KR20060058403A - 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한액정 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한액정 표시 장치의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치는 기판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하고 있는 헤드, 헤드 아래에 설치되어 있으며 기판 위에 스페이서 용액을 적하하는 노즐, 헤드에 설치되어 있으며 기판 위에 적하된 스페이서 용액을 경화시켜 스페이서를 형성하는 경화 장치를 포함하는 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법은 스페이서를 노즐을 이용하여 적하한 후 경화하여 형성함으로써 고가의 노광 설비를 사용하지 않아도 되기 때문에 생산 원가가 절감된다는 장점이 있다. 또한, 노광 공정을 이용하지 않아도 됨으로써 제조 공정이 단축된다는 장점이 있다.
스페이서, 노즐, 경화, 감광액

Description

액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법{MANUFACTURING APPARATUS OF SPACER AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME}
도 1 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치용 스페이서의 제조 방법을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치용 스페이서가 형성되어 있는 액정 표시 장치의 배치도이다.
도 7a 및 도 7b는 각각 도 6의 VIIa-VIIa' 및 VIIb-VIIb'선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
32a, 32b: 스페이서 용액 50: 헤드
55: 노즐 56: 경화 장치
320a, 320b: 스페이서
본 발명은 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 전계 생성 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어져, 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 액정층을 통과하는 빛의 투과율을 조절하는 표시 장치이며, 상, 하부 표시은 가장자리 둘레에 형성되어 있는 밀봉재로 결합되어 있으며, 상, 하부 표시판 사에 산포되어 있는 액정 표시 장치용 스페이서에 의해 지지되고 있다.
스페이서는 구형이며 불규칙적으로 산포되는 비즈 스페이서(beads spacer)와 일정한 패턴으로 형성하는 컬럼 스페이서(column spacer) 또는 리지드 스페이서(rigid spacer)로 구분된다.
컬럼 스페이서는 색 필터 표시판에 감광막을 도포하고 노광 및 현상하여 화소 내부의 빛이 투과하지 않는 부분, 예컨대, 채널부, 게이트선, 유지 전극선 등에 대응하는 패턴으로 형성한다.
그러나, 이와 같은 사진 식각 공정으로 컬럼 스페이서를 형성하는 경우에는 고가의 광 마스크(mask)가 필요하며, 기판이 대형화됨에 따라 광 마스크의 제작 및 노광 장치에 많은 비용이 요구된다.
본 발명의 기술적 과제는 생산 원가가 단축된 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치는 기판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하고 있는 헤드, 상기 헤드 아래에 설치되어 있으며 상기 기판 위에 스페이서 용액을 적하하는 노즐, 상기 헤드에 설치되어 있으며 상기 기판 위에 적하된 스페이서 용액을 경화시켜 스페이서를 형성하는 경화 장치를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, UV 또는 플라즈마를 이용하여 상기 기판 위에 형성된 복수개의 스페이서의 높이를 균일하게 하는 에싱 장치를 더 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 경화 장치는 국소 노광 장치 또는 열 경화 장치인 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서의 높이는 상기 스페이서 용액의 점도, 적하량 또는 적하 후 경화까지의 시간을 조절함으로써 결정되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서 용액의 점도가 높을수록 상기 스페이서의 높이는 높아지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서 용액의 적하량이 많을수록 상기 스페이서의 높이는 높아지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서 용액의 적하 후 경화까지의 시간이 짧을수록 상기 스페이서의 높이는 높아지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서 용액은 광경화성 감광액 또는 열경화성 감광액을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 기판 위에 블랙 매트릭 스를 형성하는 단계, 상기 기판 위에 색 필터를 형성하는 단계, 상기 색 필터 및 블랙 매트릭스 위에 오버 코트막을 형성하는 단계, 상기 오버 코트막 위에 공통 전극을 형성하는 단계, 상기 공통 전극 위에 노즐을 이용하여 스페이서 용액을 적하하는 단계, 상기 스페이서 용액을 경화시켜 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서 용액은 상기 기판 위의 블랙 매트릭스에 대응하는 부분에 적하되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서를 포함하는 기판 위에 UV 또는 플라즈마를 이용하여 에싱 공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서 용액은 광 경화 또는 열 경화를 이용하여 경화되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스페이서 용액은 감광액을 포함하는 것이 바람직하다.
그러면, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치용 스 페이서 제조 장치는 기판(210)과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하고 있는 헤드(50), 헤드 아래에 설치되어 있는 노즐(55), 헤드(50) 아래에 설치되어 있는 경화 장치(56)를 포함한다.
이와 같은 기판 위에서 기판(210)과 평행하게 헤드(50)는 수평 이동하며, 이 때, 헤드(50)에 설치되어 있는 노즐(55)은 기판 위의 여러 부분에 복수개의 스페이서 용액(32a)을 적하한다. 이 때, 스페이서 용액(32a)은 기판(210) 위의 블랙 매트릭스(220)에 대응하는 부분에 적하된다. 이러한 스페이서 용액(32a)은 광경화성 감광액 또는 열경화성 감광액인 것이 바람직하다.
그리고, 경화 장치(56)는 국소 노광 장치로서 국소적으로 포커싱되는 램프 등을 이용하여 스페이서 방울을 광 경화시킨다.
상술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.
도 1 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치용 스페이서의 제조 방법을 도시한 도면이다.
기판(210)은 색필터가 형성되어 있는 색필터 표시판일 수도 있으며, 박막 트랜지스터가 형성되어 있는 박막 트랜지스터 표시판일 수도 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 색필터 표시판 위에 스페이서가 형성되는 경우를 설명하고 있다.
도 1에 도시한 바와 같이, 기판(210) 위에는 매트릭스 형태로 형성되어 화소 영역을 구분하는 블랙 매트릭스(220)를 형성한다. 이러한 블랙 매트릭스(220)는 크롬(Cr) 또는 유기물질로 형성할 수 있다.
이러한 블랙 매트릭스(220)의 일부와 중첩되어 블랙 매트릭스(220) 사이에 화상을 표시하는데 요구되는 적색 필터(230R), 녹색 필터(230G) 및 청색 필터(230B)를 형성한다. 적색 필터(230R), 녹색 필터(230G) 및 청색 필터(230B)를 스트라이프 형태로 형성할 수도 있고, 적색 필터(230R), 녹색 필터(230G) 및 청색 필터(230B)를 각각의 화소마다 분리하여 형성할 수도 있다.
다음으로, 블랙 매트릭스(220), 청색 필터(230B), 녹색 필터(230G) 및 적색 필터(230R)를 보호하기 위해 블랙 매트릭스(220), 청색 필터(230B), 녹색 필터(230G) 및 적색 필터(230R) 위에 오버 코트막(250)을 형성한다.
그리고, 오버 코트막(250) 위에 화소 전극(190)과 함께 전계를 형성하는 공통 전극(270)을 형성한다.
그리고, 하나의 스페이서 용액(32a)을 노즐(55)을 이용하여 블랙 매트릭스(220)에 대응하는 공통 전극(270) 위에 적하한다.
그리고, 도 2에 도시한 바와 같이, 노즐(55)을 소정 간격 이동하여 다른 하나의 스페이서 용액(32b)을 블랙 매트릭스(220)에 대응하는 공통 전극(270) 위에 적하한다. 그리고, 이와 같은 적하 공정을 반복한다.
그리고, 도 3에 도시한 바와 같이, 적하 공정이 완료된 후에는 경화 장치(56)를 이용하여 하나의 스페이서 용액(32a)을 광 경화시켜 스페이서(320a)를 형성한다.
그리고, 도 4에 도시한 바와 같이, 헤드(50)를 이동하여 다른 하나의 스페이서 용액(32b)을 광 경화시켜 다른 하나의 스페이서(320b)를 형성한다. 이와 같은 경화 공정을 반복하여 모든 스페이서 용액을 스페이서로 형성한다.
이와 같이, 복수개의 스페이서 용액을 모두 적하한 후 국소 노광 장치를 이동하며 스페이서로 경화시킬 수도 있으며, 하나의 스페이서 용액을 적하한 후 즉시 국소 노광 장치를 이용하여 스페이서로 경화시키는 동작을 반복하여 모든 스페이서를 형성할 수도 있다.
한편, 열 경화 장치(도시하지 않음)를 이용하여 복수개의 스페이서 용액을 모두 적하한 후 동시에 스페이서 용액을 경화시킬 수도 있다.
이 때, 스페이서 용액(32a, 32b)의 점도, 적하량 또는 적하 후 경화까지의 시간을 조절함에 따라 스페이서(320a, 320b)의 높이 및 폭을 변경할 수 있다.
즉, 스페이서 용액(32a, 32b)의 점도가 높을수록 스페이서(320a, 320b)의 높이(d1, d2)는 높아지며, 스페이서 용액(32a, 32b)의 적하량이 많을수록 스페이서(320a, 320b)의 높이(d1, d2)는 높아지고, 스페이서 용액(32a, 32b)의 적하 후 경화까지의 시간이 짧을수록 스페이서(320a, 320b)의 높이(d1, d2)는 높아진다.
또한, 스페이서 용액(32a, 32b)의 점도가 높을수록 스페이서(320a, 320b)의 폭(w1, w2)은 작아지며, 스페이서 용액(32a, 32b)의 적하량이 많을수록 스페이서 (320a, 320b)의 폭(w1, w2)은 커지고, 스페이서 용액(32a, 32b)의 적하 후 경화까지의 시간이 짧을수록 스페이서(320a, 320b)의 폭(w1, w2)은 커진다.
그리고, 도 5에 도시한 바와 같이, 스페이서(320a, 320b)를 포함하는 기판(210) 위에 UV 또는 플라즈마를 이용하여 에싱 공정을 진행한다. 이 경우, 기판 위에 형성된 복수개의 스페이서(320a, 320b)의 높이가 서로 동일하게 되어 균일해 진다.
따라서, 상기와 같은 방법으로 스페이서를 형성하는 경우에는 별도의 광 마스크가 필요하지 않으며, 습식 식각 공정이 필요하지 않으므로 생산 원가가 절감된다. 또한, 스페이서 용액을 적하하여 스페이서를 형성하기 때문에 자연적으로 스페이서의 테이퍼 경사각이 완만하도록 스페이서를 형성할 수 있다.
이와 같은 스페이서 제조 공정을 이용하여 형성한 액정 표시 장치에 대해 이하에서 설명한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치용 스페이서가 형성되어 있는 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 7a 및 도 7b는 각각 도 6의 VIIa-VIIa' 및 VIIb-VIIb'선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
우선, 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판에 대해 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다.
도 6 내지 도 6b에 도시한 바와 같이, 절연 기판(110) 위에 복수의 게이트선(gate line)(121) 및 복수의 유지 전극선(storage electrode lines)(131)이 형성되어 있다.
게이트선(121)과 유지 전극선(131)은 주로 가로 방향으로 뻗어 있고 서로 분리되어 있다. 게이트선(121)은 게이트 신호를 전달하며, 각 게이트선(121)의 일부는 위 또는 아래로 돌출하여 복수의 게이트 전극(gate electrode)(124)을 이룬다. 유지 전극선(131)은 공통 전압(common voltage) 따위의 미리 정해진 전압을 인가 받으며, 폭이 위 또는 아래로 확장된 확장부(expansion)로 형성되어 있는 유지 전 극(137)을 포함한다.
게이트선(121) 및 유지 전극선(131)은 비저항(resistivity)이 낮은 은(Ag)이나 은 합금 등 은 계열 금속, 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열 금속 따위로 이루어진 도전막을 포함하며, 이러한 도전막에 더하여 다른 물질, 특히 ITO 또는 IZO와의 물리적, 화학적, 전기적 접촉 특성이 좋은 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금[보기: 몰리브덴-텅스텐(MoW) 합금] 따위로 이루어진 다른 도전막을 포함하는 다층막 구조를 가질 수도 있다. 하부막과 상부막의 조합의 예로는 크롬/알루미늄-네오디뮴(Nd) 합금을 들 수 있다.
게이트선(121) 및 유지 전극선(131)의 측면은 경사져 있으며, 경사각은 기판(110)의 표면에 대하여 약 30-80° 범위이다.
게이트선(121) 및 유지 전극선(131) 위에 질화규소(SiNx) 따위로 이루어진 게이트 절연막(140)이 형성되어 있다.
게이트 절연막(140) 위에는 수소화 비정질 규소(hydrogenated amorphous silicon)(비정질 규소는 약칭 a-Si로 씀) 등으로 이루어진 복수의 선형 반도체(151)가 형성되어 있다. 선형 반도체(151)는 주로 세로 방향으로 뻗어 있으며 이로부터 복수의 돌출부(extension)(154)가 게이트 전극(124)을 향하여 뻗어 나와 있다.
반도체(151)의 상부에는 실리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어진 복수의 선형 및 섬형 저항성 접촉 부재(ohmic contact)(161, 165)가 형성되어 있다. 선형 접촉 부재 (161)는 복수의 돌출부(163)를 가지고 있으며, 이 돌출부(163)와 섬형 접촉 부재(165)는 쌍을 이루어 반도체(151)의 돌출부(154) 위에 위치한다.
반도체(151)와 저항성 접촉 부재(161, 165)의 측면 역시 경사져 있으며 경사각은 30-80°이다.
저항 접촉 부재(161, 165) 및 게이트 절연막(140) 위에는 각각 복수의 데이터선(data line)(171)과 복수의 드레인 전극(drain electrode)(175)이 형성되어 있다.
데이터선(171)은 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121)과 교차하며 데이터 전압(data voltage)을 전달한다. 각 데이터선(171)에서 드레인 전극(175)을 향하여 뻗은 복수의 가지가 소스 전극(source electrode)(173)을 이룬다. 한 쌍의 소스 전극(173)과 드레인 전극(175)은 서로 분리되어 있으며 게이트 전극(123)에 대하여 서로 반대쪽에 위치한다. 드레인 전극(175)은 유지 전극선(131)의 확장부(137) 쪽으로 연장되어 확장부(137)와 중첩하는 확장부(177)를 가지고 있다. 게이트 전극(123), 소스 전극(173) 및 드레인 전극(175)은 반도체(151)의 노출부(154)와 함께 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)를 이루며, 박막 트랜지스터의 채널(channel)은 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 노출부(154)에 형성된다.
데이터선(171) 및 드레인 전극(175) 또한 은 계열 금속 또는 알루미늄 계열 금속 따위로 이루어진 도전막을 포함하며, 이러한 도전막에 더하여 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금 따위로 이루어진 다른 도전막을 포함하는 다층막 구조를 가질 수 있다. 데이터선(171)과 드레인 전극(175)의 측면 역시 경사져 있으며, 경사각은 수평면에 대하여 약 30-80° 범위이다.
데이터선(171) 및 드레인 전극(175)과 노출된 반도체 부분(154)의 위에는 유기 절연 물질로 이루어지는 보호막(180)이 형성되어 있다. 보호막(180)은 데이터선(171)의 일부(179)를 드러내는 접촉 구멍(182) 및 드레인 전극(175)의 일부를 드러내는 접촉 구멍(186)을 가지고 있다.
보호막(180) 위에는 ITO 또는 IZO로 이루어진 복수의 화소 전극(pixel electrode)(190) 및 복수의 접촉 보조 부재(contact assistant)(82)가 형성되어 있다.
화소 전극(190)은 접촉 구멍(186)을 통하여 드레인 전극(175)과 물리적·전기적으로 연결되어 드레인 전극(175)으로부터 데이터 전압을 인가 받는다.
데이터 전압이 인가된 화소 전극(190)은 상부 표시판의 공통 전극(도시하지 않음)과 함께 전기장을 생성함으로써 두 전극 사이의 액정층의 액정 분자들을 재배열시킨다.
또한, 화소 전극(190)과 공통 전극은 축전기[이하 액정 축전기(liquid crystal capacitor)라 함]를 이루어 박막 트랜지스터가 턴 오프된 후에도 인가된 전압을 유지하는데, 전압 유지 능력을 강화하기 위하여 액정 축전기와 병렬로 연결된 다른 축전기를 두며 이를 유지 축전기(storage electrode)라 한다. 유지 축전기는 화소 전극(190)과 유지 전극선(131)의 중첩 및 화소 전극(190)과 이웃 게이트선(121)[이를 전단 게이트선(previous gate line)이라 함]의 중첩 등으로 만들어지 며, 유지 축전기의 정전 용량, 즉 유지 용량을 늘이기 위하여 유지 전극선(131)을 확장한 확장부(137)를 두어 중첩 면적을 크게 하는 한편, 화소 전극(190)과 연결되고 확장부(137)와 중첩되는 드레인 전극(175)의 확장부(177)를 보호막(180) 아래에 두어 둘 사이의 거리를 가깝게 한다.
접촉 보조 부재(82)는 접촉 구멍(182)을 통하여 데이터선(171)의 끝부분(179)과 연결된다. 접촉 보조 부재(82)는 데이터선(171)의 끝부분(179)과 외부 장치와의 접착성을 보완하고 이들을 보호하는 역할을 하는 것으로 필수적인 것은 아니며, 이들의 적용 여부는 선택적이다.
그리고, 게이트선(121)의 한쪽 끝부분(129)은 게이트 구동 회로(도시하지 않음)로부터 전달되는 신호를 전달받기 위해 사용되며 게이트선(121) 폭보다 넓은 폭을 가질 수 있다.
그리고, 보호막(180)은 게이트선(121)의 끝 부분(129)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(181)을 가지고 있으며, 접촉 구멍(181)에는 게이트선(121)의 끝 부분(129)과 접촉하는 복수의 접촉 보조 부재(81)가 형성되어 있다. 이러한 접촉 보조 부재(81) 및 접촉 구멍(181)은 게이트선(121)에 신호를 공급하는 게이트 구동 회로(도시하지 않음)가 칩의 형태로 표시판(100) 또는 가요성 회로 기판(도시하지 않음) 위에 장착되는 경우에 필요하다. 반면, 게이트 구동 회로가 기판(110) 위에 직접 박막 트랜지스터 등으로 만들어지는 경우에는 접촉 구멍(181) 및 접촉 보조 부재(81)가 필요하지 않다.
화소 전극(190) 위에는 액정의 배향을 결정하는 하부 배향막(11)이 형성되어 있다.
다음으로, 액정 표시 장치용 색필터 표시판에 대해 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다.
도 6 및 도 7b에 도시한 바와 같이, 하부 배향막(11)과 소정 간격 이격되어 상부에 상부 기판(210)이 위치한다. 상부 기판(210) 위에는 매트릭스 형태로 형성되어 화소 영역을 구분하는 블랙 매트릭스(220)가 형성되어 있다.
이러한 블랙 매트릭스(220)의 일부와 중첩되어 블랙 매트릭스(220) 사이에 화상을 표시하는데 요구되는 적색 필터(230R), 녹색 필터(230G) 및 청색 필터(230B)가 형성되어 있다. 블랙 매트릭스(220), 청색 필터(230B), 녹색 필터(230G) 및 적색 필터(230R) 위에는 오버 코트막(250)이 형성되어 있다. 그리고, 오버 코트막(250) 위에는 화소 전극(190)과 함께 전계를 형성하는 공통 전극(270)이 형성되어 있다.
그리고, 이러한 공통 전극(270) 위에는 노즐(55)을 이용해 스페이서 용액을 적하하여 형성한 스페이서(320)가 형성되어 있다. 스페이서(320)는 블랙 매트릭스(220)에 대응하는 공통 전극(270) 위에 형성되어 있다.
이러한 기둥 모양의 스페이서(320)는 두 기판(110, 210)을 평행하게 지지하여 액정층(3)의 간격(셀 갭)을 일정하게 유지하게 한다. 그리고, 공통 전극(270)의 아래에는 상부 배향막(21)이 형성되어 있다.
본 발명에 따른 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치 및 이를 이용한 액정 표시 장치의 제조 방법은 스페이서를 노즐을 이용하여 적하한 후 경화하여 형성함으로써 고가의 노광 설비를 사용하지 않아도 되기 때문에 생산 원가가 절감된다는 장점이 있다.
또한, 노광 공정을 이용하지 않아도 됨으로써 제조 공정이 단축된다는 장점이 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

Claims (13)

  1. 기판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하고 있는 헤드,
    상기 헤드 아래에 설치되어 있으며 상기 기판 위에 스페이서 용액을 적하하는 노즐,
    상기 헤드에 설치되어 있으며 상기 기판 위에 적하된 스페이서 용액을 경화시켜 스페이서를 형성하는 경화 장치
    를 포함하는 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  2. 제1항에서,
    UV 또는 플라즈마를 이용하여 상기 기판 위에 형성된 복수개의 스페이서의 높이를 균일하게 하는 에싱 장치를 더 포함하는 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  3. 제1항에서,
    상기 경화 장치는 국소 노광 장치 또는 열 경화 장치인 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  4. 제1항에서,
    상기 스페이서의 높이는 상기 스페이서 용액의 점도, 적하량 또는 적하 후 경화까지의 시간을 조절함으로써 결정되는 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  5. 제1항에서,
    상기 스페이서 용액의 점도가 높을수록 상기 스페이서의 높이는 높아지는 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  6. 제1항에서,
    상기 스페이서 용액의 적하량이 많을수록 상기 스페이서의 높이는 높아지는 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  7. 제1항에서,
    상기 스페이서 용액의 적하 후 경화까지의 시간이 짧을수록 상기 스페이서의 높이는 높아지는 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  8. 제1항에서,
    상기 스페이서 용액은 광경화성 감광액 또는 열경화성 감광액을 포함하는 액정 표시 장치용 스페이서 제조 장치.
  9. 기판 위에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계,
    상기 기판 위에 색 필터를 형성하는 단계,
    상기 색 필터 및 블랙 매트릭스 위에 오버 코트막을 형성하는 단계,
    상기 오버 코트막 위에 공통 전극을 형성하는 단계,
    상기 공통 전극 위에 노즐을 이용하여 스페이서 용액을 적하하는 단계,
    상기 스페이서 용액을 경화시켜 스페이서를 형성하는 단계
    를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  10. 제9항에서,
    상기 스페이서 용액은 상기 기판 위의 블랙 매트릭스에 대응하는 부분에 적하되는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  11. 제9항에서,
    상기 스페이서를 포함하는 기판 위에 UV 또는 플라즈마를 이용하여 에싱 공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  12. 제9항에서,
    상기 스페이서 용액은 광 경화 또는 열 경화를 이용하여 경화되는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  13. 제9항에서,
    상기 스페이서 용액은 감광액을 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
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KR100807086B1 (ko) * 2006-08-16 2008-03-03 (주)에스티아이 액정표시장치의 스페이서 형성장치 및 이를 이용한스페이서 형성방법

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