KR20050121873A - 박막증착장치용 샤워헤드 - Google Patents

박막증착장치용 샤워헤드 Download PDF

Info

Publication number
KR20050121873A
KR20050121873A KR1020040046965A KR20040046965A KR20050121873A KR 20050121873 A KR20050121873 A KR 20050121873A KR 1020040046965 A KR1020040046965 A KR 1020040046965A KR 20040046965 A KR20040046965 A KR 20040046965A KR 20050121873 A KR20050121873 A KR 20050121873A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
flow path
feeding hole
center
main
shower head
Prior art date
Application number
KR1020040046965A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100589283B1 (ko
Inventor
이상진
박상권
이상규
서태욱
Original Assignee
주식회사 아이피에스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 아이피에스 filed Critical 주식회사 아이피에스
Priority to KR1020040046965A priority Critical patent/KR100589283B1/ko
Publication of KR20050121873A publication Critical patent/KR20050121873A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100589283B1 publication Critical patent/KR100589283B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563Gas nozzles
    • C23C16/45565Shower nozzles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 박막증착장치용 샤워헤드에 관한 것으로서, 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼블럭의 상부에 설치되어, 외부로부터 공급되어온 한종류 이상의 반응가스 및/또는 불활성가스를 상기 웨이퍼로 분사하는 샤워헤드에 있어서, 외부로부터 공급되어온 반응가스 및/또는 불활성가스가 피딩되는 곳으로서 상호 만나지 않도록 형성된 적어도 2 개 이상의 피딩홀과, 각각의 상기 피딩홀에 연결되는 것으로서 저면으로부터 다른 높이를 가지며 수평방향으로 관통되도록 형성된 적어도 2 개 이상의 유로와, 저면에 형성된 것으로서 각각의 유로들과 유기적으로 연결되되 상호 만나지 않도록 형성된 다수개의 분사홀을 포함하는 몸체; 및 몸체의 가장자리에 설치되어, 그 몸체를 관통하는 상기 유로들을 각각 밀봉하는 밀봉테두리;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

박막증착장치용 샤워헤드{Apparatus for depositing thin film on wafer}
본 발명은 박막증착장치의 반응용기에 채용되어 반응가스 및/또는 불활성가스를 웨이퍼로 분사하는 박막증착장치용 샤워헤드에 관한 것이다.
고집적도의 칩을 제조하기 위하여, 웨이퍼상에 고순도 및 우수한 전기적 특성을 가지는 박막이 증착되어야 하며, 더 나아가 반도체 제조업체의 기술개발 방향이 더욱 협소한 디자인 룰을 계속 지향하고 있기 때문에 박막의 순도나 전기적 특성은 물론 두께등이 균일할 것을 더욱 요구하고 있다.
도 1은 종래의 샤워헤드의 사시도이고, 도 2는 도 1의 저면에 형성된 분사홀의 분포 상태를 도시한 도면이며, 도 3은 도 1의 샤워헤드에 있어서, 피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1분사홀의 투과 사시도이고, 도 4는 도 3의 IV-IV' 선을 따른 단면도이다. 또, 도 5는 도 1의 샤워헤드에 있어서, 피딩홈과 연결되는 제2메인유로 및 제2분사홀의 투과 사시도이고, 도 6은 오 5의 VI-VI' 선을 따른 단면도이다.
도시된 바와 같이, 종래의 샤워헤드는, 도 1에 도시된 바와 같이, 그 상부 중앙에 반응가스 및/또는 불활성가스가 유입되는 피딩홀(11)이 형성되고, 피딩홀(12)을 중심으로 환형의 피딩홈(12)이 형성된 구조를 가진다.
샤워헤드(10)의 저면에는, 도 2에 도시된 바와 같이, 일정한 간격을 가지고 제1분사홀(11d ; 흰 포인트로 표시)과 제2분사홀(12d ; 검은 포인트로 표시)이 형성되어 있다. 이때, 샤워헤드(10)의 저면 정중앙, 피딩홀(11)에 직접 대응되는 부분에는 제1분사홀이 형성되어 있지 않는데, 이는 피딩홀로부터 공급되는 강한 압력의 가스가 곧바로 제1분사홀을 통하여 곧바로 분사될 때 웨이퍼에 형성되는 박막의 유니포머티(uniformity)가 나빠지며 더 나아가 강한 압력 또는 과잉의 반응물질에 의한 파티클이 발생하기 때문이다.
샤워헤드(10)의 저면으로부터 d1 높이인 지점의 내부에는, 도 3 및 4에 도시된 바와 같이, 수평 방향으로 피딩홀(11)과 연결되는 2개의 제1메인유로(11a)와, 제1메인유로(11a)에서 대칭되고 직각되게 다수의 제1서브유로(11b)가 분기되고, 제1서브유로(11b)는 다수의 제1분사홀(11d)과 연결되어 있다. 이때, 전술한 바와 같이, 샤워헤드(10)의 저면 정중앙에는 제1분사홀이 형성되어 있지 않다.
샤워헤드(10)의 저면으로부터 d2 높이인 지점의 내부에는, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 수평 방향으로 피딩홈(12)과 연결되는 2개의 제2메인유로(12a)와, 제2메인유로(12a)에서 대칭되고 직각되게 다수의 제2서브유로(12b)가 분기되고, 제2서브유로(12b)는 다수의 제2분사홀(12d)과 연결되어 있다.
여기서, 제1메인유로(11a)와 제1서브유로(11b)의 단부는 소정의 끼어맞춤부재(11a')(11b')를 끼어 맞춤으로써 밀봉하고, 제2메인유로(12a)와 제2서브유로(12b)의 단부는 소정의 끼어맞춤부재(12a')(12b')를 끼어 맞춤으로써 밀봉된다.
그런데, 상기한 구조의 샤워헤드에 있어서, 피딩홀과 피딩홈으로부터 유입된 가스를 수평방향으로 이동시키기 위한 제1메인유로와 제2메인유로는 각각 2 개씩 채용하고 있으므로, 가스압은 크게 2 방향으로 형성된다. 따라서, 제1,2분사홀에서 분사되는 가스의 분포도 크게 2 방향으로 치우치게 되므로, 이에 따라 웨이퍼에 증착되는 박막의 유니포머티에 좋지 않은 영향을 준다.
또, 피딩홀로부터 유입되는 고압의 가스가 웨이퍼로 직접 분사되지 않도록 샤워헤드의 저면 정중앙에는 제1분사홀을 형성하지 않는다. 이는, 웨이퍼의 중앙에서의 가스 분포와, 다른 부분에서의 가스 분포가 다르게 되는 요인이 되므로, 이 역시 형성되는 박막의 유니포머티에 좋지 않은 영향을 미치게 한다.
그리고, 제1,2메인유로 및 제1,2서브유로 형성후 각각에 끼어맞춤부재를 하나하나씩 끼어서 밀봉하여야 한다. 이러한 끼어맞춤부재를 끼어넣는 과정은 많은 시간과 노력이 소요되므로, 결국 샤워헤드의 원가 상승 요인으로 연결되었다.
본 발명은 상기와 같은 추세를 반영하여 안출된 것으로서, 웨이퍼상으로 분사되는 가스 분포를 일정하게 할 수 있는 개선된 구조의 박막증착장치용 샤워헤드를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 또 다른 목적은, 보다 용이하게 제작할 수 있는 박막증착장치용 샤워헤드를 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드는,
웨이퍼가 안착되는 웨이퍼블럭의 상부에 설치되어, 외부로부터 공급되어온 한종류 이상의 반응가스 및/또는 불활성가스를 상기 웨이퍼로 분사하는 샤워헤드에 있어서,
외부로부터 공급되어온 반응가스 및/또는 불활성가스가 피딩되는 곳으로서 상호 만나지 않는 적어도 2 개 이상의 피딩홀과, 각각의 상기 피딩홀에 연결되는 것으로서 저면으로부터 다른 높이를 가지며 수평방향으로 관통되도록 형성된 적어도 2 개 이상의 유로와, 상기 저면에 형성된 것으로서 각각의 상기 유로들과 유기적으로 연결되되 상호 만나지 않도록 형성된 다수개의 분사홀을 포함하는 몸체와, 상기 몸체의 가장자리에 설치되어, 그 몸체를 관통하는 상기 유로들을 각각 밀봉하는 밀봉테두리를 포함한다.
본 발명에 있어서, 상기한 샤워헤드의 제1실시예는,
상기 피딩홀은, 상기 몸체 내부에서 상호 만나지 않도록 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀과 제2피딩홀로 구성되고; 상기 유로는, 상기 제1피딩홀 및 제2피딩홀과 각각 연결되는 것으로서 상기 몸체 내부에 다른 높이를 가지도록 형성되는 제1유로 및 제2유로로 구성되며; 상기 분사홀은, 상기 몸체의 저면에 형성되는 것으로서 상기 제1유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제1분사홀과 상기 제2유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제2분사홀로 구성되고; 상기 밀봉테두리는, 상기 몸체의 가장자리에 설치되는 것으로서 상기 제1유로를 밀봉하는 제1밀봉테두리와, 상기 제2유로를 밀봉하는 제2밀봉테두리로 구성된다.
본 발명에 있어서, 상기 샤워헤드의 제2실시예는,
상기 피딩홀은, 상기 몸체 내부에서 상호 만나지 않도록 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀, 제2피딩홀 및 제3피딩홀로 구성되고; 상기 유로는, 상기 제1피딩홀, 제2피딩홀 및 제3피딩홀과 각각 연결되는 것으로서 상기 몸체 내부에 다른 높이를 가지도록 형성되는 제1유로, 제2유로 및 제3유로 구성되며; 상기 분사홀은, 상기 몸체의 저면에 형성되는 것으로서 상기 제1유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제1분사홀과, 상기 제2유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제2분사홀과, 상기 제3유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제3분사홀로 구성되고; 상기 밀봉테두리는, 상기 몸채의 가장자리에 설치되는 것으로서 상기 제1유로를 밀봉하는 제1밀봉테두리와, 상기 제2유로를 밀봉하는 제2밀봉테두리와, 상기 제3유로를 밀봉하는 제3밀봉테두리로 구성된다.
본 발명에 있어서, 상기 샤워헤드의 제3실시예는,
상기 피딩홀은, 상기 몸체 내부에서 상호 만나지 않도록 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀, 제2피딩홀, 제3피딩홀 및 제4피딩홀로 구성되고; 상기 유로는, 상기 제1피딩홀, 제2피딩홀, 제3피딩홀 및 제4피딩홀과 각각 연결되는 것으로서 상기 몸체의 내부에 다른 높이를 가지도록 형성되는 제1유로, 제2유로, 제3유로 및 제4유로 구성되며; 상기 분사홀은, 상기 몸체의 저면에 형성되는 것으로서 상기 제1유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제1분사홀과, 상기 제2유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제2분사홀과, 상기 제3유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제3분사홀과, 상기 제4유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제4분사홀로 구성되고; 상기 밀봉테두리는, 상기 몸체의 가장자리에 설치되는 것으로서 상기 제1유로를 밀봉하는 제1밀봉테두리와, 상기 제2유로를 밀봉하는 제2밀봉테두리와, 상기 제3유로를 밀봉하는 제3밀봉테두리와, 상기 제4유로를 밀봉하는 제4밀봉테두리로 구성된다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 7은 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제1실시예의 분해사시도이고, 도 8은 도 7의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면이며, 도 9는 도 7의 제2피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면이고, 도 10은 도 7의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면이며, 도 11은 도 7의 제2피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면이다. 또, 도 12는 도 7의 샤워헤드 저면에 형성된 분사홀의 분포 상태를 도시한 도면이고, 도 13은 도 7의 샤워헤드에 있어서, 제1,2피딩홀이 비스듬하게 형성된 상태를 도시한 도면이며, 도 14는 도 7의 샤워헤드의 조립사시도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제1실시예는, 반응용기 내부 상부에 설치되어, 웨이퍼블럭에 안착된 웨이퍼(w)상으로 외부로부터 공급되어온 한 종류 이상의 반응가스 및/또는 불활성가스를 분사한다. 이러한 샤워헤드는, 피딩홀 및 유로가 형성된 몸체와, 몸체의 외주에 결합되는 밀봉테두리를 포함한다.
몸체(100)는, 외부로부터 공급되어 온 반응가스 및/또는 불활성가스가 피딩되는 곳으로서 상호 만나지 않는 2 개의 피딩홀과, 각각의 피딩홀에 연결되는 것으로서 그 내부에 다른 높이를 가지며 수평방향으로 관통하도록 형성된 2 개의 유로와, 웨이퍼를 향하도록 저면에 형성된 것으로서 각각의 유로들과 유기적으로 연결되되 상호 만나지 않도록 형성된 분사홀을 포함한다.
피딩홀은, 몸체(100)의 상부에서 상호 만나지 않으며 비스듬하게 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀과 제2피딩홀(120)로 구성된다. 제1피딩홀(110)은 외부의 제1반응가스공급라인(미도시)과 연결되고, 제2피딩홀(120) 역시 외부의 제2반응가스공급라인(미도시)과 연결된다. 여기서, 제1피딩홀(110)은 도면에서 보았을 때 좌측으로 비스듬하게 치우쳐 있고, 제2피딩홀(120)은 우측으로 비스듬하게 치우쳐있다. 그러나, 제1피딩홀과 제2피딩홀 모두가 한 방향으로 비스듬하게 치우져 있을수도 있고, 제1피딩홀과 제2피딩홀중 어느 하나만 비스듬하게 형성될 수 있음은 물론이다.
유로는, 제1피딩홀(110)과 연결되는 제1유로(111)와, 제2피딩홀(120)과 연결되는 제2유로(121)로 구성되는데, 제1유로(111)와 제2유로(121)는 샤워헤드(100) 내부에서 다른 높이를 가지며 수평방향으로 형성되어 있다.
제1유로(111)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 제1피딩홀(110)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로(112)와, 4 개의 제1메인유로(112) 각각에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제1분사홀(114)들과 연결되는 다수개의 제1서브유로(113)로 구성된다.
제2유로(121)는, 도 9에 도시된 바와 같이, 제2피딩홀(120)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로(122)와, 4 개의 제2메인유로(122) 각각에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제2분사홀(124)들과 연결되는 다수개의 제2서브유로(123)로 구성된다.
그러나, 제1유로(111')가 도 10에 도시된 바와 같이, 제1피딩홀(110)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로(112')와, 4 개의 제1메인유로(112') 각각에서 일방으로 90°각도로 분기되며 제1분사홀(114)들과 연결되는 다수개의 제1서브유로(113')로 구성될 수 있다.
또, 제2유로(121')가 도 11에 도시된 바와 같이, 제2피딩홀(120)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로(122')와, 4 개의 제2메인유로(122') 각각에서 일방으로 90°각도로 분기되며 제2분사홀(124')들과 연결되는 다수개의 제2서브유로(123')로 구성될 수도 있다.
분사홀은, 제1유로와 제2유로 각각에 유기적으로 연결된, 엄밀하게는 제1서브유로(113)(113')에 형성된 다수개의 제1분사홀(114)과, 제2서브유로(123)(123')에 형성된 다수개의 제2분사홀(124)로 구성된다.
제1분사홀(114)과 제2분사홀(124)들은 몸체(100)의 저면에 형성되는데, 도 12에 도시된 바와 같이, 몸체(100) 정 중앙에도 제1분사홀 또는 제2분사홀중의 어느 하나가 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 정 중앙에 제1분사홀(114')이 형성되어 있다. 이는, 종래의 샤워헤드에 있어, 샤워헤드 정 중앙에 분사홀이 형성되지 않았던 것과 대별된다.
여기서, 상기한 제1피딩홀(110)과 제2피딩홀(120)은 도 13에 도시된 바와 같이, 비스듬하게 형성된다. 이는 크게 2 가지 이유때문인데, 첫 번째는 제1피딩홀(110)과 제2피딩홀(120)의 주위에 밀봉 오링이 설치되는 오링홈(115)(125)을 형성하기 위한 최소 공간을 확보하기 위함이며, 두 번째는 제1메인유로와 제2메인유로와 각각 지점이 가능한 한 샤워헤드의 중앙측으로 치우치게 함으로써, 가스압이 한쪽으로 치우치지 않게 하기 위한 것이다.
밀봉테두리는, 몸체(100)의 가장자리에 설치되는 것으로서 제1유로(111), 엄밀하게는 몸체(100)를 측부에서 관통하는 제1메인유로(112) 및 제1서브유로(113)를 밀봉하는 제1밀봉테두리(150)와, 몸체(100)의 가장자리에 설치되는 것으로서 제2유로(121), 엄밀하게는 샤워헤드(100)를 측부에서 관통하는 제2메인유로(122) 및 제2서브유로(123)를 밀봉하는 제2밀봉테두리(160)로 구성된다.
상기한 제1밀봉테두리(150)는 제1단차부(110a)에 결합됨으로써 제1단차부(110a)를 관통하는 제1메인유로(112) 및 제1서브유로(113)를 밀봉하고, 제2밀봉테두리(160)는 제2단차부(110b)에 결합됨으로써 제2단차부(110b)를 관통하는 제2메인유로(122) 및 제2서브유로(123)를 밀봉하게 된다.
이때, 몸체(100)의 측부에는 제1메인유로(112) 및 서브유로(113)가 관통되는 제1단차부(110a)와, 제2메인유로(122) 및 제2서브유로(123)가 관통되는 제2단차부(110b)가 형성되고, 제1단차부(110a)의 직경이 제2단차부(110b)보다 약간 크게 형성한다. 그리고, 제2밀봉테두리(160)의 두께를 제1밀봉테두리(150)의 두께보다 약간 크게 한다. 이 경우에, 제1,2밀봉테두리(150)(160)를 제1,2단차(100a)(100b)에 각각 결합시켰을 때, 도 14에 도시된 바와 같이, 샤워헤드의 측부는 편편하게 된다.
이상과 같은 상태에서 각각의 밀봉테두리를 E-Beam welding 함으로써 각각의 유로에서 각각의 밀봉테두리로의 기밀은 물론, 제1,2밀봉테두리로의 기밀도 완전하게 유지시킬 수 있게 된다.
여기서, 밀봉을 위하여 환형의 밀봉테두리를 사용함으로써, 제1메인유로(112) 및 제1서브유로(113), 또 제2메인유로(122) 및 제2서브유로(123)를 한번의 작업으로 동시에 밀봉시킬 수 있다. 이는, 종래에 메인유로 및 서브유로 각각을 끼어맞춤부재를 이용하여 밀봉하고 각각의 끼어맞춤부재를 welding 하였던 것과 대비된다. 즉, 종래 끼어맞춤부재를 각각 welding 할 경우에 많은 시간과 노력이 필요할 뿐만 아니라, 많은 welding 공정이 필요함으로써 기계적 결함 빈도가 높아지게 되고, 결국 완전 기밀이 잘 되지 않거나, 혹은 내부 틈의 형성으로 인하여 반응물질에 의한 오염 및 파티클의 발생을 유발 할 수 있는 것과 대별되는 것이다.
상기한 샤워헤드에 있어서, 드릴링을 통하여, 몸체(100)의 상부로부터 비스듬하게 제1피딩홀(110)과 제2피딩홀(120)을 만나지 않게 형성하고, 이후 몸체(100)의 측부에서 제1피딩홀(110)과 연결되는 제1메인유로(112) 및 제1서브유로(113)와, 제2피딩홀(120)과 연결되는 제2메인유로(122) 및 제2서브유로(123)를 형성하는데, 이러란 모든 과정을 드릴링을 통하여 구현할 수 있으므로, 결과적으로 원바디(one-body)의 샤워헤드를 용이하게 제작할 수 있는 것이다. 또한, 상기한 제1,2피딩홀(110)(120), 제1,2메인유로(112)(122), 제1,2서브유로(113)(123)는 모두 드릴링을 통하여 형성되므로, 그들 단면은 원형으로 된다.
다음, 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제2실시예를 설명한다.
도 15는 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제2실시예의 분해사시도이고, 도 16은 도 15의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면이며, 도 17은 도 15의 제2피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면이고, 도 18은 도 15의 제3피딩홀과 연결되는 제3메인유로 및 제3서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면이다. 또, 도 19는 도 15의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면이고, 도 20은 도 15의 제1피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면이며, 도 21은 도 15의 제3피딩홀과 연결되는 제3메인유로 및 제3서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면이고, 도 22는 도 15의 샤워헤드의 조립사시도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 샤워헤드의 제2실시예는, 반응용기 내부 상부에 설치되어, 웨이퍼블럭에 안착된 웨이퍼(w)상으로 외부로부터 공급되어온 한 종류 이상의 반응가스 및/또는 불활성가스를 분사한다. 이러한 샤워헤드는, 피딩홀 및 유로가 형성된 몸체와, 몸체의 외주에 결합되는 밀봉테두리를 포함한다.
몸체(200)는, 외부로부터 공급되어 온 반응가스 및/또는 불활성가스가 피딩되는 곳으로서 상호 만나지 않는 3 개의 피딩홀과, 각각의 피딩홀에 연결되는 것으로서 그 내부에 다른 높이를 가지며 수평방향으로 관통하도록 형성된 3 개의 유로와, 웨이퍼를 향하도록 저면에 형성된 것으로서 각각의 유로들과 유기적으로 연결되되 상호 만나지 않도록 형성된 분사홀을 포함한다.
피딩홀은, 몸체(200)에 상호 만나지 않으며 비스듬하게 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀(210)과, 제1피딩홀(210)과, 제3피딩홀(230)로 구성된다. 제1피딩홀(210)은 외부의 제1반응가스공급라인(미도시)과 연결되고, 제2피딩홀(220)은 외부의 제2반응가스공급라인(미도시)과 연결되며, 제3피딩홀(230)은 외부의 제3반응가스공급라인(미도시)과 연결된다. 본 실시예에서, 제1피딩홀(210)은 도면에서 보았을 때 좌측으로 치우쳐 있고, 제2피딩홀(220)은 우측으로 치우쳐져 있으며, 제3피딩홀(230)은 제1,2피딩홀(210)(220) 사이의 상부측에 치우쳐져 있다. 그러나, 제1,2,3피딩홀은 제1실시예에서와 같이 일방향으로 치우칠 수도 있고, 제1,2,3피딩홀중 어느 하나 또는 2 개만 비스듬하게 형성될 수 있음은 물론이다.
유로는, 제1피딩홀(210)과 연결되는 제1유로(211)와, 제2피딩홀(220)과 연결되는 제2유로(221)와, 제3피딩홀(230)과 연결되는 제2유로(231)로 구성되는데, 제1유로(211), 제2유로(221) 및 제3유로(231)는 샤워헤드(100) 내부에서 다른 높이를 가지며 수평방향으로 형성되어 있다.
제1유로(211)는, 도 16에 도시된 바와 같이, 제1피딩홀(210)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로(212)와, 4 개의 제1메인유로(212) 각각에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제1분사홀(214)들과 연결되는 다수개의 제1서브유로(213)로 구성된다.
제2유로(221)는, 도 17에 도시된 바와 같이, 제2피딩홀(220)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로(222)와, 4 개의 제2메인유로(222) 각각에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제2분사홀(224)들과 연결되는 다수개의 제2서브유로(223)로 구성된다.
제3유로(231)는, 도 18에 도시된 바와 같이, 제3피딩홀(230)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로(232)와, 4 개의 제3메인유로(232) 각각에서 45°각도로 대칭되게 분기며 제3분사홀(234)들과 연결되는 다수개의 제3서브유로(233)로 구성된다.
그러나, 제1유로(211')가 도 19에 도시된 바와 같이, 제1피딩홀(210)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로(212')와, 4 개의 제1메인유로(212') 각각에서 일방으로 90°각도로 분기되며 제1분사홀(214)들과 연결되는 다수개의 제1서브유로(213')로 구성될 수 있다
또, 제2유로(221')가 도 20에 도시된 바와 같이, 제2피딩홀(220)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로(222')와, 4 개의 제2메인유로(222') 각각에서 일방으로 90°방향으로 분기되며 제2분사홀(224)들과 연결되는 제2서브유로(223')로 구성될 수도 있다.
또한, 제3유로(231')은, 도 21에 도시된 바와 같이, 제3피딩홀(230)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로(232')와, 4 개의 제3메인유로(232') 각각에서 일방으로 90°각도로 분기되며 제3분사홀(234)들과 연결되는 다수개의 제3서브유로(233')로 구성된다.
분사홀은, 제1유로, 제2유로 및 제3유로 각각에 유기적으로 연결된, 엄밀하게는 제1서브유로(213)(213')에 형성된 다수개의 제1분사홀(214)과, 제2서브유로(223)(223')에 형성된 다수개의 제2분사홀(224)과, 제3서브유로(233)(233')에 형성된 제3분사홀(234)로 구성된다.
제1분사홀(214), 제2분사홀(224) 및 제3분사홀(234)들은 샤워헤드(210)의 하부면에 형성되는데, 샤워헤드(210) 정 중앙에는 제1실시예에서와 같이, 제1분사홀, 제2분사홀 및 제3분사홀 중 어느 하나가 형성된다. 이는, 종래의 샤워헤드에 있어, 샤워헤드 정 중앙에 분사홀이 형성되지 않았던 것과 대별된다.
여기서, 상기한 제1피딩홀(210), 제2피딩홀(220) 및 제3피딩홀(230)은 제1실시예에서와 마찬가지로 몸체(20) 내부에서 비스듬하게 형성된다. 이는 크게 2 가지 이유때문인데, 첫 번째는 제1피딩홀(210)과 제2피딩홀(220)과 제3피딩홀(230)의 주위에 밀봉 오링이 설치되는 오링홈(215)(225)(235)을 형성하기 위한 최소 공간을 확보하기 위함이며, 두 번째는 제1메인유로와 제2메인유로와 제3메인유로와 만나는 각각의 지점이 가능한 한 샤워헤드의 중앙측으로 치우치게 함으로써, 가스압이 한쪽으로 치우치지 않게 하기 위한 것이다.
밀봉테두리는, 몸체(200)의 가장자리에 설치되는 것으로서 제1유로(211), 엄밀하게는 몸체(200)를 측부에서 관통하는 제1메인유로(212) 및 제1서브유로(213)를 밀봉하는 제1밀봉테두리(250)와, 샤워헤드(200)의 가장자리에 설치되는 것으로서 제2유로(221), 엄밀하게는 몸체(200)를 측부에서 관통하는 제2메인유로(222) 및 제2서브유로(223)를 밀봉하는 제2밀봉테두리(260)와, 샤워헤드(200)의 가장자리에 설치되는 것으로서 제3유로(231), 엄밀하게는 몸체(200)를 측부에서 관통하는 제3메인유로(232) 및 제3서브유로(233)를 밀봉하는 제3밀봉테두리(270)로 구성된다.
상기한 제1밀봉테두리(250)는 제1단차부(210a)에 결합됨으로써 제1단차부(210a)를 관통하는 제1메인유로(212) 및 제1서브유로(213)를 밀봉하고, 제2밀봉테두리(260)는 제2단차부(210b)에 결합됨으로써 제2단차부(210b)를 관통하는 제2메인유로(222) 및 제2서브유로(223)를 밀봉하며, 제3밀봉테두리(270)는 제3단차부(210c)에 결합됨으로써 제3단차부(210c)를 관통하는 제3메인유로(232) 및 제3서브유로(233)를 밀봉하게 된다.
이때, 몸체(200)의 측부는 제1메인유로(212) 및 서브유로(213)가 관통되는 제1단차부(210a)와, 제2메인유로(222) 및 제2서브유로(223)가 관통되는 제2단차부(210b)와, 제3메인유로(232) 및 제3서브유로(233)가 관통되는 제2단차부(210c)가 형성되고, 제1단차부(210a)의 직경이 제2단차부(210b)보다 약간 크고, 제2단차부(210b)의 직경이 제3단차부(210c)의 직경보다 약간 큰 것이 바람직하다. 그리고, 제3밀봉테두리(270)의 두께를 제2밀봉테두리(260)의 두께보다 약간 크게 하고, 제2밀봉테두리(260)의 두께를 제1밀봉테두리(250)의 두께보다 약간 크게 한다. 이 경우에, 제1,2,3밀봉테두리(250)(260)(270)를 제1,2,3단차부(210a)(210b)(210c)에 각각 결합시켰을 때, 도 22에 도시된 바와 같이, 샤워헤드의 측부는 편편하게 된다.
여기서, 밀봉을 위하여 환형의 밀봉테두리를 사용함으로써, 제1메인유로(212) 및 제2서브유로(213), 제2메인유로(222) 및 제2서브유로(223), 제3메인유로(232) 및 제3서브유로(233)를 한번의 작업으로 동시에 밀봉시킬 수 있다. 이는, 종래에 메인유로 및 서브유로 각각을 끼어맞춤부재를 이용하여 밀봉하였던 것과 대비된다.
상기한 샤워헤드에 있어서, 드릴링을 통하여, 몸체(200)의 상부로부터 비스듬하게 제1피딩홀(210), 제2피딩홀(220) 및 제3피딩홀(230)을 만나지 않게 형성하고, 이후 몸체(200)의 측부에서 제1피딩홀(210)과 연결되는 제1메인유로(212) 및 제1서브유로(213)와, 제2피딩홀(220)과 연결되는 제2메인유로(222) 및 제2서브유로(223)와, 제3피딩홀(230)과 연결되는 제3메인유로(232) 및 제3서브유로(233)를 형성하는데, 이러한 모든 과정을 드릴링을 통하여 구현할 수 있으므로, 결과적으로 원바디의 샤워헤드를 용이하게 제작할 수 있는 것이다. 또한, 상기한 제1,2,3피딩홀(210)(220)(230), 제1,2,3메인유로(212)(222)(232), 제1,2,3서브유로(213)(223)(233)는 모두 드릴링을 통하여 형성되므로, 그들 단면은 원형으로 된다.
다음, 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제3실시예를 설명한다.
도 23은 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제3실시예의 분해사시도이고, 도 24는 도 23의 샤워헤드의 조립사시도이다.
본 발명에 따른 샤워헤드의 제3실시예는 제1실시예 및 제2실시예와 유사하며, 다른 점은 본원의 샤워헤드(300)가, 외부로부터 공급되어 온 반응가스 및/또는 불활성가스가 피딩되는 곳으로서 상호 만나지 않는 4 개의 피딩홀과, 각각의 피딩홀에 연결되는 것으로서 그 내부에 다른 높이를 가지며 수평방향으로 관통하도록 형성된 4 개의 유로와, 웨이퍼를 향하도록 저면에 형성된 것으로서 각각의 유로들과 유기적으로 연결되되 상호 만나지 않도록 형성된 분사홀을 포함한다라는 점이다.
즉, 피딩홀은, 몸체(300)의 상부에 상호 만나지 않는 제1피딩홀(310)과, 제2피딩홀(320)과, 제3피딩홀(330) 및 제4피딩홀(340)로 구성된다. 제1피딩홀(310)은 외부의 제1반응가스공급라인(미도시)과 연결되고, 제2피딩홀(320)은 외부의 제2반응가스공급라인(미도시)과 연결되며, 제3피딩홀(330)은 외부의 제3반응가스공급라인(미도시)과 연결되며, 제4피딩홀(340)은 회부의 제4반응가스공급라인(미도시)과 연결된다. 이러한 제1,2,3,4피딩홀(310)(320)(330)(340)은 제1,2실시예에서와 같이 일방향으로 치우칠 수도 있고, 제1,2,3,3피딩홀중 어느 하나 또는 2 개 또는 3개만이 비스듬하게 형성될 수 있음은 물론이다.
유로는, 제1피딩홀(310)과 연결되는 제1유로(미도시)와, 제2피딩홀(320)과 연결되는 제2유로(미도시)와, 제3피딩홀(330)과 연결되는 제3유로(미도시)와, 제4피딩홀(340)과 연결되는 제4유로(미도시)로 구성되며, 제1유로, 제2유로, 제3유로 및 제4유로는 샤워헤드(300) 내부에서 다른 높이를 가지며 수평방향으로 형성되어 있다. 상기한 각각의 유로는 제1실시예 및 제2실시예에서 설명된 것과 거의 유사한 메인유로 및 그 메인유로와 연결된 서브유로로 구성된다.
즉, 제1유로는, 제1피딩홀(310)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 제1메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고; 제2유로는, 제2피딩홀(320)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 제2메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되며; 제3유로는, 제3피딩홀(330)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로와, 제3메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제3분사홀들과 연결되는 다수개의 제3브유로로 구성되고; 제4유로는, 제4피딩홀(340)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제4메인유로와, 제4메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 제4분사홀들과 연결되는 다수개의 제4브유로로 구성된다.
또는, 제1유로는, 제1피딩홀(310)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 제1메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고; 제2유로는, 제2피딩홀(320)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 제2메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되며; 제3유로는, 제3피딩홀(330)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로와, 제3메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 제3분사홀들과 연결되는 다수개의 제3서브유로로 구성되고; 제4유로는, 제4피딩홀(340)로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제4메인유로와, 제4메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 제4분사홀들과 연결되는 다수개의 제4서브유로로 구성된다.
분사홀은, 제1유로, 제2유로, 제3유로 및 제4유로 각각에 유기적으로 연결된 제1,2,3,4분사홀로 구성되고, 이들 제1,2,3,4분사홀은 샤워헤드 저면에 상호 만나지 않도록 형성되어 있으며, 이러한 분사홀 역시. 드릴링 작업을 통하여 형성된다.
여기서, 상기한 제1,2,3,4피딩홀(310)(320)(330)(340) 역시 제1실시예 및 제2실시예에서와 같이 몸체(300) 내부에 비스듬하게 형성되는데, 이는 설명된 바와 같이 밀봉 오링이 설치되는 오링홈(315)(325)(335)(345)을 형성하기 위한 최소 공간을 확보하고, 제1,2,3,4메인유로와 연결되는 지점이 가능한 한 샤워헤드의 중앙측으로 치우치게 하기 위함이다.
밀봉테두리는, 샤워헤드(300)의 가장자리에 설치되는 것으로서 그 샤워헤드(300)를 관통하는 제1유로, 제2유로, 제3유로 및 제4유로를 각각 밀봉하는 제1,2,3,4밀봉테두리(350)(360)(370)(380)로 구성되며, 이러한 밀봉테두리 역시 제1,2,3실시예에서 설명된 것과 거의 유사하므로 더 이상의 상세한 설명은 생략한다.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드에 따르면, 각각의 피딩홀과 연결되는 메인유로를 4 개씩 채용함으로써, 가스압이 4 방향으로 형성되게 하고, 이에 따라 분사홀에서 분사되는 가스의 분포도 크게 4 방향으로 형성됨으로써, 웨이퍼에 증착되는 박막의 유니포머티가 좋아진다.
또, 4 방향의 메인유로의 중앙이 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐져 형성되거나, 피딩홀이 비스듬하게 형성됨으로써, 샤워헤드 저면 정 중앙에 분사홀을 형성할 수 있다. 따라서, 웨이퍼의 중앙에서의 가스 분포와, 다른 부분에서의 가스 분포의 차이를 최소화시킴으로써 박막의 유니포머티를 더더욱 좋게 한다.
또한, 밀봉테두리를 사용하여 메인유로 및 서브유로를 한번에 밀봉할 수 있으므로, 샤워헤드 제작에 있어 많은 시간과 노력을 줄일 수 있으므로, 결국 샤워헤드의 원가를 낮출 수 있다.
그리고, 상기한 유로의 형성을 드릴링 작업을 통하여 구현할 수 있으므로, 샤워헤드의 제작 공정을 단순화할 수 있다는 효과가 있다.
도 1은 종래의 샤워헤드의 사시도,
도 2는 도 1의 샤워헤드 저면 중앙부에 형성된 분사홀의 분포 상태를 도시한 도면,
도 3은 도 1의 샤워헤드에 있어서, 피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1분사홀의 투과 사시도,
도 4는 도 3의 IV-IV' 선을 따른 단면도,
도 5는 도 1의 샤워헤드에 있어서, 피딩홈과 연결되는 제2메인유로 및 제2분사홀의 투과 사시도,
도 6은 오 5의 VI-VI' 선을 따른 단면도,
도 7은 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제1실시예의 분해사시도,
도 8은 도 7의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 9는 도 7의 제2피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 10은 도 7의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 11은 도 7의 제2피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 12는 도 7의 샤워헤드 저면 중앙부에 형성된 분사홀의 분포 상태를 도시한 도면,
도 13은 도 7의 샤워헤드에 있어서, 제1,2피딩홀이 비스듬하게 형성된 상태를 도시한 도면,
도 14는 도 7의 샤워헤드의 조립사시도,
도 15는 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제2실시예의 분해사시도,
도 16은 도 15의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 17은 도 15의 제2피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 18은 도 15의 제3피딩홀과 연결되는 제3메인유로 및 제3서브유로의 일실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 19는 도 15의 제1피딩홀과 연결되는 제1메인유로 및 제1서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 20은 도 15의 제1피딩홀과 연결되는 제2메인유로 및 제2서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 21은 도 15의 제3피딩홀과 연결되는 제3메인유로 및 제3서브유로의 다른 실시예를 발췌하여 도시한 도면,
도 22는 도 15의 샤워헤드의 조립사시도,
도 23은 본 발명에 따른 박막증착장치용 샤워헤드의 제3실시예의 분해사시도,
도 24는 도 23의 샤워헤드의 조립사시도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 ... 샤워헤드 110 ... 제1피딩홀
111, 111' ... 제1유로 112, 112' ... 제1메인유로
113 ... 제1서브유로 114 ... 제1분사홀
115, 125 ... 오링홈 120, 120' ... 제2피딩홀
121, 121' ... 제2유로 122, 122' ... 제2메인유로
123, 123' ... 제2서브유로 124 ... 제2분사홀
150 ... 제1밀봉테두리 160 ... 제2밀봉테두리
200 ... 샤워헤드
210 ... 제1피딩홀 211, 211' ... 제1유로
212, 212' ... 제1메인유로 213, 213' ... 제1서브유로
214 ... 제1분사홀 215, 225, 235 ... 오링홈
220, 220' ... 제2피딩홀 221, 221' ... 제2유로
222, 222' ... 제2메인유로 223, 223' ... 제2서브유로
224 ... 제2분사홀 230, 230' ... 제3피딩홀
231, 231' ... 제3유로 232, 232' ... 제3메인유로
233, 233' ... 제3서브유로 234 ... 제3분사홀
300 ... 샤워헤드
310, 320, 330, 340 ... 제1,2,3,4피딩홀
115, 325, 335, 345 ... 오링홈
350, 360, 270, 380 ... 제1,2,3,4밀봉테두리

Claims (16)

  1. 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼블럭의 상부에 설치되어, 외부로부터 공급되어온 한종류 이상의 반응가스 및/또는 불활성가스를 상기 웨이퍼로 분사하는 샤워헤드에 있어서,
    외부로부터 공급되어온 반응가스 및/또는 불활성가스가 피딩되는 곳으로서 상호 만나지 않는 적어도 2 개 이상의 피딩홀과, 각각의 상기 피딩홀에 연결되는 것으로서 저면으로부터 다른 높이를 가지며 수평방향으로 관통되도록 형성된 적어도 2 개 이상의 유로와, 상기 저면에 형성된 것으로서 각각의 상기 유로들과 유기적으로 연결되되 상호 만나지 않도록 형성된 다수개의 분사홀을 포함하는 몸체; 및
    상기 몸체의 가장자리에 설치되어, 그 몸체를 관통하는 상기 유로들을 각각 밀봉하는 밀봉테두리;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 피딩홀은, 상기 몸체 내부에서 상호 만나지 않도록 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀과 제2피딩홀로 구성되며,
    상기 유로는, 상기 제1피딩홀 및 제2피딩홀과 각각 연결되는 것으로서 상기 몸체 내부에 다른 높이를 가지도록 형성되는 제1유로 및 제2유로로 구성되며;
    상기 분사홀은, 상기 몸체의 저면에 형성되는 것으로서 상기 제1유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제1분사홀과 상기 제2유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제2분사홀로 구성되고;
    상기 밀봉테두리는, 상기 몸체의 가장자리에 설치되는 것으로서 상기 제1유로를 밀봉하는 제1밀봉테두리와, 상기 제2유로를 밀봉하는 제2밀봉테두리로 구성되는 것;을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1유로는, 상기 제1피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 상기 제1메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고,
    상기 제2유로는, 상기 제2피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 상기 제2메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1유로는, 상기 제1피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 상기 제1메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고,
    상기 제2유로는, 상기 제2피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 상기 제2메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 제1분사홀 또는 상기 제2분사홀중의 어느 하나가 상기 몸체의 저면 중앙에 형성되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  6. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 제1.2메인유로 및 제1,2서브유로는 그 단면이 원형인 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 피딩홀은, 상기 몸체 내부에서 상호 만나지 않도록 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀, 제2피딩홀 및 제3피딩홀로 구성되고;
    상기 유로는, 상기 제1피딩홀, 제2피딩홀 및 제3피딩홀과 각각 연결되는 것으로서 상기 몸체 내부에 다른 높이를 가지도록 형성되는 제1유로, 제2유로 및 제3유로로 구성되며;
    상기 분사홀은, 상기 몸체의 저면에 형성되는 것으로서 상기 제1유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제1분사홀과, 상기 제2유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제2분사홀과, 상기 제3유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제3분사홀로 구성되고;
    상기 밀봉테두리는, 상기 몸채의 가장자리에 설치되는 것으로서 상기 제1유로를 밀봉하는 제1밀봉테두리와, 상기 제2유로를 밀봉하는 제2밀봉테두리와, 상기 제3유로를 밀봉하는 제3밀봉테두리로 구성되는 것;을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1유로는, 상기 제1피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 상기 제1메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고,
    상기 제2유로는, 상기 제2피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 상기 제2메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되며,
    상기 제3유로는, 상기 제3피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로와, 상기 제3메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제3분사홀들과 연결되는 다수개의 제3브유로로 구성되는 것을 는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제1유로는, 상기 제1피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 상기 제1메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고,
    상기 제2유로는, 상기 제2피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 상기 제2메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되며,
    상기 제3유로는, 상기 제3피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로와, 상기 제3메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제3분사홀들과 연결되는 다수개의 제3서브유로로 구성되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 제1분사홀, 제2분사홀중 또는 제3분사홀중 어느 하나가 상기 몸체의 저면 중앙에 형성되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  11. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 제1.2,3메인유로 및 제1,2,3서브유로는 그 단면이 원형인 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 피딩홀은, 상기 몸체 내부에서 상호 만나지 않도록 형성되되 그중 적어도 어느 하나가 수직 방향에 대하여 비스듬하게 형성되는 제1피딩홀, 제2피딩홀, 제3피딩홀 및 제4피딩홀로 구성되고;
    상기 유로는, 상기 제1피딩홀, 제2피딩홀, 제3피딩홀 및 제4피딩홀과 각각 연결되는 것으로서 상기 몸체의 내부에 다른 높이를 가지도록 형성되는 제1유로, 제2유로, 제3유로 및 제4유로 구성되며;
    상기 분사홀은, 상기 몸체의 저면에 형성되는 것으로서 상기 제1유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제1분사홀과, 상기 제2유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제2분사홀과, 상기 제3유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제3분사홀과, 상기 제4유로와 유기적으로 연결된 다수개의 제4분사홀로 구성되고;
    상기 밀봉테두리는, 상기 몸체의 가장자리에 설치되는 것으로서 상기 제1유로를 밀봉하는 제1밀봉테두리와, 상기 제2유로를 밀봉하는 제2밀봉테두리와, 상기 제3유로를 밀봉하는 제3밀봉테두리와, 상기 제4유로를 밀봉하는 제4밀봉테두리로 구성되는 것;을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1유로는, 상기 제1피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 상기 제1메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고,
    상기 제2유로는, 상기 제2피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 상기 제2메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되며,
    상기 제3유로는, 상기 제3피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로와, 상기 제3메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제3분사홀들과 연결되는 다수개의 제3브유로로 구성되고,
    상기 제4유로는, 상기 제4피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제4메인유로와, 상기 제4메인유로에서 45°각도로 대칭되게 분기되며 상기 제4분사홀들과 연결되는 다수개의 제4브유로로 구성되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 제1유로는, 상기 제1피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제1메인유로와, 상기 제1메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제1분사홀들과 연결되는 다수개의 제1서브유로로 구성되고,
    상기 제2유로는, 상기 제2피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제2메인유로와, 상기 제2메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제2분사홀들과 연결되는 다수개의 제2서브유로로 구성되며,
    상기 제3유로는, 상기 제3피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제3메인유로와, 상기 제3메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제3분사홀들과 연결되는 다수개의 제3서브유로로 구성되고,
    상기 제4유로는, 상기 제4피딩홀로부터 대칭되게 형성되되 그 중앙이 상기 샤워헤드의 중앙으로부터 일정 간격 치우쳐진 4 개의 제4메인유로와, 상기 제4메인유로에서 90°각도로 일방으로 분기되며 상기 제4분사홀들과 연결되는 다수개의 제4서브유로로 구성되는 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 제1분사홀, 제2분사홀중, 제3분사홀 또는 제4분사홀중 어느 하나가 상기 몸체의 저면 중앙에 형성되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
  16. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 제1.2,3,4메인유로 및 제1,2,3,4서브유로는 그 단면이 원형인 것을 특징으로 하는 박막증착장치용 샤워헤드.
KR1020040046965A 2004-06-23 2004-06-23 박막증착장치용 샤워헤드 KR100589283B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040046965A KR100589283B1 (ko) 2004-06-23 2004-06-23 박막증착장치용 샤워헤드

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040046965A KR100589283B1 (ko) 2004-06-23 2004-06-23 박막증착장치용 샤워헤드

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050121873A true KR20050121873A (ko) 2005-12-28
KR100589283B1 KR100589283B1 (ko) 2006-06-14

Family

ID=37293860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040046965A KR100589283B1 (ko) 2004-06-23 2004-06-23 박막증착장치용 샤워헤드

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100589283B1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100700448B1 (ko) * 2006-02-16 2007-03-28 주식회사 메카로닉스 삼중 샤워헤드 및 이를 구비한 원자층 증착장치
KR100955371B1 (ko) * 2006-10-18 2010-04-29 어드밴스드 마이크로 패브리케이션 이큅먼트 인코퍼레이티드 아시아 반도체 공작물 처리반응기에 사용되는 기체분배장치 및반응기
KR101398625B1 (ko) * 2012-04-30 2014-06-27 세메스 주식회사 기판 처리 장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100700448B1 (ko) * 2006-02-16 2007-03-28 주식회사 메카로닉스 삼중 샤워헤드 및 이를 구비한 원자층 증착장치
KR100955371B1 (ko) * 2006-10-18 2010-04-29 어드밴스드 마이크로 패브리케이션 이큅먼트 인코퍼레이티드 아시아 반도체 공작물 처리반응기에 사용되는 기체분배장치 및반응기
KR101398625B1 (ko) * 2012-04-30 2014-06-27 세메스 주식회사 기판 처리 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR100589283B1 (ko) 2006-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20200381287A1 (en) Apparatus for preventing backside peeling defects on semiconductor wafers
US9493875B2 (en) Shower head unit and chemical vapor deposition apparatus
KR100862658B1 (ko) 반도체 처리 시스템의 가스 주입 장치
US6921437B1 (en) Gas distribution system
KR100898195B1 (ko) 캐소드 라이너 및 이를 구비하는 처리 챔버
KR100509231B1 (ko) 박막증착용 반응용기
KR102465613B1 (ko) 챔버 흡기 구조 및 반응 챔버
KR20140057136A (ko) 가스 커튼을 구비한 가스 샤워 장치 및 이를 이용한 박막 증착을 위한 기구
US11854843B2 (en) Substrate stage, substrate processing apparatus, and temperature control method
KR20090021032A (ko) 박막 증착장치의 분사유닛
KR100589283B1 (ko) 박막증착장치용 샤워헤드
KR20060114312A (ko) 화학기상증착장치의 샤워헤드
US20060201428A1 (en) Shower head and method of fabricating the same
KR100484945B1 (ko) 멀티 홀 앵글드 가스분사 시스템을 갖는 반도체소자 제조장치
CN110093592B (zh) 应用于化学气相沉积系统的气体喷头
KR20080013568A (ko) 다중소스 분사 샤워헤드
KR20230162432A (ko) 기판 처리 장치
KR20070021637A (ko) 샤워 헤드 및 샤워 헤드를 포함하는 기판 처리 장치
US11268192B2 (en) Thin film processing apparatus and thin film processing method
KR100682743B1 (ko) 쓰리윙 타입의 박막증착장치용 샤워헤드
CN115427608B (zh) 喷射喷嘴装置
KR20190068163A (ko) 기판 지지 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
CN115354304B (zh) 半导体反应腔
CN217173860U (zh) 一种ald设备用分腔进气装置
KR100528029B1 (ko) 박막 증착용 샤워헤드

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130515

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140401

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160308

Year of fee payment: 11

LAPS Lapse due to unpaid annual fee