KR20060075559A - Sharing type chemical supplying system - Google Patents

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Abstract

배쓰에 케미컬을 공급하는 메져링 탱크를 공유할 수 있는 메져링 탱크 공유 시스템이 개시되어 있다. 본 발명에서는 두개의 메져링 탱크를 하나의 배쓰가 각각 공유할 수 있도록 되어 있다. 따라서, 두 배쓰의 메져링 탱크를 공유시켜 예열된 케미컬을 배쓰에 공급하여 장비에 문제 발생시 배쓰에서 예열 및 가열을 하는 부담을 줄여 장비의 수율을 향상시킬 수 있다.A measuring tank sharing system is disclosed that can share a measuring tank that supplies chemicals to a bath. In the present invention, two bathing tanks can be shared by one bath. Thus, by sharing two bathing tanks, the preheated chemical can be supplied to the bath, thereby reducing the burden of preheating and heating in the bath in the event of a problem in the equipment, thereby improving the yield of the equipment.

메져링 탱크, 배쓰,공압 밸브Measuring tank, bath, pneumatic valve

Description

공유형 케미컬 공급 시스템{Sharing Type Chemical Supplying System}Shared Chemical Supplying System {Sharing Type Chemical Supplying System}

도 1은 종래의 케미컬 공급 시스템를 보여주는 개략도.1 is a schematic view showing a conventional chemical supply system.

도 2는 본 발명에 따른 공유형 케미컬 공급 시스템을 보여주는 개략도.2 is a schematic view showing a shared chemical supply system according to the present invention.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)

112 : 제1메저링 탱크 114 : 제2메저링 탱크112: first measuring tank 114: second measuring tank

122 : 제1배쓰 124 : 제2배쓰122: first bath 124: second bath

132 : 제1연결 파이프 134 : 제2연결 파이프132: first connection pipe 134: second connection pipe

136 : 제3연결 파이프 138 : 제4연결 파이프136: third connection pipe 138: fourth connection pipe

142 : 제1공압 밸브 144 : 제2공압 밸브142: first pneumatic valve 144: second pneumatic valve

146 : 제3공압 밸브 148 : 제4공압 밸브146: third pneumatic valve 148: fourth pneumatic valve

본 발명은 반도체 공정의 케미컬 공급 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 배쓰에 케미컬을 공급하는 케미컬 탱크를 공유할 수 있는 케미컬 공급 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical supply system of a semiconductor process, and more particularly to a chemical supply system capable of sharing a chemical tank for supplying a chemical to a bath.

반도체 제조의 습식 세정 공정(wet cleaning process)과 같은 습식 공정에서 는 고온의 케미컬을 사용하는 공정이 있다. 이 공정에서는 케미컬을 가령, 메져링 탱크(measuring tank)와 같은 예비 탱크에서 예열한 후, 공정이 이루어지는 배쓰(bath)에서 상기 케미컬을 공급받아 다시 가열하는 방법을 이용하고 있다.In wet processes, such as the wet cleaning process of semiconductor manufacturing, there is a process using high temperature chemicals. In this process, a method is used in which the chemical is preheated in a preliminary tank such as a measuring tank, and then supplied with the chemical in a bath where the process is performed and heated again.

즉, 메져링 탱크의 역할은 배쓰에서 케미컬을 받아 가열하여 소정의 온도로 바로 만드는데 있어 너무 많은 시간이 걸려 메져링 탱크에서 예열하여 공급함으로써 케미컬 체인지 타임(chemical change time)이 단축되고 히터의 과부하를 예방한다.In other words, the role of the measuring tank takes too much time to take the chemical from the bath and heat it to a predetermined temperature, and preheat and supply it in the measuring tank to shorten the chemical change time and reduce the overload of the heater. Prevent.

도 1은 종래의 메져링 탱크 시스템을 보여주는 개략도이다.1 is a schematic view showing a conventional measuring tank system.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 메져링 탱크 시스템에서는 배쓰(22,24)가 각각의 메져링 탱크(12,14)로부터 케미컬을 공급받도록 되어 있다.As shown in FIG. 1, in conventional measuring tank systems, the baths 22 and 24 are adapted to receive chemicals from the respective measuring tanks 12 and 14.

즉, 배쓰(22,24)는 대응하는 각각의 메져링 탱크(12,14)에 각각의 연결 파이프(32,34)에 의하여 연결되어 있으며, 그 내부에는 공압 밸브(42,44)가 내장되어 있다.That is, the baths 22 and 24 are connected to respective measuring tanks 12 and 14 by respective connecting pipes 32 and 34, and therein, pneumatic valves 42 and 44 are built in. have.

그러나, 이와 같은 시스템에 있어서는 배쓰 장비 중의 하나가 문제 발생시 조치 후 케미컬 체인지 전에 DIW(deionized water)로 배쓰 세정(cleaning)을 실시해야하며 케미컬 체인지를 연속 두번 진행하여 남아있는 DIW를 없애야 한다.However, in such a system, one of the bath equipments must be cleaned with DIW (deionized water) before the chemical change after the problem is corrected, and the chemical change must be performed twice in succession to remove the remaining DIW.

이때, 연속 케미컬 체인지 2회를 시행하는 과정에서 첫번째 케미컬 체인지 시에는 탱크의 케이컬이 이미 예열되어 있으므로 예를 들면 소정 온도(예를 들어 100도)의 케미컬을 받아 짧은 시간에 끝나지만 두번째에는 시간 관계상 미처 메저링 탱크에서 충분히 가열이 이루어지지 않아 낮은 온도(예를 들어 30도)의 케미컬 을 배쓰에 공급받아 배쓰에서 원하는 온도(예를 들어 155도)까지 가열하는데 있어 많은 시간이 필요하고 가열에 무리를 준다.At this time, in the process of performing two consecutive chemical changes, the tank's cable is already preheated during the first chemical change, so for example, the chemical is received at a predetermined temperature (for example, 100 degrees) and ends in a short time. Due to insufficient heating in the measuring tank, it takes a lot of time to supply a low temperature (eg 30 degrees) chemical to the bath and heat it to the desired temperature (eg 155 degrees) in the bath. Give a bunch.

만약, 2회째에서 케미컬이 충분히 예열된 상태로 공급되기를 바란다면 탱크에서 케이컬이 지체되는 시간이 길어져 여전히 공정이 지연된다는 문제는 남게된다.If it is desired that the chemical is supplied with sufficient preheating in the second time, the problem of delaying the process due to the long delay of the caulk in the tank remains.

상기한 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 각 배쓰에 케미컬을 공급할 케미컬 공급 탱크를 공유시켜 예열된 케미컬을 배쓰에 공급하여 장비에 문제 발생시 배쓰에서 예열 및 가열을 하는 부담을 줄여 장비의 수율을 향상시키는 메저링 탱크 공유 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, the present invention is to share the chemical supply tank to supply the chemical to each bath to supply the preheated chemical to the bath to reduce the burden of preheating and heating in the bath when the problem occurs in the equipment to improve the yield of the equipment It is an object of the present invention to provide a measuring tank sharing system.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 반도체 장치 제조를 위해 공정 공간에 케미컬을 공급하는 케미컬 공급 시스템에 있어서, 내부의 케미컬을 소정 온도까지 예열할 수 있도록 이루어지는 복수의 탱크; 상기 복수의 탱크들 모두와 배관으로 연결되어 목표 온도까지 더 가열할 수 있도록 이루어진 복수의 배쓰(bath)가 포함되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a chemical supply system for supplying a chemical to a process space for manufacturing a semiconductor device, comprising: a plurality of tanks configured to preheat the internal chemical to a predetermined temperature; It is characterized in that it comprises a plurality of bath (bath) made to be connected to all of the plurality of tanks and the pipe to further heat to a target temperature.

이때 본 발명 시스템은, 가령 두 개의 메져링 탱크와 두 개의 배쓰를 가진다고 가정할 때, 제1메져링 탱크와 제1배쓰를 연결하여 제1메져링 탱크의 케미컬이 제1배쓰에 공급되도록 하는 제1연결 파이프, 제2메져링 탱크와 제2배쓰를 연결하여 제2메져링 탱크의 케이컬이 제2배쓰에 공급되도록 하는 제2연결 파이프, 제1연결 파이프와 제2연결 파이프를 연결하여 제2메져링 탱크의 케미컬이 제1배쓰로 공급되도록 하는 제3연결 파이프, 그리고 제1연결 파이프와 제2연결 파이프를 연결하여 제1메져링 탱크의 케미컬이 제2배쓰로 공급되도록 하는 제4연결 파이프를 통상 포함하게 된다. At this time, the system of the present invention, for example, having two measuring tanks and two baths, connecting the first measuring tank and the first bath so that the chemical of the first measuring tank is supplied to the first bath The first connecting pipe, the second connecting tank and the second bath connecting the second connecting pipe to supply the cabling of the second measuring tank, the second connecting pipe, the first connecting pipe and the second connecting pipe A third connection pipe for supplying the chemical of the measuring tank to the first bath, and a fourth connection for connecting the first connection pipe and the second connection pipe to supply the chemical of the first measuring tank to the second bath It will usually include a pipe.

이때, 본 발명의 시스템은, 제1연결 파이프 내에 장착되어 제1메져링 탱크의 케미컬이 제1배쓰에 공급되도록 하는 제1 조절 밸브, 제2연결 파이프 내에 장착되어 제2메져링 탱크의 케이컬이 제2배쓰에 공급되도록 하는 제2 조절 밸브, 제3연결 파이프 내에 장착되어 제2메져링 탱크의 케미컬이 제1배쓰로 공급되도록 하는 제3조절 밸브, 그리고 제4연결 파이프 내에 장착되어 제1메져링 탱크의 케미컬이 상기 제2배쓰로 공급되도록 하는 제4 조절 밸브를 통상 포함한다.At this time, the system of the present invention, the first control valve is mounted in the first connecting pipe so that the chemical of the first measuring tank is supplied to the first bath, the cable of the second measuring tank mounted in the second connecting pipe A second control valve for supplying the second bath, a third control valve mounted in the third connection pipe to supply the chemical of the second measuring tank to the first bath, and a first control valve mounted in the fourth connection pipe. A fourth control valve is usually included to allow the chemical of the measuring tank to be supplied to the second bath.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예로 탱크 공유형 케미컬 공급 시스템을 보여주는 개략도이다.2 is a schematic view showing a tank sharing chemical supply system as an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하여, 본 실시예의 시스템은 제1 및 제2메져링 탱크(112,114), 그리고 제1 및 제2배쓰(122,124)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the system of this embodiment includes first and second measuring tanks 112 and 114, and first and second baths 122 and 124.

상기 제1메져링 탱크(112)에서는 내부의 케미컬이 소정의 제1온도까지 예열되며, 제2메져링 탱크(114)에서는 내부의 케미컬이 상기 제1온도까지 각각 예열된다.In the first measuring tank 112, the internal chemical is preheated to a predetermined first temperature, and in the second measuring tank 114, the internal chemical is preheated to the first temperature, respectively.

상기 제1배쓰(122)에서는 상기 제1메져링 탱크(112)와 상기 제2메져링 탱크(114)에서 케미컬을 공급받아 상기 제1온도보다 높은 소정의 제2온도까지 케미컬을 가열한다. 그리고, 상기 제2배쓰(124)에서는 상기 제1메져링 탱크(112)와 상기 제2메져링 탱크(114)로부터 케미컬을 공급받아 상기 제2온도까지 케미컬을 가열한다.The first bath 122 receives the chemicals from the first measuring tank 112 and the second measuring tank 114 to heat the chemical to a predetermined second temperature higher than the first temperature. In the second bath 124, the chemical is supplied from the first measuring tank 112 and the second measuring tank 114 to heat the chemical to the second temperature.

또한, 상기 시스템은 제1 내지 제4연결 파이프(132,134,136,138)를 구비한다. The system also has first to fourth connecting pipes 132, 134, 136 and 138.

상기 제1연결 파이프(132)는 상기 제1메져링 탱크(112)와 상기 제1배쓰(122)를 연결하여 상기 제1메져링 탱크(112)의 케미컬이 상기 제1배쓰(122)에 공급되도록 한다. 상기 제2연결 파이프(134)는 상기 제2메져링 탱크(114)와 상기 제2배쓰(124)를 연결하여 상기 제2메져링 탱크(114)의 케미컬이 상기 제1배쓰(124)에 공급되도록 한다.The first connecting pipe 132 connects the first measuring tank 112 and the first bath 122 to supply the chemical of the first measuring tank 112 to the first bath 122. Be sure to The second connecting pipe 134 connects the second measuring tank 114 and the second bath 124 to supply the chemicals of the second measuring tank 114 to the first bath 124. Be sure to

또한, 상기 제3연결 파이프(136)는 상기 제1연결 파이프(132)와 상기 제2연결 파이프(134)를 연결하여 상기 제2메져링 탱크(114)의 케미컬이 상기 제1배쓰(122)에 공급되도록 한다. 상기 제4연결 파이프(138)는 상기 제1연결 파이프(132)와 상기 제2연결 파이프(134)를 연결하여 상기 제1메져링 탱크(112)의 케미컬이 상기 제1배쓰(124)에 공급되도록 한다. In addition, the third connecting pipe 136 connects the first connecting pipe 132 and the second connecting pipe 134 so that the chemical of the second measuring tank 114 is the first bath 122. To be supplied. The fourth connecting pipe 138 connects the first connecting pipe 132 and the second connecting pipe 134 to supply the chemical of the first measuring tank 112 to the first bath 124. Be sure to

또한, 상기 메져링 탱크 공유 시스템은 각 연결 파이프에 하나씩 제1 내지 제4 조절 밸브(142,144,146,148)를 구비한다. 조절 밸브는 공압 밸브로 이루어지는 것이 바람직하다. The measuring tank sharing system also has first to fourth regulating valves 142, 144, 146 and 148, one for each connecting pipe. It is preferable that the control valve consists of a pneumatic valve.

상기 제1공압 밸브(142)는 상기 제1연결 파이프(132) 내에 장착되어 상기 제1메져링 탱크(112)의 케미컬이 상기 제1배쓰(122)에 공급되도록 한다. 상기 제2공압 밸브(144)는 상기 제2연결 파이프(134) 내에 장착되어 상기 제2메져링 탱크 (114)의 케미컬이 상기 제2배쓰(124)에 공급되도록 한다.The first pneumatic valve 142 is mounted in the first connecting pipe 132 so that the chemical of the first measuring tank 112 is supplied to the first bath 122. The second pneumatic valve 144 is mounted in the second connecting pipe 134 so that the chemical of the second measuring tank 114 is supplied to the second bath 124.

또한, 상기 제3공압 밸브(146)는 상기 제3연결 파이프(136) 내에 장착되어 상기 제2메져링 탱크(114)의 케미컬이 상기 제1배쓰(122)에 공급되도록 한다. 상기 제4공압 밸브(148)는 상기 제4연결 파이프(138) 내에 장착되어 상기 제1메져링 탱크(112)의 케미컬이 상기 제2배쓰(124)에 공급되도록 한다.In addition, the third pneumatic valve 146 is mounted in the third connecting pipe 136 to allow the chemical of the second measuring tank 114 to be supplied to the first bath 122. The fourth pneumatic valve 148 is mounted in the fourth connecting pipe 138 so that the chemical of the first measuring tank 112 is supplied to the second bath 124.

따라서, 한 배쓰에 문제가 있을 때 케미컬 공급 탱크를 공유하므로 2번의 연속적인 케미컬 체인지가 필요한 경우에도 두 개의 케미컬 공급 탱크에서 이미 예열된 상태의 케미컬을 한번씩 공급받을으로서 한 탱크에서 케미컬을 두 번 연속적으로 예열시킴에 따른 공정 시간의 지체 혹은 두 번째 공급 받는 캐미컬의 불충분한 예열 현상을 방지할 수 있다.
Therefore, when there is a problem in one bath, the chemical supply tank is shared, so even if two consecutive chemical changes are required, the chemicals in one tank are supplied twice in a row by receiving the pre-heated chemical once in two chemical supply tanks. This prevents delay in processing time due to preheating or insufficient preheating of the second supplied chemical.

본 발명에 따르면, 배쓰에 케이컬 공급 탱크를 공유시켜 시간 지체 없이 예열된 케미컬을 배쓰에 공급하여 장비에 문제 발생시 배쓰에서 예열 및 가열을 하는 부담을 줄여 장비의 수율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, by sharing the mechanical supply tank to the bath to supply the preheated chemical to the bath without time delay, it is possible to reduce the burden of preheating and heating in the bath in the event of a problem in the equipment to improve the yield of the equipment.

Claims (4)

반도체 장치 제조를 위해 공정 공간에 케미컬을 공급하는 케미컬 공급 시스템에 있어서,In the chemical supply system for supplying the chemical to the process space for manufacturing a semiconductor device, 내부의 케미컬을 소정 온도까지 예열할 수 있도록 이루어지는 복수의 탱크;A plurality of tanks configured to preheat the internal chemical to a predetermined temperature; 상기 복수의 탱크들 모두와 배관으로 연결되어 목표 온도까지 더 가열할 수 있도록 이루어진 복수의 배쓰(bath)가 포함되는 것을 특징으로 하는 공유형 케미컬 공급 시스템.And a plurality of baths connected to all of the plurality of tanks by piping to further heat to a target temperature. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 배쓰로는 제1 배쓰와 제2 배쓰가, 상기 탱크로는 제1 탱크와 제2 탱크가 구비됨을 특징으로 하는 공유형 케미컬 공급 시스템.The shared bath chemical supply system, characterized in that the bath is provided with a first bath and a second bath, the tank is provided with a first tank and a second tank. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 제1 탱크와 상기 제1 배쓰를 연결하는 제1연결 파이프, A first connecting pipe connecting the first tank and the first bath, 상기 제2 탱크와 상기 제2 배쓰를 연결하는 제2연결 파이프, A second connecting pipe connecting the second tank and the second bath, 상기 제1연결 파이프와 상기 제2연결 파이프를 연결하여 상기 제2 탱크의 케미컬이 상기 제1 배쓰로 공급되도록 하는 제3연결 파이프, A third connecting pipe connecting the first connecting pipe and the second connecting pipe to supply the chemical of the second tank to the first bath; 상기 제1연결 파이프와 상기 제2연결 파이프를 연결하여 상기 제1 탱크의 케미컬이 상기 제2 배쓰로 공급되도록 하는 제4연결 파이프가 구비됨을 특징으로 하 는 공유형 케미컬 공급 시스템.And a fourth connecting pipe connecting the first connecting pipe and the second connecting pipe so that the chemical of the first tank is supplied to the second bath. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 제1 내지 제4 연결 파이프 경로상에 제1 내지 제4 조절 밸브가 하나씩 대응되도록 설치되어 캐미컬의 공급을 조절하는 것을 특징으로 하는 공유형 케미컬 공급 시스템.Shared chemical supply system, characterized in that the first to fourth control valves are installed on the first to fourth connection pipe path to correspond one by one to adjust the supply of the chemical.
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