KR20050121425A - A plat panel display unit with high light coupling efficiency and low contact resistance - Google Patents

A plat panel display unit with high light coupling efficiency and low contact resistance Download PDF

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Abstract

광 투과율(광효율)을 증가시키고 동시에 일 함수 차이가 큰 부재들 사이의 접촉저항 값의 영향을 감소시키는 평판표시장치를 개시한다. 상기 평판표시장치는, 활성층(active layer)과 화소전극을 기판에 접촉되게 형성시키고, 활성층 및 화소전극을 서로 직접 연결되도록 한다. 또한 도전층(conducting layer)을 이용하여 상기 활성층 및 상기 화소전극을 연결시킨다. 활성층과 화소전극을 직접 연결시킴으로서 화소의 광 투과율을 향상시킨다. 도전층을 이용하여, 활성층과 화소전극을 다시 한번 연결시킴으로서, 활성층 및 전극 사이에 존재하는 쇼트키 접촉저항의 영향을 감소시킨다. Disclosed is a flat panel display device which increases the light transmittance (light efficiency) and at the same time reduces the influence of contact resistance values between members having a large work function difference. The flat panel display device forms an active layer and a pixel electrode in contact with a substrate, and directly connects the active layer and the pixel electrode to each other. In addition, the active layer and the pixel electrode are connected by using a conductive layer. The light transmittance of the pixel is improved by directly connecting the active layer and the pixel electrode. By using the conductive layer to connect the active layer and the pixel electrode once again, the influence of the Schottky contact resistance existing between the active layer and the electrode is reduced.

Description

높은 광 효율 및 낮은 접촉저항을 가지는 평판표시장치{A plat panel display unit with high light coupling efficiency and low contact resistance} A plate panel display unit with high light coupling efficiency and low contact resistance

본 발명은 평판표시장치에 관한 것으로, 특히 개구율 및 투과율을 확장시키는 평판표시장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display device, and more particularly, to a flat panel display device for extending the aperture ratio and transmittance.

일반적으로, 평판표시장치(flat display device)는 크게 발광형과 수광형으로 분류할 수 있다. 발광형으로는 평판음극선(flat cathode ray tube)과, 플라즈마 표시장치(plasma display panel)와, 전계발광 표시장치(electro luminescent device)와, 발광 다이오드(light emitting diode)등이 있다. 수광형으로는 액정 표시장치(liquid crystal display)를 들 수 있다. In general, flat display devices can be classified into light emitting type and light receiving type. The light emitting type includes a flat cathode ray tube, a plasma display panel, an electroluminescent device, a light emitting diode, and the like. A light receiving type includes a liquid crystal display.

이들 중에서, 전계발광 표시장치는, 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 표시장치로 주목을 받고 있다. 이러한 전계발광 표시장치는, 발광층을 형성하는 물질에 따라서 무기 전계발광 표시장치와 유기 전계발광 표시장치로 구분할 수 있다. Among them, the electroluminescent display device has attracted attention as a next generation display device because of its advantages of having a wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed. The electroluminescent display may be classified into an inorganic electroluminescent display and an organic electroluminescent display according to a material forming the light emitting layer.

무기 전계발광 표시장치는, 당초 녹색 발광 디스플레이로 상품화되었으나, 플라즈마 표시장치와 마찬가지로 교류 바이어스 구동이며, 구동시 수백 볼트(voltage)가 필요하다. 또한, 발광을 위한 소재가 무기물이므로, 분자 설계에 의한 발광파장 등의 제어가 곤란하여서 화상을 칼라화하기가 어렵다. Inorganic electroluminescent displays have been commercialized as green light emitting displays initially, but they are alternating current bias drives, similar to plasma displays, and require several hundred volts to drive. In addition, since the material for emitting light is an inorganic material, it is difficult to control the light emission wavelength due to the molecular design and colorize the image.

이에 반하여, 유기 전계발광 표시장치는 형광성 유기 화합물을 전기적으로 여기시켜서 발광시키는 자발광형 표시장치로서, 낮은 전압에서 구동이 가능하고, 박형화가 용이하며, 광 시야각, 빠른 응답 등 액정표시장치에 있어서 문제점으로 지적되는 것을 해결할 수 있는 차세대 평판표시장치로 주목받고 있다. In contrast, the organic electroluminescent display device is a self-luminous display device that electrically excites fluorescent organic compounds to emit light, and is capable of driving at low voltage, is easy to thin, and has a wide viewing angle and quick response. It is attracting attention as a next-generation flat panel display that can solve the problem pointed out.

이러한 유기 전계발광 표시장치는, 애노드 전극 및 캐소드 전극사이에 유기물로 이루어진 유기 발광막을 구비하고 있으며, 애노드 전극 및 캐소드 전극에 전압이 각각 인가됨에 따라, 애노드로부터 주입된 정공(hole)이 전공 수송층을 경유하여 유기 발광막으로 이동되고, 전자(electron)는 캐소드 전극으로부터 전자 수송층을 경유하여 유기 발광막으로 이동되어서, 유기 발광막에서 전자와 정공이 재결합하여 여기자(exiton)를 생성하게 된다. The organic electroluminescent display includes an organic light emitting film made of an organic material between an anode electrode and a cathode electrode, and holes are injected from the anode into the hole transport layer as voltage is applied to the anode electrode and the cathode electrode, respectively. The electrons are moved to the organic light emitting film via the electrons, and the electrons are moved from the cathode to the organic light emitting film via the electron transport layer, whereby electrons and holes recombine in the organic light emitting film to generate excitons.

상기 여기자가 여기상태에서 기저상태로 변화함에 따라, 발광층의 형광성 분자가 발광함에 따라 화상을 형성하게 된다. 풀 컬러(full color)형 유기 전계발광 표시장치의 경우에는, 적색, 녹색 및 청색의 3가지색을 발광하는 픽셀(pixel)을 구비토록 함으로써 풀 컬러를 구현한다. As the excitons change from the excited state to the ground state, the fluorescent molecules in the light emitting layer emit light to form an image. In the case of a full color organic electroluminescent display, a full color is realized by providing pixels emitting three colors of red, green, and blue.

애노드, 유기물 및 캐소드는 발광소자를 형성하는데, 이들은 상기 발광소자를 구동하는 박막 트랜지스터가 생성되는 일정한 층의 상부에 존재한다. 박막 트랜지스터는, 기판 위에 형성되며 구조적인 측면에서 기판에서 상부로 가면서 기술하면, 활성층, 게이트 절연층, 층간 절연막 및 도전층으로 구성된다. 마지막으로 도전층 까지 형성시킨 후에는 평판화층을 도포한 후에 상기 발광소자를 형성시킨다. 배면발광소자의 경우, 발광되는 빛은 상기 박막트랜지스터와 상기 발광소자를 구별하기 위하여 생성된 두꺼운 평탄화 영역을 통과하여야 하므로 광 투과율(광효율)이 감소하게 되는 단점이 있다. The anode, organic material and cathode form a light emitting device, which is present on top of a constant layer where a thin film transistor for driving the light emitting device is produced. The thin film transistor is formed on the substrate and described in terms of structure from the substrate to the upper portion, and constitutes an active layer, a gate insulating layer, an interlayer insulating film, and a conductive layer. Finally, after the formation of the conductive layer, the light emitting device is formed after coating the flattening layer. In the case of the bottom light emitting device, the light emitted must pass through the thick planarization region generated to distinguish the thin film transistor from the light emitting device, thereby reducing the light transmittance (light efficiency).

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 광 투과율(또는 광효율)을 향상시키고, 동시에 일 함수 차이가 큰 부재들 사이의 접촉저항의 영향을 감소시키는 평판표시장치(Plat Panel display unit)를 제공하는데 있다. An object of the present invention is to provide a flat panel display unit which improves light transmittance (or light efficiency) and at the same time reduces the influence of contact resistance between members having a large work function difference.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 발광표시장치는, 활성층, 화소전극 및 도전층을 구비한다. In another aspect, a light emitting display device includes an active layer, a pixel electrode, and a conductive layer.

상기 활성층(active layer)은, 화소(pixel)에 구비되며, 박막 트랜지스터의 채널, 드레인 및 소스 영역이 된다. 상기 화소전극은, 화소에 구비되며, 상기 활성층과 접촉한다. 상기 도전층(conducting layer)은, 상기 활성층 및 상기 화소전극과 접촉한다. The active layer is provided in a pixel and becomes a channel, a drain, and a source region of the thin film transistor. The pixel electrode is provided in the pixel and contacts the active layer. The conductive layer is in contact with the active layer and the pixel electrode.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 첨부 도면 및 도면에 기재된 내용을 참조하여야 한다.DETAILED DESCRIPTION In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings that illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 발광표시장치의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 상기 평판표시장치(100)는, 기판(10)위에 형성된다. Referring to FIG. 1, the flat panel display device 100 is formed on a substrate 10.

기판(10)의 상부에 형성되는 평판표시장치(100)의 각 구성성분이 형성되는 순서대로 나열하면 아래와 같다. If the components of the flat panel display 100 formed on the substrate 10 are arranged in the order in which they are formed as follows.

1. 기판(10)에 활성층(101)을 형성시킨다. 1. The active layer 101 is formed on the substrate 10.

2. 발광소자의 일 전극이 되는 제1전극(102)을 형성시킨다. 2. The first electrode 102 serving as one electrode of the light emitting element is formed.

3. 게이트 절연물(103, Gate Oxide)을 형성시킨다. 3. A gate insulator 103 is formed.

4. 게이트 전극(104)을 형성시킨다. 4. The gate electrode 104 is formed.

5. 중간층(105, Inter Layer)을 형성시킨다. 5. The interlayer 105 is formed.

6. 도전층(106, Metal Layer)을 형성시킨다. 6. A conductive layer 106 is formed.

7. 평탄화층(107)을 형성시킨다. 7. The planarization layer 107 is formed.

8. 발광층(108)을 형성시킨다. 8. The light emitting layer 108 is formed.

9. 발광소자의 다른 일 전극이 되는 제2전극(109)을 형성시킨다. 9. A second electrode 109 serving as the other electrode of the light emitting element is formed.

상기 과정을 통하여 형성된 각각의 층들 중에서 제1전극(102), 발광층(108) 및 제2전극(109)이 합하여 발광소자를 구성한다. The first electrode 102, the light emitting layer 108, and the second electrode 109 are combined to form a light emitting device among the layers formed through the above process.

상기 발광소자는 구동 트랜지스터에 의하여 동작이 제어된다. 상기 구동 트랜지스터는 드레인 영역, 소스 영역 및 채널 영역으로 이루어지며, 상기 영역들은 활성층(101)에 존재한다. 즉, 채널영역은 게이트 전극(104)의 아래쪽에 위치하고, 드레인 영역 및 소스 영역은 게이트 전극(104)의 좌측 및 우측에 각각 위치한다. The light emitting device is controlled by a driving transistor. The driving transistor includes a drain region, a source region, and a channel region, and the regions exist in the active layer 101. That is, the channel region is located under the gate electrode 104, and the drain region and the source region are positioned on the left side and the right side of the gate electrode 104, respectively.

발광층(108)에서 발생되는 빛은 제1전극(102) 영역만을 통과하면 되므로, 종래의 경우와 같이 두꺼운 평탄화층(107)을 통과할 때의 광 효율에 비하여 개선된다는 것을 쉽게 알 수 있다. Since light generated in the light emitting layer 108 only needs to pass through the region of the first electrode 102, it can be easily seen that the light efficiency of the light emitting layer 108 is improved compared to the light efficiency when passing through the thick planarization layer 107 as in the conventional case.

그러나 이 경우, 제1전극(102) 및 활성층(101) 사이의 접촉특성은 쇼트키 접촉(schottky contact)이 된다. 일반적으로, 일 함수가 서로 다른 두 부재의 접촉 시 발생하는 전기적 연결특성은, 쇼트키 접촉(schottky contact) 및 오믹 접촉(ohmic contact)으로 구분할 수 있다. 상기 쇼트키 접촉은, 일 함수 차이가 상당히 큰 경우 발생하며, 접촉저항 값이 크다. 이러한 접촉 부분에는 상당한 전압 강하가 발생하게 되어, 두 부재사이의 전기적 연결특성이 좋지 않게 된다. 일 함수 차이가 크지 않거나 동일한 두 부재가 접촉하는 경우, 이들 사이의 접촉을 오믹 접촉이라고 하며, 쇼트키 접촉에 비하여 상대적으로 접촉 저항 값이 적다. In this case, however, the contact characteristic between the first electrode 102 and the active layer 101 becomes a schottky contact. In general, the electrical connection characteristics generated when the two members having different work functions are divided into schottky contacts and ohmic contacts. The Schottky contact occurs when the work function difference is quite large, and the contact resistance value is large. A significant voltage drop occurs at this contact portion, resulting in poor electrical connection between the two members. If the work function difference is not large or the same two members are in contact, the contact between them is called an ohmic contact, and has a relatively low contact resistance value compared to a Schottky contact.

따라서, 두 부재가 과도한 전압강하 등과 같은 전기적으로 아무런 악 영향이 없이 연결되기 위해서는, 일반적으로 두 부재의 일 함수 차이가 적어야 한다. 그러나, 제품을 만드는 과정에서는 필연적으로 일 함수 차이가 큰 물질이 전기적으로 연결되어야 하는 경우가 발생한다. Therefore, in order for the two members to be connected without any adverse electrical effects such as excessive voltage drop, the work function difference of the two members should generally be small. However, in the process of making a product, it is inevitable that a material having a large work function difference must be electrically connected.

본 발명에 따른 평판표시장치는, 오믹 접촉저항 연결부(110)를 추가로 제안한다. The flat panel display device according to the present invention further proposes an ohmic contact resistance connector 110.

도 2는 도 1에 도시된 오믹 접촉저항 연결부(110)의 확대도이다. FIG. 2 is an enlarged view of the ohmic contact resistance connecting unit 110 shown in FIG. 1.

도 2를 참조하면, 상기 오믹 접촉저항 연결부(110)는, 기판(10)의 상부에 활성층(101) 및 제1전극(102)이 위치한다. Referring to FIG. 2, in the ohmic contact resistance connecting unit 110, an active layer 101 and a first electrode 102 are positioned on the substrate 10.

도면에는 활성층(101)의 일 부분이 제1전극(102)의 일 부분의 하층에 위치하는 경우를 나타내었으나, 그 반대의 경우도 가능하다. In the drawing, a portion of the active layer 101 is positioned below the portion of the first electrode 102, but vice versa.

도 3은 도 1에 도시된 오믹 접촉저항 연결부(110)의 다른 예에 대한 확대도이다. 3 is an enlarged view of another example of the ohmic contact resistance connection unit 110 shown in FIG. 1.

도 3을 참조하면, 도 1에 도시된 오믹 접촉저항 연결부(110)에 있어서, 활성층(101) 및 제1전극(102)의 공간위치가 도 2에 도시된 경우와 반대됨을 알 수 있다. 이러한 구조를 형성시키기 위해서는, 도 2에 도시된 구조를 형성시킬 때 사용되는 공정의 일정한 순서를 변경시키면 가능하다. Referring to FIG. 3, in the ohmic contact resistance connector 110 shown in FIG. 1, the spatial positions of the active layer 101 and the first electrode 102 are opposite to those shown in FIG. 2. In order to form such a structure, it is possible to change a certain order of the processes used when forming the structure shown in FIG.

이하에서는, 도 2에 도시된 구조에 대하여 설명하지만, 도 3에 도시된 구조로 확대 적용하는 것이 당연하므로, 도 3에 대한 설명은 생략한다. Hereinafter, the structure shown in FIG. 2 will be described. However, since it is natural to extend and apply the structure shown in FIG. 3, the description of FIG. 3 will be omitted.

활성층(101) 및 제1전극(102)의 상부에는 절연층(103)이 있는데, 절연층(103)은 게이트 전극(104) 및 활성층(101)과 더불어 트랜지스터를 형성한다. 활성층(101), 제1전극(102), 절연층(103) 및 게이트 전극(104)의 상부에는 도전층(106)의 스텝 커버리지(step coverage)를 위한 중간층(105)이 형성된다. An insulating layer 103 is formed on the active layer 101 and the first electrode 102. The insulating layer 103 forms a transistor together with the gate electrode 104 and the active layer 101. The intermediate layer 105 for step coverage of the conductive layer 106 is formed on the active layer 101, the first electrode 102, the insulating layer 103, and the gate electrode 104.

본 발명에 따른 평판표시장치 및 오믹 접촉 연결구조는, 종래의 평판표시장치에는 존재하지 않던 비어 콘택(Via contact)을 이용하여 활성층(101) 및 제1전극(102)을 전기적으로 연결하는 것에 아이디어의 핵심이 있다. The flat panel display and the ohmic contact connection structure according to the present invention have an idea of electrically connecting the active layer 101 and the first electrode 102 using a via contact, which does not exist in the conventional flat panel display. There is a key point.

이렇게 함으로써, 일 함수 차이가 큰 두 부재의 전기적 연결을, 상기 두 부재의 접촉뿐만 아니라, 도전층을 이용하여 병렬로 연결함으로써, 상기 일 함수 차이가 큰 두 부재의 접촉 시 발생하는 쇼트키 접촉저항의 영향을 거의 제거할 수 있다. 이는 쇼트키 접촉저항이 발생하는 직접접촉부 이외의 영역에, 오믹 특성을 가지는 전기적 연결통로를 새로 추가한 것과 마찬가지의 효과를 가져온다. 또한 일 함수 차이가 큰 두 부재를 직접 접촉시키는 대신, 도전층을 이용하여 연결하더라도 그 효과는 거의 동일하다. 본 발명을 실제의 제품에 실현시키기 위하여, 새로운 매스크가 필요하거나, 공정이 추가되지 않게 된다. 다만, 매스크 작업 시 해당 영역에 비어 콘택을 열어두는 작업이 추가되어야 하지만, 이러한 작업은 결과로서 얻어지는 전기적 특성에 비하면 아무 것도 아니다. In this way, the Schottky contact resistance generated when the two members having a large work function difference are contacted in parallel using a conductive layer as well as the contact of the two members. Can almost eliminate the effect. This has the same effect as the addition of a new electrical connection path having ohmic characteristics in the region other than the direct contact portion where the Schottky contact resistance is generated. In addition, instead of directly contacting two members having a large work function difference, the effect is almost the same even if they are connected using a conductive layer. In order to realize the present invention in an actual product, a new mask is not required or a process is not added. However, when the masking work is required to add a blank contact in the area, the work is nothing compared to the resulting electrical characteristics.

전기적 특성이 양호하게 되기 위해서는, 도 3에 도시된 구조만으로 이루어지는 것은 아니고 다음의 조건을 만족하여야 한다. 즉, 활성층(101) 및 제1전극(102)의 접촉길이(L2)는, 적어도 0.5 이상이어야 한다. 또한, 도전층(106)과 활성층(101)의 접촉길이(L3), 도전층(106)과 제1전극(102)의 접촉길이(L1)도, 적어도 0.5 이상의 접촉 길이를 가져야 한다.In order for the electrical characteristics to be good, the following conditions must be satisfied instead of the structure shown in FIG. That is, the contact length L2 of the active layer 101 and the first electrode 102 is at least 0.5. Should be at least In addition, the contact length L3 of the conductive layer 106 and the active layer 101 and the contact length L1 of the conductive layer 106 and the first electrode 102 are also at least 0.5. It should have a contact length longer than that.

도전층(106)은, 일반적으로 소스 및/또는 드레인을 전기적으로 연결하는데 사용되는데, 금속물질인 것이 바람직하다. The conductive layer 106 is generally used to electrically connect the source and / or drain, which is preferably a metal material.

도 1에 도시된 본 발명의 일 실시 예에 따른 평판표시장치 및 오믹 접촉연결 구조의 단면도는, 화소의 일부를 나타내는 것이다. A cross-sectional view of a flat panel display and an ohmic contact connection structure according to an exemplary embodiment of the present disclosure illustrated in FIG. 1 illustrates a part of a pixel.

이상에서와 같이 도면과 명세서에서 최적 실시 예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the optimum embodiment has been disclosed in the drawings and the specification. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not intended to limit the scope of the invention as defined in the claims or the claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 평판표시장치는, 발광층에서 생성된 빛이 통과하여야 하는 층의 두께가 감소됨으로서 광 효율을 증가시킨다. 또한 활성층 및 전극 사이의 오믹 접촉 연결구조를 구비함으로서 활성층 및 전극의 접촉저항이 상당히 감소하게 하는 장점이 있다. As described above, the flat panel display device according to the present invention increases the light efficiency by reducing the thickness of the layer through which the light generated in the light emitting layer passes. In addition, by providing an ohmic contact connecting structure between the active layer and the electrode, there is an advantage that the contact resistance of the active layer and the electrode is considerably reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 발광표시장치의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 오믹 접촉저항 연결부(110)의 확대도이다. FIG. 2 is an enlarged view of the ohmic contact resistance connecting unit 110 shown in FIG. 1.

도 3은 도 1에 도시된 오믹 접촉저항 연결부(110)의 다른 예에 대한 확대도이다. 3 is an enlarged view of another example of the ohmic contact resistance connection unit 110 shown in FIG. 1.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10...기판 105...중간층(Inter Layer) 101... 활성층(Active Layer) 106...도전층 10 ... substrate 105 ... Inter Layer 101 ... Active Layer 106 ... Conductive layer

102... 제1전극(Anode) 107...평탄화층 102 first electrode (Anode)

103...절연층(Insulator) 108...발광층 103 Insulator 108 Light emitting layer

104...게이트 전극(G) 109...제2전극(Cathode) 104 ... gate electrode (G) 109 ... second electrode (Cathode)

110...오믹 접촉 연결부(Ohmic Contact Area) 110 ... Ohmic Contact Area

Claims (10)

화소(pixel)에 구비되며, 활성층(active layer)을 갖는 박막 트랜지스터;A thin film transistor provided in a pixel and having an active layer; 화소에 구비되며, 상기 활성층과 접촉하는 화소전극; 및A pixel electrode provided in the pixel and in contact with the active layer; And 도전층(conducting layer)을 구비하고, Having a conducting layer, 상기 도전층은, 상기 활성층 및 상기 화소전극과 접촉하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치. And the conductive layer is in contact with the active layer and the pixel electrode. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 활성층 및 상기 화소전극의 접촉은, 서로 중첩되는(overlap) 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치. And the contact between the active layer and the pixel electrode includes a structure overlapping each other. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 중첩되는 구조는, 상기 활성층이 상기 화소전극의 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치. The overlapping structure of claim 1, wherein the active layer is positioned above the pixel electrode. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 중첩되는 구조는, 상기 화소전극이 상기 활성층의 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치. The overlapping structure of the flat panel display device, wherein the pixel electrode is located above the active layer. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 중첩되는 구조는, 적어도 0.5 mu m이상의 접촉 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치. The overlapping structure has a contact length of at least 0.5 mu m or more. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 도전층은, 상기 도전층 및 상기 화소전극의 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치. And the conductive layer is positioned above the conductive layer and the pixel electrode. 제6항에 있어서, The method of claim 6, 상기 도전층 및 상기 활성층은, 적어도 0.5 이상의 접촉 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The conductive layer and the active layer is at least 0.5 A flat panel display device having the above contact length. 제6항에 있어서, The method of claim 6, 상기 도전층 및 상기 화소전극은, 적어도 0.5 이상의 접촉 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The conductive layer and the pixel electrode is at least 0.5 A flat panel display device having the above contact length. 제1항 내지 제8항 중 어느 하나의 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 각 화소는, 유기 전계 발광소자를 구비하고, Each pixel includes an organic electroluminescent element, 상기 화소전극은, 상기 유기 전계 발광소자의 어느 한 전극인 것을 특징으로 하는 평판표시장치. And the pixel electrode is any one electrode of the organic electroluminescent element. 제1항 내지 제8항 중 어느 하나의 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 도전층은, 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판표시장치. And said conductive layer is made of metal.
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