KR20060057654A - Thin film transistor array panel and liquid crystal display - Google Patents

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이경필
최성식
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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는, 게이트선, 게이트선과 절연되어 교차하고 있는 데이터선, 각각의 게이트선 및 데이터선의 소스 전극과 연결되어 있으며, 드레인 전극 및 반도체를 가지는 박막 트랜지스터, 드레인 전극에 연결되어 있으며, 적어도 하나 이상의 꺾인 부분을 포함하고 있어 계단 모양을 이루는 용량성 결합 전극, 게이트선, 데이터선 및 박막 트랜지스터를 덮는 보호막, 드레인 전극과 직접 연결되어 있는 제1 화소 전극과 제1 화소 전극으로부터 분리되어 있으며 용량성 결합 전극과 중첩하여 제1 화소 전극과 용량성으로 연결되어 있는 제2 화소 전극을 포함하는 화소 전극을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판, 및 박막 트랜지스터 표시판과 마주하며, 공통 전극이 형성되어 있는 공통 전극 표시판을 포함한다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a thin film transistor having a drain electrode and a semiconductor, a drain electrode connected to a gate line, a data line insulated from and intersecting the gate line, and a gate electrode and a source electrode of the data line. A first pixel electrode and a first pixel connected directly to the drain electrode and a passivation layer covering the capacitive coupling electrode, the gate line, the data line, and the thin film transistor, each of which includes at least one bent portion and is connected to A thin film transistor array panel including a pixel electrode separated from the electrode and overlapping the capacitive coupling electrode, the pixel electrode including a second pixel electrode capacitively connected to the first pixel electrode, and facing the thin film transistor array panel. It includes a common electrode display panel formed.

액정표시장치, 수직배향, 편광판, 결합전극, 결합용량LCD, vertical alignment, polarizer, coupling electrode, coupling capacitance

Description

박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치{THIN FILM TRANSISTOR ARRAY PANEL AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY}Thin film transistor array panel and liquid crystal display including the same {THIN FILM TRANSISTOR ARRAY PANEL AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY}

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 배치도이고,1 is a layout view of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 공통 전극 표시판의 배치도이고,2 is a layout view of a common electrode panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 1 및 도 2의 표시판을 포함하는 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고,3 is a layout view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention including the display panel of FIGS. 1 and 2.

도 4는 도 3의 액정 표시 장치를 IV-IV'선을 따라 잘라 도시한 단면도이고,4 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 3 taken along the line IV-IV ';

도 5는 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 회로도이고,5 is a circuit diagram of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 구조를 도시한 배치도이고,6 is a layout view illustrating a structure of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 7은 도 6의 액정 표시 장치를 VII-VII' 선을 따라 잘라 도시한 단면도이고, FIG. 7 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 6 taken along the line VII-VII ′. FIG.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 구조를 도시한 배치도이고, 8 is a layout view illustrating a structure of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention.                 

도 9는 도 8의 액정 표시 장치를 IX-IX' 선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 9 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 8 taken along the line IX-IX '. FIG.

* 도면 부호에 대한 설명 *Explanation of reference numbers

11, 21: 배향막 12, 22: 편광판11, 21: alignment film 12, 22: polarizing plate

100, 200: 표시판 110, 210: 절연 기판100, 200: display panel 110, 210: insulating substrate

121 : 게이트선 124 : 게이트 전극121: gate line 124: gate electrode

131 : 유지 전극선 133a, 133b, 133c, 133d : 유지 전극 131: sustain electrode lines 133a, 133b, 133c, 133d: sustain electrode

140 : 게이트 절연막 151, 154: 반도체 140: gate insulating film 151, 154: semiconductor

161, 163, 165 : 저항성 접촉 부재 171, 179: 데이터선 173 : 소스 전극 175 : 드레인 전극 161, 163, 165: ohmic contacts 171, 179: data line 173: source electrode 175: drain electrode

176 : 용량성 결합 전극 180 : 절연막 176 capacitive coupling electrode 180 insulating film

181, 182, 185 : 접촉 구멍 190a, 190b: 화소 전극 220: 차광 부재 250: 덮개막181, 182, and 185: contact holes 190a and 190b: pixel electrode 220: light blocking member 250: overcoat

270: 공통 전극 3: 액정층 310: 액정 분자270: common electrode 3: liquid crystal layer 310: liquid crystal molecules

본 발명은 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 화소를 다중 도메인으로 분할하는 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film transistor array panel and a liquid crystal display including the same, and more particularly, to a thin film transistor array panel for dividing a pixel into multiple domains and a liquid crystal display including the same.

액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로 서, 화소 전극과 공통 전극 등 전계 생성 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어지며, 전계 생성 전극에 전압을 인가하여 액정층에 전계를 생성하고 이를 통하여 액정층의 액정 분자들의 배향을 결정하고 입사광의 편광을 제어함으로써 영상을 표시한다.The liquid crystal display is one of the most widely used flat panel display devices. The liquid crystal display includes two display panels on which field generating electrodes, such as a pixel electrode and a common electrode, are formed, and a liquid crystal layer interposed therebetween. Is applied to generate an electric field in the liquid crystal layer, thereby determining the orientation of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer and controlling the polarization of incident light to display an image.

그 중에서도 전계가 인가되지 않은 상태에서 액정 분자의 장축을 상하 표시판에 대하여 수직을 이루도록 배열한 수직 배향 모드 액정 표시 장치는 대비비가 크고 광시야각 구현이 용이하여 각광받고 있다. Among them, the vertical alignment mode liquid crystal display in which the long axis of the liquid crystal molecules are arranged perpendicular to the upper and lower display panels without an electric field applied to the display panel is high in contrast ratio and easy to implement a wide viewing angle.

수직 배향 모드 액정 표시 장치에서 광시야각을 구현하기 위한 수단으로는 전계 생성 전극에 절개부를 형성하는 방법과 전계 생성 전극 위에 돌기를 형성하는 방법 등이 있다. 절개부와 돌기로 액정 분자가 기우는 방향을 결정할 수 있으므로, 이들을 사용하여 액정 분자의 경사 방향을 여러 방향으로 분산시킴으로써 광시야각을 확보할 수 있다.Means for implementing a wide viewing angle in a vertical alignment mode liquid crystal display include a method of forming a cutout in the field generating electrode and a method of forming a protrusion on the field generating electrode. Since the direction in which the liquid crystal molecules are inclined by the cutout and the protrusion can be determined, the wide viewing angle can be secured by dispersing the inclination directions of the liquid crystal molecules in various directions.

그러나 수직 배향 방식의 액정 표시 장치는 전면 시인성에 비하여 측면 시인성이 떨어지는 문제점이 있다.However, the liquid crystal display of the vertical alignment type has a problem in that the side visibility is inferior to the front visibility.

또한, 이러한 수직 배향 방식의 액정 표시 장치는 전압을 인가하지 않은 상태에서 액정 분자의 장축이 수직하게 배열되어 있어 누설되는 빛을 최소화할 수 있은 높은 대비비를 확보할 수 있다.In addition, in the vertically aligned liquid crystal display, the long axes of the liquid crystal molecules are vertically arranged without applying a voltage, thereby ensuring a high contrast ratio to minimize leakage of light.

하지만, 신호선의 단차로 인하여 액정 분자의 배열이 왜곡되는 경우에는 어두운 색을 표시할 때 휘도가 증가하는 문제점이 발생한다.However, when the arrangement of the liquid crystal molecules is distorted due to the step difference of the signal line, a problem arises in that the luminance increases when displaying a dark color.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 시인성이 우수한 다중 도메인 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치를 구현하는 것이다. The technical problem to be achieved by the present invention is to implement a thin film transistor array panel of a multi-domain liquid crystal display device having excellent visibility and a liquid crystal display device including the same.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 빛샘을 차단하여 높은 대비비를 확보할 수 있는 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a thin film transistor array panel capable of securing a high contrast ratio by blocking light leakage and a liquid crystal display including the same.

이러한 과제를 해결하기 위하여 본 발명에서는 화소 전극을 적어도 둘 이상의 서브 화소 전극으로 나누고 서브 화소 전극을 용량성으로 결합하여 서로 다른 전위가 인가되도록 한다. 이때, 용량성 결합을 위한 결합 전극은 편광판의 편광축 방향에 대하여 평행하거나 수직한 경계선을 가진다.In order to solve this problem, the present invention divides the pixel electrode into at least two or more sub pixel electrodes and combines the sub pixel electrodes in a capacitive manner so that different potentials are applied. In this case, the coupling electrode for capacitive coupling has a boundary line parallel or perpendicular to the polarization axis direction of the polarizing plate.

본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판은, 게이트선, 게이트선과 절연되어 교차하고 있는 데이터선, 각각의 게이트선 및 데이터선의 소스 전극과 연결되어 있으며, 드레인 전극 및 반도체를 가지는 박막 트랜지스터, 드레인 전극에 연결되어 있으며, 적어도 하나 이상의 꺾인 부분을 포함하고 있어 계단 모양을 이루는 용량성 결합 전극, 게이트선, 데이터선 및 박막 트랜지스터를 덮는 보호막, 드레인 전극과 직접 연결되어 있는 제1 화소 전극과 제1 화소 전극으로부터 분리되어 있으며 용량성 결합 전극과 중첩하여 제1 화소 전극과 용량성으로 연결되어 있는 제2 화소 전극을 포함하는 화소 전극을 포함한다.The thin film transistor array panel according to the exemplary embodiment of the present invention is a thin film transistor having a drain electrode and a semiconductor, a drain electrode connected to a gate line, a data line insulated from and intersecting the gate line, and a gate electrode and a source electrode of the data line. A first pixel electrode and a first pixel connected directly to the drain electrode and a passivation layer covering the capacitive coupling electrode, the gate line, the data line, and the thin film transistor, each of which includes at least one bent portion and is connected to And a pixel electrode separated from the electrode and including a second pixel electrode overlapping the capacitive coupling electrode and capacitively connected to the first pixel electrode.

결합 전극은 게이트선과 평행한 제1 부분과 데이터선과 평행한 제2 부분이 교대로 연결되어 이루어진 것이 바람직하다.The coupling electrode is preferably formed by alternately connecting a first portion parallel to the gate line and a second portion parallel to the data line.

화소 전극, 결합 전극 및 드레인 전극 중 적어도 하나와 중첩하여 유지 용량을 형성하는 유지 전극을 가지는 유지 전극선을 더 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable to further include a storage electrode line having a storage electrode overlapping at least one of the pixel electrode, the coupling electrode and the drain electrode to form a storage capacitor.

반도체는 데이터선을 따라 선형으로 이루어질 수 있으며, 소스 전극과 드레인 전극 사이를 제외한 반도체는 데이터선 및 드레인 전극과 동일한 평면 형태로 이루어질 수 있다.The semiconductor may be linear along the data line, and the semiconductor except for the source electrode and the drain electrode may have the same planar shape as the data line and the drain electrode.

본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는, 게이트선, 게이트선과 절연되어 교차하고 있는 데이터선, 각각의 게이트선 및 데이터선의 소스 전극과 연결되어 있으며, 드레인 전극 및 반도체를 가지는 박막 트랜지스터, 드레인 전극에 연결되어 있으며, 적어도 하나 이상의 꺾인 부분을 포함하고 있어 계단 모양을 이루는 용량성 결합 전극, 게이트선, 데이터선 및 박막 트랜지스터를 덮는 보호막, 드레인 전극과 직접 연결되어 있는 제1 화소 전극과 제1 화소 전극으로부터 분리되어 있으며 용량성 결합 전극과 중첩하여 제1 화소 전극과 용량성으로 연결되어 있는 제2 화소 전극을 포함하는 화소 전극을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판, 및 박막 트랜지스터 표시판과 마주하며, 공통 전극이 형성되어 있는 공통 전극 표시판을 포함한다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a thin film transistor having a drain electrode and a semiconductor, a drain electrode connected to a gate line, a data line insulated from and intersecting the gate line, and a gate electrode and a source electrode of the data line. A first pixel electrode and a first pixel connected directly to the drain electrode and a passivation layer covering the capacitive coupling electrode, the gate line, the data line, and the thin film transistor, each of which includes at least one bent portion and is connected to A thin film transistor array panel including a pixel electrode separated from the electrode and overlapping the capacitive coupling electrode, the pixel electrode including a second pixel electrode capacitively connected to the first pixel electrode, and facing the thin film transistor array panel. It includes a common electrode display panel formed.

결합 전극은 게이트선과 평행한 제1 부분과 데이터선과 평행한 제2 부분이 교대로 연결되어 이루어진 것이 바람직하며, 박막 트랜지스터 표시판과 공통 전극 표시판의 바깥 면에 부착되어 있는 편광판을 더 포함할 수 있다.The coupling electrode may be formed by alternately connecting a first portion parallel to the gate line and a second portion parallel to the data line, and may further include a polarizer attached to an outer surface of the thin film transistor array panel and the common electrode display panel.

편광판의 투과축은 제1 및 제2 부분과 평행하거나 수직한 것이 바람직하다.It is preferable that the transmission axis of the polarizing plate is parallel or perpendicular to the first and second portions.

첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기 술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.In the drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity. Like parts are designated by like reference numerals throughout the specification. When a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" another part, this includes not only the other part being "right over" but also another part in the middle. On the contrary, when a part is "just above" another part, there is no other part in the middle.

그러면 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.Next, a thin film transistor array panel and a liquid crystal display including the same according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1 내지 도 5를 참고로 하여 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치에 대하여 상세하게 설명한다.First, a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 5.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 표시판의 구조를 도시한 배치도이고, 도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 공통 전극 표시판의 구조를 도시한 배치도이고, 도 3은 도 1의 박막 트랜지스터 표시판과 도 2의 박막 트랜지스터 표시판으로 이루어진 액정 표시 장치의 구조를 도시한 배치도이고, 도 4는 도 3의 액정 표시 장치를 IV-IV'선을 따라 자른 단면도이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치에서 한 화소의 구성을 도시한 회로도이다. FIG. 1 is a layout view illustrating a structure of a thin film transistor array panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment. FIG. 2 is a layout view illustrating a structure of a common electrode display panel for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment. 3 is a layout view illustrating a structure of a liquid crystal display device including the thin film transistor array panel of FIG. 1 and the thin film transistor array panel of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV ′ of the liquid crystal display of FIG. 3. 5 is a circuit diagram showing the configuration of one pixel in the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention.                     

본 실시예에 따른 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터 표시판(100), 공통 전극 표시판(200), 이들 두 표시판(100, 200) 사이에 삽입되어 있는 액정층(3)을 포함한다.The liquid crystal display according to the present exemplary embodiment includes a thin film transistor array panel 100, a common electrode display panel 200, and a liquid crystal layer 3 interposed between the two display panels 100 and 200.

먼저, 도 1, 도 3 및 도 4를 참고로 하여 박막 트랜지스터 표시판(100)에 대하여 상세하게 설명한다.First, the thin film transistor array panel 100 will be described in detail with reference to FIGS. 1, 3, and 4.

절연 기판(110) 위에 복수의 게이트선(gate line)(121)과 복수의 유지 전극선(storage electrode lines)(131)이 형성되어 있다.A plurality of gate lines 121 and a plurality of storage electrode lines 131 are formed on the insulating substrate 110.

게이트선(121)은 주로 가로 방향으로 뻗어 있고 서로 분리되어 있으며, 게이트 신호를 전달한다. 각 게이트선(121)은 복수의 게이트 전극(gate electrode)(124)을 이루는 복수의 돌출부와 다른 층 또는 외부 장치의 접속을 위한 면적이 넓은 끝 부분(129)을 포함한다.The gate lines 121 mainly extend in the horizontal direction and are separated from each other, and transmit gate signals. Each gate line 121 includes a plurality of protrusions constituting the plurality of gate electrodes 124 and an end portion 129 having a large area for connecting another layer or an external device.

각각의 유지 전극선(131)은 주로 가로 방향으로 뻗어 있으며, 서로 이웃하는 게이트선(121) 사이에 배치되어 있다. 각 유지 전극선(131)은 주로 가로 방향으로 뻗어 있고 제1 내지 제4 유지 전극(133a, 133b, 133c, 133d)을 이루는 복수 벌의 가지 집합을 포함한다. 제1 유지 전극(133a)과 제2 유지 전극(133b)은 세로 방향으로 뻗어 있고, 제3 및 제4 유지 전극(133c, 133d)은 사선 방향으로 뻗어 있으며 제2 유지 전극(133b)의 양단에 연결되어 있다. 제3 및 제4 유지 전극(133c)은 인접한 두 게이트선(121) 사이의 중앙선에 대하여 반전 대칭을 이룬다. 유지 전극선(131)에는 액정 표시 장치의 공통 전극 표시판(200)의 공통 전극(270)에 인가되는 공통 전압 등 소정의 전압이 인가된다. Each storage electrode line 131 extends mainly in the horizontal direction and is disposed between the gate lines 121 adjacent to each other. Each storage electrode line 131 extends in the horizontal direction and includes a plurality of sets of branches forming the first to fourth storage electrodes 133a, 133b, 133c, and 133d. The first storage electrode 133a and the second storage electrode 133b extend in the vertical direction, and the third and fourth storage electrodes 133c and 133d extend in an oblique direction and are disposed at both ends of the second storage electrode 133b. It is connected. The third and fourth sustain electrodes 133c have inverted symmetry with respect to the center line between two adjacent gate lines 121. A predetermined voltage such as a common voltage applied to the common electrode 270 of the common electrode display panel 200 of the liquid crystal display device is applied to the sustain electrode line 131.                     

게이트선(121) 및 유지 전극선(131)은 알루미늄 계열 금속, 은 계열 금속, 구리 계열 금속, 몰리브덴 계열 금속, 크롬, 티타늄, 탄탈륨 따위로 이루어지는 것이 바람직하며, 단일막 구조를 가지거나 다층막 구조로 이루어질 수 있다. 다층막, 예를 들어 물리적 성질이 다른 두 개의 막, 즉 하부막과 그 위의 상부막을 포함할 수 있다. 하나의 도전막은 신호 지연이나 전압 강하를 줄일 수 있도록 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를 들면 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열의 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등 은 계열의 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등 구리 계열의 금속으로 이루어질 수 있다. 이와는 달리, 다른 도전막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide) 및 IZO(indium zinc oxide)와의 접촉 특성이 우수한 물질, 이를테면 크롬, 몰리브덴(Mo), 몰리브덴 합금, 탄탈륨(Ta), 또는 티타늄(Ti) 등으로 이루어질 수 있다. 두 도전막의 좋은 예로는 크롬/알루미늄-네오디뮴(Nd) 합금 또는 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금/알루미늄 합금을 들 수 있다. The gate line 121 and the storage electrode line 131 are preferably made of aluminum-based metal, silver-based metal, copper-based metal, molybdenum-based metal, chromium, titanium, tantalum, or the like, and have a single film structure or a multilayer film structure. Can be. It may include a multilayer film, for example, two films of different physical properties, that is, a lower film and an upper film thereon. One conductive film is a low resistivity metal such as aluminum (Al) or an aluminum alloy such as aluminum (Ag) or a silver alloy such as silver (Ag) or silver alloy to reduce signal delay or voltage drop. It may be made of a copper-based metal such as copper (Cu) or a copper alloy. In contrast, other conductive films have excellent contact properties with other materials, particularly indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), such as chromium, molybdenum (Mo), molybdenum alloys, tantalum (Ta), or titanium (Ti). ) And the like. Good examples of the two conductive films include chromium / aluminum-neodymium (Nd) alloys or molybdenum or molybdenum alloys / aluminum alloys.

또한 게이트선(121) 및 유지 전극선(131)의 측면은 기판(110)의 표면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 약 30-80°인 것이 바람직하다.In addition, the side surfaces of the gate line 121 and the storage electrode line 131 are inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is preferably about 30-80 °.

게이트선(121) 및 유지 전극선(131) 위에는 질화규소(SiNx) 따위로 이루어진 게이트 절연막(gate insulating layer)(140)이 형성되어 있다.A gate insulating layer 140 made of silicon nitride (SiN x ) is formed on the gate line 121 and the storage electrode line 131.

게이트 절연막(140) 상부에는 수소화 비정질 규소(hydrogenated amorphous silicon)(비정질 규소는 약칭 a-Si로 씀) 등으로 이루어진 복수의 선형 반도체(151)가 형성되어 있다. 각각의 선형 반도체(151)는 주로 세로 방향으로 뻗어 있 으며, 이로부터 복수의 돌출부(154)가 게이트 전극(124)을 향하여 뻗어 나와 있다. 돌출부(154)는 게이트선(121) 및 유지 전극선(131)의 상부까지 확장되어 있다.A plurality of linear semiconductors 151 made of hydrogenated amorphous silicon (amorphous silicon is abbreviated a-Si) and the like are formed on the gate insulating layer 140. Each linear semiconductor 151 extends mainly in the longitudinal direction, from which a plurality of protrusions 154 extend toward the gate electrode 124. The protrusion 154 extends to an upper portion of the gate line 121 and the storage electrode line 131.

반도체(151)의 상부에는 실리사이드(silicide) 또는 인 따위의 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어진 복수의 선형 및 섬형 저항성 접촉 부재(ohmic contact)(161, 165)가 형성되어 있다. 선형 접촉 부재(161)는 복수의 돌출부(163)를 가지고 있으며, 이 돌출부(163)와 섬형 저항성 접촉 부재(165)는 쌍을 이루어 반도체(154) 위에 배치되어 있는데, 게이트 전극(124)을 중심으로 서로 마주한다.A plurality of linear and island ohmic contacts 161 and 165 made of a material such as n + hydrogenated amorphous silicon doped with a high concentration of n-type impurities such as silicide or phosphorus on the semiconductor 151. Is formed. The linear contact member 161 has a plurality of protrusions 163, and the protrusions 163 and the island-like resistive contact members 165 are paired and disposed on the semiconductor 154, centered on the gate electrode 124. Face each other.

반도체(151)와 저항성 접촉 부재(161, 165)의 측면 역시 기판(110)의 표면에 대하여 경사져 있으며 그 경사각은 30-80°인 것이 바람직하다.Side surfaces of the semiconductor 151 and the ohmic contacts 161 and 165 are also inclined with respect to the surface of the substrate 110, and the inclination angle is preferably 30 to 80 °.

저항 접촉 부재(161, 165) 및 게이트 절연막(140) 위에는 각각 복수의 데이터선(data line)(171)과 이로부터 분리되어 있는 복수의 드레인 전극(drain electrode)(175)이 형성되어 있다.A plurality of data lines 171 and a plurality of drain electrodes 175 separated therefrom are formed on the ohmic contacts 161 and 165 and the gate insulating layer 140, respectively.

데이터선(171)은 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121) 및 유지 전극선(131)과 교차하며 데이터 전압(data voltage)을 전달한다. 각 데이터선(171)은 다른 층 또는 외부 장치와의 접속을 위한 넓은 끝 부분(179)을 가지고 있다. The data line 171 mainly extends in the vertical direction and crosses the gate line 121 and the storage electrode line 131 and transmits a data voltage. Each data line 171 has a wide end portion 179 for connection with another layer or an external device.

각각의 드레인 전극(175)은 확장부를 포함하며, 화소의 중앙부까지 연장되어 있는 용량성 결합 전극(176)을 가진다. 이때, 용량성 결합 전극(176)은 데이터선(171)과 평향한 경계를 가지는 세로부와 게이트선(121)과 평행한 가로부가 차례로 연결되어 있어 계단 모양을 이룬다. Each drain electrode 175 includes an extension and has a capacitive coupling electrode 176 extending to the center of the pixel. In this case, the capacitive coupling electrode 176 has a vertical portion connected to the data line 171 and a horizontal portion parallel to the gate line 121 to form a step shape.                     

데이터선(171) 각각은 복수의 돌출부를 포함하며, 이 돌출부는 반도체(154) 상부에 위치하는 드레인 전극(175)의 한쪽 끝 부분을 일부 둘러싸도록 휘어져 소스 전극(173)을 이룬다. 하나의 게이트 전극(124), 하나의 소스 전극(173) 및 하나의 드레인 전극(175)은 반도체의 돌출부(154)와 함께 하나의 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)를 이루며, 박막 트랜지스터의 채널(channel)은 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 돌출부(154)에 형성된다.Each of the data lines 171 includes a plurality of protrusions, which are bent to partially surround one end portion of the drain electrode 175 positioned on the semiconductor 154 to form the source electrode 173. One gate electrode 124, one source electrode 173, and one drain electrode 175 together with the protrusion 154 of the semiconductor form one thin film transistor (TFT), and a channel of the thin film transistor. A channel is formed in the protrusion 154 between the source electrode 173 and the drain electrode 175.

데이터선(171) 및 드레인 전극(175)은 크롬 또는 몰리브덴 계열의 금속, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속을 포함하는 것이 바람직하며, 내화성 금속 따위의 하부막(도시하지 않음)과 그 위에 위치한 저저항 물질의 상부막(도시하지 않음)으로 이루어진 다층막 구조를 가질 수 있다.The data line 171 and the drain electrode 175 preferably include a refractory metal such as chromium or molybdenum-based metal, tantalum and titanium, and a lower layer (not shown) such as a refractory metal and a low resistance material disposed thereon. It may have a multilayer film structure consisting of an upper film of (not shown).

데이터선(171) 및 드레인 전극(175)도 게이트선(121) 및 유지 전극선(131)과 마찬가지로 그 측면이 약 30-80°의 각도로 각각 경사져 있다.Similar to the gate line 121 and the storage electrode line 131, the data line 171 and the drain electrode 175 are inclined at an angle of about 30-80 °, respectively.

저항성 접촉 부재(161, 165)는 그 하부의 반도체(151)와 그 상부의 데이터선(171) 및 드레인 전극(175) 사이에만 존재하며 접촉 저항을 낮추어 주는 역할을 한다. 선형의 반도체(151)는 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이를 비롯하여 데이터선(171) 및 드레인 전극(175)에 가리지 않고 노출된 부분을 가지고 있다.The ohmic contacts 161 and 165 exist only between the semiconductor 151 below and the data line 171 and the drain electrode 175 above and serve to lower the contact resistance. The linear semiconductor 151 has a portion exposed between the source electrode 173 and the drain electrode 175 and not covered by the data line 171 and the drain electrode 175.

데이터선(171) 및 드레인 전극(175)과 이들로 덮이지 않고 노출된 반도체(151) 부분의 위에는 보호막(passivation layer)(180)이 형성되어 있다. 보호막(180)은 평탄화 특성이 우수하며 감광성(photosensitivity)을 가지는 유기 물질, 플라스마 화학 기상 증착(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)으로 형성되는 a-Si:C:O, a-Si:O:F 등 4.0 이하의 저유전율 절연 물질, 또는 무기 물질인 질화 규소나 산화 규소 따위로 이루어진 것이 바람직하다. 보호막(180)은 무기 물질로 이루어진 하부 절연막과 유기 물질로 이루어진 상부 절연막을 포함할 수 있다. A passivation layer 180 is formed on the data line 171 and the drain electrode 175 and the portion of the semiconductor 151 that is not covered by them. The passivation layer 180 is a-Si: C: O, a-Si: O: F, which is formed of an organic material having excellent planarization characteristics and photosensitivity, and plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). The low dielectric constant insulating material of 4.0 or less, or an inorganic material, such as silicon nitride and silicon oxide, is preferable. The passivation layer 180 may include a lower insulating layer made of an inorganic material and an upper insulating layer made of an organic material.

보호막(180)에는 드레인 전극(175)의 확장부와 데이터선(171)의 끝 부분(179)을 각각 드러내는 복수의 접촉 구멍(contact hole)(182, 185)이 형성되어 있으며, 게이트 절연막(140)과 함께 게이트선(121)의 끝 부분(129)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(181)이 형성되어 있다. 접촉 구멍(181, 182, 185)은 다각형 또는 원 모양 등 다양한 모양으로 만들어질 수 있다. 접촉 구멍(181, 182)의 면적은 약 0.5mm×15μm 이상, 약 2mm×60μm 이하인 것이 바람직하다. 접촉 구멍(181, 182, 185, 186)의 측벽은 30° 내지 85°의 각도로 기울어져 있거나 계단형이다.The passivation layer 180 is formed with a plurality of contact holes 182 and 185 respectively exposing the extension portion of the drain electrode 175 and the end portion 179 of the data line 171, and the gate insulating layer 140. ) And a plurality of contact holes 181 exposing the end portion 129 of the gate line 121. The contact holes 181, 182, and 185 may be made in various shapes such as polygons or circles. The area of the contact holes 181 and 182 is preferably about 0.5 mm × 15 μm or more and about 2 mm × 60 μm or less. The side walls of the contact holes 181, 182, 185, 186 are inclined or stepped at an angle of 30 ° to 85 °.

보호막(180) 위에는 ITO 또는 IZO로 이루어진 복수 쌍의 제1/제2 화소 전극(pixel electrode)(190a, 190b) 및 복수의 접촉 보조 부재(contact assistant)(81, 82)가 형성되어 있다. 이와는 달리, 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)은 투명한 도전성 폴리머로 만들어질 수도 있고, 반사형 액정 표시 장치의 경우에는 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)이 불투명한 반사성 금속으로 만들어질 수도 있다. 이 경우, 접촉 보조 부재(81, 82)는 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)과 다른 물질, 예를 들면 ITO나 IZO로 만들어질 수 있다.A plurality of pairs of first / second pixel electrodes 190a and 190b and a plurality of contact assistants 81 and 82 made of ITO or IZO are formed on the passivation layer 180. Alternatively, the first and second pixel electrodes 190a and 190b may be made of a transparent conductive polymer, and in the case of a reflective liquid crystal display device, the first and second pixel electrodes 190a and 190b may be opaque reflective metals. It can also be made. In this case, the contact assistants 81 and 82 may be made of a material different from the first and second pixel electrodes 190a and 190b, for example, ITO or IZO.

제1/제2 화소 전극(190a, 190b)은 접촉 구멍(185)을 통하여 드레인 전극(175)과 물리적·전기적으로 연결되어 드레인 전극(175)으로부터 데이터 전압을 인 가 받는다. 이때, 제2 화소 전극(190b)은 용량성 결합 전극(176)과 중첩하여 제1 화소 전극(190a)과 용량성으로 결합되어 있다.The first and second pixel electrodes 190a and 190b are physically and electrically connected to the drain electrode 175 through the contact hole 185 to receive the data voltage from the drain electrode 175. In this case, the second pixel electrode 190b overlaps the capacitive coupling electrode 176 and is capacitively coupled to the first pixel electrode 190a.

데이터 전압이 인가된 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)은 공통 전극(270)과 함께 전기장을 생성함으로써 액정층(3)의 액정 분자(310)를 재배열시킨다.The first and second pixel electrodes 190a and 190b to which the data voltage is applied rearrange the liquid crystal molecules 310 of the liquid crystal layer 3 by generating an electric field together with the common electrode 270.

제1/제2 화소 전극(190a, 190b)과 공통 전극(270)은 축전기[이하 “액정 축전기(liquid crystal capacitor)”라 함]를 이루어 박막 트랜지스터가 턴 오프된 후에도 인가된 전압을 유지하는데, 전압 유지 능력을 강화하기 위하여 액정 축전기와 병렬로 연결된 다른 축전기를 두며 이를 유지 축전기(storage capacitor)라 한다. 유지 축전기는 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)과 유지 전극선(131)의 중첩 등으로 만들어지며, 유지 축전기의 정전 용량, 즉 유지 용량을 늘리기 위하여, 유지 전극선(131)을 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)에 연결된 드레인 전극(175)을 연장 및 확장시켜 중첩시킴으로써 단자 사이의 거리를 가깝게 하고 중첩 면적을 크게 할 수 있다.The first and second pixel electrodes 190a and 190b and the common electrode 270 form a capacitor (hereinafter, referred to as a “liquid crystal capacitor”) to maintain an applied voltage even after the thin film transistor is turned off. In order to enhance the voltage holding capability, there is another capacitor connected in parallel with the liquid crystal capacitor, which is called a storage capacitor. The storage capacitor is formed by overlapping the first / second pixel electrodes 190a and 190b with the storage electrode line 131 and the like, and in order to increase the capacitance of the storage capacitor, that is, the storage capacitance, the storage electrode line 131 is formed in the first / second pixel electrode 190a and 190b. By extending and expanding the drain electrodes 175 connected to the second pixel electrodes 190a and 190b, the distance between the terminals can be shortened and the overlapping area can be increased.

한 쌍의 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)은 간극을 사이에 두고 서로 맞물려 있으며, 그 바깥 경계는 왼쪽 모퉁이가 모따기된 대략 사각형 형태이다.The pair of first and second pixel electrodes 190a and 190b are engaged with each other with a gap therebetween, and an outer boundary thereof has a substantially rectangular shape with a chamfered left corner.

한 쌍의 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)은 중앙 절개부(91), 하부 절개부(92a) 및 상부 절개부(92b)를 가지며, 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)은 이들 절개부(91, 92a, 92b)에 의하여 복수의 영역으로 분할된다. 절개부(91, 92a, 92b)는 화소 전극을 게이트선(121)과 평행하게 이등분하는 가로 중심선에 대하여 거의 반전 대칭을 이루고 있으며, 상부 및 하부 절개부(92a, 92b)는 서로 연결되어 제1 화 소 전극(190a)과 제2 화소 전극(190b)을 분리하는 간극을 이룬다.The pair of first / second pixel electrodes 190a and 190b has a center cutout 91, a lower cutout 92a, and an upper cutout 92b, and the first / second pixel electrodes 190a and 190b. Is divided into a plurality of areas by these cutouts 91, 92a, 92b. The cutouts 91, 92a, and 92b have almost inverted symmetry with respect to a horizontal centerline that bisects the pixel electrode in parallel with the gate line 121, and the upper and lower cutouts 92a and 92b are connected to each other to form a first cut. A gap is formed between the pixel electrode 190a and the second pixel electrode 190b.

하부 및 상부 절개부(92a, 92b)는 대략 화소 전극의 오른쪽 변에서부터 왼쪽 변으로 비스듬하게 뻗어 있으며, 화소 전극의 가로 중심선에 대하여 하반면과 상반면에 각각 위치하고 있다. 하부 및 상부 절개부(92a, 92b)는 게이트선(121)에 대하여 약 45도의 각도를 이루며 서로 수직하게 뻗어 있다.The lower and upper cutouts 92a and 92b extend obliquely from the right side to the left side of the pixel electrode, and are positioned on the lower half and the upper half with respect to the horizontal center line of the pixel electrode. The lower and upper cutouts 92a and 92b extend perpendicular to each other at an angle of about 45 degrees with respect to the gate line 121.

중앙 절개부(91)는 제2 화소 전극(190b)의 중앙에 배치되어 있으며 오른쪽 변 쪽에 입구를 가지고 있다. 중앙 절개부(91)의 입구는 하부 절개부(92a)와 상부 절개부(92b)에 각각 거의 평행한 한 쌍의 빗변을 가지고 있다.The center cutout 91 is disposed at the center of the second pixel electrode 190b and has an inlet at the right side. The inlet of the central incision 91 has a pair of hypotenuses substantially parallel to the lower incision 92a and the upper incision 92b, respectively.

따라서, 화소 전극의 하반면은 하부 절개부(92a)에 의하여 두 개의 영역으로 나누어지고, 상반면 또한 상부 절개부(92b)에 의하여 두 개의 영역으로 분할된다. 이 때, 영역의 수효 또는 절개부의 수효는 화소의 크기, 화소 전극의 가로변과 세로 변의 길이 비, 액정층(3)의 종류나 특성 등 설계 요소에 따라서 달라지며, 기울어진 방향도 달라질 수 있다.Accordingly, the lower half of the pixel electrode is divided into two regions by the lower cutout 92a, and the upper half is also divided into two regions by the upper cutout 92b. In this case, the number of regions or the number of cutouts may vary depending on the size of the pixel, the ratio of the length of the horizontal side and the vertical side of the pixel electrode, the type and characteristics of the liquid crystal layer 3, and the inclination direction may also vary.

접촉 보조 부재(81, 82)는 접촉 구멍(181, 182)을 통하여 각각 데이터선(171) 및 게이트선(121)의 끝 부분(129, 179)과 연결된다. 접촉 보조 부재(81, 82)는 데이터선(171) 및 게이트선(121)의 끝 부분(179, 129)과 외부 장치와의 접착성을 보완하고 이들을 보호하는 역할을 한다.The contact auxiliary members 81 and 82 are connected to the end portions 129 and 179 of the data line 171 and the gate line 121 through the contact holes 181 and 182, respectively. The contact auxiliary members 81 and 82 complement and protect the adhesion between the end portions 179 and 129 of the data line 171 and the gate line 121 and the external device.

다음, 도 2 내지 도 4를 참고로 하여, 공통 전극 표시판(200)에 대하여 설명한다.Next, the common electrode display panel 200 will be described with reference to FIGS. 2 to 4.

투명한 유리 등으로 이루어진 절연 기판(210) 위에 차광 부재(220)가 형성되 어 있다. 차광 부재(220)는 화소 전극(190)과 마주보며 화소 전극(190)과 거의 동일한 모양을 가지는 복수의 개구부를 가지고 있으며, 게이트선(121) 및 데이터선(171)에 대응하는 부분과 박막 트랜지스터에 대응하는 부분으로 이루어지는 것이 바람직하다.The light blocking member 220 is formed on the insulating substrate 210 made of transparent glass or the like. The light blocking member 220 has a plurality of openings facing the pixel electrode 190 and having substantially the same shape as the pixel electrode 190, and corresponding to the gate line 121 and the data line 171 and the thin film transistor. It is preferable that it consists of the part corresponding to.

기판(210) 위에는 또한 복수의 색필터(230)가 형성되어 있으며 차광 부재(230)로 둘러싸인 영역 내에 대부분 위치한다. 색필터(230)는 화소 전극(190)을 따라서 세로 방향으로 길게 뻗을 수 있다. 색필터(230)는 적색, 녹색 및 청색 등의 원색 중 하나를 표시할 수 있다. A plurality of color filters 230 are also formed on the substrate 210 and are mostly located in an area surrounded by the light blocking member 230. The color filter 230 may extend in the vertical direction along the pixel electrode 190. The color filter 230 may display one of primary colors such as red, green, and blue.

색필터(230)의 위에는 덮개막(250)이 형성되어 있다. An overcoat 250 is formed on the color filter 230.

덮개막(250)의 위에는 ITO, IZO 등의 투명한 도전체 따위로 이루어진 공통 전극(270)이 형성되어 있다. The common electrode 270 formed of a transparent conductor such as ITO or IZO is formed on the overcoat 250.

공통 전극(270)은 복수 벌의 절개부(71, 72a, 72b) 집합을 가진다. The common electrode 270 has a plurality of sets of cutouts 71, 72a, and 72b.

한 벌의 절개부(71, 72a, 72b)는 하나의 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)과 마주 보며 중앙 절개부(71), 하부 절개부(72a) 및 상부 절개부(72b)를 포함한다. 절개부(71, 72a, 72b) 각각은 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 인접 절개부(91, 92a, 92b) 사이 또는 절개부(92a, 92b)와 제1 화소 전극(190a)의 모따기된 빗변 사이에 배치되어 있다. 또한, 각 절개부(71, 72a, 72b)는 화소 전극의 하부 절개부(92a) 또는 상부 절개부(92b)와 평행하게 뻗은 적어도 하나의 사선부를 포함한다.The pair of cutouts 71, 72a, and 72b face one of the first and second pixel electrodes 190a and 190b, and the center cutout 71, the lower cutout 72a, and the upper cutout 72b. It includes. Each of the cutouts 71, 72a and 72b is disposed between adjacent cutouts 91, 92a and 92b of the first and second pixel electrodes 190a and 190b or between the cutouts 92a and 92b and the first pixel electrode 190a. ) Is placed between the chamfered hypotenuses. In addition, each of the cutouts 71, 72a, and 72b includes at least one diagonal line extending in parallel with the lower cutout 92a or the upper cutout 92b of the pixel electrode.

하부 및 상부 절개부(72a, 2b) 각각은 대략 화소 전극의 왼쪽 변에서 위쪽 또는 아래쪽 변을 향하여 뻗은 사선부, 그리고 사선부의 각 끝에서부터 화소 전극의 변을 따라 변과 중첩하면서 뻗으며 사선부와 둔각을 이루는 가로부 및 세로부를 포함한다.Each of the lower and upper cutouts 72a and 2b extends from the left side of the pixel electrode toward the upper or lower side and overlaps the side along the side of the pixel electrode from each end of the diagonal line. It includes a horizontal portion and a vertical portion forming an obtuse angle.

중앙 절개부(71)는 대략 화소 전극의 왼쪽 변에서부터 가로 방향으로 뻗은 중앙 가로부, 이 중앙 가로부의 끝에서 중앙 가로부와 빗각을 이루며 화소 전극의 오른쪽 변을 향하여 뻗은 한 쌍의 사선부, 그리고 사선부의 각 끝에서부터 화소 전극의 오른쪽 변을 따라 오른쪽 변과 중첩하면서 뻗으며 사선부와 둔각을 이루는 종단 세로부를 포함한다.The central cutout 71 is a central horizontal portion extending from the left side of the pixel electrode in the horizontal direction, a pair of diagonal portions extending toward the right side of the pixel electrode at an oblique angle with the central horizontal portion at the end of the central horizontal portion, and From each end of the oblique portion, it extends overlapping with the right side along the right side of the pixel electrode and includes a vertical longitudinal portion forming an obtuse angle with the oblique portion.

절개부(71, 72a, 72b)의 수효 및 방향 또한 설계 요소에 따라 달라질 수 있으며, 차광 부재(220)가 절개부(71, 72a, 72b)와 중첩하여 절개부(71, 72a, 72b) 부근의 빛샘을 차단할 수 있다.The number and direction of the cutouts 71, 72a, and 72b may also vary depending on the design element, and the light blocking member 220 overlaps the cutouts 71, 72a, and 72b and is located near the cutouts 71, 72a, and 72b. Can block light leaks.

표시판(100, 200)의 안쪽 면에는 수직 배향막(11, 21)이 도포되어 있고, 바깥쪽 면에는 편광판(12, 22)이 구비되어 있다. 두 편광판(11, 21)의 투과축(↔, ↕)은 직교하며 이중 한 투과축은 게이트선(121)에 대하여 나란하다. 반사형 액정 표시 장치의 경우에는 두 개의 편광판(12, 22) 중 하나가 생략될 수 있다.Vertical alignment layers 11 and 21 are coated on the inner surfaces of the display panels 100 and 200, and polarizing plates 12 and 22 are provided on the outer surfaces thereof. The transmission axes ↔, 의 of the two polarizing plates 11 and 21 are orthogonal to each other, and one transmission axis is parallel to the gate line 121. In the case of a reflective liquid crystal display, one of the two polarizing plates 12 and 22 may be omitted.

표시판(100, 200)과 편광자(12, 22)의 사이에는 각각 액정층(3)의 지연값을 보상하기 위한 위상 지연 필름(retardation film)이 낄 수 있다. 위상 지연 필름은 복굴절성(birefringce)을 가지며 액정층(3)의 복굴절성을 역으로 보상하는 역할을 한다. 지연 필름으로는 일축성 또는 이축성 광학 필름을 사용할 수 있으며, 특히 음성(negative) 일축성 광학 필름을 사용할 수 있다. A phase retardation film may be interposed between the display panels 100 and 200 and the polarizers 12 and 22 to compensate for the delay value of the liquid crystal layer 3, respectively. The phase retardation film has birefringence and serves to reversely compensate for the birefringence of the liquid crystal layer 3. As the retardation film, a uniaxial or biaxial optical film can be used, and in particular, a negative uniaxial optical film can be used.                     

액정 표시 장치는 또한 편광자(12, 22), 위상 지연 필름, 표시판(100, 200) 및 액정층(3)에 빛을 공급하는 조명부(backlight unit)를 포함할 수 있다.The liquid crystal display may also include a polarizer 12 and 22, a phase retardation film, display panels 100 and 200, and a backlight unit for supplying light to the liquid crystal layer 3.

액정층(3)은 음의 유전율 이방성을 가지며, 액정층(3)의 액정 분자(310)는 전계가 없는 상태에서 그 장축이 두 표시판의 표면에 대하여 수직을 이루도록 배향되어 있다. 따라서 입사광은 직교 편광자(12, 22)를 통과하지 못하고 차단된다.The liquid crystal layer 3 has negative dielectric anisotropy, and the liquid crystal molecules 310 of the liquid crystal layer 3 are aligned such that their major axes are perpendicular to the surfaces of the two display panels in the absence of an electric field. Therefore, incident light does not pass through the quadrature polarizers 12 and 22 and is blocked.

배향막(11, 21)은 수평 배향막일 수 있다.The alignment layers 11 and 21 may be horizontal alignment layers.

한편, 액정 분자(310)들의 경사 방향과 편광자(12, 22)의 투과축이 45도를 이루면 최고 휘도를 얻을 수 있는데, 본 실시예의 경우 모든 도메인에서 액정 분자(310)들의 경사 방향이 게이트선(121)과 45°의 각을 이루며 게이트선(121)은 표시판(100, 200)의 가장자리와 수직 또는 수평이다. 따라서 본 실시예의 경우 편광자(12, 22)의 투과축을 표시판(100, 200)의 가장자리에 대하여 수직 또는 평행이 되도록 부착하면 최고 휘도를 얻을 수 있을 뿐 아니라 편광자(12, 22)를 저렴하게 제조할 수 있다.Meanwhile, when the inclination direction of the liquid crystal molecules 310 and the transmission axis of the polarizers 12 and 22 are 45 degrees, the highest luminance can be obtained. In the present embodiment, the inclination direction of the liquid crystal molecules 310 in all domains is the gate line. The gate line 121 is perpendicular or horizontal to the edges of the display panels 100 and 200 at an angle of 45 ° with the 121. Therefore, in the present exemplary embodiment, when the transmission axes of the polarizers 12 and 22 are attached to be perpendicular or parallel to the edges of the display panels 100 and 200, the highest luminance can be obtained and the polarizers 12 and 22 can be manufactured at low cost. Can be.

공통 전극(270)에 공통 전압을 인가하고 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)에 데이터 전압을 인가하면 표시판의 표면에 거의 수직인 주 전계(primary electric field)가 생성된다. 액정 분자(310)들은 전계에 응답하여 그 장축이 전계의 방향에 수직을 이루도록 방향을 바꾸고자 한다. 한편, 공통 전극(270) 및 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)의 절개부(71, 72a, 72b, 91, 92a, 92b)와 이들과 평행한 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)의 변은 주 전계를 왜곡하여 액정 분자들의 경사 방향을 결정하는 수평 성분을 만들어낸다. 주 전계의 수평 성분은 절개부(71, 72a, 72b, 91, 92a, 92b)의 변과 제1/제2 화소 전극(190a, 190b)의 변에 수직이다. 또한 절개부(71, 72a, 72b, 91, 92a, 92b)의 마주보는 두 변에서의 주 전계의 수평 성분은 서로 반대 방향이다.When a common voltage is applied to the common electrode 270 and a data voltage is applied to the first and second pixel electrodes 190a and 190b, a primary electric field substantially perpendicular to the surface of the display panel is generated. The liquid crystal molecules 310 try to change the direction of the long axis perpendicular to the direction of the electric field in response to the electric field. Meanwhile, the cutouts 71, 72a, 72b, 91, 92a, and 92b of the common electrode 270 and the first and second pixel electrodes 190a and 190b and the first and second pixel electrodes 190a parallel thereto. , 190b) produces a horizontal component that distorts the main electric field to determine the inclination direction of the liquid crystal molecules. The horizontal component of the main electric field is perpendicular to the sides of the cutouts 71, 72a, 72b, 91, 92a, 92b and the sides of the first / second pixel electrodes 190a, 190b. In addition, the horizontal components of the main electric field at two opposite sides of the cutouts 71, 72a, 72b, 91, 92a, and 92b are opposite to each other.

이러한 전계를 통하여 절개부(71, 72a, 72b, 91, 92a, 92b)는 액정층(3)의 액정 분자가 기울어지는 방향을 제어한다. 인접하는 절개부(71, 72a, 76b, 91, 92a, 92b)에 의하여 정의되거나 절개부(72a, 72b)와 제1 화소 전극(190a)의 왼쪽 빗변에 의하여 정의되는 각 도메인 내에 있는 액정 분자는 절개부(71, 72a, 72b, 91, 92a, 92b)의 길이 방향에 대하여 수직을 이루는 방향으로 기울어진다. 각 도메인의 가장 긴 변 2개는 거의 나란하고 게이트선(121)과 약 ±45도를 이루며, 도메인 내에서 액정 분자 대부분은 4방향으로 기울어진다. Through these electric fields, the cutouts 71, 72a, 72b, 91, 92a, and 92b control the direction in which the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 3 are inclined. The liquid crystal molecules in each domain defined by adjacent cutouts 71, 72a, 76b, 91, 92a, and 92b or defined by the left hypotenuse of the cutouts 72a and 72b and the first pixel electrode 190a The inclinations 71, 72a, 72b, 91, 92a, 92b are inclined in a direction perpendicular to the longitudinal direction. The two longest sides of each domain are substantially parallel to each other, and form approximately ± 45 degrees with the gate line 121, and most of the liquid crystal molecules in the domain are inclined in four directions.

절개부(91, 92a, 92b, 71, 72a, 72b)의 너비는 약 9μm 내지 약 12μm인 것이 바람직하다.The width of the cutouts 91, 92a, 92b, 71, 72a, 72b is preferably about 9 μm to about 12 μm.

적어도 하나의 절개부(91, 92a, 92b, 71, 72a, 72b)는 돌기(protrusion)(도시하지 않음)나 함몰부(depression)(도시하지 않음)로 대체할 수 있다. 돌기는 유기물 또는 무기물로 만들어질 수 있고 전계 생성 전극(190a, 190b, 270)의 위 또는 아래에 배치될 수 있으며 그 너비는 약 5μm 내지 약 10μm인 것이 바람직하다.At least one cutout 91, 92a, 92b, 71, 72a, 72b may be replaced with a protrusion (not shown) or a depression (not shown). The protrusions may be made of organic or inorganic materials and may be disposed above or below the field generating electrodes 190a, 190b, and 270, and the width thereof is preferably about 5 μm to about 10 μm.

제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b) 절개부(91, 92a, 92b)의 경계에서 이와 인접한 공통 전극(270) 절개부(71, 72a, 72b)의 경계까지의 간격과 화소 전극의 경계에서 이와 인접한 공통 전극(270) 절개부(71, 72a, 72b)의 경계까지의 간격은 약 12㎛ 내지 약 20㎛인 것이 바람직하며, 약 17㎛에서 약 19㎛ 범위인 것이 더욱 바 람직하다. 이와 같은 범위로 간격을 정하였더니 개구율은 감소하였지만 액정의 응답 속도가 빨라져 필요한 투과율을 확보할 수 있었다.The distance from the boundary of the cutouts 91, 92a and 92b of the first and second pixel electrodes 190a and 190b to the boundary of the cutouts 71, 72a and 72b of the common electrode 270 adjacent thereto and the boundary of the pixel electrode. In this case, the distance between the adjacent common electrode 270 cutouts 71, 72a, and 72b is preferably about 12 μm to about 20 μm, and more preferably about 17 μm to about 19 μm. When the interval was set in such a range, the aperture ratio was decreased, but the response speed of the liquid crystal was increased, so that the necessary transmittance was obtained.

한편 전기장은 전극(270)의 절개부와 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 변으로 인하여 절개부의 변과 제1 및 제2 화소 전극(190a, 190b)의 변에 수직인 수평 성분을 가진다. 따라서 각 부영역의 액정 분자(310)들의 경사 ??향은 서로 다르고 이에 따라 시야각이 확장된다.The electric field is a horizontal component perpendicular to the sides of the cutout and the sides of the first and second pixel electrodes 190a and 190b due to the cutout of the electrode 270 and the sides of the first and second pixel electrodes 190a and 190b. Has Therefore, the tilt direction of the liquid crystal molecules 310 of each subregion is different from each other, and thus the viewing angle is extended.

절개부(91, 92a, 92b, 71, 72a, 72b)의 모양 및 배치는 변형될 수 있다.The shape and arrangement of the incisions 91, 92a, 92b, 71, 72a, 72b can be modified.

또한, 본 실시예에서와 같은 액정 표시 장치에서는 결합 전극(176)에 인접하게 배열되어 있는 액정 분자들은 결합 전극(176)의 단차로 인하여 액정 분자들의 배열이 왜곡되어, 전압을 인가하지 않거나 두 전극(190, 270)의 전위 차가 거의 없는 상태에서도 기판(100, 200) 면에 대하여 수직하게 배열되지 않고 임의의 각으로 기울어지게 된다. 그런데, 용량성 결합 전극(176)을 이루는 경계가 편광판(11, 21)의 투과축(↔, ↕)에 대하여 평행하거나 수직하므로, 편광판(11, 21)의 투과축(↔, ↕)에 대하여 평행하거나 수직하게 기울어진다. 그러므로, 결합 전극(176)에 의한 단차로 인하여 액정 분자의 배열이 왜곡되더라도 결합 전극(176)에 인접한 부분에서도 편광판(11, 21)을 통과한 빛은 위상 지연을 거의 발생시키지 않는다. 따라서, 어두운 색을 표시할 때 결합 전극(176)의 주변에서 빛샘은 거의 발생하지 않으며, 이를 통하여 대비비가 저하되는 것을 방지할 수 있다.In addition, in the liquid crystal display device as in the present exemplary embodiment, the liquid crystal molecules arranged adjacent to the coupling electrode 176 are distorted due to the step of the coupling electrode 176, so that no voltage is applied or two electrodes are applied. Even when there is almost no potential difference between the 190 and 270, they are not vertically arranged with respect to the surface of the substrate 100 and 200 and are inclined at an arbitrary angle. However, since the boundary constituting the capacitive coupling electrode 176 is parallel or perpendicular to the transmission axes ↔ and 편광 of the polarizing plates 11 and 21, the transmission axes ↔ and 의 of the polarizing plates 11 and 21 are parallel to each other. Tilt parallel or vertical. Therefore, even if the arrangement of the liquid crystal molecules is distorted due to the step by the coupling electrode 176, the light passing through the polarizing plates 11 and 21 in the portion adjacent to the coupling electrode 176 hardly generates a phase delay. Therefore, light leakage is hardly generated around the coupling electrode 176 when displaying a dark color, thereby preventing the contrast ratio from being lowered.

또한, 결합 전극(176)을 공통 전극(270)의 절개부(71)와 중첩하여 배치함으로써 개구율이 저하되는 것을 방지할 수 있다. In addition, by arranging the coupling electrode 176 to overlap the cutout 71 of the common electrode 270, it is possible to prevent the aperture ratio from being lowered.                     

이때, 용량성 결합 전극(176)이 꺾이는 횟수 또는 주기 등은 화소의 크기 및 제조 공정시 사진 식각 공정의 분해능에 따라 변경될 수 있다.In this case, the number or cycles of bending of the capacitive coupling electrode 176 may be changed according to the size of the pixel and the resolution of the photolithography process during the manufacturing process.

도 1 내지 도 4에 도시한 액정 표시 장치는 도 5에 도시한 등가 회로로 나타낼 수 있다.The liquid crystal display shown in FIGS. 1 to 4 can be represented by the equivalent circuit shown in FIG. 5.

도 5를 참고하면, 액정 표시 장치는 복수의 게이트선, 복수의 데이터선 및 복수의 화소를 포함하며, 각 화소는 한 쌍의 제1 및 제2 부화소와 결합 축전기(Ccp)를 포함한다. 각 부화소는 제1/제2 액정 축전기(Clca/Clcb) 및 제1/제2 유지 축전기(Csta/Cstb)를 포함한다. 제1/제2 액정 축전기(Clca/Clcb)는 제1/제2 화소 전극(190a/190b), 공통 전극(270) 및 제1/제2 화소 전극(190a, 190b) 위에 위치한 액정층(300) 영역으로 이루어지며, 제1/제2 유지 축전기(Csta/Cstb)는 제1/제2 화소 전극(190a, 190b), 유지 전극선(131) 및 그 사이의 절연체(140, 180)로 이루어진다. 박막 트랜지스터(Q)는 게이트선, 데이터 전압을 인가 받는 데이터선 및 축전기(Clca, Csta)에 연결되어 있다. 결합 축전기(Ccp)는 용량성 결합 전극(176), 제2 화소 전극(190b)에 연결된 용량성 보조 전극(136) 및 그 사이의 유전체(140)로 이루어지며 박막 트랜지스터(Q)의 출력 단자에 연결되어 있다. Referring to FIG. 5, the liquid crystal display includes a plurality of gate lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixels, and each pixel includes a pair of first and second subpixels and a coupling capacitor Ccp. Each subpixel includes a first / second liquid crystal capacitor Clca / Clcb and a first / second storage capacitor Csta / Cstb. The first and second liquid crystal capacitors Clca / Clcb are disposed on the first and second pixel electrodes 190a and 190b, the common electrode 270, and the first and second pixel electrodes 190a and 190b. ) And the first / second storage capacitor Csta / Cstb includes the first / second pixel electrodes 190a and 190b, the storage electrode line 131, and the insulators 140 and 180 therebetween. The thin film transistor Q is connected to the gate line, the data line to which the data voltage is applied, and the capacitors Clca and Csta. The coupling capacitor Ccp includes a capacitive coupling electrode 176, a capacitive auxiliary electrode 136 connected to the second pixel electrode 190b, and a dielectric 140 therebetween, and is connected to an output terminal of the thin film transistor Q. It is connected.

그러면 화소의 동작에 대하여 상세하게 설명한다. The operation of the pixel will now be described in detail.

박막 트랜지스터(Q)에 연결되어 있는 게이트선에 게이트 온 전압이 인가되면, 박막 트랜지스터(Q)가 도통되어 데이터 전압을 제1 화소 전극(190b)에 전달한다. 제2 화소 전극(190b)이 고립되어 있고 결합 축전기(Ccp)를 통하여 제1 화소 전극(190a)과 용량성 결합되어 있으므로 제2 화소 전극(190b)의 전압이 용량성 결 합에 의하여 변화한다. 이러한 용량성 결합으로 인하여 제2 화소 전극(190b)의 전압 값이 제1 화소 전극(190a)의 전압 값보다 작아지는데 이에 대하여 상세하게 설명한다.When a gate-on voltage is applied to the gate line connected to the thin film transistor Q, the thin film transistor Q is turned on to transfer the data voltage to the first pixel electrode 190b. Since the second pixel electrode 190b is isolated and capacitively coupled to the first pixel electrode 190a through the coupling capacitor Ccp, the voltage of the second pixel electrode 190b changes due to capacitive coupling. Due to the capacitive coupling, the voltage value of the second pixel electrode 190b is smaller than the voltage value of the first pixel electrode 190a. This will be described in detail.

제1 액정 축전기(Clca) 양단의 전압을 Va라 하고 제2 액정 축전기(Clcb) 양단의 전압을 Vb라고 하면 전압 분배 법칙에 따라,If the voltage across the first liquid crystal capacitor Clca is Va and the voltage across the second liquid crystal capacitor Clcb is Vb, according to the voltage division law,

Vb=Va×[Ccp/(Ccp+Clcb+Cstb)]Vb = Va × [Ccp / (Ccp + Clcb + Cstb)]

이고, Ccp/(Ccp+Clcb+Cstb)는 항상 1보다 클 수 없기 때문에 Vb는 Va에 비하여 항상 작다. 이때, Clca 및 Clcb에 대한 공통 전극(270) 전압과 Csta 및 Cstb에 대한 유지 전극선(131) 전압이 달라질 수 있는데, 이러한 경우에도 Clca과 Clcb에 인가되는 공통 전극(270) 전압이 동일하므로 Clca에 인가되는 화상 신호 전압(Va)의 절대값은 항상 Clcb에 인가되는 화상 신호 전압(Vb)의 절대값보다 큰 값을 가지게 된다. Since Ccp / (Ccp + Clcb + Cstb) cannot always be greater than 1, Vb is always smaller than Va. At this time, the voltage of the common electrode 270 for Clca and Clcb and the voltage of the sustain electrode line 131 for Csta and Cstb may be different. In this case, since the voltage of the common electrode 270 applied to Clca and Clcb is the same, The absolute value of the image signal voltage Va applied is always larger than the absolute value of the image signal voltage Vb applied to Clcb.

결합 용량(Ccp)을 조절하면 전압(Va, Vb)의 비를 효과적으로 제어할 수 있다. 결합 용량(Ccp)은 용량성 결합 전극(176)과 제2 화소 전극(190b) 사이의 중첩 면적 또는 거리를 변화시킴으로써 조절할 수 있다. 예들 들면, 중첩 면적은 결합 전극(176)의 너비를 바꿈으로써 변화시킬 수 있고 거리는 결합 전극(176)을 게이트선(121)과 같은 층에 둠으로써 변화시킬 수 있다. By adjusting the coupling capacitance Ccp, the ratio of the voltages Va and Vb can be effectively controlled. The coupling capacitor Ccp may be adjusted by changing the overlapping area or distance between the capacitive coupling electrode 176 and the second pixel electrode 190b. For example, the overlap area can be changed by changing the width of the coupling electrode 176 and the distance can be changed by placing the coupling electrode 176 on the same layer as the gate line 121.

액정 축전기(Clca, Clcb)에 0이 아닌 전압이 걸리면 표시판(100, 200)의 표면에 대하여 대략 수직인 전계가 생성되고 액정 분자(310)들은 전계에 응답하여 그 장축이 전계 방향에 수직이 되도록 그 방향을 바꾸고자 한다. 제1 액정 축전기 (Clca)와 제2 액정 축전기(Clcb)에서의 전계의 세기가 다르기 때문에 제1 및 제2 액정 축전기(Clca, Clcb)에서의 액정 분자(310)는 서로 다른 힘을 받게 되고 이에 따라 서로 다른 경사각(tilt angle)으로 기울어진다. 따라서, 측면 시인성이 향상된다.When a non-zero voltage is applied to the liquid crystal capacitors Clca and Clcb, an electric field approximately perpendicular to the surfaces of the display panels 100 and 200 is generated, and the liquid crystal molecules 310 respond to the electric field so that their major axis is perpendicular to the electric field direction. I want to change that direction. Since the strengths of the electric fields in the first liquid crystal capacitor Clca and the second liquid crystal capacitor Clcb are different, the liquid crystal molecules 310 in the first and second liquid crystal capacitors Clca and Clcb may receive different forces. According to different tilt angles. Therefore, side visibility is improved.

화상 신호가 직접 전달되는 제1 화소 전극(190a)에 대하여 높거나 낮은 화소 전압이 전달되는 제2 화소 전극(190b)의 면적 비는 1:0.85-1:1.15 범위인 것이 바람직하며, 제1 화소 전극(190a)과 용량성으로 결합하는 제2 화소 전극(190b)은 둘 이상으로 배치할 수 있다. The area ratio of the second pixel electrode 190b through which the high or low pixel voltage is transmitted with respect to the first pixel electrode 190a through which the image signal is directly transmitted is in a range of 1: 0.85-1: 1.15, and the first pixel Two or more second pixel electrodes 190b may be disposed to be capacitively coupled to the electrodes 190a.

제1 화소 전극(190a)의 면적은 제2 화소 전극(190b)의 면적보다 넓은 것이 바람직하지만, 제2 화소 전극(190b) 면적의 약 여섯 배를 넘지 않는 것이 바람직하다. The area of the first pixel electrode 190a is preferably larger than the area of the second pixel electrode 190b, but preferably not more than about six times the area of the second pixel electrode 190b.

한편, 다른 실시예에서는 제2 화소 전극(190b)에 제1 화소 전극(190a)의 전압에 비하여 절대값이 항상 높은 전압을 인가할 수 있는데, 이는 제2 화소 전극(190b)에 공통 전압 등과 같이 임의 전압을 인가한 상태에서 제1 화소 전극(190a)과 용량성으로 결합함으로써 이루어진다. Meanwhile, in another embodiment, a voltage whose absolute value is always higher than the voltage of the first pixel electrode 190a may be applied to the second pixel electrode 190b, which may be applied to the second pixel electrode 190b such as a common voltage. This is achieved by capacitively coupling the first pixel electrode 190a while an arbitrary voltage is applied.

결합 전극(176)의 모양과 위치 또한 변경될 수 있다.The shape and position of the coupling electrode 176 may also be changed.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 구조를 도시한 배치도이고, 도 7은 도 6의 액정 표시 장치를 VII-VII' 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.6 is a layout view illustrating a structure of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment. FIG. 7 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 6 taken along the line VII-VII ′.

도 6 및 도 7을 참고하면, 본 실시예에 따른 액정 표시 장치도 박막 트랜지 스터 표시판(100), 공통 전극 표시판(200), 이들 두 표시판(100, 200) 사이에 삽입되어 있는 액정층(3), 두 표시판(100, 200)의 바깥 면에 부착되어 있는 한 쌍의 편광자(12, 22)를 포함한다.6 and 7, the liquid crystal display according to the present exemplary embodiment also includes a thin film transistor array panel 100, a common electrode display panel 200, and a liquid crystal layer interposed between the two display panels 100 and 200. 3) and a pair of polarizers 12 and 22 attached to the outer surfaces of the two display panels 100 and 200.

본 실시예에 따른 표시판(100, 200)의 층상 구조는 도 1 내지 도 4와 거의 동일하다.The layered structures of the display panels 100 and 200 according to the present exemplary embodiment are substantially the same as those of FIGS. 1 to 4.

박막 트랜지스터 표시판(100)에 대하여 설명하자면, 게이트 전극(124)을 포함하는 복수의 게이트선(121) 및 제1 내지 제4 유지 전극(133a, 133b, 133c, 133d)을 포함하는 복수의 유지 전극선(131)이 기판(110) 위에 형성되어 있고, 그 위에 게이트 절연막(140), 돌출부(154)를 포함하는 복수의 선형 반도체(151), 돌출부(163)를 포함하는 복수의 선형 저항성 접촉 부재(161) 및 복수의 섬형 저항성 접촉 부재(165)가 차례로 형성되어 있다. 소스 전극(173)을 포함하는 복수의 데이터선(171)과 결합 전극(176)을 가지는 복수의 드레인 전극(175)이 저항성 접촉 부재(161, 165) 위에 형성되어 있고, 보호막(180)이 그 위에 형성되어 있으며, 보호막(180) 및 게이트 절연막(140)에는 복수의 접촉 구멍(181, 182, 185)이 형성되어 있다. 보호막(180) 위에는 복수의 제1/제2 화소 전극(190a, 190b) 및 복수의 접촉 보조 부재(81, 82)가 형성되어 있고, 그 위에는 배향막(11)이 도포되어 있다.Referring to the thin film transistor array panel 100, a plurality of gate lines 121 including the gate electrode 124 and a plurality of storage electrode lines including the first to fourth storage electrodes 133a, 133b, 133c, and 133d are described. A plurality of linear ohmic contacts 131 are formed on the substrate 110 and include a gate insulating layer 140, a plurality of linear semiconductors 151 including protrusions 154, and a plurality of linear resistive contact members including protrusions 163. 161 and the plurality of island resistive contact members 165 are sequentially formed. A plurality of data lines 171 including the source electrode 173 and a plurality of drain electrodes 175 having the coupling electrode 176 are formed on the ohmic contacts 161 and 165, and the passivation layer 180 is formed thereon. A plurality of contact holes 181, 182, and 185 are formed in the passivation layer 180 and the gate insulating layer 140. A plurality of first / second pixel electrodes 190a and 190b and a plurality of contact auxiliary members 81 and 82 are formed on the passivation layer 180, and an alignment layer 11 is coated thereon.

공통 전극 표시판(200)에 대하여 설명하자면, 차광 부재(220), 복수의 색필터(230), 덮개막(250), 공통 전극(270) 및 배향막(21)이 절연 기판(210) 위에 형성되어 있다. Referring to the common electrode display panel 200, the light blocking member 220, the plurality of color filters 230, the overcoat 250, the common electrode 270, and the alignment layer 21 are formed on the insulating substrate 210. have.

도 1 내지 도 4의 액정 표시 장치와는 달리, 선형 반도체(151)는 데이터선(171)과 드레인 전극(171) 및 그 아래의 저항성 접촉 부재(161, 165)와 거의 동일한 모양을 가진다. 그러나, 돌출부(154)는 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 부분과 같이 데이터선(171)과 드레인 전극(175)으로 덮이지 않는 부분을 가진다.Unlike the liquid crystal display of FIGS. 1 to 4, the linear semiconductor 151 has a shape substantially the same as that of the data line 171, the drain electrode 171, and the ohmic contacts 161 and 165 thereunder. However, the protrusion 154 has a portion not covered by the data line 171 and the drain electrode 175, such as a portion between the source electrode 173 and the drain electrode 175.

또한, 결합 전극(176)은 앞의 실시예와 달리 4곶의 꺾인 부분을 가지는데, 이를 통하여 결합 전극(176)은 공통 전극(270)의 절개부(71)와 더욱 넓게 중첩시킬 수 있다.In addition, unlike the previous embodiment, the coupling electrode 176 has a bent portion of four caps, through which the coupling electrode 176 may overlap the cutout 71 of the common electrode 270 more widely.

이러한 박막 트랜지스터 표시판을 본 발명의 한 실시예에 따라 제조하는 방법에서는 데이터선(171) 및 드레인 전극(175)과 반도체(151) 및 저항성 접촉 부재(161, 165)를 한 번의 사진 공정으로 형성한다. In the method of manufacturing the thin film transistor array panel according to the exemplary embodiment of the present invention, the data line 171, the drain electrode 175, the semiconductor 151, and the ohmic contacts 161 and 165 are formed in one photo process. .

이러한 사진 공정에서 사용하는 감광막 패턴은 위치에 따라 두께가 다르며, 위치에 따라 감광막 패턴의 두께를 달리하는 방법으로 여러 가지가 있을 수 있는데, 예를 들면 광마스크에 투명 영역(transparent area) 및 차광 영역(light blocking area) 외에 반투명 영역(translucent area)을 두는 방법이 있다. 반투명 영역에는 슬릿(slit) 패턴, 격자 패턴(lattice pattern) 또는 투과율이 중간이거나 두께가 중간인 박막이 구비된다. 슬릿 패턴을 사용할 때에는, 슬릿의 폭이나 슬릿 사이의 간격이 사진 공정에 사용하는 노광기의 분해능(resolution)보다 작은 것이 바람직하다. 다른 예로는 리플로우가 가능한 감광막을 사용하는 방법이 있다. 즉, 투명 영역과 차광 영역만을 지닌 통상의 노광 마스크로 리플로우 가능한 감광막 패턴을 형성한 다음 리플로우시켜 감광막이 잔류하지 않은 영역으로 흘러내리도록 함으로써 얇은 부분을 형성하는 것이다. 이와 같이 하면 한 번의 사진 공정을 줄일 수 있으므로 제조 방법이 간단해진다.The photoresist pattern used in the photolithography process has a different thickness depending on the position, and there may be various methods of varying the thickness of the photoresist pattern depending on the position, for example, a transparent area and a light shielding area in the photomask. In addition to the light blocking area, there is a method of providing a translucent area. The translucent region is provided with a slit pattern, a lattice pattern, or a thin film having a medium transmittance or a medium thickness. When using the slit pattern, it is preferable that the width of the slits and the interval between the slits are smaller than the resolution of the exposure machine used for the photographic process. Another example is to use a photoresist film that can be reflowed. That is, a thin portion is formed by forming a reflowable photoresist pattern with a normal exposure mask having only a transparent region and a light shielding region and then reflowing to allow the photoresist film to flow down into a region where no residue is left. In this way, a one-time photographic process can be reduced, thereby simplifying the manufacturing method.

앞서 설명한 도 1 내지 도 4의 액정 표시 장치에 대한 많은 특징들이 이와 같은 실시예에서도 적용될 수 있다.Many of the above-described features of the liquid crystal display of FIGS. 1 to 4 may be applied to such an embodiment.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 구조를 도시한 배치도이고, 도 9는 도 8의 액정 표시 장치를 IX-IX' 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.8 is a layout view illustrating a structure of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment. FIG. 9 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 8 taken along the line IX-IX ′.

도 8 및 도 9를 참고하면, 본 실시예에 따른 액정 표시 장치도 박막 트랜지스터 표시판(100), 공통 전극 표시판(200), 이들 두 표시판(100, 200) 사이에 삽입되어 있는 액정층(3) 및 두 표시판(100, 200)의 바깥 면에 부착되어 있는 한 쌍의 편광자(12, 22)를 포함한다.8 and 9, the liquid crystal display according to the present exemplary embodiment also includes a thin film transistor array panel 100, a common electrode display panel 200, and a liquid crystal layer 3 inserted between the two display panels 100 and 200. And a pair of polarizers 12 and 22 attached to outer surfaces of the two display panels 100 and 200.

본 실시예에 따른 표시판(100, 200)의 층상 구조는 도 1 내지 도 4에 도시한 표시판(100, 200)의 층상 구조와 거의 동일하다.The layered structure of the display panels 100 and 200 according to the present exemplary embodiment is substantially the same as the layered structure of the display panels 100 and 200 illustrated in FIGS. 1 to 4.

박막 트랜지스터 표시판(100)에 대하여 설명하자면, 게이트 전극(124)을 포함하는 복수의 게이트선(121) 및 복수의 유지 전극선(131)이 기판(110) 위에 형성되어 있고, 그 위에 게이트 절연막(140), 복수의 선형 반도체(151) 및 복수의 저항성 접촉 부재(161, 165)가 차례로 형성되어 있다. 소스 전극(173)을 포함하는 복수의 데이터선(171)과 복수의 드레인 전극(175)이 저항성 접촉 부재(161, 165) 및 게이트 절연막(140) 위에 형성되어 있고, 보호막(180)이 그 위에 형성되어 있으며, 보호막(180) 및 게이트 절연막(140)에는 복수의 접촉 구멍(181, 182, 185)이 형성 되어 있다. 보호막(180) 위에는 복수의 제1/제2 화소 전극(190a, 190b) 및 복수의 접촉 보조 부재(81, 82)가 형성되어 있고 그 위에는 배향막(11)이 형성되어 있다.Referring to the thin film transistor array panel 100, a plurality of gate lines 121 and a plurality of storage electrode lines 131 including the gate electrode 124 are formed on the substrate 110, and the gate insulating layer 140 is disposed thereon. ), A plurality of linear semiconductors 151 and a plurality of ohmic contacts 161 and 165 are formed in this order. A plurality of data lines 171 and a plurality of drain electrodes 175 including the source electrode 173 are formed on the ohmic contacts 161 and 165 and the gate insulating layer 140, and the passivation layer 180 is disposed thereon. A plurality of contact holes 181, 182, and 185 are formed in the passivation layer 180 and the gate insulating layer 140. A plurality of first and second pixel electrodes 190a and 190b and a plurality of contact auxiliary members 81 and 82 are formed on the passivation layer 180, and an alignment layer 11 is formed thereon.

공통 전극 표시판(200)에 대하여 설명하자면, 차광 부재(220), 덮개막(250), 공통 전극(270) 및 배향막(21)이 절연 기판(210) 위에 형성되어 있다.Referring to the common electrode display panel 200, the light blocking member 220, the overcoat 250, the common electrode 270, and the alignment layer 21 are formed on the insulating substrate 210.

도 1 내지 도 4와 달리, 복수의 색필터(230)는 박막 트랜지스터 표시판(100)에 배치되어 있으며, 보호막(180)의 아래에 위치한다. 각각의 색필터(230)는 드레인 전극(175)을 드러내는 개구부를 가지는 것이 바람직하다.Unlike FIGS. 1 to 4, the color filters 230 are disposed on the thin film transistor array panel 100 and are disposed under the passivation layer 180. Each color filter 230 preferably has an opening that exposes the drain electrode 175.

이상과 같이 화소 전극을 분할하여 서로 다른 인가함으로써 액정 표시 장치의 측면 시인성을 향상시키고 이를 통하여 시야각을 확장할 수 있다. As described above, the pixel electrodes are divided and applied to each other, thereby improving side visibility of the liquid crystal display and thereby expanding the viewing angle.

또한, 결합 용량을 형성하는 결합 전극이 계단 모양을 이룸으로써 결합 전극으로 인한 단차가 발생하더라도 결합 전극의 주변에서 발생하는 빛샘을 최소화할 수 있으며, 이를 통하여 대비비가 감소하는 것을 방지할 수 있다.In addition, since the coupling electrode forming the coupling capacitance has a step shape, even if a step caused by the coupling electrode occurs, light leakage occurring in the vicinity of the coupling electrode may be minimized, thereby preventing the contrast ratio from being reduced.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다. 특히, 화소 전극과 공통 전극에 형성하는 절개부의 배치는 여러 다양한 변형이 있을 수 있다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights. In particular, the arrangement of the cutouts formed in the pixel electrode and the common electrode may be variously modified.

Claims (9)

게이트선,Gate Line, 상기 게이트선과 절연되어 교차하고 있는 데이터선,A data line insulated from and intersecting the gate line; 각각의 상기 게이트선 및 상기 데이터선의 소스 전극과 연결되어 있으며, 드레인 전극 및 반도체를 가지는 박막 트랜지스터,A thin film transistor connected to the source electrode of each of the gate line and the data line and having a drain electrode and a semiconductor, 상기 드레인 전극에 연결되어 있으며, 적어도 하나 이상의 꺾인 부분을 포함하고 있어 계단 모양을 이루는 용량성 결합 전극,A capacitive coupling electrode connected to the drain electrode and including at least one bent portion to form a step shape; 상기 게이트선, 상기 데이터선 및 상기 박막 트랜지스터를 덮는 보호막,A passivation layer covering the gate line, the data line, and the thin film transistor; 상기 드레인 전극과 직접 연결되어 있는 제1 화소 전극과 상기 제1 화소 전극으로부터 분리되어 있으며 상기 용량성 결합 전극과 중첩하여 상기 제1 화소 전극과 용량성으로 연결되어 있는 제2 화소 전극을 포함하는 화소 전극A pixel including a first pixel electrode directly connected to the drain electrode and a second pixel electrode separated from the first pixel electrode and overlapping the capacitive coupling electrode and capacitively connected to the first pixel electrode electrode 을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판.Thin film transistor array panel comprising a. 제1항에서,In claim 1, 상기 결합 전극은 상기 게이트선과 평행한 제1 부분과 상기 데이터선과 평행한 제2 부분이 교대로 연결되어 이루어진 박막 트랜지스터 표시판.The coupling electrode is a thin film transistor array panel formed by alternately connecting a first portion parallel to the gate line and a second portion parallel to the data line. 제1항에서,In claim 1, 상기 화소 전극, 상기 결합 전극 및 상기 드레인 전극 중 적어도 하나와 중 첩하여 유지 용량을 형성하는 유지 전극을 가지는 유지 전극선을 더 포함하는 박막 트랜지스터 표시판.And a storage electrode line having a storage electrode overlapping at least one of the pixel electrode, the coupling electrode, and the drain electrode to form a storage capacitor. 제1항에서,In claim 1, 상기 반도체는 상기 데이터선을 따라 선형으로 이루어진 박막 트랜지스터 표시판.And the semiconductor is linear along the data line. 제4항에서,In claim 4, 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 사이를 제외한 상기 반도체는 상기 데이터선 및 상기 드레인 전극과 동일한 평면 형태로 이루어진 박막 트랜지스터 표시판.The semiconductor, except between the source electrode and the drain electrode, has the same planar shape as the data line and the drain electrode. 게이트선, 상기 게이트선과 절연되어 교차하고 있는 데이터선, 각각의 상기 게이트선 및 상기 데이터선의 소스 전극과 연결되어 있으며, 드레인 전극 및 반도체를 가지는 박막 트랜지스터, 상기 드레인 전극에 연결되어 있으며, 적어도 하나 이상의 꺾인 부분을 포함하고 있어 계단 모양을 이루는 용량성 결합 전극, 상기 게이트선, 상기 데이터선 및 상기 박막 트랜지스터를 덮는 보호막, 상기 드레인 전극과 직접 연결되어 있는 제1 화소 전극과 상기 제1 화소 전극으로부터 분리되어 있으며 상기 용량성 결합 전극과 중첩하여 상기 제1 화소 전극과 용량성으로 연결되어 있는 제2 화소 전극을 포함하는 화소 전극을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판, 및 A gate line, a data line insulated from and intersecting the gate line, a thin film transistor having a drain electrode and a semiconductor, connected to a source electrode of each of the gate line and the data line, and connected to the drain electrode, and at least one or more A capacitive coupling electrode having a bent portion, a protective layer covering the gate line, the data line and the thin film transistor, and a first pixel electrode directly connected to the drain electrode and the first pixel electrode. A thin film transistor array panel including a pixel electrode overlapping the capacitive coupling electrode and including a second pixel electrode connected to the first pixel electrode in a capacitive manner; 상기 박막 트랜지스터 표시판과 마주하며, 공통 전극이 형성되어 있는 공통 전극 표시판A common electrode panel facing the thin film transistor array panel and having a common electrode formed thereon; 을 포함하는 액정 표시 장치.Liquid crystal display comprising a. 제6항에서,In claim 6, 상기 결합 전극은 상기 게이트선과 평행한 제1 부분과 상기 데이터선과 평행한 제2 부분이 교대로 연결되어 이루어진 박막 트랜지스터 표시판.The coupling electrode is a thin film transistor array panel formed by alternately connecting a first portion parallel to the gate line and a second portion parallel to the data line. 제7항에서,In claim 7, 상기 박막 트랜지스터 표시판과 상기 공통 전극 표시판의 바깥 면에 부착되어 있는 편광판을 더 포함하는 액정 표시 장치.And a polarizing plate attached to an outer surface of the thin film transistor array panel and the common electrode display panel. 제8항에서,In claim 8, 상기 편광판의 투과축은 상기 제1 및 제2 부분과 평행하거나 수직한 액정 표시 장치.The transmission axis of the polarizer is parallel to or perpendicular to the first and second portions.
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