KR20060077981A - 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송장치 - Google Patents

웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20060077981A
KR20060077981A KR1020040116640A KR20040116640A KR20060077981A KR 20060077981 A KR20060077981 A KR 20060077981A KR 1020040116640 A KR1020040116640 A KR 1020040116640A KR 20040116640 A KR20040116640 A KR 20040116640A KR 20060077981 A KR20060077981 A KR 20060077981A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
wafer carrier
carrier
transfer stage
transfer
Prior art date
Application number
KR1020040116640A
Other languages
English (en)
Inventor
신희석
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020040116640A priority Critical patent/KR20060077981A/ko
Publication of KR20060077981A publication Critical patent/KR20060077981A/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송 장치는 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어를 지지하기 위한 이송 스테이지를 구비한다. 센서는 상기 이송 스테이지에 구비되어 상기 웨이퍼 캐리어로부터 돌출되는 웨이퍼를 검출하고, 구동부는 상기 웨이퍼 캐리어로부터 돌출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 캐리어로 삽입하기 위해 상기 이송 스테이지를 틸팅시킨다. 상기 이송 스테이지는 상기 웨이퍼 캐리어의 하부면 및 상기 웨이퍼가 돌출되는 면과 반대되는 면을 지지한다. 따라서 상기 웨이퍼 캐리어의 이송 중 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 캐리어로부터 돌출되더라도 이를 감지하여 다시 웨이퍼 캐리어로 삽입할 수 있다.

Description

웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송 장치{Apparatus for supporting a wafer carrier and apparatus for transporting a wafer having the same}
도 1은 종래 기술에 따른 이송 스테이지를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 웨이퍼 이송 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 3은 도 2에 도시된 웨이퍼 캐리어 지지 장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 4는 도 3에 도시된 이송 스테이지의 측면도이다.
도 5는 도 3에 도시된 이송 스테이지의 동작을 설명하기 위한 측면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 웨이퍼 이송 장치 110 : 캐리어 이송부
120 : 캐리어 스테이지 130 : 웨이퍼 이송부
140 : 보트 유닛 142 : 보트
144 : 보트 승강기 150 : 튜브 유닛
152 : 튜브 154 : 스캐빈저
156 : 자동 셔터 160 : 프로세서 챔버
200 : 웨이퍼 캐리어 지지 장치 210 : 이송 스테이지
212 : 수평 플레이트 214 : 수직 플레이트
220 : 웨이퍼 캐리어 230 : 센서
240 : 구동부 250 : 웨이퍼
본 발명은 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 갖는 웨이퍼 가공 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어 또는 FOUP을 이송하기 위한 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 갖는 웨이퍼 가공 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 확산설비는 웨이퍼를 도핑시키는 설비로서, 이러한 확산공정의 상당 부분은 고온에서 이루어지게 되며, 그 가운데에는 히터 벽체 내부 공간에 석영의 튜브를 설치하고 이 튜브 내에 웨이퍼를 넣어 고온의 공정 환경을 만들어주는 경우가 있는데 이를 흔히 로(Furnace)형 설비라 한다.
이러한 로형 설비에는 대량의 웨이퍼가 한꺼번에 공정 공간에 투입되는 배치(batch)방식을 사용하게 되며, 반도체장치 제조 공정상 열산화막을 형성하거나, 주입된 원소를 확산시키는 확산로로서 많이 사용되었다.
로형 설비 가운데 현재 가장 많이 사용되는 것으로는 종형로(vertical type furnace)가 있으며, 여기서는 저압 화학 증착(LPCVD, Low Pressure Chemical Vapour Deposition) 공정이 주로 이루어진다.
LPCVD는 고온 진공 분위기에서 공간 내로 소스 가스를 투입하게 되면 투입된 가스가 서로 반응하여 반응물질을 형성하면서 동시에 진공 공간에서 확산되어 그 과정 속에서 웨이퍼 상에 막으로 적층되는 현상을 이용하는 것이다.
그리고 웨이퍼를 석영 튜브 내로 옮겨서 공정을 진행하기 위해서는 통상 보트(boat)라는 웨이퍼 적재장치가 사용되는데, 이러한 보트는 주로 석영재질로 만들어지며, 상하방향으로 형성된 복수개의 지지 로드에 슬릿을 형성하고, 이 슬릿에 직접 웨이퍼를 끼워 공정을 진행할 수 있도록 하는 것이다.
일반적으로, 반도체 제조장치용 확산, 저압화학기상증착 설비에 있어서, 웨이퍼 캐리어에 적재된 웨이퍼를 보트로 이송(transfer)하기 위한 로딩 시스템(loading system)도 반도체 제조설비의 중요한 일부분을 차지한다. 상기 로딩 시스템에는 웨이퍼들이 적재된 웨이퍼 캐리어를 일시적으로 보관하는 독립적인 스테이지(stage)가 존재하는데, 이를 통상 이송 스테이지(transfer stage)라고 한다.
상기와 같은 이송 스테이지를 포함하는 로딩 시스템은 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어가 소정의 승하강 장치내에 투입되면 캐리어 이송부가 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 이송 스테이지로 이송한다. 상기 웨이퍼 캐리어가 상기 이송 스테이지로 이송되면, 웨이퍼 이송부에 의해 웨이퍼가 보트로 옮겨진다.
도 1은 종래 기술에 따른 이송 스테이지를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 1을 참조하면, 이송 스테이지(10)에 웨이퍼 캐리어(20)가 정상적으로 놓 여지는 경우에도 상기 웨이퍼 캐리어(20) 내에 적재된 웨이퍼(22)들이 상기 웨이퍼 캐리어(20)의 이송 중에 캐리어 이송부의 진동이나 상기 이송 스테이지(10)에 놓여질 때 발생되는 충격으로 인해 상기 웨이퍼(22)의 흔들림이 발생할 수 있다. 상기 충격 또는 흔들림에 의해 웨이퍼(22)가 상기 웨이퍼 캐리어(20)로부터 다소 튀어나오는 등 웨이퍼(22)의 이탈 현상이 발생할 수 있다. 따라서 돌출된 웨이퍼(22)의 이탈여부를 검사함이 없이 웨이퍼(22)를 보트로 옮기게 되면 그 과정에서 웨이퍼(22)가 파손되거나 긁히는 문제점이 발생한다.
그러므로 센서(미도시)를 이용하여 상기 웨이퍼(22)의 돌출을 검사하게 된다. 상기 센서(미도시)에 의해 돌출된 웨이퍼(22)가 감지되면, 상기 웨이퍼 이송부를 수동으로 전환하여 조작함으로써 상기 돌출된 웨이퍼(22)를 상기 웨이퍼 캐리어(20)로 안착시키게 된다. 상기 웨이퍼 이송부를 수동 조작하여 상기 돌출된 웨이퍼(22)를 안착시키는데 많은 시간이 소요되는 문제점이 있다.
한편, 상기 센서(미도시)에 의해 돌출된 웨이퍼(22)가 감지되면 작업자가 도구를 사용하여 직접 상기 돌출된 웨이퍼(22)를 상기 웨이퍼 캐리어(20)로 안착시킬 수 있다. 이 경우 챔버의 도어를 개방한 상태에서 작업하게 되므로 외부 공기의 침투에 의한 공정 불량 증가, 웨이퍼 손상, 파티클 발생 등의 문제점이 발생한다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 돌출된 웨이퍼를 웨이퍼 캐리어 내부로 안착시킬 수 있는 웨이퍼 캐리어 지지 장치를 제공하는데 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 다른 목적은 웨이퍼 캐리어 지지 장치를 갖는 웨이퍼 가공 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하면, 웨이퍼 캐리어 지지 장치는 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어를 지지하며, 상기 웨이퍼 캐리어로부터 수평 방향으로 돌출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 캐리어로 삽입하기 위해 틸팅이 가능한 이송 스테이지를 구비한다. 구동부는 상기 이송 스테이지와 연결되며, 상기 이송 스테이지를 틸팅시키기 위한 구동력을 제공한다.
상기 웨이퍼 캐리어 지지 장치에서 상기 이송 스테이지는 상기 웨이퍼 캐리어의 하부면을 지지하기 위한 수평 플레이트 및 상기 웨이퍼 캐리어의 후면과 접하도록 상기 수평 플레이트로부터 상방으로 연장하며, 상기 웨이퍼 캐리어를 틸팅시키는 동안 상기 웨이퍼 캐리어의 후면을 지지하기 위한 수직 플레이트를 포함하는 것이 바람직하다. 또한 웨이퍼 캐리어 지지 장치는 상기 이송 스테이지와 인접하도록 구비되며, 상기 이송 스테이지에 놓여진 상기 웨이퍼 캐리어로부터 수평 방향으로 돌출된 웨이퍼를 검출하기 위한 센서를 더 포함할 수 있다.
상기 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하면, 웨이퍼 이송 장치는 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어를 지지하며, 상기 웨이퍼 캐리어로부터 수평 방향으로 돌출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 캐리어로 삽입하기 위해 틸팅이 가능한 이송 스테이지를 구비한다. 구동부는 상기 이송 스테이지와 연결되며, 상기 이송 스테이지를 틸팅시키기 위한 구동력을 제공한다. 웨이퍼 캐리어 이송부는 상기 웨이퍼 캐리어를 상기 이송 스테이지로 이송하며, 웨이퍼 이송부는 상기 이송 스테이지에 적재된 웨이퍼를 가공 공정을 수행하는 프로세스 챔버로 이송한다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따르면 상기 이송 스테이지를 틸팅시킴으로서 상기 이송 스테이지에 로딩된 상기 웨이퍼 캐리어로부터 웨이퍼가 돌출되더라도 빠르고 상기 웨이퍼의 손상이나 오염없이 상기 돌출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 캐리어로 안착시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 트랜스퍼 유닛 및 이를 갖는 웨이퍼 로딩 장치에 대해 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 웨이퍼 이송 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 2를 참조하면, 웨이퍼 이송 장치(100)는 웨이퍼 캐리어 지지 장치(200), 웨이퍼 캐리어 이송부(110) 및 웨이퍼 이송부(130)를 포함한다.
도 3은 도 2에 도시된 웨이퍼 캐리어 지지 장치를 설명하기 위한 사시도이고, 도 4는 도 3에 도시된 이송 스테이지의 측면도이다. 도 5는 도 3에 도시된 이송 스테이지의 동작을 설명하기 위한 측면도이다.
도 2 내지 도 5를 참조하면, 웨이퍼 캐리어 지지 장치(200)은 웨이퍼(250)가 적재된 웨이퍼 캐리어(220)를 지지하며, 상기 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출된 웨이퍼(250)를 상기 웨이퍼 캐리어(220)로 삽입하기 위해 틸팅이 가능한 이송 스테이지(210)와, 상기 이송 스테이지(210)와 연결되며, 상기 이송 스테이지(210)를 틸팅 시키기 위한 구동력을 제공하는 구동부(240) 및 상기 이송 스테이지(210)에 놓여진 상기 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출되는 웨이퍼(250)를 검출하기 위한 센서(230)를 포함한다.
상기 이송 스테이지(210)는 웨이퍼(250)들이 적재된 웨이퍼 캐리어(220)를 지지한다. 상기 웨이퍼 캐리어(220)로는 200mm의 웨이퍼(250)들을 적재하기 위한 웨이퍼 캐리어가 사용되거나, 정면 개구 통합형 포드(Front Opening Unified Pod; 이하 "FOUP"라 한다)가 사용될 수 있다. 상기 FOUP은 300mm 반도체 제조장치에 일반적으로 사용되는 것으로, 300㎜ 직경의 기판은 기판의 무게로 인하여 복수 개의 슬롯(slot)이 구비된 캐리어(carrier)와 상기 캐리어를 적재한 상태로 이송하는 캐리어 박스 등과 같은 이송 도구를 통합한 것이다.
상기 이송 스테이지(210)는 직사각형 형태의 수평 플레이트(212)와 상기 수평 플레이트(212)의 일단부에서 상기 수평 플레이트(212)와 수직 상방으로 연장되는 수직 플레이트(214)로 구성된다. 즉 상기 이송 스테이지(210)는 'L'자 형태를 갖는다. 상기 이송 스테이지(210)에서 상기 수평 플레이트(212)는 상기 웨이퍼 캐리어(220)의 하부면을 지지한다. 상기 이송 스테이지(210)에서 상기 수직 플레이트(214)는 상기 웨이퍼 캐리어(220)의 개방된 전면의 반대되는 후면을 지지한다. 즉 상기 이송 스테이지(210)는 상기 웨이퍼 캐리어(220)의 하부면과 후면을 지지한다.
또한 상기 이송 스테이지(210)는 도 5에 도시된 바와 같이 지지되는 웨이퍼 캐리어(220)의 개방된 전면이 상방을 향하도록 틸팅 가능하다. 따라서 상기 웨이퍼 캐리어 이송부(110)의 진동이나 상기 웨이퍼 캐리어(220)가 상기 이송 스테이지 (10)에 놓여질 때 발생하는 충격에 의해 상기 웨이퍼 캐리어(220)에 적재된 웨이퍼(250)가 상기 웨이퍼 캐리어(220)의 전방으로 돌출되더라도 상기이송 스테이지(210)를 틸팅하여 상기 웨이퍼 캐리어(220)의 전면이 상방을 향하도록 한다. 그러므로 상기 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출된 웨이퍼(250)가 미끄러지면서 상기 웨이퍼 캐리어(220) 내부에 정상적으로 안착될 수 있다.
상기 이송 스테이지(210)는 다수개가 수평 방향 또는 수직 방향으로 배열되어 구비될 수도 있다.
상기 구동부(240)는 상기 이송 스테이지(210)를 틸팅시키기 위한 구동력을 제공한다. 상기 구동부(240)는 다양한 형태로 구비되어 상기 이송 스테이지(210)를 틸팅시키기 위한 구동력을 제공한다. 일예로 상기 구동부(240)는 피스톤 형태로 구비되어 상기 이송 스테이지(210)의 전면을 들어올려 상기 이송 스테이지(210)를 틸팅시킬 수 있다.
상기 센서(230)는 상기 이송 스테이지(210)의 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출된 웨이퍼(250)를 감지한다. 상기 센서(230)는 소정의 광신호를 송출하는 발광부(232) 및 발광부(232)에서 송출된 광신호를 수신하는 수광부(234)로 구성된다. 상기 센서(230)는 도 3에 도시된 바와 같이 센서 설치부재(260)에 구비되는 것이 바람직하다. 그러나 상기 센서(230)는 상기 이송 스테이지(210)에 구비될 수도 있다.
상기에서 상기 수광부(234)가 상기 발광부(232)에서 송출된 광신호를 수신한 경우에 상기 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출된 웨이퍼(250)가 있다고 판단하도록 상기 발광부(232)와 수광부(234) 모두가 상기 웨이퍼 캐리어(220)의 상부 또는 하 부에 마련된 센서 설치부재(260)에 설치될 수 있다. 또한 상기 수광부(234)가 상기 발광부(232)에서 송출된 광신호를 수신하지 못한 경우에 상기 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출된 웨이퍼(250)가 있다고 판단하도록 상기 발광부(232)와 수광부(234)가 일직선적으로 대향되게 설치될 수도 있다.
상기 웨이퍼 캐리어 이송부(110)는 웨이퍼(250)가 적재된 웨이퍼 캐리어(220)를 이송하기 위한 것으로, 웨이퍼 캐리어(220)들이 놓여지는 캐리어 스테이지(120)의 웨이퍼 캐리어(220)를 상기 이송 스테이지(210)로 이송한다.
상기 웨이퍼 이송부(130)는 상기 이송 스테이지(210)에 적재된 웨이퍼(250)를 가공 공정을 수행하는 프로세스 챔버(160)로 이송한다. 상기 웨이퍼 이송부(130)는 한번에 다수의 웨이퍼(250)를 프로세스 챔버(160)로 이송한다.
상기 프로세스 챔버(160)는 보트부(140)와 튜브부(150)로 구성된다. 상기 보트부(140)는 보트(142)와 보트 승강기(144)를 포함한다. 상기 보트(142)는 다수의 슬릿이 형성되며, 상기 슬릿에 상기 웨이퍼 트래스퍼(130)에 의해 이송된 웨이퍼(250)가 적재된다. 상기 보트(142)는 석영 재질로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 보트 승강기(144)는 상기 보트(142)를 상기 튜브부(150)로 상승시키거나 상기 튜브부(150)로부터 하강시킨다.
상기 튜브부(150)는 튜브(152), 스캐빈저(154) 및 자동 셔터(156)로 구성된다. 상기 튜브(152)는 석영 재질로 형성되며, 확산에 의한 증착 공정이 진행되기 위한 공간을 제공한다. 상기 스캐빈저(154)는 상기 튜브(152)의 내부에서 발생된 열을 외부로 방출한다. 자동 셔터(156)는 상기 튜브(152)를 자동으로 개폐한다.
이하에서는 상기 웨이퍼 이송 장치(100)를 이용한 웨이퍼 이송 방법을 설명한다.
우선 캐리어 이송부(110)를 캐리어 스테이지(120)로 상승시킨다. 상기 캐리어 이송부(110)가 상기 캐리어 스테이지(120)에 로딩된 웨이퍼 캐리어(220)를 상기 웨이퍼 캐리어 지지 장치(200)의 이송 스테이지(210)로 로딩한다.
상기 웨이퍼 캐리어(220)가 상기 이송 스테이지(210)에 로딩되면 센서(230)를 이용하여 상기 웨이퍼(250)가 상기 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출되었는지를 감지한다. 상기 웨이퍼(250)가 상기 웨이퍼 캐리어(220)로부터 돌출된 것으로 감지되는 경우, 상기 구동부(240)의 구동에 의해 상기 이송 스테이지(210)가 틸팅된다. 따라서 돌출된 웨이퍼(250)가 상기 웨이퍼 캐리어(220)로 삽입되어 정상적으로 안착된다.
이후 상기 웨이퍼 이송부(130)가 상기 웨이퍼 캐리어(220)에 적재된 웨이퍼(250)를 상기 보트(142)로 이송한다. 상기 보트(142)에 상기 웨이퍼(250) 이송이 완료되면 상기 보트 승강기(144)에 의해 보트(142)가 수직으로 상승하여 튜브(152)의 내측에 삽입된다. 상기 보트(142)가 튜브(152)의 내측으로 장착되면 자동셔터(156)가 닫히게 된다. 이 상태에서 확산공정이 실시되고, 확산공정이 완료되면 스캐빈저(154)를 이용하여 상기 튜브(152)의 내측에서 발생된 열을 외부로 방출시킨 후 자동셔터(156)를 개방한다.
상기 자동셔터(156)가 개방되면 상기 보트 승강기(144)에 의해 상기 보트(142)가 수직방향으로 하강하게 된다. 상기 보트(142)의 하강이 완료되면 상기 웨 이퍼 이송부(130)를 이용하여 확산공정이 완료된 웨이퍼(250)를 상기 이송 스테이지(210)의 웨이퍼 캐리어(220)로 언로딩하게 된다. 상기 웨이퍼(250)의 언로딩이 완료되면 상기 캐리어 이송부(110)가 상기 확산 공정이 완료된 웨이퍼(250)가 적재된 웨이퍼 캐리어(220)를 캐리어 스테이지(110)로 이송한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 웨이퍼 이송 장치는 웨이퍼 캐리어가 놓여지는 이송 스테이지를 틸팅시켜 상기 웨이퍼 캐리어로부터 돌출된 웨이퍼가 상기 웨이퍼 캐리어에 정상적으로 안착되도록 한다. 따라서 상기 돌출된 웨이퍼를 처리하는데 소요되는 시간을 줄일 수 있어 웨이퍼 이송 공정의 생산성을 향상시킬 수 있다. 또한 상기 돌출된 웨이퍼를 상기 이송 스테이지를 틸팅시켜 처리함으로써 상기 웨이퍼와의 접촉을 최소할 수 있다. 그러므로 상기 웨이퍼의 오염 원인을 줄일 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (5)

  1. 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어를 지지하며, 상기 웨이퍼 캐리어로부터 수평 방향으로 돌출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 캐리어로 삽입하기 위해 틸팅이 가능한 이송 스테이지; 및
    상기 이송 스테이지와 연결되며, 상기 이송 스테이지를 틸팅시키기 위한 구동력을 제공하는 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어 지지 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 이송 스테이지와 인접하도록 구비되며, 상기 이송 스테이지에 놓여진 상기 웨이퍼 캐리어로부터 수평 방향으로 돌출된 웨이퍼를 검출하기 위한 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어 지지 장치
  3. 제1항에 있어서, 상기 이송 스테이지는 상기 웨이퍼 캐리어의 하부면을 지지하기 위한 수평 플레이트; 및
    상기 웨이퍼 캐리어의 후면과 접하도록 상기 수평 플레이트로부터 상방으로 연장하며, 상기 웨이퍼 캐리어를 틸팅시키는 동안 상기 웨이퍼 캐리어의 후면을 지지하기 위한 수직 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어 지지 장치.
  4. 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 캐리어를 지지하며, 상기 웨이퍼 캐리어로부터 수평 방향으로 돌출된 웨이퍼를 상기 웨이퍼 캐리어로 삽입하기 위해 틸팅이 가능한 이송 스테이지;
    상기 이송 스테이지와 연결되며, 상기 이송 스테이지를 틸팅시키기 위한 구동력을 제공하는 구동부;
    상기 웨이퍼 캐리어를 상기 이송 스테이지로 이송하기 위한 웨이퍼 캐리어 이송부; 및
    상기 이송 스테이지에 적재된 웨이퍼를 가공 공정을 수행하는 프로세스 챔버로 이송하기 위한 웨이퍼 이송부를 갖는 웨이퍼 이송 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 이송 스테이지는 상기 웨이퍼 캐리어의 하부면을 지지하기 위한 수평 플레이트; 및
    상기 웨이퍼 캐리어의 후면과 접하도록 상기 수평 플레이트로부터 상방으로 연장하며, 상기 웨이퍼 캐리어를 틸팅시키는 동안 상기 웨이퍼 캐리어의 후면을 지지하기 위한 수직 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.
KR1020040116640A 2004-12-30 2004-12-30 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송장치 KR20060077981A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040116640A KR20060077981A (ko) 2004-12-30 2004-12-30 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040116640A KR20060077981A (ko) 2004-12-30 2004-12-30 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060077981A true KR20060077981A (ko) 2006-07-05

Family

ID=37169956

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040116640A KR20060077981A (ko) 2004-12-30 2004-12-30 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060077981A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112071793A (zh) * 2020-09-15 2020-12-11 广东先导先进材料股份有限公司 一种晶圆放片装置及方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112071793A (zh) * 2020-09-15 2020-12-11 广东先导先进材料股份有限公司 一种晶圆放片装置及方法
CN112071793B (zh) * 2020-09-15 2024-05-24 广东先导微电子科技有限公司 一种晶圆放片装置及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100591025B1 (ko) 웨이퍼 이송 방법 및 그 제조 방법과 고 진공 웨이퍼 처리장치
US9911635B2 (en) Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium
KR101554768B1 (ko) 열처리 장치 및 이것에 기판을 반송하는 기판 반송 방법
CN108573902B (zh) 纵式热处理装置和纵式热处理装置的运转方法
KR20120092057A (ko) 열처리 장치 및 열처리 방법
US11501987B2 (en) Loadlock module and semiconductor manufacturing apparatus including the same
CN110729225B (zh) 晶圆搬运设备与其方法
JPH07297257A (ja) 処理装置
JP3625617B2 (ja) 基板処理装置、カセット内の基板検出装置
JP2008060513A (ja) 処理装置及び処理方法
US20090053021A1 (en) Semiconductor manufacturing apparatus
JP2009267153A (ja) 基板処理装置および半導体装置の製造方法
KR101004031B1 (ko) 기판 처리 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
US20010052325A1 (en) Substrate processing apparatus
KR20060077981A (ko) 웨이퍼 캐리어 지지 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 이송장치
JPH07283288A (ja) 処理装置
JP4229497B2 (ja) 基板処理装置および基板の処理方法
CN111712904B (zh) 处理装置、排气系统、半导体器件的制造方法
KR102139617B1 (ko) 기판 이송 장치 및 방법
JP4415006B2 (ja) カセットの運用管理方法及び基板の処理方法
KR20060094216A (ko) 웨이퍼 이송 장치
JP2002270671A (ja) 基板処理装置
KR20040021427A (ko) 웨이퍼 카세트의 로딩상태 확인수단을 갖는 캐리어
JP2001044271A (ja) キャリア及び基板の収納状態検出方法
KR200185286Y1 (ko) 반도체 장비의 웨이퍼 이송용 포크

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination