KR20060063499A - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제조비용을 절감함과 아울러 박막화에 용이하도록 한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 상부기판과, 상기 상부기판에 유전체층 형성물질과 네온커팅물질이 혼합되어 형성되는 상부 유전체층과, 상기 상부 유전체층 상에 상기 상부 유전체층을 덮도록 형성되는 보호막과, 상기 상부기판과 대향되게 위치되는 하부기판을 구비한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법{Plasma Display Panel and Fabricating Method Thereof}
도 1은 종래의 3전극 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 구조를 나타내는 사시도이다.
도 2는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널에서 256계조를 표현하기 위한 한 프레임을 나타내는 도면이다.
도 3은 종래의 전면필터를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 의한 전면필터를 나타내는 단면도이다.
도 6은 유전체층에 네온커팅물질이 혼합되는 경우의 제조방법을 나타내는 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 네온커팅물질을 나타내는 도면이다.
도 8은 보호막에 네온커팅물질이 혼합되는 경우 제조방법을 나타내는 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
10,110 : 상부기판 12Y,12Z,112Y,112Z : 투명전극
13Y,13Z,113Y,113Z : 버스전극 14,22,114,122 : 유전체층
16,116 : 보호막 18,118 : 하부기판
24,124 : 격벽 26,126 : 형광체층
30,130 : 전면필터 50,150 : 무반사막
52 : 광특성막 54,154 : 글래스
56,156 : EMI 차폐막 58,158 : NIR 차폐막
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법에 관한 것으로 특히, 제조비용을 절감함과 아울러 박막화에 용이하도록 한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하 "PDP"라 함)은 He+Xe, Ne+Xe 또는 He+Ne+Xe 등의 불활성 혼합가스의 방전시 발생하는 147nm의 자외선에 의해 형광체를 발광시킴으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상을 표시하게 된다. 이러한 PDP는 박막화와 대형화가 용이할 뿐만 아니라 최근의 기술 개발에 힘입어 크게 향상된 화질을 제공한다. 특히, 3전극 교류 면방전형 PDP는 방전시 표면에 벽전하가 축적되며 방전에 의해 발생되는 스퍼터링으로부터 전극들을 보호하기 때문에 저전압 구동과 장수명의 장점을 가진다.
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 구조를 나타내는 사시도이다.
도 1을 참조하면, 3전극 교류 면방전형 PDP의 방전셀은 상부기판(10) 상에 형성되어진 주사전극(Y) 및 유지전극(Z)과, 하부기판(18) 상에 형성되어진 어드레스전극(X)을 구비한다. 주사전극(Y)과 유지전극(Z) 각각은 투명전극(12Y,12Z)과, 투명전극(12Y,12Z)의 선폭보다 작은 선폭을 가지며 투명전극의 일측 가장자리에 형성되는 금속버스전극(13Y,13Z)을 포함한다.
투명전극(12Y,12Y)은 통상 인듐틴옥사이드(Indium-Tin-Oxide : ITO)로 상부기판(10) 상에 형성된다. 금속버스전극(13Y,13Z)은 통상 크롬(Cr) 등의 금속으로 투명전극(12Y,12Z) 상에 형성되어 저항이 높은 투명전극(12Y,12Z)에 의한 전압강하를 줄이는 역할을 한다. 주사전극(Y)과 유지전극(Z)이 나란하게 형성된 상부기판(10)에는 상부 유전체층(14)과 보호막(16)이 적층된다. 상부 유전체층(14)에는 플라즈마 방전시 발생된 벽전하가 축적된다. 보호막(16)은 플라즈마 방전시 발생된 스퍼터링에 의한 상부 유전체층(14)의 손상을 방지함과 아울러 2차 전자의 방출 효율을 높이게 된다. 보호막(16)으로는 통상 산화마그네슘(MgO)이 이용된다.
어드레스전극(X)이 형성된 하부기판(18) 상에는 하부 유전체층(22), 격벽(24)이 형성되며, 하부 유전체층(22)과 격벽(24) 표면에는 형광체층(26)이 도포된 다. 어드레스전극(X)은 주사전극(Y) 및 유지전극(Z)과 교차되는 방향으로 형성된다. 격벽(24)은 스트라이프(Stripe) 또는 격자형 형태로 형성되어 방전에 의해 생성된 자외선 및 가시광이 인접한 방전셀에 누설되는 것을 방지한다. 형광체층(26)은 플라즈마 방전시 발생된 자외선에 의해 여기되어 적색, 녹색 또는 청색 중 어느 하나의 가시광선을 발생하게 된다. 상/하부기판(10,18)과 격벽(24) 사이에 마련된 방전공간에는 불활성 혼합가스가 주입된다.
PDP는 화상의 계조를 구현하기 위하여, 한 프레임을 발광횟수가 다른 여러 서브필드로 나누어 시분할 구동하게 된다. 각 서브필드는 전화면을 초기화시키기 위한 초기화기간과, 주사라인을 선택하고 선택된 주사라인에서 셀을 선택하기 위한 어드레스기간과, 방전횟수에 따라 계조를 구현하는 서스테인기간으로 나뉘어진다.
예를 들어, 256 계조로 화상을 표시하고자 하는 경우에 도 2와 같이 1/60 초에 해당하는 프레임 기간(16.67ms)은 8개의 서브필드들(SF1내지SF8)로 나누어지게 된다. 8개의 서브 필드들(SF1내지SF8) 각각은 전술한 바와 같이, 초기화기간, 어드레스기간과 서스테인기간으로 나누어지게 된다. 각 서브필드의 초기화기간과 어드레스 기간은 각 서브필드마다 동일한 반면에 서스테인 기간은 각 서브필드에서 2n(n=0,1,2,3,4,5,6,7)의 비율로 증가된다.
이와 같이 구동되는 PDP에서는 상부기판(10) 상에는 전자파를 차폐함과 아울러 외부광의 반사를 방지하기 위하여 전면필터가 설치되게 된다.
도 3은 종래의 전면필터를 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 종래의 전면필터(30)는 무반사막(50), 광특성막(52), 글래스(54), EMI 차폐막(56) 및 근적외선(near infrared : 이하 "NIR"이라 함) 차폐막(58)을 구비한다. 실제로, 종래의 전면필터(30) 각 막들(50,52,54,56,58) 사이에는 접착층이 형성되어 각각의 막들(50,52,54,56,58)을 접착시킨다. 그리고, 전면필터(30)의 구조는 제조업체에 따라서 약간씩 변화된다. 본원에서는 설명의 편의성을 위하여 접착층을 도시하지 않았으며, 현재 일반적으로 사용되는 전면필터(30)의 구조를 예로 들었다.
무반사막(Antireflection Coating)(50)은 전면필터의 표면에 형성되어 외부로부터 PDP로 입사되는 광이 다시 외부로 반사되는 것을 방지한다. 다시 말하여, 무반사막(50)은 외부로부터 입사된 광이 PDP외부로 다시 방출되는 것을 방지함으로써 콘트라스트를 향상시키게 된다.
광특성막(52)은 PDP로부터 방출되는 노란색 파장의 광을 흡수한다. 광특성막(52)에서 노란색 파장의 광이 흡수되면 상대적으로 적색광의 색순도가 향상된다. 다시 말하여, 광특성막(52)은 노란색 파장의 광을 흡수함으로써 적색광의 색순도를 향상시킨다. 이를 위하여, 광특성막(52)은 노란색 파장의 광을 흡수할 수 있는 네온(Ne) 물질로 형성된다.
글래스(54)는 외부 충격으로부터 전면필터(30)가 파손되는 것을 방지한다. 다시 말하여, 글래스(54)는 전면필터(30)가 외부 충격으로부터 파손되는 것을 방지하기 위하여 전면필터(30)를 지지한다. 여기서, 글래스(54)는 전면필터(30)에 포함되지 않을 수도 있다.
EMI 차폐막(56)은 EMI를 차폐하여 PDP로부터 입사되는 EMI가 외부로 방출되는 것을 방지한다.
NIR 차폐막(58)은 PDP로부터 입사되는 NIR을 차폐한다. 이와 같은 NIR 차폐막(58)은 리모콘등으로부터 PDP로 공급되는 신호들이 정상적으로 전달될 수 있도록 기준 이상의 NIR이 외부로 방출되는 것을 방지한다.
즉, 종래에는 전자파 차폐, NIR 차폐, 색순도 향상 및 외부광의 반사 등의 목적을 달성하기 위하여 전면필터(30)를 사용한다. 하지만, 종래의 전면필터(30)는 다수의 층으로 이루어지기 때문에 소정 이상의 두께로 형성되는 문제점이 발생된다. 그리고, 전면필터에 포함되는 광특성막(52)은 네온 등의 물질로 형성되기 때문에 독자적인 층으로 제작하기 어렵고, 이에 따라 많은 공정시간이 소모되는 문제점이 발생된다.
따라서, 본 발명의 목적은 제조비용을 절감함과 아울러 박막화에 용이하도록 한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제 1실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널은 상부기판과, 상기 상부기판에 유전체층 형성물질과 네온커팅물질이 혼합되어 형성되는 상부 유전체층과, 상기 상부 유전체층 상에 상기 상부 유전체층을 덮도록 형성되는 보호막과, 상기 상부기판과 대향되게 위치되는 하부기판을 구비한다.
상기 네온커팅물질은 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상의 물질로 선택된다.
상기 네온커팅물질은 상기 유전체층 형성물질에 1% 내지 50% 혼합된다.
상기 유전체층 형성물질은 Pbo, SiO2, B2O3, Al2O3, ZnO, BaO, CoO, CuO 중 적어도 2가지 이상이 물질이 혼합된다.
상기 상부기판 상에 형성되며 광특성막을 포함하지 않는 전면필터를 더 구비한다.
본 발명의 제 2실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널은 상부기판과, 상기 상부기판에 형성되는 상부 유전체층과, 상기 상부 유전체층 상에 보호막 형성물질과 네온커팅물질이 혼합되어 형성되는 보호막과, 상기 상부기판과 대향되게 위치되는 하부기판을 구비한다.
상기 네온커팅물질은 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상의 물질로 선택된다.
상기 네온커팅물질은 상기 보호막 형성물질에 1% 내지 50% 혼합된다.
상기 보호막 형성물질은 MgO를 포함한다.
상기 상부기판 상에 형성되며 광특성막을 포함하지 않는 전면필터를 더 구비한다.
본 발명의 제 3실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널은 상부기판과, 상기 상부기판에 형성되는 상부 유전체층과, 상기 상부 유전체층 상에 상기 유전체층을 덮도록 형성되는 보호막과, 상기 상부기판과 대향되게 위치되는 하부기판을 구비하며, 상기 상부기판은 1% 내지 50%의 네온커팅물질을 포함한다.
상기 네온커팅물질은 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상의 물질로 선택된다.
상기 상부기판 상에 형성되며 광특성막을 포함하지 않는 전면필터를 더 구비한다.
본 발명의 제 1실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 유전체층 형성물질과 네온커팅물질을 혼합하여 혼합물질을 생성하는 제 1단계와, 상기 혼합물질에 용매를 추가하여 상기 혼합물질을 슬러리 또는 페이스트 상태로 변화시키는 제 2단계와, 상기 슬러리 또는 페이스트 상태의 혼합물질을 기판상에 도포하는 제 3단계와, 상기 도포된 혼합물질을 소성하여 유전체층을 형성하는 제 4단계를 포함한다.
상기 제 1단계에서 상기 네온커팅물질은 1% 내지 50% 혼합된다.
상기 네온커팅물질은 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상의 물질로 선택된다.
본 발명의 제 2실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 보호막 형성물질과 네온커팅물질을 혼합하여 혼합물질을 생성하는 제 1단계와, 상기 혼합물질에 용매를 추가하여 상기 혼합물질을 슬러리 또는 페이스트 상태로 변화시키 는 제 2단계와, 상기 슬러리 또는 페이스트 상태의 혼합물질을 유전체층 상에 도포하는 제 3단계와, 상기 도포된 혼합물질을 소성하여 보호막을 형성하는 제 4단계를 포함한다.
상기 제 1단계에서 상기 네온커팅물질은 1% 내지 50% 혼합된다.
상기 네온커팅물질은 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상의 물질로 선택된다.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
이하 도 4 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀을 나타내는 사시도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 PDP의 방전셀은 상부기판(110)에서 하부기판(118)의 대향면에 형성되는 주사전극(Y) 및 유지전극(Z)과, 상부기판(110) 상에 형성되는 전면필터(130)와, 하부기판(118)에서 상부기판(110)의 대향면에 형성되는 어드레스전극(X)을 구비한다. 주사전극(Y)과 유지전극(Z) 각각은 투명전극(112Y,112Z)과, 투명전극(112Y,112Z)의 선폭보다 작은 선폭을 가지며 투명전극의 일측 가장자리에 형성되는 금속버스전극(113Y,113Z)을 포함한다.
투명전극(112Y,112Y)은 통상 인듐틴옥사이드(Indium-Tin-Oxide : ITO)로 상부기판(110) 상에 형성된다. 금속버스전극(113Y,113Z)은 통상 크롬(Cr) 등의 금속 으로 투명전극(112Y,112Z) 상에 형성되어 저항이 높은 투명전극(112Y,112Z)에 의한 전압강하를 줄이는 역할을 한다. 주사전극(Y)과 유지전극(Z)이 나란하게 형성된 상부기판(110)에는 상부 유전체층(114)과 보호막(116)이 적층된다. 상부 유전체층(114)에는 플라즈마 방전시 발생된 벽전하가 축적된다. 보호막(116)은 플라즈마 방전시 발생된 스퍼터링에 의한 상부 유전체층(114)의 손상을 방지함과 아울러 2차 전자의 방출 효율을 높이게 된다. 보호막(116)으로는 통상 산화마그네슘(MgO)이 이용된다.
이와 같은 본 발명에서는 상부 유전체층(114), 보호막(116) 및/또는 상부기판(110)에는 색순도가 향상될 수 있도록 광특성 개선물질, 즉 네온이 추가로 포함된다. 이와 같이 광특성 개선물질이 상부 유전체층(114), 보호막(116) 및/또는 상부기판(110)에 포함되면 전면필터(130)에서 광특성막을 제거할 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.
어드레스전극(X)이 형성된 하부기판(118) 상에는 하부 유전체층(122), 격벽(124)이 형성되며, 하부 유전체층(122)과 격벽(124) 표면에는 형광체층(126)이 도포된다. 어드레스전극(X)은 주사전극(Y) 및 유지전극(Z)과 교차되는 방향으로 형성된다. 격벽(124)은 스트라이프(Stripe) 또는 격자형 형태로 형성되어 방전에 의해 생성된 자외선 및 가시광이 인접한 방전셀에 누설되는 것을 방지한다. 형광체층(126)은 플라즈마 방전시 발생된 자외선에 의해 여기되어 적색, 녹색 또는 청색 중 어느 하나의 가시광선을 발생하게 된다. 상/하부기판(110,118)과 격벽(124) 사이에 마련된 방전공간에는 불활성 혼합가스가 주입된다.
전면필터(130)는 전자파를 차폐함과 아울러 외부광의 반사를 방지한다. 이를 위하여, 전면필터(130)는 무반사막(150), 글래스(154), EMI 차폐막(156) 및 NIR 차폐막(158)을 구비한다. 즉, 본 발명의 전면필터(130)에는 광특성막이 포함되지 않는다. 그리고, 본발명에서 전면필터(130) 각각의 막들(150,154,156,158) 사이에는 도시되지 않은 접착층이 추가로 형성될 수 있다.
무반사막(150)은 전면필터의 표면에 형성되어 외부로부터 PDP로 입사되는 광이 다시 외부로 반사되는 것을 방지한다. 다시 말하여, 무반사막(150)은 외부로부터 입사된 광이 PDP외부로 다시 방출되는 것을 방지함으로써 콘트라스트를 향상시키게 된다.
글래스(154)는 외부 충격으로부터 전면필터(130)가 파손되는 것을 방지한다. 다시 말하여, 글래스(154)는 전면필터(130)가 외부 충격으로부터 파손되는 것을 방지하기 위하여 전면필터(130)를 지지한다. 여기서, 글래스(154)는 전면필터(130)에 포함되지 않을 수도 있다. EMI 차폐막(156)은 EMI를 차폐하여 PDP로부터 입사되는 EMI가 외부로 방출되는 것을 방지한다.
NIR 차폐막(158)은 PDP로부터 외부로 방출되는 NIR을 차폐한다. 이와 같은 NIR 차폐막(158)은 리모콘등으로부터 PDP로 공급되는 신호들이 정상적으로 전달될 수 있도록 기준 이상의 NIR이 외부로 방출되는 것을 방지한다.
이와 같은 본 발명의 전면필터(130)에는 광특성막이 포함되지 않는다. 이와 같이 전면필터(130)에 광특성막이 포함되지 않으면 종래에 비하여 PDP를 박형화할 수 있다. 그리고, 전면필터(130)에 광특성막이 포함되지 않으면 제조비용이 절감 됨과 동시에 공정시간을 단축할 수 있다.
도 6은 광특성 개선물질이 상부 유전체층에 포함될 때 상부 유전체층의 제조방법을 나타내는 도면이다.
도 6을 참조하면, 먼저 유전체층 물질과 광특성 개선물질인 네온커팅물질이 혼합된다.(S200) 유전체층 물질은 Pbo, SiO2, B2O3, Al2O3, ZnO, BaO, CoO, CuO 중 적어도 2가지 이상이 물질이 혼합되어 구성된다. 네온커팅물질은 도 7a 및 도 7b와 같이 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상의 물질로 선택된다. 실제로, S200 단계에서 네온커팅물질은 유전체층 물질에 1% 내지 50% 추가된다. 이후, 설명의 편의성을 위하여 유전체층 물질과 네온커팅물질의 혼합물을 제 1혼합물질로 부르기로 한다.
S200 단계에서 생성된 제 1혼합물질은 상부기판(110)상에 도포될 수 있도록 슬러리(Slurry) 또는 페이스트(Paste) 상태로 변화된다.(S202) 이를 위해, S202 단계에서는 제 1혼합물질에 소정의 용매가 추가된다. 여기서, S202 단계에서 사용되는 용매는 유전체층(114) 형성물질을 슬러리(Slurry) 또는 페이스트(Paste) 상태로 변화시킬 때 사용되는 공지된 용액이 선택될 수 있다.
S202 단계에서 슬러리 또는 페이스트 상태로 변화된 제 1혼합물질은 상부기판(110)에 도포된다.(S204) 그리고, S204 단계에서 도포된 제 1혼합물질은 소정온도에서 소정됨으로써 상부 유전체층(114)을 형성한다.(S206)
이와 같이 형성된 상부 유전체층(114)은 유전체층의 역활과 광특성막 역활을 동시에 수행한다. 다시 말하여, 상부 유전체층(114)에는 방전에 의하여 소정의 벽전하가 형성된다. 그리고, 상부 유전체층(114)은 방전에 의하여 생성된 노란색 파장의 광을 일부 흡수함으로써 적색광의 색순도를 향상시킨다.
도 8은 광특성 개선물질이 보호막에 포함될 때 보호막의 제조방법을 나타내는 도면이다.
도 8을 참조하면, 먼저 보호막 형성물질과 광특성 개선물질인 네온커팅물질이 혼합된다.(S210) 보호막 형성물질은 일반적으로 Mgo를 포함하는 물질로 선택된다. 네온커팅물질은 도 7a 및 도 7b와 같이 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상의 물질로 선택된다. 실제로, S210 단계에서 네온커팅물질은 유전체층 물질에 1% 내지 50% 추가된다. 이후, 설명의 편의성을 위하여 유전체층 물질과 네온커팅물질의 혼합물을 제 2혼합물질로 부르기로 한다.
S210 단계에서 생성된 제 2혼합물질은 상부기판(110)상에 도포될 수 있도록 슬러리(Slurry) 또는 페이스트(Paste) 상태로 변화된다.(S212) 이를 위해, S212 단계에서는 제 2혼합물질에 소정의 용매가 추가된다. 여기서, S212 단계에서 사용되는 용매는 보호막(116) 형성물질을 슬러리(Slurry) 또는 페이스트(Paste) 상태로 변화시킬 때 사용되는 공지된 용액이 선택될 수 있다.
S212 단계에서 슬러리 또는 페이스트 상태로 변화된 제 2혼합물질은 상부기판(110)에 도포된다.(S214) 그리고, S214 단계에서 도포된 제 2혼합물질은 소정온도에서 소정됨으로써 보호막(116)을 형성한다.(S216)
이와 같이 형성된 보호막(116)은 유전체층의 역활과 광특성막 역활을 동시에 수행한다. 다시 말하여, 보호막(116)은 상부 유전체층(114)을 보호함과 동시에 노란색 파장의 광을 일부 흡수함으로써 적색광의 색순도를 향상시킨다.
한편, 본 발명에서는 상부기판(130)에 광특성 개선물질을 포함시킬 수도 있다. 이경우, 상부기판(130) 형성물질에 네온을 1% 내지 50% 추가하여 상부기판(130)을 형성한다. 그러면, 상부기판(130)은 패널로부터 외부로 방출되는 노란색 파장의 광을 일부 흡수하여 적색광을 색순도를 향상시킨다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법에 의하면 네온커팅물질이 포함되도록 상부 유전체층, 보호막 또는 상부기판을 형성한다. 그러면, 네온커팅물질을 포함하는 상부 유전체층, 보호막 또는 상부기판은 패널로부터 외부로 방출되는 노란색 파장의 광을 일부 흡수하여 적색광을 색순도를 향상시킨다. 또한, 본 발명에서는 전면필터에서 광특성막을 제거할 수 있고, 이에 따라 패널의 박형화함과 아울러 제조비용을 절감할 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.

Claims (19)

  1. 상부기판과,
    상기 상부기판에 유전체층 형성물질과 네온커팅물질이 혼합되는 상부 유전체층과,
    상기 상부 유전체층 상에 상기 상부 유전체층을 덮도록 형성되는 보호막과,
    상기 상부기판과 대향되게 위치되는 하부기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 네온커팅물질은,
    Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 네온커팅물질은 상기 유전체층에 1% 내지 50% 혼합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 유전체층은 Pbo, SiO2, B2O3, Al2O3, ZnO, BaO, CoO, CuO 중 적어도 2가지 이상이 물질이 혼합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 상부기판 상에 형성되며 광특성막을 포함하지 않는 전면필터를 더 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 상부기판과,
    상기 상부기판에 형성되는 상부 유전체층과,
    상기 상부 유전체층 상에 보호막 형성물질과 네온커팅물질이 혼합되어 형성되는 보호막과,
    상기 상부기판과 대향되게 위치되는 하부기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 네온커팅물질은,
    Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 네온커팅물질은,
    상기 보호막에 1% 내지 50% 혼합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  9. 제 6항에 있어서,
    상기 보호막은 MgO를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  10. 제 6항에 있어서,
    상기 상부기판 상에 형성되며 광특성막을 포함하지 않는 전면필터를 더 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  11. 상부기판과,
    상기 상부기판에 형성되는 상부 유전체층과,
    상기 상부 유전체층 상에 상기 유전체층을 덮도록 형성되는 보호막과,
    상기 상부기판과 대향되게 위치되는 하부기판을 구비하며,
    상기 상부기판은 1% 내지 50%의 네온커팅물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 네온커팅물질은,
    Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  13. 제 11항에 있어서,
    상기 상부기판 상에 형성되며 광특성막을 포함하지 않는 전면필터를 더 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  14. 유전체층 형성물질과 네온커팅물질을 혼합하여 혼합물질을 생성하는 제 1단계와,
    상기 혼합물질에 용매를 추가하여 상기 혼합물질을 슬러리 또는 페이스트 상태로 변화시키는 제 2단계와,
    상기 슬러리 또는 페이스트 상태의 혼합물질을 기판상에 도포하는 제 3단계와,
    상기 도포된 혼합물질을 소성하여 유전체층을 형성하는 제 4단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 제 1단계에서 상기 네온커팅물질은 1% 내지 50% 혼합되는 것을 특징으 로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  16. 제 14항에 있어서,
    상기 네온커팅물질은 Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  17. 보호막 형성물질과 네온커팅물질을 혼합하여 혼합물질을 생성하는 제 1단계와,
    상기 혼합물질에 용매를 추가하여 상기 혼합물질을 슬러리 또는 페이스트 상태로 변화시키는 제 2단계와,
    상기 슬러리 또는 페이스트 상태의 혼합물질을 유전체층 상에 도포하는 제 3단계와,
    상기 도포된 혼합물질을 소성하여 보호막을 형성하는 제 4단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  18. 제 17항에 있어서,
    상기 제 1단계에서 상기 네온커팅물질은 1% 내지 50% 혼합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  19. 제 17항에 있어서,
    상기 네온커팅물질은,
    Phorpyrin계 염료 및 squarylium계 염료 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
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