KR20060041495A - Jig apparatus for wet cleaning of photo mask - Google Patents

Jig apparatus for wet cleaning of photo mask Download PDF

Info

Publication number
KR20060041495A
KR20060041495A KR1020040090723A KR20040090723A KR20060041495A KR 20060041495 A KR20060041495 A KR 20060041495A KR 1020040090723 A KR1020040090723 A KR 1020040090723A KR 20040090723 A KR20040090723 A KR 20040090723A KR 20060041495 A KR20060041495 A KR 20060041495A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photomask
jig device
wet cleaning
base frame
stopper
Prior art date
Application number
KR1020040090723A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김기호
Original Assignee
에스케이씨 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스케이씨 주식회사 filed Critical 에스케이씨 주식회사
Priority to KR1020040090723A priority Critical patent/KR20060041495A/en
Publication of KR20060041495A publication Critical patent/KR20060041495A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

본 발명은 포토마스크(photo mask) 습식세정(wet cleaning)용 지그(jig)장치에 관한 것이다.The present invention relates to a jig device for photo mask wet cleaning.

본 발명은, 세정대상의 포토마스크를 안정적으로 안치하여 베쓰내에 침지될 수 있는 지그장치로서, 얇은 평판의 사각틀 형태로 수직방향으로 세워져 구비되는 베이스 프레임과, 상기 베이스 프레임의 일측면상의 좌우측 및 하부측에 각각 전방으로 미세길이 입설되도록 원기둥 형태로 결합 구비되어 상기 포토마스크가 세워진 상태에서 상부로부터 끼워져 안치되도록 하며 그 일정높이에는 안치되는 상기 포토마스크의 해당하는 에지부에 접촉하여 지지하게 되는 가이드홈이 형성되어 있는 스톱퍼를 포함한다.The present invention is a jig device that can be immersed in the bath by stably placing the photomask to be cleaned, a base frame which is provided in a vertical direction in the form of a thin flat rectangular frame, and the left and right and lower sides on one side of the base frame The guide groove is provided to be coupled in the form of a cylinder so that the micro-length is inserted into the front side on each side so that the photomask is fitted from the top in the standing state and is supported at the predetermined height in contact with the corresponding edge of the photomask. It includes a stopper is formed.

따라서, 세정대상의 포토마스크를 안정적으로 안치하여 베쓰내에 침지시킬 수 있으므로, 세정작업의 편리성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Therefore, since the photomask to be cleaned can be stably settled and immersed in the bath, the convenience of the cleaning operation can be improved.

포토마스크, 세정, 베쓰, 세정조, 지그, OLEDPhotomask, Cleaning, Bath, Cleaning Tank, Jig, OLED

Description

포토마스크 습식세정용 지그장치{JIG APPARATUS FOR WET CLEANING OF PHOTO MASK}JIG APPARATUS FOR WET CLEANING OF PHOTO MASK

도 1은 본 발명에 따른 포토마스크 습식세정용 지그장치를 보여주는 정면도,1 is a front view showing a photomask wet cleaning jig device according to the present invention,

도 2는 본 발명에 따른 포토마스크 습식세정용 지그장치를 보여주는 측면도,Figure 2 is a side view showing a photomask wet cleaning jig device according to the invention,

도 3은 본 발명에 따른 포토마스크 습식세정용 지그장치가 사용되는 일 상태를 보여주는 개략 사시도이다.Figure 3 is a schematic perspective view showing a state in which the photomask wet cleaning jig device according to the present invention is used.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 포토마스크 20 : 지그장치10: photomask 20: jig device

22 : 베이스 프레임 24 : 스톱퍼22: base frame 24: stopper

24a : 가이드홈 30 : 걸침부재24a: guide groove 30: hook member

30a : 걸이구 40 : 베쓰30a: Hanging hook 40: Beth

본 발명은 포토마스크(photo mask) 습식세정(wet cleaning)용 지그(jig)장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 세정대상의 포토마스크를 안정적으로 안치하여 베쓰내에 침지시킬 수 있는 포토마스크 습식세정용 지그장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a jig device for wet cleaning of a photo mask, and more particularly, to a photomask wet cleaning that can be immersed in a bath by stably placing a photomask to be cleaned. It relates to a jig device.                         

일반적으로, 평판디스플레이(FPD ; Flat Panel Display)중 유기발광디스플레이(OLED ; Organic Light Emitting Display)는 매우 얇고, 낮은 전압으로도 구동이 가능하며, 빠른 응답속도를 가지고 있고, 자체 발광소자이므로 시야각이 넓고 높은 휘도를 나타내며, 그 제조공정이 단순하다는 등의 많은 장점을 가지고 있어, 차세대 디스플레이로 각광받고 있는 실정이다.In general, an organic light emitting display (OLED) of a flat panel display (FPD) is very thin, can be driven at low voltage, has a fast response speed, and is a self-light emitting device. It has a wide and high brightness, has a number of advantages such as the simple manufacturing process, it is in the spotlight as the next generation display.

이러한 OLED의 제조에서는 뱅크를 형성하는 등의 패터닝(patterning)을 위해 포토리소그래피(photo lithography) 기술이 이용되게 되며, 포토리소그래피 기술은 익히 주지된 바와 같이 도포된 레지스트(resist)층을 포토마스크(photo mask)를 이용하여 선택적으로 노광하는 과정을 포함한다.In the manufacture of such OLEDs, photolithography technology is used for patterning, such as forming a bank, and photolithography technology uses a photomask to apply a resist layer applied as is well known. selectively exposing using a mask).

여기서, 포토마스크는 OLED의 글래스(glass) 기판상에 패턴을 전사할 때 사용되는 원판의 역할을 하는 것으로서, 그 표면에 파티클(particle), 금속물질, 유기물과 같은 이물질이 존재하게 되면 그것이 패턴으로서 전사되어 OLED의 생산수율이나 신뢰성에 악영향을 미치게 되므로 그 표면은 수시로 세정되게 된다.Here, the photomask serves as a disc used to transfer a pattern onto a glass substrate of an OLED, and when foreign substances such as particles, metals, and organics are present on the surface thereof, it is used as a pattern. The surface is cleaned from time to time because the transfer will adversely affect the yield or reliability of the OLED.

즉, 노광작업전에 표면상에 존재하는 오염물질을 검출하여, 오염물질이 검출되지 않으면 노광작업을 시작하고, 오염물질이 검출되면 우선 그 표면을 세정하여 오염물질을 완전히 제거한 후 노광작업을 수행하게 된다.In other words, it detects contaminants on the surface before the exposure operation and starts the exposure operation if no contamination is detected.If the contamination is detected, the surface is cleaned first to completely remove the contamination and then perform the exposure operation. do.

종래의 포토마스크 세정방법으로는 작업자가 고무장갑을 착용한 후, 알코올 등의 세정액을 묻힌 와이퍼(wiper) 또는 스펀지(sponge)를 포토마스크의 표면에 접촉시켜 일방향으로 밀어내면서 세정하는 방식이 이용되었으나, 이 방법에 의하면 작업효율이 극히 낮을 뿐만 아니라 오염물질도 완벽하게 제거되지 않고, 고가인 포 토마스크를 파손시킬 위험성도 존재하였다.In the conventional photomask cleaning method, a worker wears rubber gloves and uses a wiper or sponge coated with a cleaning liquid such as alcohol to push the film toward the surface of the photomask to push in one direction. According to this method, not only is the work efficiency extremely low, but also contaminants are not completely removed and there is a risk of damaging expensive photomasks.

이에, 개선된 방법으로서 포토마스크를 세정액이 담긴 베쓰(bath, 세정조)내에 일정시간 침지시켜 세정하는 습식세정(wet cleaning) 방식이 이용되게 되었으며, 습식세정 방식에 의하면 복수개의 포토마스크를 동시에 세정할 수 있어 처리효율이 높고, 완벽하게 오염물질을 제거할 수 있다는 장점이 있다.Accordingly, a wet cleaning method of dipping a photomask in a bath containing a cleaning liquid for a predetermined time is used as an improved method. A wet cleaning method simultaneously cleans a plurality of photomasks. It has the advantage of high processing efficiency and complete removal of contaminants.

물론, 습식세정시 보다 효과적인 이물질 제거를 위하여 가온한 세정액을 이용하거나 세정액에 초음파 진동을 부여하는 경우도 있다.Of course, in order to remove foreign substances more effectively during wet cleaning, a warm cleaning solution may be used or ultrasonic vibration may be applied to the cleaning solution.

그러나, 작업자가 직접 포토마스크를 파지하여 베쓰에 침지시킨 후 그 상태에서 일정시간 유지시키게 되므로, 수작업에 따른 불편함이 많고, 처리효율도 극히 낮으며, 포토마스크를 떨어뜨려 파손시킬 위험성도 여전히 상존하는 문제점이 있었다.However, since the worker directly holds the photomask and soaks it in the bath and maintains it for a predetermined time, there is a lot of inconvenience due to the manual work, the processing efficiency is extremely low, and there is still a risk of dropping and damaging the photomask. There was a problem.

본 발명은 상기와 같은 제반 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 포토마스크를 안정적으로 안치하여 베쓰내에 침지시킬 수 있는 포토마스크 습식세정용 지그장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention was devised to solve the above problems, and an object thereof is to provide a photomask wet cleaning jig apparatus which can stably place a photomask and immerse it in a bath.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 세정대상의 포토마스크를 안정적으로 안치하여 베쓰내에 침지될 수 있는 지그장치로서, 얇은 평판의 사각틀 형태로 수직방향으로 세워져 구비되는 베이스 프레임과, 상기 베이스 프레임의 일측면상의 좌우측 및 하부측에 각각 전방으로 미세길이 입설되도록 원기둥 형태로 결합 구비되어 상기 포토마스크가 세워진 상태에서 상부로부터 끼워져 안치되도록 하며 그 일정높이에는 안치되는 상기 포토마스크의 해당하는 에지부에 접촉하여 지지하게 되는 가이드홈이 형성되어 있는 스톱퍼를 포함하는 포토마스크 습식세정용 지그장치를 제공한다.The present invention for achieving the above object is a jig device which can be immersed in the bath by stably placing the photomask to be cleaned, a base frame which is provided in a vertical direction in the form of a thin flat rectangular frame, and the base frame The left and right sides and the lower side on the one side of each side is provided in the form of a cylinder so as to be inserted into the front in the form of a cylinder to be fitted from the top in the standing state of the photomask and the corresponding edge portion of the photomask that is placed at a certain height Provided is a photomask wet cleaning jig device comprising a stopper having a guide groove formed to contact and support.

본 발명의 상기 목적과 여러가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따르면, 포토마스크(10)에 대한 습식세정시, 포토마스크(10)를 안정적으로 안치하여 베쓰(40)내에 침지시킬 수 있는 지그장치(20)가 마련되게 된다.According to the present invention, when wet cleaning the photomask 10, the jig device 20 capable of stably placing the photomask 10 and being immersed in the bath 40 is provided.

도 1은 본 발명에 따른 포토마스크 습식세정용 지그장치를 보여주는 정면도이고, 도 2는 그 측면도이다.1 is a front view showing a photomask wet cleaning jig apparatus according to the present invention, Figure 2 is a side view thereof.

도면을 참조하면, 지그장치(20)는 얇은 평판의 사각틀 형태로 수직방향으로 세워져 구비되는 베이스 프레임(22)과, 이 베이스 프레임(22)의 일측면상의 좌우측 및 하부측에 각각 전방으로 미세길이 입설되도록 원기둥 형태로 결합 구비되는 스톱퍼(24)를 포함한다.Referring to the drawings, the jig device 20 has a base frame 22 which is provided in a vertical direction in the form of a thin flat rectangular frame, and fine lengths in front of the left and right sides and the lower side on the one side surface of the base frame 22, respectively. It includes a stopper 24 is provided in the form of a cylinder to be engaged.

따라서, 개략적으로 사각판 형상인 세정대상의 포토마스크(10)는 베이스 프레임(22)에 대해 평행되도록 세워진 상태에서 좌우측 및 하부측의 스톱퍼(24)가 이루는 내측으로 상부로부터 끼워져 안치되게 되며, 그 안치된 상태에서 각 스톱퍼 (24)에 의해 그 좌우측 단부와 하단부가 이탈되지 않도록 지지되게 된다.Therefore, the photomask 10 of the cleaning object having a substantially rectangular plate shape is inserted from the upper side into the inner side formed by the stoppers 24 on the left and right and the lower side in a state of being erected parallel to the base frame 22, The left and right end portions and the lower end portions thereof are supported by the stoppers 24 in a settled state so as not to be separated.

베이스 프레임(22)은 안치되는 포토마스크(10)의 전체면이 세정액에 노출되도록 좌우길이가 포토마스크(10)의 좌우길이에 대략 대응되고, 상하길이가 포토마스크(10)의 상하길이보다 바람직하게 긴 내측개방부를 갖는 사각틀 형태로 이루어지며, 그 재질은 세정액에 대한 내부식성 재질로 이루어져야 하고, 바람직하게는 스테인레스(sus) 재질로 이루어질 수 있다.The base frame 22 has a horizontal length corresponding to the left and right lengths of the photomask 10 so that the entire surface of the photomask 10 placed therein is exposed to the cleaning liquid, and the upper and lower lengths are more preferable than the vertical lengths of the photomask 10. It is made in the form of a rectangular frame having a long inner opening, the material should be made of a corrosion-resistant material for the cleaning liquid, preferably made of stainless (sus) material.

스톱퍼(24)는 베이스 프레임(22)의 해당하는 위치에 각각 입설되도록 구비되는 작은 원기둥 형태로서, 원기둥의 일정높이에는 안치되는 포토마스크(10)의 에지(edge)부와 접촉되는 부분에 양측이 테이퍼(taper)진 브이자(V) 형상의 가이드홈(24a)이 일체로 형성되어 있어, 포토마스크(10)가 가이드홈(24a)을 따라 용이하게 끼워진 후 그 에지부가 접촉된 상태를 유지하면서 안정적으로 고정되도록 되어 있다.The stopper 24 is a small cylindrical shape provided to be respectively entered at the corresponding position of the base frame 22, both sides are in contact with the edge (edge) of the photomask 10 is placed at a certain height of the cylinder The tapered V-shaped guide groove 24a is integrally formed so that the photomask 10 is easily fitted along the guide groove 24a, and the edge portion thereof remains in contact with the guide groove 24a. It is designed to be fixed stably.

그리고, 그 재질은 접촉되는 포토마스크(10)의 파손을 방지하도록 합성수지 재질로 이루어질 수 있으며, 바람직하게는 가온된 세정액을 사용하는 경우 등을 고려하여 내열성 등이 우수한 테프론(teflon) 재질이 이용될 수 있다.In addition, the material may be made of a synthetic resin material to prevent breakage of the contacted photomask 10. Preferably, a Teflon material having excellent heat resistance and the like may be used in consideration of the use of a heated cleaning solution. Can be.

전술한 베이스 프레임(22)과 각 스톱퍼(24)의 바람직한 결합방식을 설명하면, 각 스톱퍼(24)가 결합되는 베이스 프레임(22)의 해당하는 위치에는 각각 결합홀(미도시)이 형성되어 있고, 각 스톱퍼(24)의 후면측에는 내측으로 나사공(미도시)이 형성되어 있어, 후방측으로부터 체결볼트(미도시)를 베이스 프레임(22)의 결합홀과 스톱퍼(24)의 나사공에 대해 동시에 삽입하여 체결함으로써 상호 결합되도 록 할 수 있다.Referring to the preferred coupling method of the base frame 22 and each stopper 24 described above, coupling holes (not shown) are formed at corresponding positions of the base frame 22 to which each stopper 24 is coupled. On the rear side of each stopper 24, a threaded hole (not shown) is formed inward, so that a fastening bolt (not shown) is attached from the rear side to the coupling hole of the base frame 22 and the threaded hole of the stopper 24. By inserting and tightening at the same time, they can be joined together.

물론, 이때 결합에 사용되는 체결볼트의 재질 또한 내부식성을 가져야 하며, 바람직하게는 스테인레스 재질이 이용될 수 있다.Of course, the material of the fastening bolt used for the coupling should also have corrosion resistance, and preferably a stainless material may be used.

덧붙여, 스톱퍼(24)는 자체 회전되지 않도록 고정되나, 이와 다르게 자체 회전되도록 구성될 수도 있으며, 자체 회전되는 경우에는 가이드홈(24a)이 원주방향을 따라서 전체적으로 형성되어야 할 것이다.In addition, the stopper 24 is fixed so as not to rotate itself, but may alternatively be configured to rotate itself, and in the case of self-rotation, the guide groove 24a should be formed entirely along the circumferential direction.

그리고, 이상에서 베이스 프레임(22)의 좌우측과 하부측에 각각 하나씩의 스톱퍼(24)가 구비되는 것으로 하였으나 그 개수는 다수개씩 구비되어도 될 것이다.In addition, although one stopper 24 is provided at each of the left and right sides and the lower side of the base frame 22, the number may be provided in plural numbers.

도 3은 본 발명에 따른 포토마스크 습식세정용 지그장치가 사용되는 일 상태를 보여주는 개략 사시도이다.Figure 3 is a schematic perspective view showing a state in which the photomask wet cleaning jig device according to the present invention is used.

본 발명에 따른 지그장치(20)는 다른 위치고정수단에 고정되어 베쓰(40)내에 침지된 상태를 유지할 수 있으며, 도 3에서는 위치고정수단의 일 예로서 양측에 걸이구(30a)를 각각 구비하고 베쓰(40)의 상단에 걸쳐지도록 설치되게 되는 걸침부재(30)가 이용되는 경우를 나타낸다.The jig device 20 according to the present invention is fixed to the other position fixing means can maintain the state immersed in the bath 40, in Figure 3 is provided with hooks (30a) on each side as an example of the position fixing means And a hooking member 30 which is installed to span the top of the bath 40 is used.

이 경우, 걸침부재(30)의 각 일측의 걸이구(30a)들에 지그장치(20)의 상단틀부가 걸쳐지도록 놓여지게 됨으로써 지그장치(20)가 베쓰(40)내에 침지된 상태를 유지하게 된다.In this case, the upper frame portion of the jig device 20 is placed on the hooks 30a on each side of the hooking member 30 so that the jig device 20 is maintained in the bath 40. do.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정과 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다.In the foregoing description, it should be understood that those skilled in the art can make modifications and changes to the present invention without changing the gist of the present invention as merely illustrative of a preferred embodiment of the present invention.

본 발명에 따르면, 세정대상의 포토마스크를 안정적으로 안치하여 베쓰내에 침지시킬 수 있으므로, 세정작업의 편리성을 향상시킬 수 있는 효과가 달성될 수 있다.According to the present invention, since the photomask to be cleaned can be stably placed and immersed in the bath, the effect of improving the convenience of the cleaning operation can be achieved.

Claims (4)

세정대상의 포토마스크를 안정적으로 안치하여 베쓰내에 침지될 수 있는 지그장치로서, A jig device that can be immersed in the bath by stably placing the photomask to be cleaned, 얇은 평판의 사각틀 형태로 수직방향으로 세워져 구비되는 베이스 프레임과, The base frame is provided in the vertical direction in the form of a rectangular flat plate, 상기 베이스 프레임의 일측면상의 좌우측 및 하부측에 각각 전방으로 미세길이 입설되도록 원기둥 형태로 결합 구비되어 상기 포토마스크가 세워진 상태에서 상부로부터 끼워져 안치되도록 하며 그 일정높이에는 안치되는 상기 포토마스크의 해당하는 에지부에 접촉하여 지지하게 되는 가이드홈이 형성되어 있는 스톱퍼를 포함하는 포토마스크 습식세정용 지그장치.Couplings are provided in a cylindrical shape so that fine lengths are placed in front of each of the left and right and lower sides on one side of the base frame so that the photomask is fitted from the top in a standing state, and the corresponding height of the photomask is settled at a predetermined height. A photomask wet cleaning jig device comprising a stopper having a guide groove formed to contact and support an edge portion. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스톱퍼가 결합되는 상기 베이스 프레임의 위치에는 각각 결합홀이 형성되어 있고,Coupling holes are formed at positions of the base frame to which the stopper is coupled, 상기 스톱퍼의 후면측에는 내측으로 나사공이 형성되어 있어,The rear side of the stopper is formed with a screw hole inward, 후방측으로부터 체결볼트를 상기 결합홀과 상기 나사공에 대해 동시에 삽입하여 체결함으로써 상호 결합되게 되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 습식세정용 지그장치.Jig device for a photomask wet cleaning, characterized in that the fastening bolt from the rear side to be coupled to each other by inserting the fastening bolt and the screw hole at the same time. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스 프레임은,The base frame, 스테인레스 재질인 것을 특징으로 하는 포토마스크 습식세정용 지그장치.Jig device for photomask wet cleaning, characterized in that the stainless material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스톱퍼는,The stopper is, 테프론 재질인 것을 특징으로 하는 포토마스크 습식세정용 지그장치.The photomask wet cleaning jig device, characterized in that the Teflon material.
KR1020040090723A 2004-11-09 2004-11-09 Jig apparatus for wet cleaning of photo mask KR20060041495A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040090723A KR20060041495A (en) 2004-11-09 2004-11-09 Jig apparatus for wet cleaning of photo mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040090723A KR20060041495A (en) 2004-11-09 2004-11-09 Jig apparatus for wet cleaning of photo mask

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060041495A true KR20060041495A (en) 2006-05-12

Family

ID=37148038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040090723A KR20060041495A (en) 2004-11-09 2004-11-09 Jig apparatus for wet cleaning of photo mask

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060041495A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150077730A (en) 2013-12-30 2015-07-08 주식회사 선익시스템 Plasma processing apparatus of oled substrate
KR101555559B1 (en) * 2012-06-05 2015-09-24 강원규 Back flow prevention jig for semiconductor flat panel display manufacturing apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101555559B1 (en) * 2012-06-05 2015-09-24 강원규 Back flow prevention jig for semiconductor flat panel display manufacturing apparatus
KR20150077730A (en) 2013-12-30 2015-07-08 주식회사 선익시스템 Plasma processing apparatus of oled substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2733771B2 (en) Liquid processing equipment
US5704493A (en) Substrate holder
EP1783822A4 (en) Exposure device, exposure device member cleaning method, exposure device maintenance method, maintenance device, and device manufacturing method
KR102541489B1 (en) Apparatus for cleaning substrate and facility for cleaning substrate using the same
KR102520093B1 (en) Cleaning device of coating machine, and coating device
JPH10223740A (en) Reducing method of particles on substrate using chuck cleaner
KR20060041495A (en) Jig apparatus for wet cleaning of photo mask
JP6005689B2 (en) Stepper chuck for wafer or flat glass exposure equipment
KR20010049878A (en) Wet processing apparatus
JP2008175874A (en) Application method of pressure-sensitive adhesive on pellicle frame inner face
KR19980056436A (en) Wafer Support and Transfer Mechanism
JP4030973B2 (en) Development processing equipment
TWI701088B (en) Fixture and method for wet cleaning of electrostatic chuck
JP2007036189A (en) Substrate holder and substrate processing device
TW594440B (en) Apparatus and method for developing an LCD
KR102011272B1 (en) Photomask Cleaning Apparatus with Photomask Fixing Device
KR200476530Y1 (en) Nozzle module and cleaning apparatus having the same
JP2531239Y2 (en) Lifting jig in hot pure water pulling type drying equipment
KR102647933B1 (en) Spin Chuck apparatus for single type cleaning apparatus for substrate
JPH04130724A (en) Cleaning apparatus
CN219715932U (en) Photoresist edge removing device for preventing solution from splashing
KR100646415B1 (en) Substrate guide of semiconductor cleaning apparatus
US7127830B2 (en) Reticle carrier apparatus and method that tilts reticle for drying
CN216083407U (en) Clip-on transfer molding apparatus
US20240077807A1 (en) Substrate processing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination