KR20050122890A - Semiconductor gas supply system - Google Patents
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Abstract
개시된 반도체 가스공급시스템은 가연성반응가스를 저장하는 적어도 하나의 가스공급용기와 가스공급용기로부터 반응가스를 공급받아 공정을 진행하는 공정챔버와 반응가스를 가스공급용기로 부터 공정챔버로 공급하기 위하여 연결되고, 반응가스의 누출을 감지하도록 외면에 도선이 형성된 가스공급라인과 가스공급라인상에 설치되어 반응가스를 공정챔버로의 유입을 제어하는 가스공급밸브와 가스공급밸브의 개폐동작을 수행하도록 도선을 통해 전원을 인가하며 반응가스로 인해 도선이 단선될 경우 전원을 즉시 차단하는 자동차단수단을 갖는 전원부 및 반응가스가 누출되어 감지수단을 통해 전원공급이 중지되면, 공정챔버로의 반응가스유입을 막도록 가스공급밸브를 차단하고, 공정을 중지시키는 신호를 발생하는 제어부를 포함한다.The disclosed semiconductor gas supply system connects at least one gas supply container for storing a flammable reaction gas, and a process chamber in which a reaction gas is supplied from the gas supply container and a process chamber for supplying the reaction gas from the gas supply container to the process chamber. And installed on the gas supply line and the gas supply line having a conducting wire on the outer surface to detect leakage of the reaction gas, and conducting the opening and closing operation of the gas supply valve and the gas supply valve to control the inflow of the reaction gas into the process chamber. If the power supply is supplied through the power supply and the reactive gas is leaked due to the reactive gas, the power supply unit has a shut-off means that shuts off the power immediately. And a control unit for blocking the gas supply valve so as to prevent the gas supply valve and generating a signal for stopping the process.
Description
본 발명은 반도체 가스공급시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가스공급라인상에서 반응가스누출시 이를 자동으로 감지하여 반응가스 공급을 중단시키도록 한 반도체 가스공급시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor gas supply system, and more particularly, to a semiconductor gas supply system which automatically detects a reaction gas leak on a gas supply line and stops supply of the reaction gas.
일반적으로 반도체 제조공정은 실리콘 웨이퍼(Silicon Wafer) 상에 여러가지 화학반응을 유발하여 전기적 물성치가 다른 박막들을 형성하고 회로를 구성하는 일련의 과정들로 이루어진다.In general, a semiconductor manufacturing process consists of a series of processes for forming a circuit and forming thin films having different electrical properties by causing various chemical reactions on a silicon wafer.
이러한 반도체 제조공정에는 화학적 친화력이 높은 극히 민감한 반응가스들을 취급하게 된다.Such semiconductor manufacturing processes deal with extremely sensitive reaction gases with high chemical affinity.
그러므로, 반도체 제조공정이 이루어지는 공정챔버(Process Chamber)내로 반응가스를 공급하는 가스공급시스템은 정확한 가스공급기능과 아울러 가스공급부에서부터 공정챔버에 이르는 가스공급라인에 이르기까지 가스누출을 막는 밀폐의 기능이 매우 중요하다.Therefore, the gas supply system for supplying the reaction gas into the process chamber in which the semiconductor manufacturing process is performed has an accurate gas supply function and a sealing function that prevents gas leakage from the gas supply unit to the gas supply line from the process chamber. very important.
또한, 대부분의 반도체 제조용 반응가스는 가스누출시 인체에 치명적인 영향을 줌은 물론이고 높은 가연성(可燃性)을 가지므로, 반도체 가스공급시스템에는 가스누출로 인한 인명피해나 화재가 발생하여 막대한 손실을 초래하는 위험을 항상 내포하고 있다.In addition, since most reaction gases for semiconductor manufacturing not only have a fatal effect on the human body during gas leakage, but also have high flammability, the semiconductor gas supply system has a huge loss due to human injury or fire caused by gas leakage. It always carries with it the danger it poses.
따라서, 가스공급시스템은 가스누출을 알리는 누출경보기와 화재발생시에 이를 진화할 수 있는 소화장비를 갖추고 있으며 화재경보장치가 가스공급라인에 집중적으로 배치되어 화재가 발생할 경우에 이를 경보하는 역할을 한다.Therefore, the gas supply system is equipped with a leak alarm for notifying the gas leakage and extinguishing equipment that can extinguish it in the event of a fire, and the fire alarm device is arranged in the gas supply line to act as a warning when a fire occurs.
일반적인 가스공급시스템은 공정챔버와 가스누출에 의한 인명피해나 화재발생시에 발생하는 손실을 최소화하기 위해서 가스를 보관하는 가스실과 공정이 수행되는 작업실을 따로 두고 가스공급부와 공정챔버등 설비들을 관리하고 있다.The general gas supply system manages the facilities such as the gas supply unit and the process chamber separately from the gas chamber storing the gas and the work room where the process is performed in order to minimize the loss caused in the event of human injury or fire caused by the gas leak. .
종래의 가스공급시스템은, 가스실 내부에 위치하여 가스를 저장하고 공급량과 공급시간을 조절하며 필요한 가스압을 유지하는 가스공급부와, 작업실에 위치한 공정챔버에 파이프로 연결되어 반응가스를 이동시키는 가스공급라인으로 구성된다.The conventional gas supply system includes a gas supply unit which is located inside a gas chamber to store gas, adjusts supply amount and supply time, maintains a required gas pressure, and a gas supply line that is connected to a process chamber located in a work chamber by pipes to move a reaction gas. It consists of.
일반적인 반도체 가스공급시스템은, 가스실 내부에 위치한 가스공급부와, 상기 가스공급부로부터 작업실내에 설치된 공정챔버까지 파이프로 연결되어있는 가스공급라인으로 구성되어있다.The general semiconductor gas supply system is composed of a gas supply unit located inside the gas chamber and a gas supply line connected to the process chamber installed in the working chamber by the gas supply unit.
종래의 가스공급시스템을 설명하면 가스공급부는 고압의 반응가스를 저장하는 가스저장용기를 포함하며, 반응가스는 가스저장용기에서 빠져나와 가스의 압력과 공급량 및 공급시간을 조절하는 밸브를 거쳐 외부와 밀폐된 가스공급라인을 지나 공정챔버로 공급된다.Referring to the conventional gas supply system, the gas supply unit includes a gas storage container for storing a high-pressure reaction gas, and the reaction gas exits from the gas storage container and passes through a valve for controlling the pressure, supply amount, and supply time of the gas. It is fed to the process chamber through a closed gas supply line.
여기서, 가스공급부와 공정챔버사이의 가스공급라인은 다수개의 밸브와 피팅(Fiting)된 부분을 갖는다.Here, the gas supply line between the gas supply unit and the process chamber has a plurality of valves and fittings.
상기와 같이 반응가스가 이동되는 가스공급라인에서 반응가스가 누출되는데, 특히, 피팅된 부분에서 다발적으로 누출된다.As described above, the reaction gas leaks from the gas supply line to which the reaction gas is moved. In particular, the fitting gas leaks frequently from the fitting part.
상기의 반응가스 종류는 공정별로 다양하며 수소, 질소, 아르곤, SiH4, PH3, AsH3, B2H6등이 대표적이다.The reaction gas types vary depending on the process, and hydrogen, nitrogen, argon, SiH 4 , PH 3 , AsH 3 , and B 2 H 6 are typical.
특히, SiH4, PH3, AsH3, B2H6등은 독성, 가연성 뿐만이 아니라 자연발화성 및 폭발성까지 지니고 있다. 따라서 누출가스의 원천적인 방지를 위한 안전장치가 절실히 필요했다.In particular, SiH 4 , PH 3 , AsH 3 , B2H 6 and the like have not only toxicity, flammability, but also pyrophoric and explosive. Therefore, safety devices are urgently needed to prevent leakage gas.
그러나, 종래의 가스공급시스템은 가스누출을 방지하기 위한 어떠한 안전장치도 별도로 구성하고 있지 않다. 단지 사고후에 가스의 누출을 알리는 누출경보기나 발생하는 화재를 진화하기위한 소화장치, 또는 소화장치의 가동을 판단하기 위한 화재경보장치가 전부였다.However, the conventional gas supply system does not separately configure any safety device for preventing gas leakage. Only after the accident were leak alarms for gas leaks, fire extinguishing systems for extinguishing fires, or fire alarms for judging operation of fire systems.
또한, 가스누출경보기로는 가스공급라인 상에 발생하는 반응가스의 미세한 누출을 확인할 수 없는 문제점이 있었다.In addition, there was a problem that the gas leakage alarm can not confirm the minute leakage of the reaction gas generated on the gas supply line.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 가스공급부로부터 공정챔버로 반응가스를 공급하는 가스공급라인에서 반응가스누출시 육안으로 쉽게 누출지점을 확인하도록 하고, 반응가스가 누출된 즉시 이를 실시간 감지하여 공급챔버로의 가스공급밸브를 자동으로 차단시켜 공정을 중단시킴으로써 반응가스 누출로 인한 인명 및 재산적 피해를 방지할 수 있는 반도체 가스공급시스템을 제공하는데 있다.Therefore, the present invention has been made to solve the above problems, and when the reaction gas leakage in the gas supply line for supplying the reaction gas from the gas supply unit to the process chamber, it is easy to check the leak point with the naked eye, and the reaction gas is leaked It provides a semiconductor gas supply system that can immediately detect this in real time and automatically shut off the gas supply valve to the supply chamber to stop the process, thereby preventing human and property damage due to leakage of reactive gas.
본 발명의 반도체 가스공급시스템은 소정의 반응가스를 저장하는 적어도 하나의 가스공급용기와; 상기 가스공급용기로부터 상기 반응가스를 공급받아 공정을 진행하는 공정챔버와; 상기 가스공급용기와 상기 공정챔버에 연결되어 상기 반응가스를 상기 가스공급용기로 부터 상기 공정챔버로 공급하는 가스공급라인; 및 상기 가스공급라인을 따라 설치되어 반응가스의 누출됨을 감지함과 아울러 가시화하는 감지수단을 포함한다.The semiconductor gas supply system of the present invention comprises at least one gas supply container for storing a predetermined reaction gas; A process chamber receiving the reaction gas from the gas supply container and performing a process; A gas supply line connected to the gas supply container and the process chamber to supply the reaction gas from the gas supply container to the process chamber; And sensing means installed along the gas supply line to detect leakage of the reactive gas and to visualize it.
여기서, 상기 가스공급라인상에 설치되어 상기 반응가스를 상기 공정챔버로의 유입을 제어하는 적어도 하나의 가스공급밸브와; 상기 가스공급밸브의 개폐동작을 수행하도록 상기 감지수단을 통해 전원을 공급하는 전원부; 및 상기 반응가스가 누출되어 상기 감지수단을 통해 전원공급이 중지되면, 상기 공정챔버로의 상기 반응가스유입을 막도록 상기 가스공급밸브를 차단하고, 공정을 중지시키는 신호를 발생하는 제어부를 추가로 포함하는 것이 바람직하다.At least one gas supply valve installed on the gas supply line to control inflow of the reaction gas into the process chamber; A power supply unit supplying power through the sensing means to perform the opening and closing operation of the gas supply valve; And a controller configured to block the gas supply valve to prevent inflow of the reaction gas into the process chamber and generate a signal to stop the process when the reaction gas leaks and the power supply is stopped through the sensing means. It is preferable to include.
그리고, 상기 감지수단은 상기 전원부로부터의 전원을 상기 가스공급밸브에 공급하기 위한 도선이며, 상기 도선은 상기 가스공급라인 외면에 밀접하게 설치된 것이 바람직하다.In addition, the sensing means is a conductive wire for supplying power from the power supply to the gas supply valve, the conductive wire is preferably installed on the outer surface of the gas supply line.
또한, 상기 도선은 상기 반응가스와 화학적 반응을 일으켜 단선되는 재질로 형성된 것이 바람직하다.In addition, the conductive wire is preferably formed of a material that causes a chemical reaction with the reaction gas to be disconnected.
나아가, 상기 전원부는 상기 감지수단을 통해 전원을 공급하되, 상기 반응가스가 누출되어 상기 감지수단이 단선될 경우, 전원을 즉시 차단하도록 자동차단수단이 추가로 설치된 것이 바람직하다.Furthermore, the power supply unit supplies power through the sensing means, but when the reaction gas leaks and the sensing means is disconnected, it is preferable that the auto shut-off means is additionally installed to immediately cut off the power.
이하, 첨부된 도면을 참고로하여 본 발명의 구체적인 구성 및 바람직한 일 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a specific configuration and a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 반도체 가스공급시스템의 개략도이다.2 is a schematic diagram of a semiconductor gas supply system according to a preferred embodiment of the present invention.
도 1을 참고하면, 본 발명의 반도체 가스공급시스템은 반도체 제조용 가연성 반응가스를 저장하는 적어도 하나의 가스공급용기(210)와 상기 가스공급용기(210)로부터 반응가스를 공급 받아 공정을 진행하는 공정챔버(220)와 반응가스를 가스공급용기(210)로 부터 공정챔버(220)로 공급하기 위하여 연결되고, 반응가스의 누출을 감지하는 감지수단(245)이 형성된 가스공급라인(250)과 가스공급라인(250)상에 설치되어 공정챔버(220)로의 반응가스의 유입을 제어하는 가스공급밸브(253)와 가스공급밸브(253)의 개폐동작을 수행하도록 전원을 인가하는 전원부(240) 및 반응가스가 누출되어 감지수단(245)을 통해 전원공급이 중지되면, 공정챔버(220)로의 반응가스유입을 막도록 가스공급밸브(253)를 차단하고, 공정을 중지시키는 신호를 발생하는 제어부(230)를 포함한다.Referring to Figure 1, the semiconductor gas supply system of the present invention is a process for receiving a reaction gas from the at least one gas supply container 210 and the gas supply container 210 for storing the combustible reaction gas for semiconductor manufacturing process Gas supply line 250 and the gas is connected to the chamber 220 and the reaction gas from the gas supply container 210 to the process chamber 220, the sensing means 245 for detecting the leakage of the reaction gas is formed A power supply unit 240 installed on the supply line 250 to supply power to perform the opening / closing operation of the gas supply valve 253 and the gas supply valve 253 to control the inflow of the reaction gas into the process chamber 220; When the supply of the reaction gas leaks and the power supply is stopped through the detection means 245, the control unit for blocking the gas supply valve 253 to prevent the inlet of the reaction gas into the process chamber 220, and generates a signal for stopping the process ( 230).
여기서, 반응가스는 SiH4, PH3, AsH3, B2H6등의 가연성가스(Combustible Gas)이다.Here, the reaction gas is a combustible gas such as SiH 4 , PH 3 , AsH 3 , B2H 6, or the like.
그리고, 감지수단(245)은 전원부(240)로부터 가스공급밸브(253)로 전원을 공급하는 도선이며, 이 도선은 가스공급라인(250) 외면에 밀접하게 설치된다.In addition, the sensing means 245 is a conductive wire for supplying power from the power supply unit 240 to the gas supply valve 253, and the conductive wire is closely installed on the outer surface of the gas supply line 250.
또한, 도선은 반응가스에 의해서 화학반응을 일으켜 단선되는 재질이며, 바람직하게는 니켈(Ni) 재질의 금속성 도선으로 형성된다.In addition, the conductive wire is a material which causes a chemical reaction by the reaction gas to be disconnected, and is preferably formed of a metallic conductive wire of nickel (Ni) material.
나아가, 전원부(240)는 감지수단(245)인 도선을 통해 가스공급밸브(253)에 전원을 공급하되, 반응가스가 누출되어 도선이 단선될 경우, 전원을 즉시 차단하도록 자동차단수단(248)이 추가로 설치된다.In addition, the power supply unit 240 supplies power to the gas supply valve 253 through the conducting wire, which is the sensing means 245, and shuts off the power supply unit 248 so that the power is immediately cut off when the reactive gas leaks. This is additionally installed.
본 발명에 의한 반도체 가스공급시스템에서 가스공급라인상에 반응가스의 누출을 감지하기 위한 감지수단의 설치방법을 설명하면 다음과 같다.Referring to the installation method of the sensing means for detecting the leakage of the reaction gas on the gas supply line in the semiconductor gas supply system according to the present invention.
도 2에 도시된 바와 같이, 가스공급용기(210)와 공정챔버(220)를 연결하는 가스공급라인(250)상에는 다수개의 밸브(251)와 피팅부(A)와 공정챔버(220)입구의 가스공급밸브(253)로 구성된다. 상기의 가스공급밸브(253)는 전원부(240)로부터 24V의 전원을 인가받아 개폐동작을 수행하는 솔레노이드밸브이다.As shown in FIG. 2, on the gas supply line 250 connecting the gas supply container 210 and the process chamber 220, the plurality of valves 251, the fitting part A, and the process chamber 220 may be formed. The gas supply valve 253 is configured. The gas supply valve 253 is a solenoid valve that performs an opening and closing operation by receiving power of 24V from the power supply unit 240.
본 발명의 감지수단(245)은 전원부(240)로부터 가스공급밸브(253)로 24V의 전원을 공급하여 개폐동작을 수행하기 위해 금속으로 형성된 감지수단(245)인 도선을 이용하여 연결한다.The sensing means 245 of the present invention is connected to the gas supply valve 253 from the power supply 240 by using a conducting wire which is a sensing means 245 formed of a metal to perform opening and closing operation.
여기서, 도선은 가스공급용기(210)에 저장된 가연성 반응가스와 화학반응을 일으켜 단선되도록 니켈(Ni)등의 재질로 형성된 것을 사용한다.Here, the conductive wire is formed of a material such as nickel (Ni) to cause a chemical reaction with the flammable reaction gas stored in the gas supply container 210 to be disconnected.
상기 전원부(240)로부터 연결되는 감지수단(245)인 도선은 가스공급용기(210)와 가스공급밸브(255) 사이의 가스공급라인(250)의 외면에 밀접하게 설치되고, 전원부(240)와 가스공급밸브(253)를 연결시켜 전원을 공급한다..The conducting wire, which is a sensing means 245 connected from the power supply 240, is installed on the outer surface of the gas supply line 250 between the gas supply container 210 and the gas supply valve 255, and is connected to the power supply 240. Connect the gas supply valve 253 to supply power.
따라서, 가스공급라인(250)상에 형성된 감지수단(245)은 가스공급밸브(253)와 연결되되, 가스공급라인(250)상의 피팅부분(A)에서의 감지수단(245) 형성방법은 도 2에 도시된 바와 같이, 피팅부재(257)와 가스공급라인(250) 삽입부분에 밀착시켜 외감한다.Accordingly, the sensing means 245 formed on the gas supply line 250 is connected to the gas supply valve 253, and the method of forming the sensing means 245 in the fitting portion A on the gas supply line 250 is illustrated in FIG. As shown in 2, the fitting member 257 and the gas supply line 250 is in close contact with the insertion portion to the outer portion.
상기와 같이 반응가스 감지수단(245)인 도선을 가스공급라인(250)상에 설치한 한 상태에서 본 발명의 가스공급시스템(200)의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the gas supply system 200 of the present invention in a state in which the conducting wire as the reaction gas detecting means 245 is installed on the gas supply line 250 as described above.
가스공급용기(210)에 저장된 가연성의 반응가스를 공정챔버(220)로 공급하기 위해 복수개의 밸브(251)를 개방시키고, 전원부(240)로부터 24V의 전원을 감지수단(245)인 도선을 통해 공급함으로써 가스공급밸브(253)가 개방되도록 동작된다.In order to supply the flammable reaction gas stored in the gas supply container 210 to the process chamber 220, a plurality of valves 251 are opened, and 24V power is supplied from the power supply unit 240 through the conducting wire as the sensing means 245. By supplying, the gas supply valve 253 is operated to open.
따라서, 전원부(240)로부터 24V의 전원이 가스공급밸브(253)에 일정하게 공급되는 경우, 가스공급밸브(253)는 개방되어 반응가스를 공급챔버(220)내로 공급하게 된다.Therefore, when 24 V power is constantly supplied from the power supply unit 240 to the gas supply valve 253, the gas supply valve 253 is opened to supply the reaction gas into the supply chamber 220.
이때, 반응가스가 공급되는 가스공급라인(250) 내부에 가스공급압력이 존재하므로, 가스공급라인(250)상의 피팅부분(A) 또는 밸브(251)가 설치된 부분에서 반응가스의 누출이 다발적으로 발생한다.At this time, since there is a gas supply pressure inside the gas supply line 250 to which the reaction gas is supplied, leakage of the reaction gas occurs frequently in the fitting portion A or the valve 251 on the gas supply line 250. Occurs as
상기와 같이 반응가스가 누출된 경우, 이를 감지하여 반응가스공급이 차단되는 과정을 도 3을 참조하여 설명하도록 한다.When the reaction gas leaks as described above, the process of detecting the reaction gas supply by detecting this will be described with reference to FIG. 3.
도 3은 전원부(240)와 가스공급밸브(253)로 연결되는 감지수단(245)을 가스공급라인(250)상에 형성시킨 상태에서 가스누출이 발생된 상태를 보여주고 있다.3 illustrates a state in which gas leakage occurs in a state in which a sensing means 245 connected to the power supply 240 and the gas supply valve 253 is formed on the gas supply line 250.
도 1 및 도 3에서 보면, 가스공급용기(210)에서 공정챔버(220)로 반응가스를 공급하기 위해 연결된 가스공급라인(250)의 피팅부(A)에서 반응가스가 누출됨으로 인해 누출부(250a)가 형성되고, 누출된 반응가스에 의해서 감지수단(245)이 단선되어 단선부(B)를 형성하게 된다.1 and 3, the leaking part due to leakage of the reaction gas from the fitting portion (A) of the gas supply line 250 connected to supply the reaction gas from the gas supply container 210 to the process chamber 220 250a) is formed, and the detection means 245 is disconnected by the leaked reaction gas to form the disconnection part B.
이때, 전원부(240)의 전원을 가스공급밸브(253)에 공급하도록 연결된 감지수단(245)인 도선은 상기와 같이 반응가스와 화학적 반응을 일으켜 단선됨과 아울러 전원부(240)는 자동차단수단(248)이 작동되어 즉시 전원공급을 중단한다.At this time, the conducting wire which is the sensing means 245 connected to supply the power of the power supply 240 to the gas supply valve 253 is disconnected by causing a chemical reaction with the reaction gas as described above, and the power supply 240 is an auto shut off means 248. ) Will start and stop the power supply immediately.
따라서, 상기와 같이 도선이 단선됨으로 인해 전원부(240)로 부터 가스공급밸브(253)로 일정하게 공급되던 전원이 갑자기 차단되면, 가스공급밸브(253)는 차단되도록 구동되며, 제어부(230)는 그를 즉시 감지하여 공정을 중단하는 신호를 발생시켜 공정을 중단시킴으로써 반응가스가 더 이상 누출되는 것을 방지한다.Therefore, when the power supply which is constantly supplied from the power supply unit 240 to the gas supply valve 253 is suddenly cut off as described above, the gas supply valve 253 is driven to be cut off, and the controller 230 is It immediately detects and generates a signal to stop the process, which stops the process gas from leaking further.
또한, 전원부(240)로부터 전원공급은 자동차단수단(248)에 의해서 중단된 상태이다.In addition, the power supply from the power supply unit 240 is stopped by the shut-off means 248.
상기와 같이, 공정이 중단된 후, 가스공급라인(250)상에 형성된 감지수단(245)인 도선이 누출되는 가연성 반응가스와 화학적 반응을 일으켜 단선부(B)를 형성함으로써 작업자는 반응가스의 누출부위를 육안으로 쉽게 검출하여 신속히 보수 작업을 수행한다.As described above, after the process is stopped, the operator, which is the sensing means 245 formed on the gas supply line 250, reacts with the flammable reactant gas that leaks to form the disconnection part B, thereby allowing the operator to Easily detect leaks with the naked eye and perform repairs quickly.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 반도체 가스공급시스템에 의하면, 가스공급용기내의 가연성 반응가스를 반도체 공정챔버내로 유입하도록 연결되는 가스공급라인상에서 반응가스가 미량 누출될 경우, 반응가스를 공정챔버로 공급하는 가스공급밸브를 개방하기 위해 전원을 공급하는 전원부와 연결된 도선을 가스공급라인에 코팅시킴으로써, 가스공급라인상에서 반응가스가 누출될 경우, 즉시 단선되도록하여 가스누출지점을 작업자가 쉽게 파악할 수 있다.As described above, according to the semiconductor gas supply system of the present invention, when a small amount of reaction gas leaks on the gas supply line connected to introduce the combustible reaction gas in the gas supply container into the semiconductor process chamber, the reaction gas is transferred to the process chamber. Coated wires connected to the power supply for supplying power to open the gas supply valve are coated on the gas supply line, so that when the reaction gas leaks on the gas supply line, the gas is disconnected immediately so that the operator can easily identify the gas leakage point. .
또한, 누출지점의 보수작업이 용이하다.In addition, maintenance of the leak point is easy.
그리고, 도선이 단선됨과 아울러 가스공급밸브의 동작을 즉시 중지시킴으로써 반응가스 누출시 공정챔버로의 반응가스 유입을 즉각 중지시켜, 가연성 반응가스의 누출로 인한 인명피해 및 화재를 방지할 수 있다.In addition, the wire is disconnected and the operation of the gas supply valve is immediately stopped to stop the inflow of the reaction gas into the process chamber when the reaction gas is leaked, thereby preventing human injury and fire caused by the leakage of the flammable reaction gas.
도 1은 본 발명의 반도체 가스공급시스템을 보여주는 개략도이다.1 is a schematic view showing a semiconductor gas supply system of the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 피팅부(A)에 도선이 코팅된 상태를 보여주는 도면,2 is a view showing a state in which a conductive wire is coated on the fitting part A shown in FIG. 1,
도 3은 도 1에 도시된 가스공급라인 상에 도선이 형성되어 누출감지 동작을 보여주는 도면,3 is a view illustrating a leak detection operation by forming a conductive wire on the gas supply line illustrated in FIG. 1;
<도면의 주요부분에 대한 부호설명><Code Description of Main Parts of Drawing>
200 : 가스공급시스템 210 : 가스공급용기200: gas supply system 210: gas supply container
220 : 공정챔버 230 : 제어부220: process chamber 230: control unit
240 : 전원부 245 : 감지수단240: power supply unit 245: detection means
248 : 자동차단수단 250 : 가스공급라인248: vehicle cut off means 250: gas supply line
250a : 누출부 251 : 밸브250a: leak part 251: valve
253 : 가스공급밸브 257 : 피팅부재253: gas supply valve 257: fitting member
A : 피팅부 B : 단선부A: Fitting part B: Disconnection part
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2004
- 2004-06-25 KR KR1020040048548A patent/KR100607181B1/en not_active IP Right Cessation
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