive film, in addition to such a conductive film may include another conductive film. Other conductive films are, in particular, materials having excellent physical, chemical and electrical contact properties with indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), such as chromium (Cr), molybdenum (Mo), molybdenum alloys, tantalum (Ta), or Titanium (Ti) or the like. Good examples of such a combination of conductive films include molybdenum or molybdenum tungsten alloys or chromium / aluminum-neodymium alloys.

게이트선(121)과 공통 전극선(131a, 131b)의 측면은 기판(110)의 표면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 약 30-80°인 것이 바람직하다. Side surfaces of the gate line 121 and the common electrode lines 131a and 131b are inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is preferably about 30-80 °.

게이트선(121)과 공통 전극선(131a, 131b) 위에는 질화규소(SiNx) 따위로 이루어진 게이트 절연막(gate insulating layer)(140)이 형성되어 있다.A gate insulating layer 140 made of silicon nitride (SiNx) is formed on the gate line 121 and the common electrode lines 131a and 131b.

게이트 절연막(140) 위에는 수소화 비정질 규소(hydrogenated amorphous silicon, a-Si) 또는 다결정 규소 등으로 이루어진 복수의 반도체(154)가 형성되어 있다. 각각의 반도체(154)는 주로 세로 방향으로 뻗어 공통 전극선(131a, 131b) 위까지 연장되어 있으며 이로부터 복수의 돌출부가 게이트 전극(124)을 향하여 뻗어 나와 있다. A plurality of semiconductors 154 made of hydrogenated amorphous silicon (a-Si), polycrystalline silicon, or the like are formed on the gate insulating layer 140. Each of the semiconductors 154 mainly extends in the vertical direction and extends over the common electrode lines 131a and 131b, from which a plurality of protrusions extend toward the gate electrode 124.                     

반도체층(151, 154)의 상부에는 실리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어진 복수의 섬형 저항성 접촉 부재(ohmic contact) (163, 165)가 형성되어 있다. 섬형 저항성 접촉 부재(163, 165)는 게이트 전극(124)을 중심으로 서로 마주하며 쌍을 이루어 반도체(154) 위에 위치한다. On the semiconductor layers 151 and 154, a plurality of island-like ohmic contacts 163 and 165 made of a material such as n + hydrogenated amorphous silicon doped with silicide or n-type impurities at a high concentration are formed. It is. The islands of ohmic contact 163 and 165 are disposed on the semiconductor 154 in pairs facing each other with respect to the gate electrode 124.

반도체(154)와 저항성 접촉 부재(163, 165)의 측면 역시 기판(110)의 표면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 30-80°인 것이 바람직하다. Side surfaces of the semiconductor 154 and the ohmic contacts 163 and 165 are also inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is preferably 30-80 °.

저항성 접촉 부재(161, 165) 및 게이트 절연막(140) 위에는 각각 복수의 데이터선(date line, 171), 드레인 전극(175) 및 복수의 화소 전극(pixel electrode, 177a, 177b)이 형성되어 있다. A plurality of date lines 171, a drain electrode 175, and a plurality of pixel electrodes 177a and 177b are formed on the ohmic contacts 161 and 165 and the gate insulating layer 140, respectively.

데이터선(171)은 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121) 및 공통 전극선(131a, 131b)과 교차하며 데이터 전압(data voltage)을 전달한다. 각 데이터선(171)은 다른 층 또는 외부 장치와의 접촉을 위한 넓은 끝 부분을 가지는 것이 바람직하다. The data line 171 mainly extends in the vertical direction and crosses the gate line 121 and the common electrode lines 131a and 131b and transmits a data voltage. Each data line 171 preferably has a wide end portion for contact with another layer or an external device.

각 드레인 전극(175)은 게이트 전극(124) 위에서 데이터선(171)으로부터 분리되어 있다. 데이터선(171) 각각은 게이트 전극(124) 상부에 위치하는 복수의 돌출부를 포함하고 있으며, 이 돌출부는 드레인 전극(175)의 한쪽 끝 부분을 일부 둘러싸는 소스 전극(173)을 이룬다. 하나의 게이트 전극(124), 하나의 소스 전극(173) 및 하나의 드레인 전극(175)은 반도체(154)와 함께 하나의 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)를 이루며, 박막 트랜지스터의 채널(channel)은 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 반도체(154)에 형성된다.Each drain electrode 175 is separated from the data line 171 on the gate electrode 124. Each of the data lines 171 includes a plurality of protrusions disposed above the gate electrode 124, and the protrusions form a source electrode 173 partially surrounding one end of the drain electrode 175. One gate electrode 124, one source electrode 173, and one drain electrode 175 together with the semiconductor 154 form one thin film transistor (TFT), and a channel of the thin film transistor. ) Is formed in the semiconductor 154 between the source electrode 173 and the drain electrode 175.

화소 전극(177a, 177b)은 게이트선(121)과 데이터선(171)으로 둘러싸인 영역에 배치되어, 공통 전극(133, 134)과 평행하며 공통 전극(133, 134)과 교대로 배치되어 있다. 각각의 화소 전극(177a, 177b)은 쌍의 공통 전극선(131a, 131b)과 각각 중첩하며, 드레인 전극(175)에 연결되어 있는 화소 전극선(176a, 176b)을 통하여 연결되어 있다. 보조 게이트선(122)에 인접한 화소 전극선(176b)은 보조 게이트선(122)을 지나 게이트 연결부(123)와 중첩하는 돌출부(178)를 가지며, 이와 마주하고 게이트선(121)에 인접한 화소 전극선(176a)은 드레인 전극(175)에 연결되어 있다.The pixel electrodes 177a and 177b are disposed in an area surrounded by the gate line 121 and the data line 171, and are parallel to the common electrodes 133 and 134 and alternately disposed with the common electrodes 133 and 134. Each of the pixel electrodes 177a and 177b overlaps the pair of common electrode lines 131a and 131b, and is connected through the pixel electrode lines 176a and 176b connected to the drain electrode 175. The pixel electrode line 176b adjacent to the auxiliary gate line 122 has a protrusion 178 that passes through the auxiliary gate line 122 and overlaps the gate connection part 123, and faces the pixel electrode line adjacent to the gate line 121. 176a is connected to the drain electrode 175.

화소 전극(177a, 177b)은 드레인 전극(175)과 물리적·전기적으로 연결되어 드레인 전극(175)으로부터 데이터 전압을 인가 받는다. 데이터 전압이 인가된 화소 전극(177a, 177b)은 공통 전극(133, 134)과 함께 전기장을 생성함으로써 액정층의 액정 분자들을 재배열시킨다.The pixel electrodes 177a and 177b are physically and electrically connected to the drain electrode 175 to receive a data voltage from the drain electrode 175. The pixel electrodes 177a and 177b to which the data voltage is applied rearrange the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer by generating an electric field together with the common electrodes 133 and 134.

화소 전극(177a, 177b)과 공통 전극(133, 134)은 축전기[이하 “액정 축전기(liquid crystal capacitor)”라 함]을 이루어 박막 트랜지스터가 턴 오프된 후에도 인가된 전압을 유지하는데, 전압 유지 능력을 강화하기 위하여 액정 축전기와 병렬로 연결된 다른 축전기를 두며 이를 "유지 축전기(storage electrode)"라 한다. 유지 축전기는 화소 전극선(176a, 176b)과 공통 전극선(131a, 131b)의 중첩 등으로 만들어진다. The pixel electrodes 177a and 177b and the common electrodes 133 and 134 form capacitors (hereinafter referred to as "liquid crystal capacitors") to maintain the applied voltage even after the thin film transistor is turned off. Another capacitor connected in parallel with the liquid crystal capacitor is placed to reinforce the voltage, which is called a "storage electrode". The storage capacitor is made by overlapping the pixel electrode lines 176a and 176b with the common electrode lines 131a and 131b.

데이터선(171), 드레인 전극(175) 및 화소 전극(177a, 177b)은 알루미늄(Al) 이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열 또는 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금[보기 : 몰리브덴-텅스텐(MoW) 합금] 따위로 단층으로 이루어진다. 그리고 이들(171, 173, 177a, 177b)의 측면도 기판에 대해서 소정 각도로 경사지도록 형성되어 있다. The data line 171, the drain electrode 175, and the pixel electrodes 177a and 177b may be aluminum-based, such as aluminum (Al) or an aluminum alloy, or chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta), or molybdenum (Mo). And alloys thereof (eg, molybdenum-tungsten (MoW) alloys). The side surfaces of these 171, 173, 177a, and 177b are also inclined at a predetermined angle with respect to the substrate.

도면에 도시하지 않았지만, 데이터선(171), 드레인 전극(175) 및 화소 전극(177a, 177b)과 이들로 덮이지 않고 노출된 반도체(151) 부분의 위에는 평탄화 특성이 우수하며 감광성(photosensitivity)을 가지는 유기 물질, 플라스마 화학 기상 증착(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)으로 형성되는 a-Si:C:O, a-Si:O:F 등의 저유전율 절연 물질, 또는 무기 물질인 질화규소나 산화규소 따위로 이루어진 보호막(passivation layer)(180)이 형성되어 있다. 보호막(도시하지 않음)은 반도체(151)의 채널부가 유기물과 직접 닿지 않도록 하부 무기막과 상부 유기막의 이중막 구조를 가질 수 있다.Although not shown, the planarization characteristics are excellent and photosensitivity is provided on the data line 171, the drain electrode 175, and the pixel electrodes 177a and 177b and the portions of the semiconductor 151 that are not covered by them. Organic matter, low dielectric constant insulating materials such as a-Si: C: O and a-Si: O: F formed by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), or inorganic materials such as silicon nitride or silicon oxide A passivation layer 180 is formed. The passivation layer (not shown) may have a double layer structure of the lower inorganic layer and the upper organic layer so that the channel portion of the semiconductor 151 does not directly contact the organic material.

그리고 보호막(180)은 데이터선(171) 및 게이트선(121)의 한쪽 끝 부분을 노출하는 접촉 구멍을 가지는 것이 바람직하며, 구동 회로가 연결되는 게이트선(121) 및 데이터선(171)의 끝 부분은 ITO 또는 IZO의 접촉 보조 부재를 포함하는 것이 바람직하며, 접촉 보조 부재와 동일한 층으로 데이터선(171) 또는 게이트선(121)에 연결되는 보조 신호선을 추가할 수 있다.In addition, the passivation layer 180 may have a contact hole exposing one end of the data line 171 and the gate line 121, and the ends of the gate line 121 and the data line 171 to which the driving circuit is connected. The portion preferably includes a contact auxiliary member of ITO or IZO, and an auxiliary signal line connected to the data line 171 or the gate line 121 may be added to the same layer as the contact auxiliary member.

이와 같은 본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판의 수리 방법에서는, 데이터선(171)의 일부분(O)에서 단선이 발생하였을 때, 단선된 부분(O)을 중심으로 상하에서 데이터선(171)과 공통 전극선(131a, 131b)이 교차하는 부분(S1, S2)에 레이저를 조사하여 데이터선(171)과 공통 전극선(131a, 131b)을 서로 단락시킨다. 그리고, 단락된 두 부분(S1, S2) 각각의 양쪽 공통 전극선(131a, 131b) 일부(P11, P12, P21, P22)에 레이저를 조사하여 데이터선(171)에 단락된 공통 전극선(131a, 131b)의 일부를 공통 전극선(131a, 131b)으로부터 분리한다. 이때, 단선된 데이터선(171)에 전달되는 신호가 데이터선(171)에 인접한 공통 전극(134)을 통하여 우회할 수 있도록 레이저가 조사된 부분(P11, P21)은 데이터선(171)에 대하여 적어도 공통 전극(134)이 연결된 부분 밖에 위치하며, 데이터선(171)에 대하여 같은 방향에 위치한다. 이와 같이, 단선된 데이터선(171)을 수리하면, 단선된 데이터선(171)을 통하여 전달되는 데이터 신호는 데이터선(171)에 단락된 공통 전극(134)을 통하여 우회하여 해당하는 화소에 전달된다.In the repairing method of the thin film transistor array panel according to the exemplary embodiment of the present invention, when disconnection occurs in the portion O of the data line 171, the data line 171 is disposed up and down around the disconnected portion O. The laser beams are irradiated to the portions S1 and S2 where the and common electrode lines 131a and 131b cross each other to short the data line 171 and the common electrode lines 131a and 131b. The common electrode lines 131a and 131b short-circuited to the data line 171 by irradiating a laser to portions P11, P12, P21 and P22 of both common electrode lines 131a and 131b of each of the two shorted portions S1 and S2. A part of) is separated from the common electrode lines 131a and 131b. At this time, the portions P11 and P21 irradiated with the laser are directed to the data line 171 so that the signal transmitted to the disconnected data line 171 can be diverted through the common electrode 134 adjacent to the data line 171. It is located at least outside the portion where the common electrode 134 is connected, and is located in the same direction with respect to the data line 171. As such, when the disconnected data line 171 is repaired, the data signal transmitted through the disconnected data line 171 is bypassed through the common electrode 134 shorted to the data line 171 and transferred to the corresponding pixel. do.

하지만, 단선된 데이터선(171) 양쪽의 공통 전극선(131a, 131b) 각각은 서로 단선되어 있으며, 이들을 서로 연결하기 위해 우선, 수리된 데이터선(171) 양쪽에 위치하는 드레인 전극(175) 일부(P13, P14)에 레이저를 조사하여 드레인 전극(175)으로부터 각각 화소 전극선(176a)을 분리한다. 이어, 수리된 데이터선(171) 양쪽에 위치하는 나머지 화소 전극선(176b)과 이와 중첩하는 공통 전극선(131b)의 일부(S3, S4)에 각각 레이저를 조사하여 이들(176b, 131b)을 서로 단락시키고, 단락된 부분(S3, S4) 각각에 인접한 화소 전극선(176b)의 돌출부(178)와 이와 중첩하는 게이트 연결부(123)의 일부(S5, S6)에 각각 레이저를 조사한다. 그러면, 공통 전극선(131a, 131b)을 통하여 전달되는 공통 전압을 수리된 데이터선(171)과 교차하는 보조 게이트선(122)의 일부를 통하여 우회한다. 이때, 공통 전압이 게이트선 (121)으로 전달되는 것을 방지하기 위해 화소 전극선(176b)의 돌출부(178)와 게이트 연결부(123)가 단락된 부분(S5, S6)에 인접한 보조 게이트선(122) 및 연결부(123) 일부(P31, 32, P41, 42)에 레이저를 조사하여 게이트선(121)으로부터 화소 전극선(176b)의 돌출부(178)가 단락된 게이트 연결부(123)를 분리한다.However, each of the common electrode lines 131a and 131b of both of the disconnected data lines 171 is disconnected from each other, and in order to connect them to each other, first, a part of the drain electrode 175 positioned on both sides of the repaired data line 171 ( Lasers are irradiated to P13 and P14 to separate the pixel electrode lines 176a from the drain electrodes 175, respectively. Subsequently, lasers are irradiated to the remaining pixel electrode lines 176b positioned on both sides of the repaired data line 171 and portions S3 and S4 of the common electrode line 131b overlapping the shortened circuits, 176b and 131b. The laser is irradiated to the protruding portion 178 of the pixel electrode line 176b adjacent to each of the shorted portions S3 and S4 and the portions S5 and S6 of the gate connection portion 123 overlapping each other. Then, the common voltage transmitted through the common electrode lines 131a and 131b is bypassed through a part of the auxiliary gate line 122 that intersects the repaired data line 171. In this case, in order to prevent the common voltage from being transferred to the gate line 121, the auxiliary gate line 122 adjacent to the portions S5 and S6 of which the protrusion 178 and the gate connection part 123 of the pixel electrode line 176b are short-circuited. A portion of the connection portions 123 P31, 32, P41 and 42 is irradiated with a laser to separate the gate connection portion 123 from which the protrusion 178 of the pixel electrode line 176b is shorted from the gate line 121.

이상과 같은 본 발명의 실시예에서는 단선된 데이터선을 통하여 전달되는 신호를 공통 전극선 및 보조 게이트선 일부를 이용하여 우회시킴으로써, 용이하게 단선된 데이터선을 수리할 수 있다.In the above-described embodiments of the present invention, the signal transmitted through the disconnected data line is bypassed by using a part of the common electrode line and the auxiliary gate line, thereby easily repairing the disconnected data line.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다. Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights.

Claims (7)

나란히 뻗어 있는 보조 게이트선을 포함하는 게이트선,A gate line including an auxiliary gate line extending side by side, 서로 서로 평행하게 뻗어 있으며, 하나 이상인 공통 전극을 포함하는 공통 전극선,A common electrode line extending in parallel to each other and including one or more common electrodes, 상기 게이트선 및 공통 전극선과 절연되어 교차하는 데이터선,A data line insulated from and intersecting the gate line and the common electrode line, 상기 데이터선으로부터 분리되어 있는 드레인 전극, A drain electrode separated from the data line, 상기 드레인 전극과 연결되어 있으며, 상기 공통 전극과 평행하게 교대로 배치되어 있는 하나 이상의 화소 전극, 그리고At least one pixel electrode connected to the drain electrode and alternately disposed in parallel with the common electrode, and 복수의 상기 화소 전극을 공통으로 연결하며, 상기 보조 게이트선과 중첩하는 돌출부를 가지는 화소 전극선A pixel electrode line connecting the plurality of pixel electrodes in common and having a protrusion overlapping the auxiliary gate line; 을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판.Thin film transistor array panel comprising a. 제1항에서,In claim 1, 상기 공통 전극선은 서로 평행하게 이중으로 나란하게 뻗어 쌍으로 이루어져 있으며, 상기 공통 전극은 쌍으로 이루어진 상기 공통 전극선을 서로 연결하는 박막 트랜지스터 표시판.The common electrode line extends in parallel and parallel to each other in a pair, the common electrode is a thin film transistor array panel connecting the common electrode line formed in pairs. 제2항에서,In claim 2, 상기 화소 전극선은 쌍의 상기 공통 전극선과 각각 중첩하는 제1 부분과 제2 부분으로 이루어진 박막 트랜지스터 표시판.The pixel electrode line includes a first portion and a second portion overlapping each of the pair of common electrode lines. 제3항에서,In claim 3, 상기 제1 부분은 상기 드레인 전극과 연결되어 있으며, 상기 제2 부분은 상기 돌출부와 연결되어 있는 박막 트랜지스터 표시판.The first portion is connected to the drain electrode, and the second portion is connected to the protrusion. 제4항에서,In claim 4, 상기 보조 게이트선은 상기 제2 부분과 중첩하는 상기 공통 전극선과 인접하게 배치되어 있는 박막 트랜지스터 표시판.The auxiliary gate line is disposed adjacent to the common electrode line overlapping the second portion. 나란히 뻗어 있는 보조 게이트선을 포함하는 게이트선, 서로 서로 평행하게 뻗은 제1 부분과 제2 부분을 포함하며 상기 제1 부분과 제2 부분을 연결하는 하나 이상인 공통 전극을 포함하는 공통 전극선, 상기 게이트선 및 공통 전극선과 절연되어 교차하는 데이터선, 상기 데이터선으로부터 분리되어 있는 드레인 전극, 상기 드레인 전극과 연결되어 있으며 상기 공통 전극과 평행하게 교대로 배치되어 있는 하나 이상의 화소 전극, 그리고 복수의 화소 전극을 공통으로 연결하며 상기 보조 게이트선과 중첩하는 돌출부를 가지는 화소 전극선을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판에 있어서, A gate line including an auxiliary gate line extending side by side, a common electrode line including at least one common electrode including a first portion and a second portion extending in parallel to each other and connecting the first portion and the second portion, the gate A data line insulated from and intersecting the line and the common electrode line, a drain electrode separated from the data line, one or more pixel electrodes connected to the drain electrode and alternately arranged in parallel with the common electrode, and a plurality of pixel electrodes A thin film transistor array panel comprising: a pixel electrode line having a protrusion connected to the common gate and overlapping the auxiliary gate line; 상기 공통 전극선과 상기 데이터선이 교차하는 두 부분을 단락시키는 단계,Shorting two portions where the common electrode line and the data line cross each other; 단락된 상기 두 부분과 단락된 상기 두 부분을 연결하는 하나의 상기 공통 전극을 상기 공통 전극선으로부터 분리하는 단계Separating one common electrode connecting the two shorted portions and the two shorted portions from the common electrode line 를 포함하는 박막 트랜지스터 표시판의 수리 방법.Repair method of the thin film transistor array panel comprising a. 제6항에서,In claim 6, 단락된 상기 두 부분의 양쪽에 배치되어 있는 상기 화소 전극선과 상기 드레인 전극을 분리하는 단계,Separating the pixel electrode line and the drain electrode disposed on both of the shorted two portions, 단락된 상기 두 부분의 양쪽에 배치되어 있는 상기 화소 전극선과 상기 공통 전극선을 단락시키는 단계,Shorting the pixel electrode line and the common electrode line which are disposed on both sides of the shorted two parts; 상기 보조 게이트선과 상기 돌출부를 단락시키는 단계,Shorting the auxiliary gate line and the protrusion part; 상기 게이트선으로부터 상기 돌출부에 단락된 상기 보조 게이트선 일부를 단선시키는 단계Disconnecting a part of the auxiliary gate line shorted to the protrusion from the gate line; 를 더 포함하는 박막 트랜지스터 표시판의 수리 방법.Repair method of a thin film transistor array panel further comprising.
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