KR20060000784A - Composition of photosensitive conductor paste and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 감광성 도전체 페이스트의 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것으로, (a) 저온동시소성용 도전성 금속분말 55 ~ 75 중량%; (b) 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 및 n-부틸 메타 크릴레이트를 함유하고, 산성 관능기를 갖는 용액화된 유기 바인더, 단량체와 광개시제를 포함하는 비이클 10 ~ 40 중량%; (c) 소성 수축율 제어를 위한 유리 프릿 0.1 ~ 5 중량%; (d) 분산제 0.5 ~ 1.5 중량%; (e) 유기용매 1 ~ 8 중량%를 함유하고 있는 감광성 도전체 페이스트 조성물이다.The present invention relates to a composition of a photosensitive conductor paste and a method for manufacturing the same, comprising: (a) 55 to 75 wt% of a low-temperature cofired conductive metal powder; (b) 10 to 40% by weight of a vehicle comprising 2-hydroxy ethyl methacrylate and n-butyl methacrylate and comprising a solutiond organic binder having an acidic functional group, a monomer and a photoinitiator; (c) 0.1 to 5% by weight glass frit for plastic shrinkage control; (d) 0.5 to 1.5 weight percent dispersant; (e) It is a photosensitive conductor paste composition containing 1-8 weight% of organic solvents.

따라서, 본 발명은 저온동시소성 세라믹 적층 공정 기술에 적합한 감광성 도전체 페이스트 조성물을 제조함으로써, 페이스트로 그린시트에 미세 도선을 형성할 시, 해상도가 높고, 현상 후 선간격의 잔류물이 적으며, 그린시트와의 소성수축 거동이 정합되어 기판의 휨을 적게 할 수 있는 효과가 있다. Therefore, the present invention provides a photosensitive conductor paste composition suitable for low temperature co-fired ceramic lamination process technology, when forming a fine lead in the green sheet with a paste, high resolution, less residues of line spacing after development, The plastic shrinkage behavior with the green sheet is matched to reduce the warpage of the substrate.

감광, 도전체, 페이스트, 유기 바인더, 해상도Photosensitive, conductor, paste, organic binder, resolution

Description

감광성 도전체 페이스트의 조성물 및 그의 제조방법 {Composition of photosensitive conductor paste and method for manufacturing the same} Composition of photosensitive conductor paste and method for manufacturing thereof {Composition of photosensitive conductor paste and method for manufacturing the same}             

도 1은 본 발명에 따른 감광성 도전체 페이스트 제조 방법을 설명하기 위한 플로우챠트1 is a flowchart for explaining a method of manufacturing a photosensitive conductor paste according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 실시예의 유기 바인더 구조도2 is an organic binder structure diagram of an embodiment according to the present invention

본 발명은 감광성 도전체 페이스트의 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 본 발명은 그린시트에 미세 도선을 형성할 시, 해상도가 높고, 현상 후 선간격의 잔류물이 적으며, 그린시트와의 소성수축 거동이 정합되어 기판의 휨을 적게 할 수 있어 저온동시소성 세라믹 적층 공정 기술에 적합한 감광성 도전체 페이스트의 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a composition of a photosensitive conductor paste and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention provides a high resolution when forming fine wires in a green sheet, less residues in line spacing after development, and green. The present invention relates to a composition of a photosensitive conductor paste suitable for low temperature co-fired ceramic lamination process technology, in which plastic shrinkage behavior with a sheet is matched to reduce warpage of a substrate, and a method of manufacturing the same.

최근 이동통신기기, 위성방송수신기기, 컴퓨터 등의 소형화에 따라 그것들에 사용되는 고주파전자부품에 대해서도, 소형화, 복합화, 고기능화, 고정밀화가 진행되고 있으며, 고주파 전자회로 부품의 배선 패턴에 대해서도, 고밀도화 및 신호전 송의 고속화에 대한 대응이 요구되고 있다.With the miniaturization of mobile communication devices, satellite broadcasting receivers, computers, and the like, miniaturization, complexation, high functionality, and high precision have been in progress for high frequency electronic components used in them. There is a need for a response to speeding up signal transmission.

고주파 전자부품의 배선패턴의 형성에는 은, 금, 구리 등의 금속분말과 유기 바인더나 유기 용매로 이루어지는 비이클(Vehicle)을 혼합한 도전 페이스트를 사용하여 절연성 기판 상에 패턴을 인쇄하고, 이것을 건조한 후 소성함으로써, 소정의 배선 패턴을 형성하는 방법이 일반적으로 사용되고 있다.To form the wiring pattern of the high frequency electronic component, a pattern is printed on an insulating substrate by using a conductive paste in which a metal powder such as silver, gold, copper, etc., and a vehicle made of an organic binder or an organic solvent are mixed, and the pattern is dried. By baking, the method of forming a predetermined wiring pattern is generally used.

이러한, 후막 도선의 형성에는 스크린을 이용한 인쇄 공정이 일반적으로 사용되지만, 이 방법으로 후막 도선을 미세화하고자 하는 경우, 도선의 폭이나 간격, 피치 등을 75㎛ 이하로 형성하는 것이 어렵거나 수율이 저하된다.Although the printing process using a screen is generally used for formation of such a thick-film lead, when it is desired to refine the thick-film lead by this method, it is difficult to form the width, the spacing, the pitch, etc. of the lead at 75 μm or less, or the yield is reduced. do.

그리고, 최소 50㎛ 정도의 도선 폭 및 간격이 스크린 인쇄법의 미세화 한계라고 인식되고 있다.And it is recognized that the wire width and the space | interval of at least about 50 micrometers are the miniaturization limits of the screen printing method.

이에 반하여, 일본국 특허공개공보 평5-287221호와 평8-227153호 등에는 감광성 도전체 페이스트를 사용한 포토 리소그라피법에 의한 미세 도선의 형성방법이 제안되어 있다. On the other hand, Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-287221, 8-227153 and the like have proposed a method of forming fine wires by a photolithography method using a photosensitive conductor paste.

그리고, 미국 특허 5,032,478호, 5,049,480호 등에는 수용액에 의해 현상이 가능하고 비산화성 분위기에서 소성이 가능한 감광성 도전체 페이스의 조성물에 대해서 제안되어있다. In addition, US Patent Nos. 5,032,478, 5,049,480 and the like have been proposed for the composition of the photosensitive conductor face which can be developed by an aqueous solution and which can be fired in a non-oxidizing atmosphere.

또한, 대한민국 특허 10-03512230호와 공개특허 2003-0006639 등에도 감광성 페이스트 조성물과 이를 이용한 미세 도선의 형성방법이 제안되고 있다. In addition, Korean Patent No. 10-03512230 and Korean Patent Publication No. 2003-0006639 have also been proposed a photosensitive paste composition and a method of forming a fine wire using the same.

이 방법들은 도전성 금속 분말(또는 유전체 세라믹 분말), 측쇄에 카르복실기 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 아크릴계 공중합체, 광반응성, 화합물, 광중합개 시제 등으로 이루어지는 감광성 페이스트를 절연성 기판에 도포하여 건조한 후, 노광 및 현상 처리를 포함하는 포토 리소그라피법에 의해 패터닝하는 방법들이다.These methods apply a photosensitive paste composed of a conductive metal powder (or dielectric ceramic powder), an acrylic copolymer having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group in the side chain, a photoreactive compound, a photoinitiator, and the like to an insulating substrate, followed by exposure and drying. These are methods of patterning by photolithography including development.

한편, 전자부품의 소형화 및 고기능화를 위하여 저온동시소성 세라믹을 이용한 적층 세라믹 칩 또는 모듈 기술이 일반화되어 가고 있는데, 이 경우 절연기판 대신 세라믹 분말과 유기 결합제, 가소제, 분산제 등으로 구성된 그린시트를 이용하는 것이 보통이다. On the other hand, multilayer ceramic chip or module technology using low temperature co-fired ceramic is becoming common for miniaturization and high functionalization of electronic components. In this case, it is preferable to use a green sheet composed of ceramic powder, an organic binder, a plasticizer, and a dispersant instead of an insulating substrate. is average.

이 때, 그린시트 상의 회로 패턴 형성은 스크린 인쇄 공정을 이용하며, 소성기판 상의 해상도와 유사한 도선 구현 한계를 갖는다.At this time, the circuit pattern formation on the green sheet uses a screen printing process, and has a limitation in implementing wires similar to the resolution on the plastic substrate.

이러한, 소형화 및 고집적화를 위한 공정한계를 극복하기 위하여, 감광성 도전체 페이스트 제품이 출시되고는 있으나, 그린시트와의 동시 소성 정합성이 미흡하거나 낮은 해상도로 실제 적용에 어려움이 있다. In order to overcome such a process limit for miniaturization and high integration, a photosensitive conductor paste product has been released, but there is a difficulty in practical application with low resolution or low co-firing consistency with the green sheet.

특히, 현상 공정 후 미세 도선의 선 간격에 잔류물이 남아 해상도를 떨어뜨리거나, 소성 중 수축율이 정합되지 않아 소성 후, 기판의 휨이 발생하는 등의 문제점이 발생하였다.In particular, after the developing process, residues remain at the line intervals of the fine wires, resulting in problems such as deterioration in resolution or shrinkage rate during firing, resulting in warpage of the substrate after firing.

이에 본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명은 그린시트에 미세 도선을 형성할 시, 해상도가 높고, 현상 후 선간격의 잔류물이 적으며, 그린시트와의 소성수축 거동이 정합되어 기판의 휨을 적게 할 수 있어 저온동시소성 세라믹 적층 공정 기술에 적합한 감광성 도전체 페이스트 조성물 및 그의 제조 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다. Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the present invention has a high resolution when forming a fine wire in the green sheet, less residues of the line interval after development, firing with the green sheet SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photosensitive conductor paste composition and a method for producing the same, which are suitable for low temperature co-fired ceramic lamination process technology by matching shrinkage behavior to reduce warpage of a substrate.                         

상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 양태(樣態)는, A preferred aspect for achieving the above objects of the present invention,

(a) 저온동시소성용 도전성 금속분말 55 ~ 75 중량%; (a) 55 to 75% by weight of the conductive metal powder for low temperature simultaneous firing;

(b) 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 및 n-부틸 메타 크릴레이트를 함유하고, 산성 관능기를 갖는 용액화된 유기 바인더, 단량체와 광개시제를 포함하는 비이클 10 ~ 40 중량%; (b) 10 to 40% by weight of a vehicle comprising 2-hydroxy ethyl methacrylate and n-butyl methacrylate and comprising a solutiond organic binder having an acidic functional group, a monomer and a photoinitiator;

(c) 소성 수축율 제어를 위한 유리 프릿 0.1 ~ 5 중량%; (c) 0.1 to 5% by weight glass frit for plastic shrinkage control;

(d) 분산제 0.5 ~ 1.5 중량%;(d) 0.5 to 1.5 weight percent dispersant;

(e) 유기용매 1 ~ 8 중량%를 함유하고 있는 감광성 도전체 페이스트 조성물이 제공된다.(e) A photosensitive conductor paste composition containing 1 to 8% by weight of an organic solvent is provided.

상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 다른 양태(樣態)는, 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 및 n-부틸 메타 크릴레이트를 함유하고, 산성 관능기를 갖는 용액화된 유기 바인더, 단량체와 광개시제를 혼합하여 비이클을 만드는 제 1 단계와;Another preferred aspect for achieving the above objects of the present invention is a solution of an organic binder, monomer containing 2-hydroxy ethyl methacrylate and n-butyl methacrylate, and having an acidic functional group. A first step of mixing the photoinitiator to produce a vehicle;

상기 제 1 단계에서 만들어진 비이클에 저온동시소성용 도전성 금속분말, 유리 프릿과 분산제를 넣고 혼합하는 제 2 단계와;A second step of mixing a low temperature simultaneous firing conductive metal powder, a glass frit, and a dispersant into the vehicle made in the first step;

상기 제 2 단계에서 만들어진 혼합물에 유기용매를 첨가하여 페이스트를 만드는 제 3 단계로 구성된 감광성 도전체 페이스트 조성물의 제조 방법이 제공된다.There is provided a method for producing a photosensitive conductor paste composition comprising a third step of adding a organic solvent to the mixture made in the second step to form a paste.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 감광성 도전체 페이스트는 (a) 저온동시소성용 도전성 금속분말, (b) 산성 관능기를 갖는 유기바인더, (c) 광 중합이 가능한 단량체, (d) 광개시제, (e) 소성 수축율 제어를 위한 유리 프릿, (f) 유기용매를 함유하는 것을 특징으로 한다. The photosensitive conductor paste of the present invention comprises (a) low temperature co-conductive conductive metal powder, (b) an organic binder having an acidic functional group, (c) a photopolymerizable monomer, (d) a photoinitiator, and (e) plastic shrinkage control. It is characterized by containing a glass frit for (f) and an organic solvent.

특히, 유기바인더는 수용액에 의해 현상이 가능한 것으로, 현상 후 선 간격에 잔류물을 남기지 않고 깨끗하게 제거될 수 있는 조성을 가진 것이 바람직하다. In particular, the organic binder can be developed by an aqueous solution, and preferably has a composition that can be removed cleanly without leaving a residue in the line interval after development.

이하에서 본 발명에 대하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(1) 저온동시소성용 도전성 금속분말(1) Conductive metal powder for low temperature simultaneous firing

본 발명에 사용되는 도전성 분말은 Ag, Cu, Au, Pd, Pt, Ni 중 선택된 하나 이상의 금속분말이며, 형태는 구상, 판상, 봉상 등일 수 있으며, 특히 분산성이 좋은 구상 분말의 사용이 바람직하다. The conductive powder used in the present invention is at least one metal powder selected from Ag, Cu, Au, Pd, Pt, Ni, the shape may be spherical, plate-like, rod-shaped, etc., in particular, the use of spherical powder with good dispersibility is preferable. .

이들 분말의 평균 입경은 0.5 ~ 5 ㎛ 범위이며, 바람직하게는 1 내지 3 ㎛ 범위이다. The average particle diameter of these powders is in the range of 0.5 to 5 μm, preferably in the range of 1 to 3 μm.

그리고, 비표면적은 0.2 내지 4 m2/g이고, 밀도는 2 내지 6g/cc 범위이며, 더욱 바람직하게는 비표면적은 0.5 내지 2 m2/g, 밀도는 3 내지 5 g/cc의 범위이다.The specific surface area is 0.2-4 m 2 / g, the density is in the range 2-6 g / cc, more preferably the specific surface area is 0.5-2 m 2 / g, and the density is 3-5 g / cc. .

감광성 도전체 페이스트내의 총 중량에서 도전성 금속분말의 중량은 55 ~ 75 중량% 범위가 좋으며, 더욱 바람직하게는 60 ~ 68 % 범위인 것이 좋다. The weight of the conductive metal powder in the total weight in the photosensitive conductor paste is preferably in the range of 55 to 75% by weight, more preferably in the range of 60 to 68%.

여기서, 도전성 금속분말의 중량이 전술된 범위보다 너무 적으면 페이스트의 소성 후 전도도가 나빠지고, 인쇄특성이 저하될 수 있으며, 특히 상대적으로 감광성 재료들이 많아져 해상도가 저하될 수 있다. In this case, when the weight of the conductive metal powder is too small, the conductivity after the firing of the paste may be deteriorated, and the printing property may be degraded. In particular, the photosensitive materials may be increased, and thus the resolution may be reduced.

그리고, 전술된 범위보다 도전성 금속분말의 중량비가 너무 많으면 도전성 금속분말과 그린시트의 소성 수축율의 부정합이 심하여 기판의 휨 또는 크랙이 발생할 우려가 있으며, 특히 감광성 재료들이 너무 적어 패턴의 형성이 불량해진다.In addition, if the weight ratio of the conductive metal powder is too large than the above-mentioned range, the plastic shrinkage ratio of the conductive metal powder and the green sheet may be inconsistent, resulting in warpage or cracking of the substrate. In particular, the photosensitive materials may be too small, resulting in poor pattern formation. .

(2) 유기 바인더(2) organic binder

본 발명에 사용되는 유기 바인더는 메틸 메타크릴레이트(MMA)와 메타크릴릭 산(MAA)을 주성분으로 하고 보완재를 함유하는 공중합체이다. The organic binder used in the present invention is a copolymer containing methyl methacrylate (MMA) and methacrylic acid (MAA) as main components and containing a complement.

유기 바인더의 총 중량에서 메틸 메타크릴레이트의 중량은 65 ~ 85중량%범위인 것이 바람직하며, 메타크릴릭 산의 중량은 10 ~ 20중량% 범위인 것이 바람직하다. The weight of methyl methacrylate in the total weight of the organic binder is preferably in the range of 65 to 85% by weight, and the weight of the methacrylic acid is preferably in the range of 10 to 20% by weight.

그리고, 보완재로는 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트와 n-부틸 메타크릴레이트이며, 유기 바인더 총 중량에서 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트는 2 ~ 10중량%이고, n-부틸 메타크릴레이트는 2 ~ 15중량%이다.In addition, as a complement, 2-hydroxy ethyl methacrylate and n-butyl methacrylate, 2-hydroxy ethyl methacrylate in the total weight of the organic binder is 2 to 10% by weight, n-butyl methacrylate is 2 to 15% by weight.

이 공중합체들은 Na2CO3를 소량 포함하는 수용액에 의해 현상이 가능한 바인더 폴리머들이다. These copolymers are binder polymers that can be developed by an aqueous solution containing a small amount of Na 2 CO 3 .

상기 유기바인더의 산가가 40 ~ 60 mgKOH/g이고, 유기 바인더 총 중량에서 고형분 함량은 30 ~ 50 %이고, 고형분의 산가는 90 ~ 120 mgKOH/g이고, 고형분의 분자량은 5000 ~ 50000 인 것이 인쇄특성 및 고해상도 구현에 적합하다. The acid value of the organic binder is 40 ~ 60 mgKOH / g, the solid content in the total weight of the organic binder is 30 to 50%, the acid value of the solid content is 90 ~ 120 mgKOH / g, the molecular weight of the solid content is 5000 to 50000 print Suitable for characteristics and high resolution implementations.

상기 비이클 총 중량에서, 유기 바인더는 65 ~ 85 중량%인 것이 그린시트와의 부착성과 미세도선 해상도 구현에 적합하다.In the total weight of the vehicle, the organic binder is 65 to 85% by weight, which is suitable for adhesion with the green sheet and realizing fine wire resolution.

(3) 단량체 및 광개시제(3) monomers and photoinitiators

본 발명에 사용되는 단량체(monomer)는 탄소이중결합을 함유하는 재료로 자외선에 의해 여기된 라디칼에 의해 이중결합이 단일결합으로 바뀌면서 중합반응을 하여 감광성 페이스트 내의 경화 영역을 형성하는 역할을 한다. The monomer used in the present invention is a material containing a carbon double bond, and serves to form a hardened region in the photosensitive paste by polymerizing a double bond into a single bond by radicals excited by ultraviolet rays.

단량체로는 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 에톡실레이티드 트리아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리-아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨 테트라-아크릴레이트 중 선택된 아크릴 에스테르계가 바람직하게 사용될 수 있으며, 비이클 총 중량에서 단량체의 중량은 10 ~ 30 중량%가 바람직하다.As the monomer, an acrylic ester selected from trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethoxylated triacrylate, pentaerythritol tri-acrylate or pentaerythritol tetra-acrylate may be preferably used. The weight of the monomer in the total weight is preferably 10 to 30% by weight.

본 발명에 사용되는 광개시제(Photoinitiator)는 365nm 파장의 자외선에 대한 흡광 특성이 우수한 것으로 알려져 있는 아크릴포스핀옥사이드계의 하나인 2,4,6-트리메틸벤조일-다이페닐-포스핀옥사이드(TPO)이며, 그 함량은 비이클 총량에서 1 ~ 10중량%가 바람직하다.The photoinitiator used in the present invention is 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO), which is one of acrylphosphine oxides, which is known to have excellent absorption characteristics against ultraviolet rays of 365 nm wavelength. The content is preferably 1 to 10% by weight based on the total amount of the vehicle.

여기서, 광개시제는 자외선에 의해 여기되어 라디칼을 형성하여, 단량체의 중합반응을 개시하는 역할을 한다.Here, the photoinitiator is excited by ultraviolet rays to form radicals, and serves to initiate the polymerization of the monomers.

(4) 유리 프릿(4) glass frit

유리 프릿은 그린시트와 페이스트의 소성 수축율 부정합을 완화시킴과 함께 소성시 세라믹과 페이스트의 부착력을 강화시킨다. The glass frit mitigates the plastic shrinkage mismatch between the green sheet and the paste, and enhances the adhesion between the ceramic and the paste during firing.

본 발명에 사용되는 유리 프릿은 테멘테크놀로지사(社)의 TG4 또는 TG5가 사용 가능하며, 그 함량은 감광성 도전체 페이스트 조성물의 총 중량에서 0.1 ~ 5 중량%가 바람직하다. The glass frit used in the present invention may be TG4 or TG5 manufactured by Temen Technology Co., and its content is preferably 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the photosensitive conductor paste composition.

여기서, 유리 프릿이 너무 적으면 수축율 부정합에 의해 휨 또는 크랙 발생의 우려가 있고, 너무 많을 경우는 소성 후 도선의 면저항을 높여 전기적 특성을 저하시키는 요인이 될 수 있다.Here, if the glass frit is too small, there is a risk of warpage or cracking due to shrinkage mismatch, and if too large, the glass frit may increase the sheet resistance of the conductive wire after firing, thereby degrading electrical characteristics.

(5) 유기용매 및 기타 첨가제 (5) organic solvents and other additives

점도 조절을 위하여 페이스트 제조시 사용될 수 있는 유기용매로는 터피놀, 부틸카비톨, 부틸카비톨 아세테이트, 에틸카비톨 아세테이트 등이 단독으로 또는 두 개 이상 혼합되어 사용될 수 있다. Organic solvents that may be used in the preparation of the paste for viscosity control may be used alone or in combination of two or more of terpinol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, ethyl carbitol acetate, and the like.

여기서, 유기용매의 함량은 감광성 도전체 페이스트 조성물의 총 중량에서 1 ~ 8 중량%가 바람직하다.Herein, the content of the organic solvent is preferably 1 to 8% by weight based on the total weight of the photosensitive conductor paste composition.

기타 첨가제로 도전체 분말의 적절한 분산을 위하여 사용되는 분산제, 인쇄특성의 개선을 위한 윤활제, 유연성을 위한 가소제, 평탄화를 위한 레벨링제 등이 사용될 수 있으며, 실시예에서는 분산제로 Uniquema사의 PS-2를 분산제로, Sigma Aldrich사의 올레익 산을 윤활제로 사용하였다.As other additives, a dispersant used for proper dispersion of the conductor powder, a lubricant for improving printing properties, a plasticizer for flexibility, a leveling agent for flattening, and the like may be used. As a dispersant, oleic acid from Sigma Aldrich was used as lubricant.

도 1은 본 발명에 따른 감광성 도전체 페이스트 제조 방법을 설명하기 위한 플로우챠트로서, 먼저, 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 및 n-부틸 메타 크릴레이트를 함유하고, 산성 관능기를 갖는 용액화된 유기 바인더, 단량체와 광개시제를 혼합하여 비이클을 만든다.(S10단계)1 is a flowchart for explaining a method for producing a photosensitive conductor paste according to the present invention, firstly, a solution-organized organic compound containing 2-hydroxy ethyl methacrylate and n-butyl methacrylate and having an acidic functional group. A binder, monomer and photoinitiator are mixed to make a vehicle. (S10 step)

그 후, 상기 제 S10 단계에서 만들어진 비이클에 저온동시소성용 도전성 금속분말, 유리 프릿과 분산제를 넣고 혼합한다.(S20단계)Thereafter, the conductive metal powder for low temperature simultaneous firing, the glass frit and the dispersant are mixed and mixed in the vehicle made in step S10.

마지막으로, 상기 S20 단계에서 만들어진 혼합물에 유기용매를 첨가하여 페이스트를 만든다.(S30단계)Finally, an organic solvent is added to the mixture made in step S20 to make a paste.

여기서, 상기 S30단계는 상기 제 2 단계에서 만들어진 혼합물을 3-롤밀에 넣고, 유기용매 및 윤활제를 첨가하면서 20 ~ 30분 밀링하여 페이스트를 만드는 것이다.Here, the step S30 is to put the mixture made in the second step in a three-roll mill, milling 20 to 30 minutes while adding an organic solvent and lubricant to make a paste.

이렇게 만들어진 감광성 도전체 페이스트를 이용하여 미세 도선을 만들기 위해서는 먼저, 상기 감광성 도전체 페이스트를 고속혼합기로 교반 및 탈포한다.In order to make a fine wire using the photosensitive conductor paste thus prepared, first, the photosensitive conductor paste is stirred and defoamed with a high speed mixer.

이때, 노광전 페이스트의 적절한 도포를 위하여, 페이스트의 점도는 30,000 내지 100,000 센티포아즈의 범위를 갖는 것이 바람직하다.At this time, for proper application of the pre-exposure paste, the viscosity of the paste preferably has a range of 30,000 to 100,000 centipoise.

그 후, 상기 감광성 도전체 페이스트 조성물을 그린시트 상에 인쇄로 도포하고, 80℃ 오븐에서 약 10분간 건조한 후, 상기 건조된 페이스트 상부에 미세도선 패턴이 형성된 마스크 또는 필름을 얹고 500 내지 1500 mJ/cm2 자외선을 조사하여 노광을 실시한다. Thereafter, the photosensitive conductor paste composition was coated on a green sheet by printing, dried in an oven at 80 ° C. for about 10 minutes, and then a mask or film having a fine conductive pattern formed thereon was placed on the dried paste and 500 to 1500 mJ / Exposure is performed by irradiation with cm 2 ultraviolet rays.

상기 마스크를 제거한 후, 1 중량 %의 Na2CO3가 용해되어있는 수용액을 현상 액으로 사용하는 스프레이 현상기를 이용하여 노광된 페이스트를 식각하여 미세 도선 패턴을 형성한다. After removing the mask, the exposed paste is etched using a spray developer using an aqueous solution in which 1% by weight of Na 2 CO 3 is dissolved as a developer to form a fine lead pattern.

미세 도선 패턴이 형성된 그린시트를 여러 장의 다른 더미(Dummy) 시트와 함께 적층하고, 이를 850 내지 900℃ 온도에서 10 내지 30분 소성함으로써, 저온동시소성세라믹 기판 위 또는 내부에 후막 미세 도선의 형성을 완료한다.The green sheet on which the fine lead pattern is formed is laminated together with several other dummy sheets and baked at a temperature of 850 to 900 ° C. for 10 to 30 minutes, thereby forming a thick film fine lead on or inside the low temperature co-fired ceramic substrate. To complete.

상기 조성물 및 제조공정에 따라 선폭 15 ㎛, 선간격 15 ㎛ 정도의 미세 패턴을 갖고, 선 간격의 잔류물이 전혀 없으며, 저온동시소성 세라믹과의 수축율 정합이 잘 이루어진 소성기판을 얻을 수 있다.According to the composition and the manufacturing process, it is possible to obtain a fired substrate having a fine pattern having a line width of about 15 μm and a line interval of about 15 μm, no residue of line intervals, and good shrinkage matching with low temperature co-fired ceramics.

그러므로, 본 발명은 일반적인 스크린 인쇄법보다 후막도선의 해상도를 높일 수 있고, 저온동시소성 세라믹 그린시트와 수축율이 매칭되어 동시소성이 가능한 감광성 도전체 페이스트의 제작이 가능하다. Therefore, the present invention can increase the resolution of the thick film lead than the conventional screen printing method, and it is possible to manufacture the photosensitive conductor paste capable of simultaneous firing by matching the shrinkage rate with the low temperature simultaneous firing ceramic green sheet.

또한, 선간 잔류물을 깨끗이 제거하여 종래의 감광성 페이스트보다 도선의 해상도를 더욱 높일 수 있는 장점을 가진다.In addition, by removing the residue between the line has the advantage that can further increase the resolution of the conductive wire than the conventional photosensitive paste.

후술되는 본 발명에 따른 실시예들에 사용된 도전성 분말, 아크릴 바인더, 모노머, 광개시제, 유리프릿 등을 표 1에 요약하였다.The conductive powder, acrylic binder, monomer, photoinitiator, glass frit, and the like used in the examples according to the present invention described below are summarized in Table 1.

항목Item 구성성분Ingredient 규격/모델Specification / Model 비고Remarks 도전성 분말Conductive powder AgAg D50 ~1 ㎛D50 ~ 1 ㎛ Degussa사Degussa 아크릴 바인더 Acrylic binder 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 메타크릴릭 산 (MAA) (고형분 산가 111, 분자량 19000, Tg 117℃) Methyl methacrylate (MMA) methacrylic acid (MAA) (solid acid value 111, molecular weight 19000, Tg 117 ° C.) 83 중량% 17 중량% 83 wt% 17 wt%                                              KB-P1KB-P1 -- 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 메타크릴릭 산 (MAA) 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 (HEMA) (고형분 산가 111, 분자량 30000, Tg 109℃) Methyl methacrylate (MMA) methacrylic acid (MAA) 2-hydroxy ethyl methacrylate (HEMA) (solid acid value 111, molecular weight 30000, Tg 109 ° C.) 70.5 중량% 17 중량% 12.5 중량% 70.5 wt% 17 wt% 12.5 wt%                                              KB-P2KB-P2 -- 메틸 메타크릴레이트 (MMA) 메타크릴릭 산 (MAA) 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 (MEMA) n-부틸 메타크릴레이트 (nBMA) (고형분 산가 111, 분자량 15600, Tg 103℃) Methyl methacrylate (MMA) methacrylic acid (MAA) 2-hydroxy ethyl methacrylate (MEMA) n-butyl methacrylate (nBMA) (solid acid value 111, molecular weight 15600, Tg 103 ° C.) 67.3 중량% 17.1 중량% 6.7 중량% 8.9 중량% 67.3 wt% 17.1 wt% 6.7 wt%                                                  8.9 wt%                                              KB-P3KB-P3 -- 단량체  Monomer 트리메틸롤프로판 에톡실레이티드 트리아크릴레이트 (TMPEOTA)Trimethylolpropane ethoxylated triacrylate (TMPEOTA) M310M310 미원상사Miwon Corporation 광개시제Photoinitiator 2,4,6-트리메틸벤조일-다이페닐-포스핀옥사이드2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide TPOTPO 미원상사Miwon Corporation 유리프릿Glass frit -- TG4TG4 테멘테크놀로지Temen Technology 용 매Solvent α-Terpineol / BCA (mixed)α-Terpineol / BCA (mixed) 2 : 12: 1 -- 윤활제slush Oleic acidOleic acid -- -- 분산제Dispersant -- PS-2PS-2 -- 그린시트Green sheet LTCC 분말LTCC Powder 듀퐁 9599Dupont 9599 자체 제작시트Self-made sheet

[비교예 1]Comparative Example 1

표 2는 본 발명에 따른 실시예와 비교하기 위한 비교예 1의 감광성 도전체 페이스트의 조성을 나타낸 것으로, 감광성 도전체 페이스트 총 중량이 107.7g일 때, 각 성분의 중량(g)을 나타낸 것이다.Table 2 shows the composition of the photosensitive conductor paste of Comparative Example 1 for comparison with the Example according to the present invention, and shows the weight (g) of each component when the total photosensitive conductor paste total weight is 107.7g.

항목Item 구성성분Ingredient 중량(g)Weight (g) 도전체 분말Conductor powder AgAg 7070 아크릴 바인더Acrylic binder KB-P1KB-P1 2424 단량체Monomer M310M310 66 광개시제Photoinitiator TPOTPO 1.81.8 용 매Solvent α-Terpineol / BCA (mixed)α-Terpineol / BCA (mixed) 55 윤활제slush Oleic acidOleic acid 0.20.2 분산제Dispersant PS-2PS-2 0.70.7

비교예 1에서는 아크릴바인더로 기본조성으로 공중합된 KB-P1을 사용하였고, 유리 프릿을 첨가하지 않은 조성에 대하여 페이스트를 제조하고, 미세 도선 패턴을 제작하였다. In Comparative Example 1, KB-P1 copolymerized with an acrylic binder was used as a basic composition. A paste was prepared for a composition without adding glass frit, and a fine wire pattern was prepared.

현상 후, 20 ㎛ 이하의 패턴이 그린시트로부터 떨어져 나갔으며, 소성 후 도선과 기판의 수축율 부정합 때문에 미세도선 내부에 크랙이 발견되었다. After development, a pattern of 20 μm or less fell off from the green sheet, and cracks were found inside the micro lead due to the shrinkage mismatch between the lead and the substrate after firing.

소성 후, 선폭/선간격의 최고 해상도는 평균적으로 25㎛/25㎛ 수준을 보였다.After firing, the highest resolution of line width / line spacing was 25 µm / 25 µm on average.

[비교예 2]Comparative Example 2

표 3은 본 발명에 따른 실시예와 비교하기 위한 비교예 2의 감광성 페이스트의 조성을 나타낸 것으로, 감광성 도전체 페이스트 총 중량이 107.7g일 때, 각 성분의 중량(g)을 나타낸 것이다.Table 3 shows the composition of the photosensitive paste of Comparative Example 2 for comparison with the Example according to the present invention, and shows the weight (g) of each component when the total photosensitive conductor paste total weight is 107.7g.

항목Item 구성성분Ingredient 중량(g)Weight (g) 도전체 분말Conductor powder AgAg 6868 아크릴 바인더Acrylic binder KB-P2KB-P2 2424 단량체Monomer M310M310 66 광개시제Photoinitiator TPOTPO 1.81.8 유리프릿Glass frit TG4TG4 22 용 매Solvent α-Terpineol / BCA (mixed)α-Terpineol / BCA (mixed) 55 윤활제slush Oleic acidOleic acid 0.20.2 분산제Dispersant PS-2PS-2 0.70.7

비교예 2에서는 아크릴바인더로 기본조성에 HEMA를 부가시킨 KB-P2를 사용하고, 유리프릿을 첨가한 조성에 대하여 페이스트를 제조하고, 미세도선 패턴을 제작하였다. In Comparative Example 2, KB-P2 having HEMA added to the basic composition as an acrylic binder was used, a paste was prepared for the glass frit-added composition, and a fine lead pattern was prepared.

그린시트에 대한 부착력이 좋아져 현상 후, 미세 패턴이 그린시트로부터 떨어져 나가지는 않았지만, 선간격에 많은 잔류물이 발견되고 해상도가 조금 저하되었다(선폭 넓어지고 선간격 좁아짐). The adhesion to the green sheet was improved, and after development, the fine pattern did not fall off from the green sheet, but many residues were found in the line spacing and the resolution was slightly reduced (line width and line spacing).

그리고, HEMA가 가지고 있는 OH기의 작용에 의해서 그린시트와의 부착력이 증가한 영향으로 보이며, 적정 수준을 넘은 것으로 볼 수 있다. In addition, it appears that the adhesion force with the green sheet is increased by the action of the OH group possessed by HEMA, and may be considered to have exceeded an appropriate level.

또한, 유리 프릿에 의해 소성후 미세도선 내부에 발생하던 크랙이 완화되었다. In addition, the cracks generated inside the fine wire after firing were alleviated by the glass frit.

게다가, 소성후 선폭/선간격 최고 해상도는 평균적으로 30㎛/20㎛ 수준을 보였다.In addition, the maximum width / line spacing resolution after firing averaged 30 µm / 20 µm.

[실시예]EXAMPLE

표 4는 본 발명에 따른 실시예의 감광성 페이스트의 조성을 나타낸 것으로, 감광성 도전체 페이스트 총 중량이 107.7g일 때, 각 성분의 중량(g)을 나타낸 것이다.Table 4 shows the composition of the photosensitive paste of the embodiment according to the present invention, and shows the weight (g) of each component when the total photosensitive conductor paste total weight is 107.7 g.

항목Item 구성성분Ingredient 중량(g)Weight (g) 도전체 분말Conductor powder AgAg 6868 아크릴 바인더Acrylic binder KB-P3KB-P3 2424 단량체Monomer M310M310 66 광개시제Photoinitiator TPOTPO 1.81.8 유리프릿Glass frit TG4TG4 22 용 매Solvent α-Terpineol / BCA (mixed)α-Terpineol / BCA (mixed) 55 윤활제slush Oleic acidOleic acid 0.20.2 분산제Dispersant PS-2PS-2 0.70.7

본 발명의 실시예에서는 아크릴 바인더로 기본조성에 HEMA와 nBMA를 동시에 부가시킨 도 2와 같은 구조의 유기 바인더인 KB-P3을 사용하고, 유리 프릿을 첨가한 조성에 대하여 페이스트를 제조하고, 미세도선 패턴을 제작하였다. In the embodiment of the present invention using the organic binder KB-P3 of the structure as shown in Figure 2 to add the HEMA and nBMA to the basic composition at the same time as the acrylic binder, to prepare a paste for the composition to which glass frit is added, The pattern was produced.

그린시트에 대한 부착력도 좋고 현상후, 미세패턴의 해상도도 향상되어 마스크상의 20㎛ 도선패턴이 안정하게 구현되었다. The adhesion to the green sheet is good, and after development, the resolution of the fine pattern is also improved, so that a 20 μm wire pattern on the mask is stably implemented.

HEMA의 양을 조금 줄임으로써 그린시트와의 부착력이 적정수준으로 조정되고, nBMA의 부가에 의해 막이 연화되어 현상에 도움이 된 것으로 보인다. By slightly reducing the amount of HEMA, the adhesion to the green sheet is adjusted to an appropriate level, and the addition of nBMA softens the film, which appears to help the development.

유리 프릿에 의해 소성 후, 미세 도선 내부에 발생하던 크랙도 나타나지 않았다. After firing with the glass frit, no cracks occurred in the fine conductive wires.

또한, 소성 후, 선폭/선간격의 최고 해상도는 평균적으로 15㎛/15㎛ 수준을 보였다.In addition, after firing, the highest resolution of line width / line spacing was 15 µm / 15 µm on average.

결국, 본 발명의 실시예와 같이, 유기 바인더에 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트(MEMA) 및 n-부틸 메타크릴레이트(nBMA)가 함유되어 있으면, 페이스트로 미세 도선을 형성하였을 시, 크랙이 발생되지 않고, 그린시트에 대한 부착력이 우수 해지고, 해상도를 우수히 할 수 있다.As a result, when 2-hydroxy ethyl methacrylate (MEMA) and n-butyl methacrylate (nBMA) are contained in the organic binder as in the embodiment of the present invention, when the fine wire is formed from the paste, cracks are formed. It is not generated, the adhesion to the green sheet is excellent, and the resolution can be excellent.

이상 상술한 바와 같이, 본 발명은 저온동시소성 세라믹 적층 공정 기술에 적합한 감광성 도전체 페이스트 조성물을 제조함으로써, 페이스트로 그린시트에 미세 도선을 형성할 시, 해상도가 높고, 현상 후 선간격의 잔류물이 적으며, 그린시트와의 소성수축 거동이 정합되어 기판의 휨을 적게 할 수 있는 효과가 있다. As described above, the present invention is to prepare a photosensitive conductor paste composition suitable for low temperature co-fired ceramic lamination process technology, when forming a fine conductive wire in the green sheet with a paste, high resolution, residues of the line interval after development There is little, and the plastic shrinkage behavior with the green sheet is matched, thereby reducing the warpage of the substrate.

본 발명은 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the invention has been described in detail only with respect to specific examples, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the spirit of the invention, and such modifications and variations belong to the appended claims.

Claims (15)

(a) 저온동시소성용 도전성 금속분말 55 ~ 75 중량%; (a) 55 to 75% by weight of the conductive metal powder for low temperature simultaneous firing; (b) 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 및 n-부틸 메타 크릴레이트를 함유하고, 산성 관능기를 갖는 용액화된 유기 바인더, 단량체와 광개시제를 포함하는 비이클(Vehicle) 10 ~ 40 중량%; (b) 10 to 40% by weight of a vehicle containing 2-hydroxy ethyl methacrylate and n-butyl methacrylate and comprising an acidified functional group having a solutiond organic binder, a monomer and a photoinitiator; (c) 소성 수축율 제어를 위한 유리 프릿 0.1 ~ 5 중량%; (c) 0.1 to 5% by weight glass frit for plastic shrinkage control; (d) 분산제 0.5 ~ 1.5 중량%;(d) 0.5 to 1.5 weight percent dispersant; (e) 유기용매 1 ~ 8 중량%를 함유하고 있는 감광성 도전체 페이스트 조성물.(e) The photosensitive conductor paste composition containing 1-8 weight% of organic solvents. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비이클 총 중량에서, At the vehicle total weight, 유기 바인더는 65 ~ 85 중량%이고, 단량체는 10 ~ 30 중량%이고, 광개시제는 1 ~ 10 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물.The organic binder is 65 to 85% by weight, the monomer is 10 to 30% by weight, the photoinitiator is a photosensitive conductor paste composition, characterized in that 1 to 10% by weight. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 유기 바인더 총 중량에서,In the total weight of the organic binder, 메틸 메타크릴레이트는 65 ~ 85 중량%이고, 메타크릴릭 산은 10 ~ 20 중량%이고, 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 2 ~ 10 중량%이고, n-부틸 메타크릴레이트 2 ~ 15 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물.Methyl methacrylate is 65-85 wt%, methacrylic acid is 10-20 wt%, 2-hydroxy ethyl methacrylate 2-10 wt%, n-butyl methacrylate 2-15 wt% The photosensitive conductor paste composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 유기바인더는, The organic binder, 산가가 40 ~ 60 mgKOH/g이고, Acid number is 40-60 mgKOH / g, 유기 바인더 총 중량에서 고형분 함량은 30 ~ 50 %이고, 고형분의 산가는 90 ~ 120 mgKOH/g이고, 고형분의 분자량은 5000 ~ 50000 인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물.Solid content in the total weight of the organic binder is 30 to 50%, the acid value of the solid content is 90 to 120 mgKOH / g, the molecular weight of the solid content is 5000 to 50000, the photosensitive conductor paste composition. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 단량체는, The monomer is, 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 에톡실레이티드 크리아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리-아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라-아크릴레이트 중 선택된 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물.A photosensitive conductor paste composition comprising any one selected from trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethoxylated acrylate, pentaerythritol tri-acrylate, and pentaerythritol tetra-acrylate. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 도전성 금속분말은 The conductive metal powder Ag, Cu, Au, Pd, Pt와 Ni 중 선택된 하나이며, Selected from Ag, Cu, Au, Pd, Pt and Ni, 평균 입경은 0.5 ~ 5 ㎛이고, The average particle diameter is 0.5-5 탆, 비표면적은 0.2 ~ 4 m2/g이고, Specific surface area is 0.2-4 m 2 / g, 밀도는 2 ~ 6 g/cc인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물.The photosensitive conductor paste composition of which density is 2-6 g / cc. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 광개시제는, The photoinitiator, 2,4,6-트리메틸벤조일-다이페닐-포스핀옥사이드인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물.2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide. The photosensitive conductor paste composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 감광성 도전체 페이스트 조성물에, In the photosensitive conductor paste composition, 인쇄특성을 위한 윤활제, 가소제와 레벨링제로 이루어진 첨가제가 0.1 ~ 0.5 중량%로 더 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물.A photosensitive conductor paste composition comprising an additive consisting of a lubricant, a plasticizer, and a leveling agent for printing properties, in an amount of 0.1 to 0.5% by weight. 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 및 n-부틸 메타 크릴레이트를 함유하고, 산성 관능기를 갖는 용액화된 유기 바인더, 단량체와 광개시제를 혼합하여 비이클을 만드는 제 1 단계와;A first step of mixing a solution comprising an organic functional group, a monomer and a photoinitiator containing 2-hydroxy ethyl methacrylate and n-butyl methacrylate to form a vehicle; 상기 제 1 단계에서 만들어진 비이클에 저온동시소성용 도전성 금속분말, 유리 프릿과 분산제를 넣고 혼합하는 제 2 단계와;A second step of mixing a low temperature simultaneous firing conductive metal powder, a glass frit, and a dispersant into the vehicle made in the first step; 상기 제 2 단계에서 만들어진 혼합물에 유기용매를 첨가하여 페이스트를 만 드는 제 3 단계로 구성된 감광성 도전체 페이스트 조성물의 제조 방법.A method for producing a photosensitive conductor paste composition comprising a third step of making a paste by adding an organic solvent to the mixture made in the second step. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 제 3 단계는,The third step, 상기 제 2 단계에서 만들어진 혼합물을 3-롤밀에 넣고, 유기용매 및 윤활제를 첨가하면서 20 ~ 30분 밀링하여 페이스트를 만드는 것인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물의 제조 방법.Method for producing a photosensitive conductor paste composition characterized in that the mixture made in the second step in a three-roll mill, milling for 20 to 30 minutes while adding an organic solvent and a lubricant to make a paste. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 유기 바인더 총 중량에서,In the total weight of the organic binder, 메틸 메타크릴레이트는 65 ~ 85 중량%이고, 메타크릴릭 산은 10 ~ 20 중량%이고, 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 2 ~ 10 중량%이고, n-부틸 메타크릴레이트 2 ~ 15 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물의 제조 방법.Methyl methacrylate is 65-85 wt%, methacrylic acid is 10-20 wt%, 2-hydroxy ethyl methacrylate 2-10 wt%, n-butyl methacrylate 2-15 wt% The manufacturing method of the photosensitive conductor paste composition characterized by the above-mentioned. 제 9 항 또는 제 11 항에 있어서, The method according to claim 9 or 11, 상기 비이클 총 중량에서, At the vehicle total weight, 유기 바인더는 65 ~ 85 중량%이고, 단량체는 10 ~ 30 중량%이고, 광개시제는 1 ~ 10 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물의 제조 방법.The organic binder is 65 to 85% by weight, the monomer is 10 to 30% by weight, the photoinitiator is a method for producing a photosensitive conductor paste composition, characterized in that 1 to 10% by weight. 제 9 항 또는 제 11 항에 있어서, The method according to claim 9 or 11, 상기 유기바인더는, The organic binder, 산가가 40 ~ 60 mgKOH/g이고, Acid number is 40-60 mgKOH / g, 유기 바인더 총 중량에서 고형분 함량은 30 ~ 50 %이고, 고형분의 산가는 90 ~ 120 mgKOH/g이고, 고형분의 분자량은 5000 ~ 50000 인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물의 제조 방법.Solid content in the total weight of the organic binder is 30 to 50%, the acid value of the solid content is 90 ~ 120 mgKOH / g, the molecular weight of the solid content is 5000 ~ 50000 The method for producing a photosensitive conductor paste composition. 제 8 항 또는 제 11 항에 있어서, The method according to claim 8 or 11, wherein 상기 단량체는, The monomer is, 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판 에톡실레이티드 크리아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리-아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라-아크릴레이트 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 조성물의 제조 방법.Trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethoxylated acrylate, pentaerythritol tri-acrylate, pentaerythritol tetra-acrylate of any one of the photosensitive conductor paste composition Manufacturing method. 제 8 항 또는 제 11 항에 있어서, The method according to claim 8 or 11, wherein 상기 광개시제는, The photoinitiator, 2,4,6-트리메틸벤조일-다이페닐-포스핀옥사이드인 것을 특징으로 하는 감광성 도전체 페이스트 제조 방법.2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101316253B1 (en) * 2007-06-27 2013-10-08 동우 화인켐 주식회사 Conductive paste composition, electrode including the same and fabrication method of the electrode
KR101351699B1 (en) * 2013-05-14 2014-01-15 동우 화인켐 주식회사 Conductive paste composition, electrode including the same and fabrication method of the electrode
CN104637571A (en) * 2015-02-05 2015-05-20 合肥圣达电子科技实业公司 Silver paste for ceramic capacitor and preparation method thereof
CN107871543A (en) * 2016-09-28 2018-04-03 株式会社则武 Conductive paste
WO2019066468A1 (en) * 2017-09-27 2019-04-04 (주)이노시아 Method for manufacturing chip inductor having fine-pitch line width and photosensitive material used therefor
KR20220055181A (en) * 2020-10-26 2022-05-03 한국생산기술연구원 Metal mixed substrate for glassy coating products
WO2022225361A1 (en) * 2021-04-22 2022-10-27 주식회사 아모텍 Multilayer ceramic electronic component manufacturing method, and multilayer ceramic electronic component implemented through same

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100351230B1 (en) * 2000-06-09 2002-09-05 대주정밀화학 주식회사 Conductive paste composition for electrodes

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101316253B1 (en) * 2007-06-27 2013-10-08 동우 화인켐 주식회사 Conductive paste composition, electrode including the same and fabrication method of the electrode
KR101351699B1 (en) * 2013-05-14 2014-01-15 동우 화인켐 주식회사 Conductive paste composition, electrode including the same and fabrication method of the electrode
CN104637571A (en) * 2015-02-05 2015-05-20 合肥圣达电子科技实业公司 Silver paste for ceramic capacitor and preparation method thereof
CN107871543A (en) * 2016-09-28 2018-04-03 株式会社则武 Conductive paste
CN107871543B (en) * 2016-09-28 2020-12-11 株式会社则武 Conductive paste
WO2019066468A1 (en) * 2017-09-27 2019-04-04 (주)이노시아 Method for manufacturing chip inductor having fine-pitch line width and photosensitive material used therefor
KR20220055181A (en) * 2020-10-26 2022-05-03 한국생산기술연구원 Metal mixed substrate for glassy coating products
WO2022225361A1 (en) * 2021-04-22 2022-10-27 주식회사 아모텍 Multilayer ceramic electronic component manufacturing method, and multilayer ceramic electronic component implemented through same

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