KR20060065134A - Appartus and method for repairing liquid crystal display panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 휘점을 암점화하여 수율을 향상시킬 수 있는 액정표시패널의 리페어장치 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a repair apparatus and a method of a liquid crystal display panel which can improve the yield by darkening the bright point.

본 발명의 액정표시패널의 리페어 장치는 제1 박막들이 형성된 제1 기판 및 제2 박막들이 형성된 제2 기판이 액정을 사이에 두고 합착된 액정표시패널과; 상기 액정표시패널의 일영역에 이물이 안착된 경우 상기 이물과 대응되는 영역에의 기판 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하여 상기 레이저가 조사된 영역을 불투명하게 헤이징(hazing)처리하는 레이저조사장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
The repair apparatus of the liquid crystal display panel according to the present invention includes a liquid crystal display panel in which a first substrate on which first thin films are formed and a second substrate on which second thin films are formed are bonded to each other with a liquid crystal interposed therebetween; When a foreign material is seated in one area of the liquid crystal display panel, at least one of a plurality of thin films and a substrate in a region corresponding to the foreign material is irradiated with a laser so as to opaque haze the area irradiated with the laser. And a laser irradiation apparatus for processing.

Description

액정표시패널의 리페어 장치 및 방법{Appartus And Method for Repairing Liquid Crystal Display Panel} Repairing apparatus and method of liquid crystal display panel {Appartus And Method for Repairing Liquid Crystal Display Panel}             

도 1는 종래 액정표시패널을 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a conventional liquid crystal display panel.

도 2는 공정중에 삽입된 이물에 의해 발생되는 배향불량을 설명하기 위한 도면이다. 2 is a view for explaining the orientation misalignment caused by the foreign matter inserted in the process.

도 3은 이물에 의해 화상 구현시 나타나는 휘점을 나타내는 도면이다.3 is a view showing a bright point appearing when the image is implemented by the foreign material.

도 4는 본 명의 실시예에 따른 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다. 4 is a view showing an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention.

도 5는 도 4에 도시된 제조장치의 동작성을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining the operation of the manufacturing apparatus shown in FIG.

도 6는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 제조방법을 설명하기 위한 순서도이다.
6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>     <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

2,102 : 상부기판 4,104 : 블랙 매트릭스 2,102: upper substrate 4,104: black matrix

18,118 : 공통전극 32,132 : 하부기판 18,118: common electrode 32,132: lower substrate

6,106 : 컬러필터 160 : 레이저조사장치 6,106 color filter 160 laser irradiation apparatus                 

170 : 액정표시패널 55,155 : 이물 170: liquid crystal display panel 55,155: foreign matter

162 : 초점조절부
162: focusing unit

본 발명은 액정표시패널에 관한 것으로, 특히 휘점을 암점화 하여 화질을 향상시킬 수 있는 액정표시패널의 리페어 장치 및 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display panel, and more particularly, to a repair apparatus and a method of a liquid crystal display panel capable of darkening a bright point to improve image quality.

통상적으로, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 비디오신호에 따라 액정셀들의 광투과율을 조절함으로써 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정표시패널에 비디오신호에 해당하는 화상을 표시하게 된다. 이를 위하여, 액정표시장치는 액정셀들이 액티브 매트릭스(Active Matrix) 형태로 배열된 액정표시패널과, 액정표시패널을 구동하기 위한 구동회로들을 포함하게 된다. In general, a liquid crystal display (LCD) displays an image corresponding to a video signal on a liquid crystal display panel in which liquid crystal cells are arranged in a matrix form by adjusting light transmittance of liquid crystal cells according to a video signal. To this end, the liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel in which liquid crystal cells are arranged in an active matrix form, and driving circuits for driving the liquid crystal display panel.

이러한 액정표시장치는 액정을 구동시키는 전계방향에 따라 수직방향 전계를 용하는 TN(Twisted Nematic)모드와 IPS(In plan Switch)모드로 대별된다.Such liquid crystal displays are roughly classified into twisted nematic (TN) mode and in plan switch (IPS) mode using a vertical electric field according to the electric field driving the liquid crystal.

TN모드는 상부기판에 대항하게 배치된 화소전극과 공통전극간의 수직전계에 의해 액정을 구동하는 모드로 개구율이 큰 장점을 가지는 반면에 시야각이 좁은 단점을 가진다. IPS모드는 하부기판 상에 나란하게 배치된 화소전극, 공통전극 간의 수평전계에 의해 액정을 구동하는 모드로 시야각이 큰 장점이 있는 반면에 개구율이 작은 단점이 있다. The TN mode is a mode in which a liquid crystal is driven by a vertical electric field between a pixel electrode and a common electrode disposed to face the upper substrate. The TN mode has a large aperture ratio and a narrow viewing angle. The IPS mode is a mode in which a liquid crystal is driven by a horizontal electric field between a pixel electrode and a common electrode arranged side by side on a lower substrate, and has a large viewing angle, but a small aperture ratio.                         

도 1은 종래의 TN모드 액정표시패널을 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a conventional TN mode liquid crystal display panel.

도 1에 도시된 액정표시패널은 상부기판(2) 상에 순차적으로 형성된 블랙 매트릭스(4), 컬러필터(6), 공통전극(18), 상부 배향막(8)으로 구성되는 상부 어레이 기판(또는 컬러필터 어레이 기판)과, 하부기판(32) 상에 형성된 TFT와, 화소전극(16) 및 하부 배향막(38)으로 구성되는 하부 어레이 기판과, 상부 어레이 기판 및 하부 어레이 기판 사이에 내부공간에 주입되는 액정(52)을 구비한다. 한편, IPS 모드 액정표시패널에서는 공통전극(18)이 하부기판(32) 상에 형성되고 상부기판(2) 상의 컬러필터(6) 상에 컬러필터(6)의 단차를 보상하기 위해 평탄화층이 형성된다. The liquid crystal display panel illustrated in FIG. 1 includes an upper array substrate (or a black matrix 4, a color filter 6, a common electrode 18, and an upper alignment layer 8) sequentially formed on the upper substrate 2. A color filter array substrate), a TFT formed on the lower substrate 32, a lower array substrate composed of a pixel electrode 16 and a lower alignment layer 38, and an injection into an internal space between the upper array substrate and the lower array substrate. The liquid crystal 52 is provided. Meanwhile, in the IPS mode liquid crystal display panel, the common electrode 18 is formed on the lower substrate 32 and the planarization layer is provided to compensate for the step difference of the color filter 6 on the color filter 6 on the upper substrate 2. Is formed.

상부 어레이 기판에 있어서, 블랙 매트릭스(4)는 하판의 TFT 영역과 도시하지 않은 게이트라인들 및 데이터라인들 영역에 대응되어 상부기판(2) 상에 형성되며, 컬러필터(6)가 형성될 셀영역을 마련한다. 블랙 매트릭스(4)는 빛샘을 방지함과 아울러 외부광을 흡수하여 콘트라스트를 높이는 역할을 한다. 컬러필터(6)는 블랙 매트릭스(4)에 의해 분리된 셀영역 및 블랙 매트릭스(4)에 걸쳐 형성된다. 이 컬러필터(6)는 R,G,B 별로 형성되어 R, G, B 색상을 구현한다. 공통전극(18)에는 액정의 움직임을 제어하기 위한 공통전압이 공급된다. 스페이서(13)는 상부 어레이 기판과 하부 어레이 기판 사이의 셀 갭을 유지하는 역할을 한다. In the upper array substrate, the black matrix 4 is formed on the upper substrate 2 corresponding to the TFT region of the lower plate and the gate line and data line regions (not shown), and the cell on which the color filter 6 is to be formed. Provide an area. The black matrix 4 prevents light leakage and absorbs external light to increase contrast. The color filter 6 is formed over the cell region separated by the black matrix 4 and the black matrix 4. The color filter 6 is formed for each of R, G, and B to implement R, G, and B colors. The common electrode 18 is supplied with a common voltage for controlling the movement of the liquid crystal. The spacer 13 serves to maintain a cell gap between the upper array substrate and the lower array substrate.

하부 어레이 기판에 있어서, TFT는 게이트라인과 함께 하부기판(32) 위에 형성되는 게이트전극(9)과, 이 게이트전극(9)과 게이트 절연막(44)을 사이에 두고 중첩되는 반도체층(14,47)과, 반도체층(14,47)을 사이에 두고 데이터라인(도시하지 않음)과 함께 형성되는 소스/드레인전극(40,42)을 구비한다. 이러한 TFT는 게이트 라인으로 부터의 스캔신호에 응답하여 데이터라인으로부터 화소신호를 화소전극(16)에 공급한다. 화소전극(16)은 광투과율이 높은 투명전도성 물질로 보호막(50)을 사이에 두고 TFT의 드레인 전극(42)과 접촉된다. 액정배향을 위한 상/하부 배향막(8,38)은 폴리이미드 등과 같은 배향물질을 도포한 후 러빙공정을 수행함으로써 형성된다.In the lower array substrate, the TFT includes a gate electrode 9 formed on the lower substrate 32 together with a gate line, and a semiconductor layer 14 overlapping the gate electrode 9 and the gate insulating film 44 therebetween. 47 and source / drain electrodes 40 and 42 formed together with data lines (not shown) with semiconductor layers 14 and 47 interposed therebetween. This TFT supplies the pixel signal from the data line to the pixel electrode 16 in response to the scan signal from the gate line. The pixel electrode 16 is a transparent conductive material having a high light transmittance and is in contact with the drain electrode 42 of the TFT with the protective film 50 therebetween. The upper and lower alignment layers 8 and 38 for liquid crystal alignment are formed by applying an alignment material such as polyimide and then performing a rubbing process.

이러한 종래의 액정표시패널의 상부 어레이 기판 및 하부 어레이 기판의 각 박막에 불량이 발생하면 리워크(rework) 또는 레이저 등을 이용하여 리페어(repair) 하게 된다. 그러나, 박막과 박막 사이에 이물이 안착하는 경우에는 리워크 및 레이저 등에 의한 리페어가 불가능하다. If a defect occurs in each of the thin films of the upper array substrate and the lower array substrate of the conventional liquid crystal display panel, repair is performed by using a rework or a laser. However, when a foreign material is settled between a thin film and a thin film, repair by a rework, a laser, etc. is impossible.

이를 도 2 및 도 3을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. This will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3 as follows.

일반적으로 소정의 박막을 형성하는 챔버내에서 또는 다른 박막을 형성하기 위해 별도의 챔버 또는 제3의 장소로 이동하는 경우 박막과 박막 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이 공통전극(18)과 상부 배향막(108) 사이에 이물(55) 등이 안착되는 일이 빈번히 일어나게 된다. 이러한 이물(55)과 대응되게 위치하는 배향막은 러빙공정시 균일하게 러빙되지 않게 됨으로써 불균일 배향영역(A)이 발생된다. 이러한 불균일 배향영역(A)에 의해 빛샘이 발생되어 도 3에 도시된 바와 같이 화상을 구현하는 경우 휘점 또는 약휘점이 나타나게 된다. 또한, 불균일배향 뿐만아니라 각 박막에 쇼트(short)가 발생된 경우, 러빙공정시 러빙장치에 의한 배향막의 손상 등 여러가지 공정 상의 여건상 휘점이 발생할 수 있게 된다. In general, when moving to a separate chamber or to a third place in the chamber to form a predetermined thin film or to form another thin film and the thin film, for example, as shown in FIG. The foreign matter 55 or the like may be frequently deposited between the upper alignment layers 108. The alignment layer positioned to correspond to the foreign material 55 does not rub evenly during the rubbing process, so that an uneven alignment region A is generated. Light leakage is generated by the non-uniform alignment region A so that a bright spot or a weak spot appears when the image is implemented as shown in FIG. 3. In addition, when a short is generated in each thin film as well as a non-uniform orientation, bright spots may occur in various process conditions such as damage of the alignment layer by the rubbing device during the rubbing process.

일반적으로 높은 그레이를 구현하는 경우 빛샘에 의해 일영역이 어둡게 보이 는 것을 암점이라 하고, 낮은 그레이를 구현하는 경우 빛샘에 의해 일영이 밝게 보이는 휘점이라고 한다. 여기서, 사람의 눈은 암점보다는 휘점에 상대적으로 민감하게 됨으로써 패널의 양불판정시 암점 보다는 휘점 불량에 더 엄격한 기준을 부여하게 된다. 이에 따라, 휘점 또는 약휘점 발생에 의한 패널의 불량율을 최소화하기 위한 방안이 요구되고 있다.
In general, when a high gray is implemented, a dark spot is seen by light leakage, and when a low gray is implemented, it is called a bright spot where the sun is bright by a light leak. Here, the human eye is relatively sensitive to bright spots rather than dark spots, thereby giving a stricter criterion for the bright spots than the dark spots when the panel is judged as unfavorable. Accordingly, a method for minimizing the defective rate of the panel due to the bright point or the weak point is required.

따라서, 본 발명의 목적은 휘점을 암점화하여 수율을 향상시킬 수 있는 액정표시패널의 리페어 장치 및 방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a repair apparatus and method for a liquid crystal display panel which can improve the yield by darkening the bright point.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 리페어 장치는 제1 박막들이 형성된 제1 기판 및 제2 박막들이 형성된 제2 기판이 액정을 사이에 두고 합착된 액정표시패널과; 상기 액정표시패널의 일영역에 이물이 안착된 경우 상기 이물과 대응되는 영역에의 기판 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하여 상기 레이저가 조사된 영역을 불투명하게 헤이징(hazing)처리하는 레이저조사장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a repair apparatus for a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a liquid crystal display panel in which a first substrate on which first thin films are formed and a second substrate on which second thin films are formed are bonded together with a liquid crystal interposed therebetween. ; When a foreign material is seated in one area of the liquid crystal display panel, at least one of a plurality of thin films and a substrate in a region corresponding to the foreign material is irradiated with a laser so as to opaque haze the area irradiated with the laser. And a laser irradiation apparatus for processing.

상기 액정표시패널과 상기 레이저조사장치 사이에 위치하여 상기 레이저의 조사영역 및 초점거리를 조절하는 초점조절부를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.The apparatus may further include a focus control unit positioned between the liquid crystal display panel and the laser irradiation device to adjust an irradiation area and a focal length of the laser.

상기 초점조절부는 렌즈 및 거울 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징 으로 한다.The focus adjusting unit may include at least one of a lens and a mirror.

상기 레이저는 네오늄 YAG, 다이오드 및 CO2 중 적어도 어느 하나를 이용하여 생성되는 것을 특징으로 한다.The laser is characterized in that it is generated using at least one of the neodymium YAG, diode and CO 2 .

상기 레이저는 100~600㎚정도의 파장을 가지는 것을 특징으로 한다. The laser is characterized in that it has a wavelength of about 100 ~ 600nm.

상기 레이저는 0.5~3J/㎠ 정도의 에너지를 가지는 것을 특징으로 한다.The laser is characterized in that having an energy of about 0.5 ~ 3J / ㎠.

본 발명에 따른 액정표시패널의 리페어 방법은 제1 박막들이 형성된 제1 기판 및 제2 박막들이 형성된 제2 기판이 액정을 사이에 두고 합착된 액정표시패널을 마련하는 단계와; 상기 액정표시패널의 일영역에 이물이 안착된 경우 상기 이물과 대응되는 영역에의 기판 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하여 상기 레이저가 조사된 영역이 불투명하게 헤이징처리되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of repairing a liquid crystal display panel, comprising: preparing a liquid crystal display panel in which a first substrate on which first thin films are formed and a second substrate on which second thin films are formed are bonded together with a liquid crystal interposed therebetween; When a foreign material is seated in one area of the liquid crystal display panel, irradiating a laser to at least one of the substrate and the plurality of thin films in the area corresponding to the foreign material so that the laser irradiated area is opaquely processed. Characterized in that it comprises a.

상기 액정표시패널과 상기 레이저조사장치 사이에 위치하는 초점조절부를 이용하여 상기 레이저의 조사영역 및 초점거리를 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.And adjusting the irradiation area and the focal length of the laser by using a focus adjusting unit positioned between the liquid crystal display panel and the laser irradiation apparatus.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 4 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 6.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 리페어 장치를 나타내는 도 면이다. 4 is a diagram illustrating a repair apparatus for a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 액정표시패널의 제조장치는 액정표시패널(170)의 일영역에 이물(155)이 안착된 경우 상기 이물(155)과 대응되는 영역에의 기판(102) 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하여 상기 레이저가 조사된 영역을 불투명하게 헤이징(hazing)처리하는 레이저조사장치(160)를 포함한다.In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention, when the foreign material 155 is seated in one region of the liquid crystal display panel 170, at least one of the substrate 102 and the plurality of thin films in a region corresponding to the foreign material 155 is provided. It includes a laser irradiation apparatus 160 for irradiating a laser to any one of the opaque haze (hazing) of the area irradiated with the laser.

액정표시패널(170)은 상부기판(102) 상에 순차적으로 형성된 블랙 매트릭스(104), 컬러필터(106), 공통전극(118), 상부 배향막(108)으로 구성되는 상부 어레이 기판(또는 컬러필터 어레이 기판)과, 하부기판(132) 상에 형성된 TFT와, 화소전극(116) 및 하부 배향막(138)으로 구성되는 하부 어레이 기판과, 상부 어레이 기판 및 하부 어레이 기판 사이에 내부공간에 주입되는 액정(152)을 구비한다. The LCD panel 170 includes an upper array substrate (or color filter) including a black matrix 104, a color filter 106, a common electrode 118, and an upper alignment layer 108 sequentially formed on the upper substrate 102. Array substrate), a TFT formed on the lower substrate 132, a lower array substrate composed of a pixel electrode 116 and a lower alignment layer 138, and a liquid crystal injected into an internal space between the upper array substrate and the lower array substrate. 152 is provided.

상부 어레이 기판에 있어서, 블랙 매트릭스(104)는 하판의 TFT 영역과 도시하지 않은 게이트라인들 및 데이터라인들 영역에 대응되어 상부기판(102) 상에 형성되며, 컬러필터(106)가 형성될 셀영역을 마련한다. 블랙 매트릭스(104)는 빛샘을 방지함과 아울러 외부광을 흡수하여 콘트라스트를 높이는 역할을 한다. 컬러필터(106)는 블랙 매트릭스(4)에 의해 분리된 셀영역 및 블랙 매트릭스(4)에 걸쳐 형성된다. 이 컬러필터(106)는 R,G,B 별로 형성되어 R, G, B 색상을 구현한다. 공통전극(118)에는 액정의 움직임을 제어하기 위한 공통전압이 공급된다. 스페이서(113)는 상부 어레이 기판과 하부 어레이 기판 사이의 셀 갭을 유지하는 역할을 한다. In the upper array substrate, the black matrix 104 is formed on the upper substrate 102 corresponding to the TFT region of the lower plate and the gate line and data line regions not shown, and the cell in which the color filter 106 is to be formed. Provide an area. The black matrix 104 prevents light leakage and absorbs external light to increase contrast. The color filter 106 is formed over the cell region separated by the black matrix 4 and the black matrix 4. The color filter 106 is formed for each of R, G, and B to implement R, G, and B colors. The common electrode 118 is supplied with a common voltage for controlling the movement of the liquid crystal. The spacer 113 serves to maintain a cell gap between the upper array substrate and the lower array substrate.

하부 어레이 기판에 있어서, TFT는 게이트라인과 함께 하부기판(102) 위에 형성되는 게이트전극(109)과, 이 게이트전극(109)과 게이트 절연막(144)을 사이에 두고 중첩되는 반도체층(114,147)과, 반도체층(114,147)을 사이에 두고 데이터라인(도시하지 않음)과 함께 형성되는 소스/드레인전극(140,142)을 구비한다. 이러한 TFT는 게이트라인으로 부터의 스캔신호에 응답하여 데이터라인으로부터 화소신호를 화소전극(116)에 공급한다. In the lower array substrate, the TFTs include gate electrodes 109 formed on the lower substrate 102 together with gate lines, and semiconductor layers 114 and 147 overlapping the gate electrodes 109 and the gate insulating layer 144 therebetween. And source / drain electrodes 140 and 142 formed with a data line (not shown) with the semiconductor layers 114 and 147 interposed therebetween. The TFT supplies a pixel signal from the data line to the pixel electrode 116 in response to a scan signal from the gate line.

화소전극(116)은 광투과율이 높은 투명전도성 물질로 보호막(150)을 사이에 두고 TFT의 드레인 전극(142)과 접촉된다. 액정배향을 위한 상/하부 배향막(108,138)은 폴리이미드 등과 같은 배향물질을 도포한 후 러빙공정을 수행함으로써 형성된다. 한편, IPS 모드 액정표시패널에서는 공통전극(118)이 하부기판(132) 상에 형성되고 상부기판(102) 상의 컬러필터(106) 상에 컬러필터(106)의 단차를 보상하기 위해 평탄화층이 형성된다. The pixel electrode 116 is a transparent conductive material having a high light transmittance and contacts the drain electrode 142 of the TFT with the passivation layer 150 therebetween. The upper and lower alignment layers 108 and 138 for liquid crystal alignment are formed by applying an alignment material such as polyimide and then performing a rubbing process. Meanwhile, in the IPS mode liquid crystal display panel, the common electrode 118 is formed on the lower substrate 132 and the planarization layer is provided to compensate for the step difference of the color filter 106 on the color filter 106 on the upper substrate 102. Is formed.

레이저조사장치(160)는 네오늄 YAG, 다이오드 및 CO2 중 적어도 어느 하나를 이용하여 생성되고 레이저조사장치(160)와 액정표시패널(170) 사이에 위치하는 초점조절부(162)에 의해 조사영역이 조절되는 레이저를 이물(155) 등과 대응되는 영역에의 기판(102) 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 조사한다. 예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이 초점조절부(162)로부터 조사영역이 조절된 레이저는 상부기판(102) 내부에 조사된다. 이 레이저는 상부기판(102) 내부의 소정영역을 불투명하게 헤이징(hazing)처리하게 된다. 즉, 레이저에 의해 조사된 상부기판(102) 내부는 조사되지 않은 영역과 다른 개질을 가지게 된다. 이에 따라, 백라이트에서 출사된 광이 불투명하게 헤이징처리된 영역(B)을 통과하지 못하게 됨으로써 헤이징처리 된 영역(B)은 영구적으로 암점화된다. 이와 같은 방식에 의해 휘점을 암점화함으로써 패널의 불량율이 최소화되어 수율이 항상된다. The laser irradiation device 160 is generated using at least one of neodymium YAG, a diode, and CO 2 , and is irradiated by the focus adjusting unit 162 positioned between the laser irradiation device 160 and the liquid crystal display panel 170. The laser of which the area is adjusted is irradiated to at least one of the substrate 102 and the plurality of thin films in an area corresponding to the foreign material 155 and the like. For example, as shown in FIG. 5, the laser whose irradiation area is adjusted from the focus adjusting unit 162 is irradiated inside the upper substrate 102. This laser opaquely processes a predetermined area inside the upper substrate 102. That is, the inside of the upper substrate 102 irradiated by the laser has a different modification from the unirradiated area. Accordingly, the light emitted from the backlight does not pass through the opaque hazed area B so that the hazed area B is permanently darkened. By darkening the point of light in this manner, the failure rate of the panel is minimized and the yield is always constant.

여기서, 레이저는 Nd YAG(yttrium aluminium garnet)laser(네오늄 고체를 이용하여 발진된 laser로써 증폭 매질로 YAG 결정을 이용하는 레이저를 말한다.), 다이오드레이저(N형반도체와 P형반도체 접합부의 carrier 이동이나 에너지준위이동시 발생하는 빛을 이용하여 발진하는 레이저를 말한다.) 및 CO2 를 이용하여 생성되는 레이저 중 적어도 어느 하나를 이용하고, 이때 레이저는 0.5~3J/㎠ 정도의 에너지를 가진다. 또한, 레이저의 파장은 100~600㎚ 정도이고, 바람직하게는 Nd YAG 및 다이오드레이저 중 적어도 어느 하나의 파장은 355~532㎚ 정도이며, CO2 를 이용한 파장은 100~120㎚ 정도이다.Here, the laser is an Nd YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser (a laser oscillated using a neonium solid, which refers to a laser using YAG crystals as an amplification medium), and a diode laser (carrier movement between an N-type semiconductor and a P-type semiconductor junction). Or a laser that oscillates using light generated when the energy level is shifted.) And at least one of lasers generated by using CO 2 , wherein the laser has an energy of about 0.5 to 3 J / cm 2. Further, the wavelength of the laser is about 100 ~ 600㎚, preferably at least one of the wavelength of the Nd YAG and diode lasers is about 355 ~ 532㎚, wavelength using the CO 2 is about 100 ~ 120㎚.

한편, 도 5에서는 상부기판(102) 내의 일영역을 불투명하게 헤이징처리하는 과정을 도시하였지만, 컬러필터(106), 공통전극(118), IPS모드의 액정표시패널에서는 평탄화층, 배향막(108) 등 이물(155) 위에 적층되는 어떠한 박막에도 불투명하게 헤이징처리할 수 있다. 여기서, 초점조절부(162)를 이용하여 레이저의 조사영역이 조절가능하다. 초점조절부(162)는 렌즈 및 거울 중 적어도 어느 하나를 포함한다. In FIG. 5, a process of opaquely processing a region of the upper substrate 102 is illustrated. However, in the color filter 106, the common electrode 118, and the IPS mode liquid crystal display panel, the planarization layer and the alignment layer 108 are illustrated. The thin film stacked on the foreign material 155 can be opaquely processed. Here, the irradiation area of the laser can be adjusted using the focus adjusting unit 162. The focus controller 162 includes at least one of a lens and a mirror.

이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 리페어 장치는 액정표시패널(170)의 일영역에 이물(155)이 안착된 경우 상기 이물(155)과 대응되는 영역에의 기판 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하는 레이저조사 장치(170)를 포함한다. 이 레이저조사장치(170)를 이용하여 소정영역을 불투명하게 헤이징(hazing)처리함으로써 백라이트에서 출사된 광이 헤이징처리된 영역(B)을 통과하지 못하게 된다. 이에 따라, 헤이징처리된 영역(B)은 암점화됨으로써 패널의 불량율이 최소화되는 등 수율이 항상된다.As described above, when the foreign material 155 is seated in one region of the liquid crystal display panel 170, the repair apparatus of the liquid crystal display panel according to the exemplary embodiment of the present invention may have a plurality of substrates and a plurality of substrates in the region corresponding to the foreign substance 155. It includes a laser irradiation device 170 for irradiating a laser to at least one of the thin films. By using the laser irradiation apparatus 170, the predetermined area is hazed opaquely so that the light emitted from the backlight cannot pass through the area B. As a result, the shaded area B is darkened so that the yield rate is always minimized.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 리페어 방법을 설명하기 위한 순서도이다. 6 is a flowchart illustrating a repair method of a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 리페어 방법은 제1 박막들이 형성된 제1 기판 및 제2 박막들이 형성된 제2 기판이 액정을 사이에 두고 합착된 액정표시패널을 마련하는 단계와; 상기 액정표시패널의 일영역에 이물이 안착된 경우 상기 이물과 대응되는 영역에의 기판 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하여 상기 레이저가 조사된 영역이 불투명하게 헤이징처리되는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of repairing a liquid crystal display panel, comprising: preparing a liquid crystal display panel in which a first substrate on which first thin films are formed and a second substrate on which second thin films are formed are bonded together with a liquid crystal interposed therebetween; When a foreign material is seated in one area of the liquid crystal display panel, irradiating a laser to at least one of the substrate and the plurality of thin films in the area corresponding to the foreign material so that the laser irradiated area is opaquely processed. It includes.

이하, 도 6를 참조하여 좀더 구체적으로 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, with reference to Figure 6 will be described in more detail as follows.

상부기판(102) 상에 순차적으로 블랙 매트릭스(104), 컬러필터(106), 공통전극(118), 스페이서(113), 상부 배향막(108)이 형성된 상부 어레이 기판(또는 컬러필터 어레이 기판)이 형성된다.(S2) An upper array substrate (or color filter array substrate) on which the black matrix 104, the color filter 106, the common electrode 118, the spacer 113, and the upper alignment layer 108 are sequentially formed on the upper substrate 102. (S2)

또한, 별도의 공정에 의해 하부기판(132) 상에 게이트 라인 및 데이터 라인(40), 게이트 라인 및 데이터 라인의 교차영역에 형성되는 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터와 접속된 화소전극(116), 하부 배향막(138)이 형성된 하부 어레이 기판(박막 트랜지스터 어레이 기판)이 형성된다.(S4) 한편, IPS모드의 액정표시패널의 경우에는 공통전극(118)이 하부기판(132) 상에 형성되고 상부기판(102)의 컬러필터(106) 상에 평탄화층이 형성된다. In addition, a thin film transistor, a pixel electrode 116 connected to the thin film transistor, and a lower alignment layer are formed on the lower substrate 132 at the intersection of the gate line and the data line 40, the gate line and the data line by a separate process. A lower array substrate (thin film transistor array substrate) on which 138 is formed is formed. (S4) Meanwhile, in the case of the liquid crystal display panel of the IPS mode, the common electrode 118 is formed on the lower substrate 132 and the upper substrate ( The planarization layer is formed on the color filter 106 of the 102.

이후, 액정을 사이에 두고 상부기판과 하부기판이 합착됨으로서 액정표시패널의 형성된다.(S6) Thereafter, the upper substrate and the lower substrate are bonded together with the liquid crystal interposed therebetween, thereby forming the liquid crystal display panel (S6).

이후, 상부기판(102)의 박막과 박막 사이 예를 들어, 공통전극(118)과 상부 배향막(108) 상에 이물(155) 등이 삽입되는 경우에는 도 4에 도시된 레이저조사장치(160)를 이용하여 이물(155)과 대응되는 영역에의 기판, 다수의 박막 예를 들어, 상부기판(102) 내에 레이저를 조사한다. 여기서, 초점조절부(162)를 이용하여 레이저의 조사의 조사영역 및 초점거리를 조절할 수 있다.Subsequently, when a foreign material 155 or the like is inserted between the thin film and the thin film of the upper substrate 102, for example, on the common electrode 118 and the upper alignment layer 108, the laser irradiation apparatus 160 illustrated in FIG. 4. The laser is irradiated to the substrate, a plurality of thin films, for example, the upper substrate 102, to a region corresponding to the foreign material 155 by using the. Here, the focusing unit 162 may adjust the irradiation area and the focal length of the laser irradiation.

이에 따라, 레이저가 조사된 상부기판(102) 내부가 불투명하게 헤이징처리된다.(S8) 이 불투명하게 헤이징(hazing)처리된 영역으로는 백라이트에서 출사된 광이 통과하지 못하게 된다. 이에 따라, 헤이징처리된 영역은 암점화됨으로써 패널의 불량율이 최소화되어 수율이 항상된다. 여기서, 레이저는 Nd YAG(yttrium aluminium garnet)laser(네오늄 고체를 이용하여 발진된 laser로써 증폭 매질로 YAG 결정을 이용하는 레이저를 말한다.), 다이오드레이저(N형반도체와 P형반도체 접합부의 carrier 이동이나 에너지준위이동시 발생하는 빛을 이용하여 발진하는 레이저를 말한다.) 및 CO2 를 이용하여 생성되는 레이저 중 적어도 어느 하나를 이용하고, 이때 레이저는 0.5~3J/㎠ 정도의 에너지를 가진다. 또한, 레이저의 파장은 100~600㎚ 정도이고, 바람직하게는 Nd YAG 및 다이오드레이저 중 적어도 어느 하나 의 파장은 355~532㎚ 정도이며, CO2 를 이용한 파장은 100~120㎚ 정도이다.Accordingly, the inside of the upper substrate 102 to which the laser is irradiated is opaquely processed (S8). The light emitted from the backlight does not pass through the opaquely hazed region. Accordingly, the shaded area is darkened so that the defective rate of the panel is minimized and the yield is always maintained. Here, the laser is an Nd YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser (a laser oscillated using a neonium solid, which refers to a laser using YAG crystals as an amplification medium), and a diode laser (carrier movement between an N-type semiconductor and a P-type semiconductor junction). Or a laser that oscillates using light generated when the energy level is shifted.) And at least one of lasers generated by using CO 2 , wherein the laser has an energy of about 0.5 to 3 J / cm 2. Further, the wavelength of the laser is about 100 ~ 600㎚, preferably at least one of the wavelength of the Nd YAG and diode lasers is about 355 ~ 532㎚, wavelength using the CO 2 is about 100 ~ 120㎚.

이와 같이, 레이저를 소정영역에 조사하여 불투명하게 헤이징처리함으로써 휘점을 암점화하는 방식은 IPS 모드의 액정표시패널 및 TN 모드의 액정표시패널 뿐만아니라, ECB(Electrical Controlled Birefringence), 나아가 VA(Vertical Alignment) 모드의 액정표시패널에도 용이하게 적용될 수 있다.
In this way, the method of darkening the bright point by irradiating a laser to a predetermined area and opaquely irradiates not only an IPS mode liquid crystal display panel and a TN mode liquid crystal display panel but also ECB (Electric Controlled Birefringence), and VA (Vertical It can also be easily applied to the liquid crystal display panel of the alignment mode.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시패널의 리페어 장치 및 방법은 액정표시패널의 제조공정 중 박막과 박막 사이에 삽입되는 이물 등에 의해 휘점이 발생되는 경우 이물과 대응되는 영역에의 기판, 다수의 박막 중 어느 하나에 레이저를 조사하여 레이저가 조사된 영역을 불투명하게 헤이징처리 한다. 이에 따라, 헤이징처리된 영역은 암점화됨으로써 패널의 불량율이 최소화되어 수율이 항상된다.As described above, the repairing apparatus and method of the liquid crystal display panel according to the embodiment of the present invention may be applied to a region corresponding to the foreign material when bright spots are generated due to a foreign material inserted between the thin film and the thin film during the manufacturing process of the liquid crystal display panel. The laser is irradiated to any one of the substrate and the plurality of thin films to opaquely irradiate the laser irradiated area. Accordingly, the shaded area is darkened so that the defective rate of the panel is minimized and the yield is always maintained.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (12)

제1 박막들이 형성된 제1 기판 및 제2 박막들이 형성된 제2 기판이 액정을 사이에 두고 합착된 액정표시패널과; A liquid crystal display panel in which a first substrate on which first thin films are formed and a second substrate on which second thin films are formed are bonded to each other with a liquid crystal interposed therebetween; 상기 액정표시패널의 일영역에 이물이 안착된 경우 상기 이물과 대응되는 영역에의 기판 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하여 상기 레이저가 조사된 영역을 불투명하게 헤이징(hazing)처리하는 레이저조사장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 장치. When a foreign material is seated in one area of the liquid crystal display panel, at least one of a plurality of thin films and a substrate in a region corresponding to the foreign material is irradiated with a laser so as to opaque haze the area irradiated with the laser. Repair apparatus for a liquid crystal display panel comprising a laser irradiation apparatus for processing. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 액정표시패널과 상기 레이저조사장치 사이에 위치하여 상기 레이저의 조사영역 및 초점거리를 조절하는 초점조절부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 장치.And a focus adjusting unit positioned between the liquid crystal display panel and the laser irradiation device to adjust an irradiation area and a focal length of the laser. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 초점조절부는 렌즈 및 거울 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 장치.The focus adjusting unit includes at least one of a lens and a mirror. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 레이저는 네오늄 YAG, 다이오드 및 CO2 중 적어도 어느 하나를 이용하여 생성된 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 장치. And the laser is generated using at least one of neodyne YAG, a diode, and CO 2 . 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 레이저는 100~600㎚ 정도의 파장을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 장치. The laser is a repair device of a liquid crystal display panel, characterized in that having a wavelength of about 100 ~ 600nm. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 레이저는 0.5~3J/㎠ 정도의 에너지를 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 장치. The laser is a repair device of a liquid crystal display panel, characterized in that having an energy of about 0.5 ~ 3J / ㎠. 제1 박막들이 형성된 제1 기판 및 제2 박막들이 형성된 제2 기판이 액정을 사이에 두고 합착된 액정표시패널을 마련하는 단계와;Providing a liquid crystal display panel in which a first substrate on which first thin films are formed and a second substrate on which second thin films are formed are bonded to each other with a liquid crystal interposed therebetween; 상기 액정표시패널의 일영역에 이물이 안착된 경우 상기 이물과 대응되는 영역에의 기판 및 다수의 박막들 중 적어도 어느 하나에 레이저를 조사하여 상기 레이저가 조사된 영역이 불투명하게 헤이징처리되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 방법. When a foreign material is seated in one area of the liquid crystal display panel, irradiating a laser to at least one of the substrate and the plurality of thin films in the area corresponding to the foreign material so that the laser irradiated area is opaquely processed. Repair method of a liquid crystal display panel comprising a. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 액정표시패널과 상기 레이저조사장치 사이에 위치하는 초점조절부를 이용하여 상기 레이저의 조사영역 및 초점거리를 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 방법. And adjusting the irradiated area and the focal length of the laser by using a focus adjuster positioned between the liquid crystal display panel and the laser irradiation apparatus. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 초점조절부는 렌즈 및 거울 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 방법.The focus adjusting unit includes at least one of a lens and a mirror. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 레이저는 네오늄 YAG, 다이오드 및 CO2 중 적어도 어느 하나를 이용하여 생성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 방법. The laser is a method of repairing a liquid crystal display panel, characterized in that generated using at least one of the neodymium YAG, diode and CO 2 . 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 레이저는 100~600㎚ 중 적어도 어느 하나의 파장을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 방법. The laser has at least one wavelength of 100 ~ 600nm repair method of a liquid crystal display panel. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 레이저는 0.5~3J/㎠ 정도의 에너지를 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 리페어 방법.The laser is a repair method of a liquid crystal display panel, characterized in that having an energy of about 0.5 ~ 3J / ㎠.
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