KR20060067280A - Apparatus and method for standing of mask - Google Patents

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KR20060067280A
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김명식
공명환
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

본 발명은 마스크 정렬 장치 및 정렬방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mask alignment device and an alignment method.

본 발명의 마스크 정렬 장치는 마스크 스테이지로 이동하기 전 대기상태에서 위치확인을 위한 검출창을 가지는 마스크와; 상기 검출창에 광을 조사하고 상기 검출창으로부터 수광되는 신호를 감지하는 센서와; 상기 센서의 출력에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하기 위한 경보 발생부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
The mask alignment device of the present invention comprises: a mask having a detection window for positioning in a standby state before moving to a mask stage; A sensor for irradiating light to the detection window and detecting a signal received from the detection window; And an alarm generating unit for alerting the position of the mask in the standby state according to the output of the sensor.

Description

마스크 정렬 장치 및 방법{Apparatus And Method For Standing of Mask} Apparatus And Method For Standing of Mask             

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 정렬을 나타낸 순서도이다.1 is a flowchart illustrating mask alignment according to a first embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2e는 도 1의 각 단계를 상세히 나타낸 도면이다.2A to 2E illustrate each step of FIG. 1 in detail.

도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 나타낸 도면이다.3 is a diagram illustrating a mask alignment device according to a first embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 나타낸 도면이다.4 is a diagram illustrating a mask alignment device according to a second embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 나타낸 도면이다.5 is a diagram illustrating a mask alignment device according to a third embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 공정을 거쳐 제조되는 액정패널을 상세히 나타낸 도면이다.
6 is a view showing in detail a liquid crystal panel manufactured through a mask process according to an embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

1 : 기판 2 : 카세트1 substrate 2 cassette

4 : 케이스 5 : 마스크 스테이지4: case 5: mask stage

6 : 마스크 8 : 로봇암6: mask 8: robot arm

12 : 패턴 14 : 얼라인 마크12: Pattern 14: Align Mark

16, 116, 216 : 검출창 20, 120, 220 : 서스플레이트16, 116, 216: Detection window 20, 120, 220: Suspension

22, 122, 222 : 지그 24, 124, 224 : 기준핀 22, 122, 222: Jig 24, 124, 224: Reference pin                 

26, 126, 226 : 푸셔 28, 128, 228 : 센서
26, 126, 226: pusher 28, 128, 228: sensor

본 발명은 마스크 정렬장치 및 방법에 관한 것으로 마스크 정렬시 불량을 방지할 수 있는 마스크 정렬장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mask alignment apparatus and method and to a mask alignment apparatus and method capable of preventing defects in mask alignment.

일반적으로, 액정표시장치는 영상신호에 대응하도록 광빔의 투과량을 조절함에 의해 화상을 표시하는 대표적인 평판 표시장치이다. 특히, 액정표시장치는 경량화, 박형화, 저소비 전력구동 등의 특징으로 인해 그 응용범위가 점차 넓어지고 있는 추세에 있다. 이러한 추세에 따라 액정표시장치는 사무자동화(Office Automation) 장치 및 노트북 컴퓨터의 표시장치로 적용되고 있다. 또한, 액정표시장치는 사용자의 요구에 부응하여 대화면화, 고정세화, 저소비전력화의 방향으로 진행되고 있어서 많은 응용분야에서 음극선관을 빠른 속도로 대체하고 있다. 특히, 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하, "TFT"라 한다)를 이용하여 액정셀을 구동하는 액티브 매트릭스 타입의 액정표시장치는 화질이 우수하고 소비전력이 낮은 장점이 있으며, 최근의 양산기술 확보와 연구개발의 성과로 대형화와 고해상도화로 급속히 발전하고 있다. In general, the liquid crystal display is a representative flat panel display that displays an image by adjusting the amount of transmission of the light beam to correspond to the image signal. In particular, liquid crystal display devices have tended to be gradually widened due to their light weight, thinness, and low power consumption. In accordance with this trend, liquid crystal displays have been applied to display devices of office automation devices and notebook computers. In addition, in order to meet the needs of users, liquid crystal display devices are progressing in the direction of large screen, high definition, and low power consumption, so that the cathode ray tube is rapidly replaced in many applications. In particular, an active matrix type liquid crystal display device that drives a liquid crystal cell using a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") has the advantages of excellent image quality and low power consumption, and secures the latest mass production technology. As a result of research and development, it is rapidly developing into larger size and higher resolution.

이러한 액티브 매트릭스 타입의 액정표시장치를 제조하기 위한 제조공정은 기판 세정 공정, 기판 패터닝 공정, 배향막형성/러빙 공정, 기판합착/액정주입 공 정, 검사 공정, 리페어(Repair) 공정, 실장 공정 등으로 나뉘어진다.The manufacturing process for manufacturing the active matrix type liquid crystal display device includes a substrate cleaning process, a substrate patterning process, an alignment film forming / rubbing process, a substrate bonding / liquid crystal injection process, an inspection process, a repair process, a mounting process, and the like. Divided.

기판세정 공정에서는 액정표시장치의 기판 표면에 오염된 이물질을 세정액으로 제거하게 된다.In the substrate cleaning process, foreign substances contaminated on the surface of the substrate of the liquid crystal display device are removed with a cleaning liquid.

기판 패터닝 공정에서는 상판(컬러필터 기판)의 패터닝과 하판(TFT-어레이 기판)의 패터닝으로 나뉘어진다. 상판에는 칼라필터, 공통전극, 블랙 매트릭스 등이 형성된다. 하판에는 데이터라인과 게이트라인 등의 신호배선이 형성되고, 데이터라인과 게이트라인의 교차부에 TFT가 형성되며, TFT의 소오스전극에 접속되는 데이터라인과 게이트라인 사이의 화소영역에 화소전극이 형성된다. In the substrate patterning process, it is divided into the patterning of the upper plate (color filter substrate) and the patterning of the lower plate (TFT-array substrate). A color filter, a common electrode, a black matrix, and the like are formed on the upper plate. Signal lines such as data lines and gate lines are formed on the lower plate, and TFTs are formed at intersections of the data lines and gate lines, and pixel electrodes are formed in the pixel region between the data lines and gate lines connected to the source electrodes of the TFTs. do.

배향막형성/러빙 공정에서는 상부기판과 하부기판 각각에 배향막을 영역인쇄하여 소성하고 그 배향막을 러빙포 등으로 러빙하게 된다. In the alignment film forming / rubbing process, the alignment film is printed on the upper substrate and the lower substrate by area printing and then rubbed with the rubbing cloth.

기판합착/액정주입 공정에서는 실재(Sealant)를 이용하여 상부기판과 하부기판을 합착하고 액정주입구를 통하여 액정과 스페이서를 주입한 다음, 그 액정주입구를 봉지하는 공정으로 진행된다. In the substrate bonding / liquid crystal injection process, the upper substrate and the lower substrate are bonded using a sealant, the liquid crystal and the spacer are injected through the liquid crystal inlet, and then the liquid crystal inlet is sealed.

검사 공정은 하부기판에 각종 신호배선과 화소전극이 형성된 후에 실시되는 전기적 검사와 기판합착 및 액정주입 공정 후에 실시되는 전기적검사 및 육안검사를 포함한다. The inspection process includes an electrical inspection performed after various signal wiring and pixel electrodes are formed on the lower substrate, and an electrical inspection and a visual inspection performed after the substrate bonding and liquid crystal injection process.

리페어 공정은 검사 공정에 의해 리페어가 가능한 것으로 판정된 기판에 대한 복원을 실시하는 한편, 검사 공정에서 리페어가 불가능한 불량기판들에 대하여는 폐기처분된다.The repair process restores the substrate determined to be repairable by the inspection process, while discarding defective substrates that cannot be repaired in the inspection process.

이러한 액정패널의 제조공정 중 기판 패터닝 공정에서는 기판 상에 패턴을 형성하기 위하여 마스크를 사용하며, 마스크 세팅과정은 다음과 같은 단계를 거치게 된다.In the substrate patterning process of the liquid crystal panel manufacturing process, a mask is used to form a pattern on the substrate, and the mask setting process is performed as follows.

먼저, 케이스로부터 마스크를 이재한다. 이후, 기판이 배치된 상부에 마스크를 배치하여 마스크를 세팅하게 된다. 여기서, 마스크의 존재 유무를 확인한다. 마스크가 없을 경우, 알람을 발생하고 처음으로 복귀한다. 마스크가 존재할 경우, 마스크와 기판과의 갭을 체크한다. 마스크와 기판과의 갭이 적절하게 조절되면, 마스크 세팅이 완료된다. 이러한 단계를 거치는 마스크 세팅과정에서 마스크의 방향성이나 마스크의 회전에 관계없이 마스크의 존재 유/무 만을 판단하여 공정이 진행되는 문제점이 있다. 즉, 마스크는 사용자가 요구하는 원래정렬과 대비하여 좌우 및 상하로 180°회전되어 있는 경우에도 전체적인 배열이 원래정렬과 동일한 형상을 갖게 됨으로, 기판 패터닝 공정은 별도의 알람없이 진행되게 된다. 이에 따라, 기판에 형성되는 패턴은 잘못 정렬된 마스크를 사용하게 됨으로 불량이 발생하게 된다.
First, the mask is transferred from the case. Thereafter, the mask is set on the substrate on which the substrate is disposed to set the mask. Here, the presence or absence of a mask is checked. If no mask is present, an alarm is generated and the first time is returned. If a mask is present, the gap between the mask and the substrate is checked. When the gap between the mask and the substrate is properly adjusted, the mask setting is completed. There is a problem that the process proceeds by determining the presence or absence of the mask regardless of the orientation of the mask or the rotation of the mask during the mask setting process through this step. That is, even when the mask is rotated 180 ° left and right and up and down in contrast to the original alignment required by the user, the entire pattern has the same shape as the original alignment, so that the substrate patterning process proceeds without a separate alarm. Accordingly, the pattern formed on the substrate uses a misaligned mask, thereby causing a defect.

따라서, 본 발명의 목적은 마스크 정렬시 불량을 방지할 수 있는 마스크 정렬장치 및 방법을 제공하는 데 있다.
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a mask alignment apparatus and method that can prevent defects in mask alignment.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 정렬장치는 마스크 스테이지로 이동하기 전 대기상태에서 위치확인을 위한 검출창을 가지는 마스크와; 상기 검출창에 광을 조사하고 상기 검출창으로부터 수광되는 신호를 감지하는 센서와; 상기 센서의 출력에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하기 위한 경보 발생부를 구비한다.In order to achieve the above object, the mask alignment device according to an embodiment of the present invention comprises a mask having a detection window for positioning in the standby state before moving to the mask stage; A sensor for irradiating light to the detection window and detecting a signal received from the detection window; An alarm generating unit for alarming the position of the mask in the standby state in accordance with the output of the sensor.

상기 마스크를 적재하는 카세트와; 상기 카세트로부터 이재된 상기 마스크가 안착되는 지지판과; 상기 지지판 상에 형성되며 상기 마스크의 모서리 일측을 지지하는 지그와; 상기 마스크의 정렬 기준점에 배치되는 기준핀과; 상기 마스크와 기준핀을 서로 정렬시키도록 상기 마스크를 운동시키는 푸셔를 더 구비한다.A cassette for loading the mask; A support plate on which the mask transferred from the cassette is seated; A jig formed on the support plate and supporting one edge of the mask; A reference pin disposed at an alignment reference point of the mask; And a pusher for moving the mask to align the mask and the reference pin with each other.

상기 센서는 상기 지지판상에 배치되는 수광부와; 상기 마스크 상부에 배치되며 상기 검출창을 통하여 상기 수광부에 광을 조사하는 투광부를 구비한다.The sensor includes a light receiving unit disposed on the support plate; The light emitting unit is disposed on the mask and irradiates light to the light receiving unit through the detection window.

상기 수광부는 상기 마스크가 정렬이 완료된 후 검출창이 위치하는 영역에 배치된다.The light receiving unit is disposed in an area where the detection window is located after the mask is aligned.

상기 마스크는 상기 검출창 주변영역에서 광을 반사한다.The mask reflects light in the area around the detection window.

본 발명의 실시 예에 따른 마스크 정렬방법은 마스크 스테이지로 이동하기 전 대기상태에서 위치확인을 위하여 검출창을 가지는 마스크의 정렬방법에 있어서, 상기 검출창에 광을 조사하고 상기 검출창으로부터 수광되는 신호를 감지하는 단계와; 상기 수광되는 신호에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하는 단계를 포함한다.In a mask alignment method according to an embodiment of the present invention, in a mask alignment method having a detection window for positioning in a standby state before moving to a mask stage, the mask is irradiated with light and received from the detection window. Detecting; Alarming a positional failure of a mask in the standby state according to the received signal.

상기 대기상태에서 상기 마스크를 기준위치로 정렬하는 단계를 더 포함한다.And aligning the mask to a reference position in the standby state.

상기 검출창에 광을 조사하는 단계는, 상기 기준위치로 정렬된 상태에서 상 기 검출창에 광을 조사한다.In the irradiating light to the detection window, the light is irradiated to the detection window in a state aligned with the reference position.

상기 수광되는 신호에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하는 단계는 상기 센서와 상기 검출창이 불일치되는 경우 상기 마스크를 상기 대기상태로 복귀시킨다.The warning of the positional misalignment of the mask in the standby state according to the received signal returns the mask to the standby state when the sensor and the detection window are inconsistent.

상기 수광되는 신호에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하는 단계는 상기 센서와 상기 검출창이 일치되는 경우 상기 마스크를 기판과 정렬시키는 단계와; 상기 마스크의 유무를 확인하는 단계와; 상기 마스크의 유무에 따라 마스크와 기판과의 갭을 검사하는 단계를 포함한다.The step of alerting the position defect of the mask in the standby state according to the received signal comprises: aligning the mask with a substrate when the sensor and the detection window coincide; Checking the presence or absence of the mask; Inspecting the gap between the mask and the substrate according to the presence or absence of the mask.

상기 마스크의 유무에 따라 마스크와 기판과의 갭을 검사하는 단계는 상기 마스크가 부재인 경우 상기 마스크를 대기상태로 복귀시키는 단계를 포함한다.Examining the gap between the mask and the substrate in accordance with the presence or absence of the mask includes returning the mask to the standby state when the mask is absent.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예들을 도 1 내지 도 7을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 7.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 정렬단계를 나타낸 순서도이다.1 is a flowchart illustrating a mask alignment step according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 정렬은 먼저, 케이스 및 카세트로부터 마스크를 분리한다.(S1단계) 이를 구체적으로 설명하면, 도 2a에 도시된 바와 같이 카세트(2)에 각각 적재된 케이스(4)에 포장된 마스크(6)는 로봇암(8)에 의하여 케이스(4)로부터 분리된다. Referring to FIG. 1, the mask alignment according to the first embodiment of the present invention first separates the mask from the case and the cassette (step S1). Specifically, the cassette 2 is illustrated in FIG. 2A. The masks 6 packed in the cases 4 respectively loaded on the boards are separated from the case 4 by the robot arm 8.                     

여기서, 마스크(6)의 전면에는 도 2b에 도시된 바와 같이 패턴(12)이 블록단위로 형성되어 있으며, 마스크(6)의 모서리 중 적어도 하나의 얼라인 마크(14)가 형성되고, 마스크(6)의 가장자리 일측에는 검출창(16)이 배치된다. 이때, 검출창(16)은 광이 투과될수 있도록 형성된다. 이러한 마스크(6)는 패턴(12)과 얼라인 마크(14) 및 검출창(16)을 제외한 면에서는 광이 전면에서 배면으로 투과되지 않는다.Here, as shown in FIG. 2B, the pattern 12 is formed in block units on the entire surface of the mask 6, and at least one alignment mark 14 among corners of the mask 6 is formed, and the mask ( The detection window 16 is disposed on one side of the edge. At this time, the detection window 16 is formed so that light can be transmitted. In the mask 6, light is not transmitted from the front to the back on the surface except for the pattern 12, the alignment mark 14, and the detection window 16.

로봇암(8)에 적재된 마스크(6)는 도 2c에 도시된 바와 같이 마스크 정렬장치 상에서 대기상태를 가지며, 마스크 정렬작업이 수행된다.(S2단계)The mask 6 loaded on the robot arm 8 has a standby state on the mask alignment device as shown in Fig. 2C, and the mask alignment operation is performed (step S2).

마스크(6)의 정렬이 완료되고 마스크(6)에 형성된 검출창(16)을 확인한다. 검출창(16) 확인 결과에 따라 마스크 세팅 방향을 확인한 후, 마스크 세팅이 올바르게 되었을 경우(Y), 마스크 정렬장치로부터 마스크가 이재된다. 마스크 세팅이 올바르게 배치되지 않을 경우(N), 알람이 발생되고 대기상태로 복귀 된다.(S3단계) 검출창(16) 확인과정을 통한 마스크 세팅 방향확인은 도 4 내지 6을 참조하여 상세히 후술하기로 한다.Alignment of the mask 6 is completed and the detection window 16 formed in the mask 6 is confirmed. After checking the mask setting direction according to the detection window 16 confirmation result, when a mask setting is correct (Y), a mask is transferred from a mask aligning apparatus. If the mask setting is not correctly placed (N), an alarm is generated and the process returns to the standby state. (Step S3) The mask setting direction confirmation through the detection window 16 checking process will be described later in detail with reference to FIGS. Shall be.

이재된 마스크(6)는 도 2d에 도시된 바와 같이 미리 마련된 마스크 스테이지(5)에 셋팅된다.(S4단계)The transferred mask 6 is set in the mask stage 5 prepared in advance as shown in FIG. 2D (step S4).

이후, 마스크 스테이지(5) 상에 마스크(6)의 존재유무를 판단한다.(S5단계)Thereafter, it is determined whether or not the mask 6 is present on the mask stage 5 (step S5).

여기서, 마스크(6)가 존재할 경우(Y) 도 2e에 도시된 바와 같이 마스크(6)와 기판(1)과의 갭을 측정한다. 마스크(6)가 존재하지 않을경우(N), 알람을 발생하고 마스크 선행정렬단계로 복귀한다.(S6단계) Here, when the mask 6 is present (Y), the gap between the mask 6 and the substrate 1 is measured as shown in FIG. 2E. If the mask 6 does not exist (N), an alarm is generated and the mask returns to the previous alignment step (step S6).                     

여기서, 본 발명의 제1 실시예에 따른 마스크 정렬장치에 대해서 도 3을 참조하여 자세히 설명하면, 마스크 정렬장치는 서스(Steel Use Stainless : SUS) 플레이트(20)와, 서스 플레이트(20) 상에 형성되며 마스크(6)의 가장자리를 지지하는 지그(22)와, 마스크(6)의 정렬 기준이 되는 기준핀(24)과, 기준핀(24)이 정렬된 후 마스크(6)를 기준핀(24)에 정렬시키는 푸셔(Pusher)(26)와, 마스크(6)의 일측을 센싱하는 센서(28)를 구비한다. 또한, 서스 플레이트(20) 상부에는 이물질 낙하방지를 위한 덮개를 구비할 수 있으며, 이 덮개 일측에 상기 센서(28)가 설치될 수 있다. Here, the mask aligning apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 3, and the mask aligning apparatus may be formed on a stainless steel plate (SUS) plate 20 and a sustain plate 20. The jig 22, which supports the edge of the mask 6, the reference pin 24, which is an alignment reference of the mask 6, and the reference pin 24, are aligned with the reference pin ( Pusher 26 to align with 24, and sensor 28 for sensing one side of the mask (6). In addition, the cover plate 20 may be provided with a cover for preventing foreign matters from falling, and the sensor 28 may be installed on one side of the cover.

지그(22)는 마스크(6)의 각 모서리를 지지하며, 마스크(6)의 정렬시 유동이 가능하도록 충분한 넓이로 형성된다.The jig 22 supports each edge of the mask 6 and is formed to a sufficient width to allow flow during the alignment of the mask 6.

기준핀(24)은 마스크(6)가 지그(22) 상부에 배치된 후 마스크(6)의 측면으로부터 이동하여 미리 결정된 기준점에 배치된다. 이러한 기준핀(24)은 모서리를 공유하는 마스크(6)의 제1 및 제2 가장자리에 각각 배치된다.The reference pin 24 is disposed at a predetermined reference point by moving from the side of the mask 6 after the mask 6 is disposed above the jig 22. These reference pins 24 are disposed at the first and second edges of the mask 6, which share corners, respectively.

푸셔(26)는 마스크(6)의 측면에 힘을 가하여 마스크(6)를 기준핀(24)에 정렬되도록 한다. 이러한 푸셔(26)는 마스크(6)의 제3 및 제4 가장자리에 배치되어 기준핀(24) 방향으로 힘을 작용하게 된다.The pusher 26 exerts a force on the side of the mask 6 to align the mask 6 with the reference pin 24. The pusher 26 is disposed on the third and fourth edges of the mask 6 to exert a force in the direction of the reference pin 24.

센서(28)는 마스크(6)의 검출창(16)을 센싱하여 마스크(6)가 정위치에 정렬이 되었는가를 감시한다. 여기서, 센서(28)는 광을 발생하는 투광부(28a) 및 투광부(28a)로부터 조사된 광을 수광하는 수광부(28b)를 구비한다. 투광부(28a)로부터 조사된 광은 마스크(6)에 형성된 검출창(16)을 통과하여 수광부(28b)로 공급된다. 여기서, 수광부(28b)는 서스 플레이트(20) 가장자리 일측에 형성되며, 이러한 수광부(28b)가 배치되는 위치는 마스크(6)가 서스 플레이트(20) 상에 정확하게 정렬된 경우 검출창(16)이 배치되는 위치를 계산하여 결정된다. 투광부(28a)는 수광부(28b)와 소정간격으로 이격되고 수광부(28b)와 대향되는 부분에 배치된다. The sensor 28 senses the detection window 16 of the mask 6 to monitor whether the mask 6 is aligned in position. Here, the sensor 28 is provided with the light-transmitting part 28a which generate | occur | produces light, and the light-receiving part 28b which receives the light irradiated from the light-transmitting part 28a. The light irradiated from the light transmitting portion 28a passes through the detection window 16 formed in the mask 6 and is supplied to the light receiving portion 28b. Here, the light receiving portion 28b is formed at one side of the edge of the susplate 20, and the position where the light receiving portion 28b is disposed is the detection window 16 when the mask 6 is correctly aligned on the susplate 20. It is determined by calculating the position to be placed. The light transmitting portion 28a is disposed at a portion spaced apart from the light receiving portion 28b at a predetermined interval and opposed to the light receiving portion 28b.

이와 같은 구조를 가지는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 이용한 마스크 선행정렬에 대하여 상세히 살펴보기로 한다.A mask prior alignment using the mask alignment device according to the first embodiment of the present invention having such a structure will be described in detail.

먼저, S1 단계에서 이재된 마스크(6)가 서스 플레이트(20) 상에 배치된 지그(22)에 놓이게 된다. 여기서 지그(22)의 폭은 마스크(6)가 전후좌우로 소폭 이동이 가능할 만큼 넓게 형성된다.First, the mask 6 transferred in the step S1 is placed on the jig 22 disposed on the suspplate 20. In this case, the width of the jig 22 is wide enough to allow the mask 6 to be moved slightly back, front, left, and right.

이후, 기준핀(24)이 미리 결정된 기준점에 배치되고, 마스크(6)가 기준점에 안착되도록 푸셔(26)가 마스크(6)의 측면으로부터 기준핀(24) 방향으로 작동된다. 이때, 센서(28)의 투광부(28a)로부터 수광부(28b)로 광이 지속적으로 조사된다. 여기서, 센서(28)로부터 조사된 광은 기준핀(24)에 정렬되는 마스크(6)의 검출창(16)을 통과하게 된다. 투광부(28a)로부터 조사된 광이 검출창(16)을 통과하지 못하고, 이에 따라 수광부(28b)에 광이 입광되지 않을 경우, 알람이 발생되어 마스크(6)의 정렬이 잘못되었음을 알리게 되고, 재정렬하게 된다. 마스크 정렬장치는 이 알람 발생을 위하여 경보발생부를 구비할 수 있다. Thereafter, the reference pin 24 is disposed at a predetermined reference point, and the pusher 26 is operated in the direction of the reference pin 24 from the side of the mask 6 so that the mask 6 rests on the reference point. At this time, light is continuously irradiated from the light transmitting portion 28a of the sensor 28 to the light receiving portion 28b. Here, the light irradiated from the sensor 28 passes through the detection window 16 of the mask 6 aligned with the reference pin 24. If the light irradiated from the light-transmitting portion 28a does not pass through the detection window 16 and thus no light is incident on the light-receiving portion 28b, an alarm is generated to inform that the alignment of the mask 6 is incorrect. It will be rearranged. The mask alignment device may be provided with an alarm generator for generating this alarm.

투광부(28a)로부터 조사된 광이 검출창(16)을 통과하여 수광부(28b)에 입광될 경우, 다음단계인 S4 단계를 진행하게 된다.When the light irradiated from the light transmitting portion 28a passes through the detection window 16 and is incident on the light receiving portion 28b, the next step S4 is performed.

본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 정렬단계는 마스크의 선행정렬을 실시 함으로써 마스크의 방향 등이 사용자가 요구하는 방향으로 정렬되어 있는지 확인이 가능하게 된다. 이에 따라, 마스크 방향의 오류로 인한 기판 패터닝 공정에서의 불량을 최소화 할 수 있게 된다.In the mask alignment step according to the first exemplary embodiment of the present invention, the mask alignment may be performed by prior alignment of the masks to determine whether the mask direction is aligned in the direction required by the user. Accordingly, defects in the substrate patterning process due to an error in the mask direction can be minimized.

도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 나타낸 도면이다.4 is a diagram illustrating a mask alignment device according to a second embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 정렬장치는 서스(Steel Use Stainless : SUS) 플레이트(120)와, 서스 플레이트(120) 상에 형성되며 마스크(106)의 가장자리를 지지하는 지그(122)와, 마스크(106)의 정렬 기준이 되는 기준핀(124)과, 기준핀(124)이 정렬된 후 마스크(106)를 기준핀(146)에 정렬시키는 푸셔(Pusher)(126)와, 마스크(106)의 일측을 센싱하며 투광부와 수광부가 일체화된 센서(128)를 구비한다. 또한, 서스 플레이트(120) 상부에는 이물질 낙하방지를 위한 덮개를 구비할 수 있으며, 이 덮개 일측에 상기 센서(128)가 설치될 수 있다. Referring to FIG. 4, the mask aligning apparatus according to the second embodiment of the present invention is formed on a stainless steel plate (SUS) plate 120 and the stainless steel plate 120 to support an edge of the mask 106. Jig 122, a reference pin 124 which is an alignment reference of the mask 106, and a pusher for aligning the mask 106 with the reference pin 146 after the reference pin 124 is aligned ( 126 and a sensor 128 that senses one side of the mask 106 and integrates a light transmitting portion and a light receiving portion. In addition, the cover plate 120 may be provided with a cover for preventing the foreign matter falling, the sensor 128 may be installed on one side of the cover.

여기서, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 정렬장치는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 정렬장치와 비교하여 마스크(106)와 센서(128)를 제외하고 동일한 구성을 구비함으로 마스크(106)와 센서(128)를 제외한 설명은 생략하기로 한다.Here, the mask alignment device according to the second embodiment of the present invention has the same configuration except for the mask 106 and the sensor 128 as compared with the mask alignment device according to the first embodiment of the present invention. ) And the description of the sensor 128 will be omitted.

마스크(106)는 그 전면에 패턴(112)이 블록단위로 형성되어 있으며, 마스크(106)의 각 모서리에 적어도 하나의 얼라인 마크(114)가 형성되고, 마스크(106)의 가장자리 일측에는 검출창(116)이 배치된다. 이때, 검출창(116)은 광이 전반사될 수 있도록 형성된다. 이러한 마스크(106)는 패턴(112)과 얼라인 마크(114) 및 검출창(116)을 제외한 면에서는 광이 전면에서 배면으로 투과된다. The mask 106 has a pattern 112 formed on the entire surface of the mask 106, at least one alignment mark 114 is formed at each corner of the mask 106, and a detection is performed at one edge of the mask 106. Window 116 is disposed. At this time, the detection window 116 is formed so that the light is totally reflected. In the mask 106, light is transmitted from the front side to the back side on the surface except for the pattern 112, the alignment mark 114, and the detection window 116.                     

센서(128)는 투/수광부 일체형으로서, 서스플레이트(120)로부터 소정간격이 이격된 거리에 배치되며, 이러한 센서(128)의 위치는 마스크(106)가 서스플레이트(120) 상에 정확하게 정렬된 경우 검출창(116)이 배치되는 위치를 계산하여 결정된다.The sensor 128 is integral to the light receiving / receiving unit, and is disposed at a distance spaced apart from the suspending plate 120, and the position of the sensor 128 is that the mask 106 is accurately aligned on the suspending plate 120. In this case, it is determined by calculating a position where the detection window 116 is disposed.

이와 같은 구조를 가지는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 이용한 마스크 선행정렬에 대하여 상세히 살펴보기로 한다.The mask prior alignment using the mask alignment device according to the second embodiment of the present invention having such a structure will be described in detail.

먼저, S1 단계에서 이재된 마스크(106)가 서스 플레이트(120) 상에 배치된 지그(122)에 놓이게 된다. 여기서 지그(122)의 폭은 마스크(106)가 전후좌우로 소폭 이동이 가능할 만큼 넓게 형성된다.First, the mask 106 transferred in the step S1 is placed on the jig 122 disposed on the suspplate 120. In this case, the width of the jig 122 is wide enough to allow the mask 106 to be slightly moved back, front, left, and right.

이후, 기준핀(124)이 미리 결정된 기준점에 배치되고, 마스크(106)가 기준점에 안착되도록 푸셔(126)가 마스크(106)의 측면으로부터 기준핀(124) 방향으로 작동된다. 이때, 센서(128)가 작동되어 광을 마스크(106)의 전면에 조사하게 된다. 여기서, 마스크(106)의 검출창(116)과 얼라인 마크(114) 및 패턴(112)을 제외한 영역은 광이 투과되고, 센서(128)와 검출창(116)이 일치된 경우 광이 반사되어 센서(128)로 입광된다. 마스크(106)가 기준핀(124)에 정렬이 완료된 후, 센서(128)에 광이 입광되지 않을 경우, 알람이 발생되어 마스크(106)의 정렬이 잘못되었음을 알리게 되고, 대기상태로 복귀하여 상기 과정을 반복하게 된다.Thereafter, the reference pin 124 is disposed at a predetermined reference point, and the pusher 126 is operated in the direction of the reference pin 124 from the side of the mask 106 so that the mask 106 rests on the reference point. At this time, the sensor 128 is operated to irradiate light onto the front surface of the mask 106. Here, light is transmitted to the areas except for the detection window 116, the alignment mark 114, and the pattern 112 of the mask 106, and the light is reflected when the sensor 128 and the detection window 116 coincide with each other. And light is incident on the sensor 128. After the alignment of the mask 106 to the reference pin 124 is completed, if light is not incident on the sensor 128, an alarm is generated to notify that the alignment of the mask 106 is incorrect. The process is repeated.

센서(128)로부터 조사된 광이 검출창(116)의 전면에서 전반사되어 다시 센서(128)로 입광될 경우, 다음단계인 S4 단계가 진행된다.When the light irradiated from the sensor 128 is totally reflected at the front of the detection window 116 to be incident on the sensor 128 again, the next step S4 is performed.

도 5는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 나타낸 도면이다. 5 is a diagram illustrating a mask alignment device according to a third embodiment of the present invention.                     

도 5를 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 정렬장치는 서스(Steel Use Stainless : SUS) 플레이트(220)와, 서스플레이트(220) 상에 형성되며 마스크(206)의 가장자리를 지지하는 지그(222)와, 서스플레이트(220)의 가장자리 일측에 형성되는 센서(228)와, 마스크(206)의 정렬 기준이 되는 기준핀(224)과, 기준핀(224)이 정렬된 후 마스크(206)를 기준핀(224)에 정렬시키는 푸셔(Pusher)(226)를 구비한다. 또한, 서스 플레이트(220) 상부에는 이물질 낙하방지를 위한 덮개를 구비할 수 있으며, 이 덮개 일측에 상기 센서(228)가 설치될 수 있다. Referring to FIG. 5, the mask aligning apparatus according to the third embodiment of the present invention is formed on a stainless steel plate (SUS) plate 220, the plate 220, and supports an edge of the mask 206. Jig 222, the sensor 228 formed on one side of the edge of the suspension 220, the reference pin 224, which is the alignment reference of the mask 206, and the reference pin 224 after the mask is aligned And a pusher 226 that aligns 206 with the reference pin 224. In addition, the cover plate 220 may be provided with a cover for preventing foreign matters from falling, the sensor 228 may be installed on one side of the cover.

여기서, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 정렬장치는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 정렬장치와 비교하여 서스플레이트(220)와 마스크(206) 및 센서(228)를 제외하고 동일한 구성을 구비함으로 서스플레이트(220)와 마스크(206) 및 센서(228)를 제외한 설명은 생략하기로 한다.Here, the mask alignment device according to the third embodiment of the present invention has the same configuration except for the plate 220, the mask 206, and the sensor 228 as compared with the mask alignment device according to the second embodiment of the present invention. The description except for the display plate 220, the mask 206 and the sensor 228 will be omitted.

마스크(206)는 그 전면에 패턴(212)이 블록단위로 형성되어 있으며, 마스크(206)의 각 모서리에는 적어도 하나의 얼라인 마크(214)가 형성되고, 마스크(206)의 배면 가장자리 일측에는 검출창(216)이 배치된다. 이때, 검출창(216)은 광이 전반사될 수 있도록 형성된다. 이러한 마스크(206)는 패턴(212)과 얼라인 마크(214) 및 검출창(216)을 제외한 면에서는 광이 전면에서 배면 및 배면에서 전면으로 투과된다.The mask 206 has a pattern 212 formed on the entire surface of the mask 206, and at least one alignment mark 214 is formed at each corner of the mask 206, and at one side of the rear edge of the mask 206. The detection window 216 is disposed. At this time, the detection window 216 is formed so that the light is totally reflected. In the mask 206, light is transmitted from the front side to the front side and the back side to the front side except for the pattern 212, the alignment mark 214, and the detection window 216.

센서(228)는 투/수광부 일체형으로서, 서스플레이트(220)의 전면 가장자리 일측에 배치되며, 이러한 센서(228)의 위치는 마스크(206)가 서스플레이트(220) 상 에 정확하게 정렬된 경우 검출창(216)이 배치되는 위치를 계산하여 결정된다.The sensor 228 is integral to the light receiving / receiving unit, and is disposed at one side of the front edge of the plate 220, and the position of the sensor 228 is a detection window when the mask 206 is accurately aligned on the plate 220. It is determined by calculating the location where 216 is placed.

이와 같은 구조를 가지는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 정렬장치를 이용한 마스크 선행정렬에 대하여 상세히 살펴보기로 한다.A mask prior alignment using the mask alignment device according to the third embodiment of the present invention having such a structure will be described in detail.

먼저, S1 단계에서 이재된 마스크(206)가 서스 플레이트(220) 상에 배치된 지그(222)에 놓이게 된다. 여기서 지그(222)의 폭은 마스크(206)가 전후좌우로 소폭 이동이 가능할 만큼 넓게 형성된다.First, the mask 206 transferred in the step S1 is placed on the jig 222 disposed on the suspplate 220. In this case, the width of the jig 222 is wide enough to allow the mask 206 to move slightly in front, rear, left, and right.

이후, 기준핀(224)이 미리 결정된 기준점에 배치되고, 마스크(206)가 기준점에 안착되도록 푸셔(226)가 마스크(206)의 측면으로부터 기준핀(224) 방향으로 작동된다. 이때, 센서(228)가 작동되어 광이 마스크(206)의 배면에 조사된다. 이때, 마스크(206)의 검출창(216)과 얼라인 마크(214) 및 패턴(212)을 제외한 영역은 광이 투과되고, 센서(228)와 검출창(216)이 일치된 경우 광이 반사되어 센서(228)로 입광된다. 마스크(206)가 기준핀(224)에 정렬이 완료된 후, 센서(228)에 광이 입광되지 않을 경우, 알람이 발생되어 마스크(206)의 정렬이 잘못되었음을 알리게 되고, 대기상태로 복귀하여 과정을 반복수행한다.Thereafter, the reference pin 224 is disposed at a predetermined reference point, and the pusher 226 is operated from the side of the mask 206 toward the reference pin 224 so that the mask 206 is seated at the reference point. At this time, the sensor 228 is actuated to irradiate the back of the mask 206 with light. At this time, light is transmitted to the areas except for the detection window 216, the alignment mark 214, and the pattern 212 of the mask 206, and the light is reflected when the sensor 228 and the detection window 216 match. Light is incident on the sensor 228. After the alignment of the mask 206 to the reference pin 224 is completed, if no light is incident on the sensor 228, an alarm is generated to notify that the alignment of the mask 206 is incorrect, and the process returns to the standby state. Repeat

센서(228)로부터 조사된 광이 검출창(216)의 면에서 전반사되어 다시 센서(228)로 입광될 경우, 다음단계인 S4 단계가 진행된다.When the light irradiated from the sensor 228 is totally reflected on the surface of the detection window 216 and is incident on the sensor 228 again, the next step S4 is performed.

도 6은 본 발명의 각 실시 예에 따른 기판 패터닝 고정을 사용하는 액정패널을 상세히 나타낸 도면이다.6 is a view showing in detail a liquid crystal panel using substrate patterning fixing according to each embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 액정패널은 액정(86)을 사이에 두고 합착된 컬러필터 어레이 기판(81)과 박막트랜지스터 어레이 기판(91)을 구비한다. Referring to FIG. 6, the liquid crystal panel includes a color filter array substrate 81 and a thin film transistor array substrate 91 bonded together with a liquid crystal 86 interposed therebetween.                     

액정(86)은 자신에게 인가된 전계에 응답하여 회전됨으로써 박막트랜지스터 어레이 기판(91)을 경유하여 입사되는 빛의 투과량을 조절하게 된다. The liquid crystal 86 is rotated in response to an electric field applied to the liquid crystal 86 to adjust the amount of light transmitted through the thin film transistor array substrate 91.

컬러필터 어레이 기판(81)은 상부기판(80a)의 배면 상에 형성되는 블랙매트릭스(96), 컬러필터(82), 공통전극(84)을 구비한다. 블랙매트릭스(96)는 불투명물질로 형성되어 인접한 셀로부터 입사되는 빛을 흡수함으로써 콘트라스트의 저하를 방지하게 된다. 컬러필터(82)는 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러필터층이 스트라이프(Stripe) 형태로 배치되어 특정 파장대역의 빛을 투과시킴으로써 컬러표시를 가능하게 한다. The color filter array substrate 81 includes a black matrix 96, a color filter 82, and a common electrode 84 formed on the rear surface of the upper substrate 80a. The black matrix 96 is formed of an opaque material and absorbs light incident from adjacent cells, thereby preventing a decrease in contrast. In the color filter 82, the color filter layers of red (R), green (G), and blue (B) colors are arranged in a stripe form to transmit light of a specific wavelength band, thereby enabling color display.

박막트랜지스터 어레이 기판(91)은 하부기판(80b)의 전면에 데이터라인(98)과 게이트라인(94)이 상호 교차되도록 형성되며, 그 교차부에 TFT(90)가 형성된다. TFT(90)는 게이트라인(94)에 접속된 게이트전극, 데이터라인(98)에 접속된 소스전극, 채널을 사이에 두고 소스전극과 마주보는 드레인전극으로 이루어진다. 이 TFT(90)는 드레인전극을 관통하는 접촉홀을 통해 화소전극(92)과 접속된다. 이러한 TFT(90)는 게이트라인(94)으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인(98)으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(92)에 공급한다. The thin film transistor array substrate 91 is formed so that the data line 98 and the gate line 94 cross each other on the front surface of the lower substrate 80b, and the TFT 90 is formed at the intersection thereof. The TFT 90 includes a gate electrode connected to the gate line 94, a source electrode connected to the data line 98, and a drain electrode facing the source electrode with a channel interposed therebetween. The TFT 90 is connected to the pixel electrode 92 through a contact hole penetrating through the drain electrode. The TFT 90 selectively supplies the data signal from the data line 98 to the pixel electrode 92 in response to the gate signal from the gate line 94.

화소전극(92)은 데이터라인(98)과 게이트라인(94)에 의해 분할된 셀 영역에 위치하며 광투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 이 화소전극(92)은 드레인전극을 경유하여 공급되는 데이터신호에 의해 상부기판(80a)에 형성되는 공통전극(84)과 전위차를 발생시키게 된다. 이 전위차에 의해 하부기판(80b)과 상부기판(80a) 사이에 위치하는 액정(86)은 유전율이방성에 의해 회전하게 된다. 이에 따 라, 광원으로부터 화소전극(92)을 경유하여 공급되는 광이 상부기판(80a) 쪽으로 투과된다.
The pixel electrode 92 is formed in a cell region divided by the data line 98 and the gate line 94 and is made of a transparent conductive material having high light transmittance. The pixel electrode 92 generates a potential difference from the common electrode 84 formed on the upper substrate 80a by the data signal supplied via the drain electrode. Due to this potential difference, the liquid crystal 86 located between the lower substrate 80b and the upper substrate 80a is rotated by dielectric anisotropy. Accordingly, the light supplied from the light source via the pixel electrode 92 is transmitted toward the upper substrate 80a.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 정렬 장치 및 방법은 마스크의 선행정렬을 실시함으로써 마스크의 방향 등이 사용자가 요구하는 방향으로 정렬되어 있는지 확인이 가능하게 된다. 이에 따라, 마스크 방향의 오류로 인한 기판 패터닝 공정에서의 불량을 최소화 할 수 있게 된다.As described above, in the mask alignment apparatus and method according to the embodiment of the present invention, it is possible to confirm whether the direction of the mask is aligned in the direction required by the user by performing the prior alignment of the mask. Accordingly, defects in the substrate patterning process due to an error in the mask direction can be minimized.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (11)

마스크 스테이지로 이동하기 전 대기상태에서 위치확인을 위한 검출창을 가지는 마스크와;A mask having a detection window for positioning in the standby state before moving to the mask stage; 상기 검출창에 광을 조사하고 상기 검출창으로부터 수광되는 신호를 감지하는 센서와; A sensor for irradiating light to the detection window and detecting a signal received from the detection window; 상기 센서의 출력에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하기 위한 경보 발생부를 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치.And an alarm generating unit for alerting the position of the mask in the standby state according to the output of the sensor. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 마스크를 적재하는 카세트와;A cassette for loading the mask; 상기 카세트로부터 이재된 상기 마스크가 안착되는 지지판과;A support plate on which the mask transferred from the cassette is seated; 상기 지지판 상에 형성되며 상기 마스크의 모서리 일측을 지지하는 지그와;A jig formed on the support plate and supporting one edge of the mask; 상기 마스크의 정렬 기준점에 배치되는 기준핀과;A reference pin disposed at an alignment reference point of the mask; 상기 마스크와 기준핀을 서로 정렬시키도록 상기 마스크를 운동시키는 푸셔를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치.And a pusher for moving the mask to align the mask and the reference pin with each other. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 센서는The sensor 상기 지지판상에 배치되는 수광부와;A light receiving unit disposed on the support plate; 상기 마스크 상부에 배치되며 상기 검출창을 통하여 상기 수광부에 광을 조사하는 투광부를 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치.And a light transmitting unit disposed on the mask and irradiating light to the light receiving unit through the detection window. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 수광부는The light receiving unit 상기 마스크가 정렬이 완료된 후 검출창이 위치하는 영역에 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치.And the mask is disposed in an area where the detection window is located after the alignment is completed. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 마스크는The mask is 상기 검출창 주변영역에서 광을 반사하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬장치.Mask alignment device, characterized in that for reflecting light in the peripheral area of the detection window. 마스크 스테이지로 이동하기 전 대기상태에서 위치확인을 위하여 검출창을 가지는 마스크의 정렬방법에 있어서, In the alignment method of the mask having a detection window for positioning in the standby state before moving to the mask stage, 상기 검출창에 광을 조사하고 상기 검출창으로부터 수광되는 신호를 감지하는 단계와; Irradiating light onto the detection window and sensing a signal received from the detection window; 상기 수광되는 신호에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬방법.And masking a positional error of the mask in the standby state according to the received signal. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 대기상태에서 상기 마스크를 기준위치로 정렬하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬방법.And aligning the mask to a reference position in the standby state. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 검출창에 광을 조사하는 단계는, Irradiating light to the detection window, 상기 기준위치로 정렬된 상태에서 상기 검출창에 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬방법.And irradiating light to the detection window while being aligned to the reference position. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 수광되는 신호에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하는 단계는Alarming the position of the mask in the standby state according to the received signal 상기 센서와 상기 검출창이 불일치되는 경우When the sensor and the detection window is inconsistent 상기 마스크를 상기 대기상태로 복귀시키는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬방법.And returning the mask to the standby state. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 수광되는 신호에 따라 상기 대기상태에서 마스크의 위치 불량을 경보하는 단계는Alarming the position of the mask in the standby state according to the received signal 상기 센서와 상기 검출창이 일치되는 경우When the sensor and the detection window is matched 상기 마스크를 기판과 정렬시키는 단계와;Aligning the mask with a substrate; 상기 마스크의 유무를 확인하는 단계와;Checking the presence or absence of the mask; 상기 마스크의 유무에 따라 마스크와 기판과의 갭을 검사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬방법.And inspecting a gap between the mask and the substrate according to the presence or absence of the mask. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 마스크의 유무에 따라 마스크와 기판과의 갭을 검사하는 단계는Examining the gap between the mask and the substrate in accordance with the presence or absence of the mask 상기 마스크가 부재인 경우 If the mask is absent 상기 마스크를 대기상태로 복귀시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 정렬방법.Returning the mask to a standby state.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101104945B1 (en) * 2011-06-15 2012-01-12 이성 Manufacturing apparatus of optical trackpad housing
KR20200079825A (en) * 2018-12-26 2020-07-06 주식회사 에프에스티 Vision inspection system

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