KR20060035769A - 박막 패터닝 구조물 및 그 제조 방법, 박막 장치 및 그제조 방법, 디스플레이 장치 - Google Patents

박막 패터닝 구조물 및 그 제조 방법, 박막 장치 및 그제조 방법, 디스플레이 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20060035769A
KR20060035769A KR1020067001137A KR20067001137A KR20060035769A KR 20060035769 A KR20060035769 A KR 20060035769A KR 1020067001137 A KR1020067001137 A KR 1020067001137A KR 20067001137 A KR20067001137 A KR 20067001137A KR 20060035769 A KR20060035769 A KR 20060035769A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin film
patterning structure
substrate
barrier
film patterning
Prior art date
Application number
KR1020067001137A
Other languages
English (en)
Inventor
파울루스 씨 두인벨트
피터 제이 슬리커비어
Original Assignee
코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. filed Critical 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
Publication of KR20060035769A publication Critical patent/KR20060035769A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52Macromolecular coatings
    • B41M5/5218Macromolecular coatings characterised by inorganic additives, e.g. pigments, clays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/003Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns on optical devices, e.g. lens elements; for the production of optical devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/006Patterns of chemical products used for a specific purpose, e.g. pesticides, perfumes, adhesive patterns; use of microencapsulated material; Printing on smoking articles
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]

Abstract

기판(1)과 이 기판(1)의 표면을 하위 영역(5)으로 분할하도록 배열된 장벽(3)을 포함하는 박막 패터닝 구조물(6)이 개시되어 있다. 상기 표면은 중합체 물질이며, 적어도 부분적으로 무기물인 코팅(2)으로 코팅된다. 박막 물질(4)은 바람직하게 상기 박막 패터닝 구조물(6) 상에 증착된다.

Description

박막 패터닝 구조물 및 그 제조 방법, 박막 장치 및 그 제조 방법, 디스플레이 장치{THIN FILM PATTERNING ARRANGEMENT}
본 발명은 기판 및 이 기판의 표면을 하위 영역(sub-areas)으로 분할하도록 배열된 장벽을 포함하는 박막 패터닝 구조물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이러한 박막 패터닝 구조물의 제조 방법과 이러한 박막 패터닝 구조물을 포함하는 장치에 관한 것이다.
상이한 특성을 갖는 사전정의된 패턴의 박막을 동일한 기판 상에 형성함으로써 기능 장치를 획득하는 기술이 최근 몇 년간 개발되어 왔다. 이러한 기능 장치 중에는 컬러 필터 및 박막 전자장치 예를 들어 디스플레이 장치 및 도체/반도체 패턴이 있다.
이러한 패턴의 형성을 위한 하나의 유망한 방법은 박막 물질을 포함하는 액체의 잉크젯 프린팅을 사용한다. 잉크젯 프린팅은 그의 낮은 물질 사용량, 높은 정확도 및 비교적 낮은 비용으로 인해 바람직한 방법이다. 그러나, 패턴의 잉크젯 프린팅이 가지고 있는 하나의 문제점은 상이한 박막 물질이 기판의 표면 상에서 혼 합될 수 있다는 것이다. 예를 들어, LCD 장치용 컬러 필터와 같은 박막 패턴을 형성하는데 잉크젯 프린팅을 사용하는 경우, 방출되는 액체 물질은 인접 픽셀 내로 흘러 들어갈 수 있고, 그 결과 컬러가 혼합된 픽셀이 야기될 수 있다.
이러한 것을 막기 위해, 기판의 표면에는 보통 장벽으로 지칭되는 돌출형 분할 부재(protruding partitioning members)가 제공된다. 이 장벽은 박막 패턴을 정의하는 하위 영역으로 표면을 분할한다. 박막 물질을 포함하는 액체는 상이한 하위 영역 상에 증착된다. LCD 컬러 필터를 예를 들면, 기판 표면은 픽셀들로 분할되고, 이 각각의 픽셀들은 이어서 상이한 컬러(보통, 적색, 녹색 및 청색)용의 부-픽셀로 분할된다. 각 부-픽셀은 임의의 컬러 혼합없이 그 부-픽셀의 컬러가 주어진 박막 물질이 채워진다. 분할 장벽은 일반적으로 유기 물질의 포토레지스트이며, 이것의 패턴은 전형적으로 리쏘그래피를 통해 정의된다.
보통, 기능 장치의 요건은 그들이 얇아야 한다는 것이다. 이것은 돌출형 장벽의 높이를 제한하고, 따라서 각각의 분할 영역에 대한 증착된 액체 물질의 부피도 제한된다. 너무 큰 부피의 액체가 증착되는 경우, 그것은 인접 분할 영역으로 쉽게 범람할 것이다. 이와 대조적으로, 너무 작은 부피의 액체가 증착되는 경우, 그것은 분할 영역의 전체 표면을 코팅하지 않을 것이고, 따라서 불규칙적인 패터닝 및 불완전한 기능 장치 또는 심지어 비-기능 장치를 야기할 것이다.
전형적으로, 유기 장벽이 제공된, 유리와 같은 무기 기판의 경우, 기판의 표면(잉크젯 프린팅의 잉크방울이 도달하는 곳)과 장벽 간의 표면 에너지의 차이를 수립하는 표면 처리가 수행된다. 이것은 기판 상에서 비교적 높은 액체 습윤, 즉 낮은 표면 액체 전진 접촉각(low surface-liquid advancing contact angle)을 유지하고, 분할 장벽 상에서 비교적 낮은 액체 습윤, 즉 높은 표면 액체 전진 접촉각을 얻기 위함이다. 이러한 표면 처리 후, 액체는 장벽은 적시지 않으면서 기판 표면을 적시게 될 것이며, 그 결과 액체가 인접 분할 영역으로 범람하는 것을 막게 된다.
표면 처리에 대해서는 EP 0 989 788에 자세히 개시되어 있고, 전형적으로 다음과 같다. 즉, 먼저 기판은 예를 들어 산소 플라즈마 또는 UV 오존 처리를 통해 세척된다. 그런 다음 CF4, CHF3 또는 SF6와 같은 플루오르 플라즈마가 적용된다. 플루오르 반족(moieties)이 유기 장벽 물질에 부착되어, 이 장벽은 무기 기판 물질의 습윤에는 본질적으로 영향을 주지 않으면서 프린트되는 액체에 반발력을 갖는다. 따라서, 장벽과 기판 표면 간의 표면 에너지의 대비가 수립되고, 박막 물질을 포함하는 비교적 큰 부피의 액체가 장벽을 범람하지 않고 분할 영역 상에 증착될 수 있다.
EP 0 989 788에는 박막을 패터닝하는 무기 기판이 개시되어 있다. 그러나, 전자장치, 광학 및 광-전자 장치와 같이 유리 기판과 같은 무기 기판보다는 중합체의 기판에 기초하는 기능 장치에 대한 요구가 있다. 이것은 예를 들어 얇고, 가벼우며 및/또는 가요성의 기능 장치인 경우이다. 포토레지스트와 같은 유기 분할 장벽은 리쏘그래피를 통해 플라스틱 표면 사에 쉽게 배열되며 양호한 재생산성 및 내구성을 갖는다.
그러나, 기판과 장벽 사이에는 뚜렷한 물질 특성의 차이가 없기 때문에, 장벽 및 기판은 위에서 설명한 표면 처리를 수행하는 경우 동일한 사항이 적용될 것이며, 장벽과 기판 사이에는 액체 친화력의 차이가 수립되지 않을 것이다. 앞서 설명한 두 단계의 표면 처리 이후에, 유기 표면 기판에 대한 접촉각은 플루오르 플라즈마로 인해 또한 비교적 높을 것이며, 그에 따라 분할 영역을 액체로 커버하는데 문제점이 야기된다. 다른 한편으로, 산호 플라즈마 또는 UV-오존을 이용한 제 1 세척 처리 이후에만, 유기 코팅 및 장벽은 프린트되는 액체와 비교적 낮은 접촉각을 가질 것이며 이로 인해 잉크젯 프린트 방울이 장벽을 범람하지 않고서 분할 영역을 커버하는 것이 어렵되고 인접 분할 영역에 증착된 박막 물질과 혼합될 것이다.
본 발명의 목적은 중합체 기판의 사용과 관련하여 위에서 언급한 문제점을 완화하고, 중합체 기판에 기초한 기능 박막 장치를 제공하는 것이다.
이들 및 다른 목적은 본 발명에 의해 달성된다.
본 발명은 기판과 이 기판의 표면을 하위 영역으로 분할하도록 배열된 장벽을 포함하는 박막 패터닝 구조물에 관한 것이다. 상기 표면은 중합체 물질로 구성되며, 적어도 부분적 무기물 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅된다. 이 코팅은 완전한 무기물 또는 부분적으로 무기물일 수 있으며, 몇몇 실시예에서는 둘 이상의 코팅 물질, 즉 이종의 코팅을 포함할 수 있다.
적어도 부분적 무기물 코팅은 바람직하게 다음과 같은 특성, 즉 박막 패터닝 구조물이 표면 처리를 거친 후, 액체 친화력의 차이는 액체의 장벽 친화력이 액체의 기판 친화력보다 작도록 수립된다는 특성을 갖는다.
따라서, 표면을 따라 상이한 습윤 특성을 갖는 유기 박막 패터닝 구조물을 제공할 수 있다.
본 발명은 또한 박막 패터닝 구조물의 제조 방법에 관한 것으로, 유기 물질의 표면을 갖는 기판을 제공하는 단계와, 상기 기판의 표면의 적어도 일부분을 적어도 부분적으로는 무기물 코팅으로 코팅하는 단계와, 상기 코팅된 표면을 하위 영역으로 분할하도록 장벽을 증착하는 단계를 포함한다. 이 방법은 바람직하게 또한 표면 처리 과정을 포함함으로써, 코팅된 표면과 장벽 간의 액체 친화력 차이가 수립된다.
또한, 본 발명은 박막 패턴이 상기 기판에 증착된 박막 패터닝 구조물을 포함하는 장치에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 박막 패터닝 구조물 상에 박막 물질의 증착을 포함하는 상기 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명의 이들 및 다른 측면은 이하에서 설명되는 실시예로부터 분명할 것이며 그를 참조하여 설명될 것이다.
도 1은 박막 패터닝 구조물의 사시도,
도 2는 도 1의 구조물의 단면도.
도 1 및 도 2는 적어도 부분적으로 무기물 코팅(2)으로 코팅되고 분할 장벽(3)이 배열된 중합체 기판(1)을 포함하는 박막 패터닝 구조물(6)을 도시한다. 박막 물질(4)은 분할되는 하위 영역(5) 상에 증착된다.
중합체 기판(1), 또는 적어도 상기 기판(1)의 표면은 기판 용도로 적절한 임의의 중합체 물질로 구성될 수 있으며, 그에 대한 예로서 폴리카보네이트(PC), 폴리에테르술폰(PES), 폴리노르보넨(PNB), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에틸렌쎄라프탈레이트(PET), 폴리에테르나프탈레이트(PEN), 에폭시드, 폴리메틸메타아클릴레이트(PMMA), 폴리우레탄(PUR)이 있으나 여기에 제한되는 것은 아니다. 다른 물질이 다른 용도로 적절할 수 있으며 당업자에게 잘 알려져 있다. 기판은 유기 화합물일 수 있으며, 또는 유기 표면이 배열된 적어도 부분적으로 무기 화합물일 수 있다.
적어도 부분적으로 무기물 코팅(2)은 실리콘 질화물, 알루미늄 질화물, 실리콘 산화물, 실리콘 산화질화물, 실리콘 산화물 불화물, 티타늄 산화물, 지르코늄 산화물, 하프늄 산화물, 알루미늄 산화물 또는 이들의 혼합물과 같은, 스퍼터링 또는 기상 증착을 사용하여 증착이 용이한 비-도전성 물질을 포함한 임의의 무기 물질을 포함할 수 있다. 적어도 부분적으로 무기물 코팅(2)은 또한 ITO(주석 산화물로 도핑된 인듐 산화물)와 같은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 무기 물질은 부분적으로 유기물 코팅 수지 안쪽에 (나노) 입자로서 통합될 수 있거나, 또는 코팅 물질 자체의 화학적 구조체(예를 들어 ORMOCER)의 일부일 수 있다. 또한 습식 화학 증착, 예를 들어 스핀 코팅에 적절한 무기 물질, 예를 들어 TEOS(테트라에틸옥실레 인)가 사용될 수 있다.
적어도 부분적 무기물 코팅(2)은 바람직하게 적어도 5%(w/w), 보다 바람직하게는 적어도 25%, 좀 더 바람직하게는 적어도 45% 무기 물질을 포함한다. 이 코팅은 심지어 100% 무기 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 20% C 원자, 38% O 원자 및 42% Si 원자를 포함하는 코팅이 사용될 수 있다. 부분적 무기물 코팅을 사용함으로써 얻어지는 하나의 장점은 100% 무기물 코팅을 사용하는 경우보다 이러한 코팅이 습식 코팅 방법, 예를 들어 잉크젯 프린팅 및 스핀 코팅에 더 적합하다는 것이다. 100 무기물 코팅은 이러한 방법을 진공 증착으로 하여 기판에 증착될 필요가 있다. 적어도 부분적 무기물 코팅(2)은 스퍼터링, 기상 증착, 스핀 코팅, 스크린 프린팅, 진공 증착 및 스프레이 코팅을 포함한 임의의 적절한 증착 방법을 사용하여 기판(1) 상에 증착될 수 있다. 이들에 대한 가장 적절한 증착 방법 및 조건은 선택되는 코팅 및 기판 물질에 따라 다르며 당업자에게 잘 알려져 있다. 몇몇 애플리케이션, 예를 들어 디스플레이 장치 및 컬러 필터에 있어서, 적어도 부분적으로 무기물인 코팅(2)은 바람직하게 투명하지만, 다른 애플리케이션에 있어서, 이것은 필수사항은 아니다. 적어도 부분적으로 무기물인 코팅(2)의 두께는 0.01㎛ 미만부터 100㎛초과일 수 있다. 적어도 부분적으로 무기물인 코팅(2)은 이종일 수 있는데, 즉 둘 이상의 코팅 물질을 포함할 수 있다. 이러한 이종 코팅의 비-제한적 예는 상이한 코팅이 상이한 하위 영역에 대해 사용되고, 두 코팅은 서로의 상단에 증착되는 구조물에 사용된다.
장벽(3)은 통상적인 임의의 유기 포토레지스트, 예를 들어 AZ5218(AZ Hoechst), 표준 SU- 포토레지스트(마이크로켐사) 또는 포토 패턴가능 유기 폴리이미드일 수 있다. 장벽(3)은 포토-리쏘그래피 기법, 그라비어-오프셋 프린팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 마이크로 콘택트 프린팅, MIMIC(Micro Moulding In Capillaries) 또는 건식 오프셋 프린팅을 포함한 상이하고 적절한 방법을 통해 코팅된 기판 상에 부가될 수 있다. 이들에 대한 가장 적절한 적용 방법 및 조건은 선택되는 장벽 물질에 따라 달라지며 당업자에게 잘 알려져 있다.
본 발명에서, 분할된 하위 영역의 부분적 무기물 코팅(2)의 표면 및 장벽(3)의 표면에 대해 표면 처리가 이루어지되, 장벽(3)이 박막 물질(4)이 증착되려 하는 하위 영역보다, 박막 패터닝 구조물 상에 증착되려 하는 박막 물질(4)을 포함하는 액체에 대해 비-친화력의 정도를 더 높게 나타내도록 표면 처리가 이루어진다. 장벽에 대한 액체 접촉각이 충분히 크고(예를 들어 >40°)(낮은 습윤), 하위 영역에 대한 액체 접촉각은 충분히 작도록(예를 들어 <25°) 이러한 표면 처리를 수행함으로써, 액체 부피가 비교적 큰 경우에도 이 액체는 장벽을 초과하지 않으며 범람하지 않을 것이고, 따라서 박막은 사전결정된 하위 영역 내에만 증착될 것이다. 장벽 및 코팅에 대한 물질의 조합은 바람직하게 액체 친화력의 이러한 차이가 수립될 수 있도록 선택된다.
표면 처리는 유도 기체(induction gas)로서 플루오르 또는 플루오르 기반 화합물을 포함하는 기체를 이용한 플라즈마 처리를 통해 수행될 수 있다. 이러한 플루오르 기반 기체의 예는 바람직하게 CF4,SF6,CH3 또는 이들의 조합을 포함한다. 이러한 표면 처리의 결과로서, 플루오르 화합물은 유기 장벽에 부착될 것이지만, 넓은 범위의 기판 코팅에 부착되지 않을 것이며, 따라서 장벽과 기판 코팅 사이에는 필요로 하는 액체 친화력 차이가 수립될 것이다. 적어도 부분적 무기물 코팅은 적절히 기능을 하기 위해 완전히 그대로일 필요는 없다는 것을 알게 되었다. 구조물의 지난-증착 프로세싱에서 나타날 수 있는 작은 크랙 또는 공동은 임의의 본질적인 범위까지는 습윤 특성에는 악영향을 미치지 않을 것이다. 장벽과 코팅 사이에서 유사한 액체 친화력 차이를 야기하는 다른 표면 처리 방법이 또한 사용될 수 있다.
본 발명은 또한 패터닝된 박막이 증착되는, 위에서 설명한 박막 패터닝 구조물을 포함하는 장치에 관한 것이다. 이 증착된 박막 물질은 특히 컬러링 물질, 비-도전성 물질, 도전성 물질, 반-도전성 물질 또는 이들의 조합일 수 있으며, 장치는 특히 그에 따라 LCD와 같은 디스플레이 장치, 다른 유형의 박막 전자 장치 예를 들어 디스플레이 장치용의 능동 매트릭스 어레이, 스마트 태그 및 스마트카드를 포함하는 다양한 애플리케이션을 위한 컬러 필터일 수 있다.
박막 물질은 주문에 따른 잉크방물의 압전식 잉크젯 프린팅, 버블젯 프린팅, 연속적인 잉크-젯 프린팅, 플렉소그래피 프린팅, 스크린 프린팅을 포함한 상이한 방법을 사용하여 박막 패터닝 표면 상에 증착될 수 있다. 증착 단계는 보통 증발 단계가 이어지는데, 증착되는 액체의 용매는 증발되고, 코팅의 표면 상에는 고체 박막 물질이 남겨진다.
본 발명은 위에서 설명한 실시예 및 후속하는 실험에 제한되는 것으로 간주 되어서는 안된다. 본 발명은 첨부된 청구항에 의해 정의되는 범주에 의해 커버되는 모든 가능한 변형을 포함한다.
실험
부분적 무기물 코팅 층
폴리카보네이트 시트는 20% C 원자, 38% O 원자 및 42% Si 원자를 포함하는 코팅으로 코팅되었다. 종래의 HPR 포토레지스트 장벽은 코팅된 플라스틱 시트 상에 부가되어 본 발명에 따른 컬러 필터로서 사용되는 박막 패터닝 구조물을 형성한다. 장벽(폭이 50㎛)이 배열되어 800×800㎛ 픽셀을 형성하며, 각각의 픽셀은 크기(내부 크기)가 800×217㎛인 3개의 부-픽셀로 분할되었다. 기판은 산소 플라즈마를 이용한 세척과정이 적용되고 이어서 CF4 플라즈마를 이용한 표면 처리가 이루어졌다. 처리 이후, 12 cP의 점도를 갖는 적색, 녹색 및 청색 잉크가 50 마이크론의 노즐 직경을 갖는 MicroDrop GmbH의 단일 노즐 잉크젯 헤드를 사용하여 부-픽셀로 증착되었다. 하나의 잉크 방울(~55㎛의 직경)은 각각 65㎛로 프린트되어 컬러 잉크로 부-픽셀을 충진한다. 잉크의 전진 접촉각이 측정되었고 부분적 무기물 코팅에 대해서는 10-20°인 것으로 발견되었고, 유기 장벽에 대해서는 >50°인 것으로 발견되었다.
따라서, 장벽과 부분적으로 무기물인 코팅으로 코팅된 중합체 기판 간에는 필요로 하는 액체 친화력의 차이를 수립할 수 있었다.
무기 코팅 층
ITO(인듐-주석 산화물) 코팅은 진공 증착 기법을 사용하여 폴리카보네이트 시트의 상단에 증착되었다. 이 기판 상에는 동일한 유형의 장벽이 배열되었고 잉크 방울은 앞선 실험에서와 같이 프린트되었다. 그 결과는 앞선 실험의 결과와 실질적으로 동일하였다.
따라서, 장벽과 부분적으로 무기물인 코팅으로 코팅된 중합체 기판 간에는 필요로 하는 액체 친화력의 차이를 수립할 수 있었다.
기판(1)과 이 기판(1)의 표면을 하위 영역(5)으로 분할하도록 배열된 장벽(3)을 포함하는 박막 패터닝 구조물(6)이 개시되어 있다. 상기 표면은 중합체 물질이며, 적어도 부분적으로 무기물인 코팅(2)으로 코팅된다. 박막 물질(4)은 바람직하게 상기 박막 패터닝 구조물(6) 상에 증착된다.

Claims (15)

  1. 박막 패터닝 구조물(6)에 있어서,
    기판(1)과,
    상기 기판(1)의 표면을 하위 영역(5)으로 분할하도록 배열된 장벽(3)을 포함하되,
    적어도 상기 표면은 중합체 물질로 구성되며, 상기 표면은 적어도 부분적 무기물 코팅(2)으로 코팅되는 박막 패터닝 구조물(6).
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 부분적 무기물 코팅(2)은 100% 무기물을 포함하는 박막 패터닝 구조물(6).
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 부분적 무기물 코팅(2)은 적어도 5% 무기물을 포함하는 박막 패터닝 구조물(6).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 부분적 무기물 코팅(2)은 적어도 두 개의 별개의 코팅 물질을 포함하는 박막 패터닝 구조물(6).
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    표면 처리 이후, 상기 적어도 부분적 무기물 코팅(2)의 표면과 상기 장벽(3)의 표면 사이에 적어도 10도의 전진 접촉각 차이(a difference in advancing contact angle)가 수립되는 박막 패터닝 구조물(6).
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 부분적 무기물 코팅(2)은 70% 이상의 투명도를 갖는 박막 패터닝 구조물(6).
  7. 박막 패터닝 구조물(6)을 제조하는 방법에 있어서,
    적어도 중합체 물질의 표면을 갖는 기판(1)을 제공하는 단계와,
    상기 기판(1)의 상기 표면의 적어도 일부분을 적어도 부분적 무기물 코팅(2) 으로 코팅하는 단계와,
    상기 적어도 하나의 코팅된 표면 상에 장벽(3)을 증착하는 단계를
    포함하는 박막 패터닝 구조물(6) 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 적어도 부분적 무기물 코팅(2) 및 상기 장벽(3)에 대해 표면 처리를 수행하는 단계를 더 포함하는 박막 패터닝 구조물(6) 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 표면 처리는 플라즈마 처리를 포함하는 박막 패터닝 구조물(6) 제조 방법.
  10. 청구항 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 박막 패터닝 구조물(6), 또는 청구항 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 획득가능한 박막 패터닝 구조물을 포함하는 박막 장치에 있어서,
    상기 하위 영역(5)의 적어도 일부분 상에 증착된 박막 물질(4)을 더 포함하는 박막 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 박막 물질(4)은 광학 패턴, 도전체 패턴, 절연체 패턴, 반도체 패턴 및 이들의 조합을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 박막 패턴을 형성하는 박막 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 박막 패턴은 광학 패턴이고 상기 장치는 컬러 필터인 박막 장치.
  13. 박막 장치를 제조하는 방법에 있어서,
    청구항 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 박막 패터닝 구조물(6), 또는 청구항 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 획득가능한 박막 패터닝 구조물(6)을 제공하는 단계와,
    상기 하위 영역(5)의 적어도 일부분 상에 적어도 하나의 박막 물질(4)을 증착하는 단계를
    포함하는 박막 장치 제조 방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    박막 물질(4)을 증착하는 상기 단계는 상기 박막 물질(4)을 포함하는 액체의 잉크젯 프린팅 단계를 포함하는 박막 장치 제조 방법.
  15. 청구항 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 박막 패터닝 구조물(6), 청구항 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 획득가능한 박막 패터닝 구조물(6), 또는 청구항 제 13 항 또는 제 14 항에 따른 방법에 의해 획득가능한 박막 장치를 포함하는 디스플레이 장치.
KR1020067001137A 2003-07-18 2004-07-08 박막 패터닝 구조물 및 그 제조 방법, 박막 장치 및 그제조 방법, 디스플레이 장치 KR20060035769A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP03102227 2003-07-18
EP03102227.0 2003-07-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060035769A true KR20060035769A (ko) 2006-04-26

Family

ID=34072660

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067001137A KR20060035769A (ko) 2003-07-18 2004-07-08 박막 패터닝 구조물 및 그 제조 방법, 박막 장치 및 그제조 방법, 디스플레이 장치

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20060172123A1 (ko)
EP (1) EP1648710A2 (ko)
JP (1) JP2006528371A (ko)
KR (1) KR20060035769A (ko)
CN (1) CN1822958A (ko)
TW (1) TWM270607U (ko)
WO (1) WO2005007418A2 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI345082B (en) * 2005-03-18 2011-07-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Method for manufacturing color filter

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3899566B2 (ja) * 1996-11-25 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 有機el表示装置の製造方法
AUPO431596A0 (en) * 1996-12-20 1997-01-23 Scientec Research Pty Ltd Apparatus and method for coating a material
JP3506413B2 (ja) 1998-09-25 2004-03-15 日清紡績株式会社 プリプレグ、多層プリント配線板及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2005007418A2 (en) 2005-01-27
JP2006528371A (ja) 2006-12-14
CN1822958A (zh) 2006-08-23
WO2005007418A3 (en) 2005-05-12
EP1648710A2 (en) 2006-04-26
TWM270607U (en) 2005-07-11
US20060172123A1 (en) 2006-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3270436B1 (en) Method for preparing a display substrate
US10204968B2 (en) Organic light-emitting display substrate, method of fabricating the same, display panel, and display device
CN105932037B (zh) 一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置
US20090220679A1 (en) Display apparatus, and display apparatus manufacturing method and apparatus
JP4439394B2 (ja) パターン形成方法
CN1462484A (zh) 图形加工方法
US20050212841A1 (en) Patterned substrate, and method and apparatus for manufacturing the same
KR20060063894A (ko) 패턴 코팅 방법
CN103367391A (zh) 像素界定层及其制作方法、显示基板及显示装置
CN102969333A (zh) 发光显示背板及其像素界定层的制备方法、显示装置
CN109461846A (zh) 一种基于喷墨打印的像素界定层及其制备方法
CN107093681B (zh) 一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板
CN100443993C (zh) 彩色滤光片基板、液晶显示装置以及它们的制造方法
CN1214283C (zh) 电光装置及其制造方法以及器件和电子仪器
KR101326127B1 (ko) 패턴 어레이 형성 방법 및 이를 사용하여 형성된 패턴어레이를 포함하는 유기 소자
CN1868073A (zh) 电致发光显示面板
US20090015147A1 (en) Display element with partition structures in display areas and fabrication method thereof
KR20060035769A (ko) 박막 패터닝 구조물 및 그 제조 방법, 박막 장치 및 그제조 방법, 디스플레이 장치
CN101369632A (zh) 在显示区具有挡墙结构的显示器元件及其制造方法
CN100501510C (zh) 基板结构及薄膜图案层的制造方法
US20050175777A1 (en) Method of providing a substrate surface with a patterned layer
JP4258226B2 (ja) 表示装置の製造方法
Lu et al. Ring-edged bank array made by inkjet printing for color filters
Carter et al. P‐65: Developing a Scalable and Adaptable Ink Jet Printing Process for OLED Displays
US20070164400A1 (en) Substrate structure and method for forming patterned layer on substrate structure

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid