KR20050114968A - Method for fabricating patterns by printing method - Google Patents
Method for fabricating patterns by printing method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050114968A KR20050114968A KR1020040040105A KR20040040105A KR20050114968A KR 20050114968 A KR20050114968 A KR 20050114968A KR 1020040040105 A KR1020040040105 A KR 1020040040105A KR 20040040105 A KR20040040105 A KR 20040040105A KR 20050114968 A KR20050114968 A KR 20050114968A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photosensitive
- pattern
- roll
- cliché
- photoresist
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F16/00—Transfer printing apparatus
- B41F16/0006—Transfer printing apparatus for printing from an inked or preprinted foil or band
- B41F16/002—Presses of the rotary type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F17/00—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for
- B41F17/08—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for for printing on filamentary or elongated articles, or on articles with cylindrical surfaces
- B41F17/14—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for for printing on filamentary or elongated articles, or on articles with cylindrical surfaces on articles of finite length
Abstract
본 발명은 원하는 패턴을 정확하게 형성할 수 있는 인쇄장치 및 이를 이용한 패턴형성방법에 관한 것으로, 형성하고자 하는 패턴과 대응하는 위치에 오목한 홈이 형성된 클리체를 준비하는 단계와, 상기 홈 내부에 감광액을 충진시키는 단계와, 상기 홈내부에 충진된 감광액을 노광시키는 단계와, 노광된 감광액을 인쇄롤 표면에 전사시켜 감광패턴을 형성하는 단계 및 상기 인쇄롤 표면에 전사된 감광패턴을 식각대상층 상에 재전사시키는 단계를 포함하여 이루어진다.The present invention relates to a printing apparatus capable of accurately forming a desired pattern and a pattern forming method using the same, comprising the steps of preparing a cliché having a recess formed in a groove corresponding to a pattern to be formed, Filling the film, exposing the photoresist filled in the groove, transferring the exposed photoresist to the surface of the printing roll to form a photosensitive pattern, and transferring the photosensitive pattern transferred to the surface of the printing roll onto the etching target layer. And transferring the same.
Description
본 발명은 인쇄방식에 의한 패턴형성방법에 관한 것으로, 특히 광을 조사할 수 있는 노광기가 구비된 인쇄장치 및 감광물질을 첨가하고, 상기 인쇄장치를 사용함으로써, 인쇄특성을 향상시킬 수 있는 패턴형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a pattern forming method by a printing method, and in particular, by adding a printing apparatus and a photosensitive material equipped with an exposure machine capable of irradiating light, and by using the printing apparatus, a pattern formation which can improve printing characteristics It is about a method.
표시소자들, 특히 액정표시소자(Liquid Crystal Display Device)와 같은 평판표시장치(Flat Panel Display)에서는 각각의 화소에 박막트랜지스터와 같은 능동소자가 구비되어 표시소자를 구동하는데, 이러한 방식의 표시소자의 구동방식을 흔히 액티브 매트릭스(Active Matrix) 구동방식이라 한다. 이러한 액티브 매트릭스방식에서는 상기한 능동소자가 매트릭스형식으로 배열된 각각의 화소에 배치되어 해당 화소를 구동하게 된다.In display devices, particularly flat panel displays such as liquid crystal display devices, each pixel includes an active device such as a thin film transistor to drive the display device. The driving method is often called an active matrix driving method. In the active matrix method, the active elements are arranged in each pixel arranged in a matrix to drive the pixel.
도 1은 액티브 매트릭스방식의 액정표시소자를 나타내는 도면이다. 도면에 도시된 구조의 액정표시소자는 능동소자로서 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)를 사용하는 박막트랜지스터 액정표시소자(TFT-LCD)이다. 도면에 도시된 바와 같이, 종횡으로 N×M개의 화소가 배치된 TFT LCD의 각 화소에는 외부의 구동회로로부터 주사신호가 인가되는 게이트라인(4)과 화상신호가 인가되는 데이터라인(6)의 교차영역에 형성된 TFT를 포함하고 있다. TFT는 상기 게이트라인(4)과 연결된 게이트전극(3)과, 상기 게이트전극(3) 위에 형성되어 게이트전극(3)에 주사신호가 인가됨에 따라 활성화되는 반도체층(8)과, 상기 반도체층(8) 위에 형성된 소스/드레인전극(5)으로 구성된다. 상기 화소(1)의 표시영역에는 상기 소스/드레인전극(5)과 연결되어 반도체층(8)이 활성화됨에 따라 상기 소스/드레인전극(5)을 통해 화상신호가 인가되어 액정(도면표시하지 않음)을 동작시키는 화소전극(10)이 형성되어 있다.1 is a view showing an active matrix liquid crystal display device. The liquid crystal display device having the structure shown in the drawing is a thin film transistor liquid crystal display device (TFT-LCD) using a thin film transistor as an active device. As shown in the figure, each pixel of the TFT LCD in which N × M pixels are arranged vertically and horizontally has a gate line 4 to which a scan signal is applied from an external driving circuit and a data line 6 to which an image signal is applied. It includes a TFT formed in the intersection area. The TFT includes a gate electrode 3 connected to the gate line 4, a semiconductor layer 8 formed on the gate electrode 3, and activated when a scan signal is applied to the gate electrode 3, and the semiconductor layer. (8) and a source / drain electrode 5 formed thereon. In the display area of the pixel 1, an image signal is applied through the source / drain electrode 5 as the semiconductor layer 8 is connected to the source / drain electrode 5 to activate the liquid crystal (not shown). Is formed on the pixel electrode 10.
도 2는 각 화소내에 배치되는 TFT의 구조를 나타내는 도면이다. 도면에 도시된 바와 같이, 상기 TFT는 유리와 같은 투명한 절연물질로 이루어진 기판(20)과, 상기 기판(20) 위에 형성된 게이트전극(3)과, 게이트전극(3)이 형성된 기판(20) 전체에 걸쳐 적층된 게이트절연층(22)과, 상기 게이트절연층(22) 위에 형성되어 게이트전극(3)에 신호가 인가됨에 따라 활성화되는 반도체층(6)과, 상기 반도체층(6) 위에 형성된 소스/드레인전극(5)과, 상기 소스/드레인전극(5) 위에 형성되어 소자를 보호하는 보호층(passivation layer;25)으로 구성된다.2 is a diagram showing the structure of a TFT disposed in each pixel. As shown in the figure, the TFT includes a substrate 20 made of a transparent insulating material such as glass, a gate electrode 3 formed on the substrate 20, and an entire substrate 20 on which the gate electrode 3 is formed. A gate insulating layer 22 stacked over the semiconductor insulating layer 22, a semiconductor layer 6 formed on the gate insulating layer 22 and activated when a signal is applied to the gate electrode 3, and formed on the semiconductor layer 6. A source / drain electrode 5 and a passivation layer 25 formed on the source / drain electrode 5 to protect the device.
상기와 같은 TFT의 소스/드레인전극(5)은 화소내에 형성된 화소전극과 전기적으로 접속되어, 상기 소스/드레인전극(5)을 통해 화소전극에 신호가 인가됨에 따라 액정을 구동하여 화상을 표시하게 된다.The source / drain electrode 5 of the TFT is electrically connected to a pixel electrode formed in the pixel, so that a signal is applied to the pixel electrode through the source / drain electrode 5 to drive the liquid crystal to display an image. do.
상기한 바와 같은 액정표시소자 등의 액티브 매트릭스형 표시소자에서는 각 화소의 크기가 수십㎛의 크기이며, 따라서 화소내에 배치되는 TFT와 같은 능동소자는 수㎛의 미세한 크기로 형성되어야만 한다. 더욱이, 근래에 고화질TV(HDTV)와 같은 고화질 표시소자의 욕구가 커짐에 따라 동일 면적의 화면에 더 많은 화소를 배치해야만 하기 때문에, 화소내에 배치되는 능동소자 패턴(게이트라인과 데이터라인 패턴을 포함) 역시 더욱 미세하게 형성되어야만 한다.In an active matrix display device such as a liquid crystal display device as described above, each pixel has a size of several tens of micrometers, and therefore, an active device such as a TFT disposed in the pixel must be formed with a fine size of several micrometers. Furthermore, as the desire for high-definition display devices such as high-definition television (HDTV) has increased in recent years, more pixels must be disposed on the screen of the same area, and thus, active element patterns (gate line and data line patterns) included in the pixels are included. ) Should also be more finely formed.
한편, 종래에 TFT와 같은 능동소자를 제작하기 위해서는 노광장치에 의한 포토리소그래피(photolithography)방법에 의해 능동소자의 패턴이나 라인 등을 형성하였다. 그런데, 이러한 포토리소그래피방법은 패터닝되는 층위에 포토레지스트를 적층한 후, 이를 노광하고 현상하는 복잡한 공정을 통해 레지스 트패턴을 형성하게 된다. 따라서, 공정이 복잡한 문제가 있었다. 더욱이, 표시소자의 포토공정시 노광장치의 노광영역이 한정되어 있기 때문에, 대면적의 표시소자를 제작하기 위해서는 화면을 분할하여 포토공정을 진행해야만 한다. 따라서, 분할된 영역의 공정시 정확한 위치의 정합이 어려울 뿐만 아니라 다수회의 포토공정을 반복해야만 하기 때문에 생산성이 저하된다는 문제도 있었다.On the other hand, in order to fabricate an active device such as a TFT, a pattern, a line, and the like of the active device are formed by a photolithography method using an exposure apparatus. However, the photolithography method forms a resist pattern through a complicated process of stacking photoresist on a patterned layer, exposing and developing the photoresist. Therefore, the process had a complicated problem. In addition, since the exposure area of the exposure apparatus is limited during the photo process of the display element, the photo process must be performed by dividing the screen in order to produce a large area display element. Therefore, there is a problem in that productivity is lowered because the exact position is difficult to match during the processing of the divided region and the photo process must be repeated many times.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 인쇄법에 의해 1회의 공정에 의해 대면적의 표시소자에 패턴을 형성할 수 있는 패턴형성방법을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a pattern forming method capable of forming a pattern on a display device having a large area by one step by a printing method.
본 발명의 다른 목적은 인쇄시 감광액을 사용하고, 이를 노광함으로써, 인쇄롤 표면에 균일한 두께의 감광막을 형성할 수 있는 패턴형성방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a pattern forming method which can form a photosensitive film having a uniform thickness on the surface of a printing roll by using a photosensitive liquid during printing and exposing it.
본 발명의 또 다른 목적은 인쇄성을 향상시켜 미세패턴을 형성할 수 있는 패턴형성방법을 제공하는데 있다.Still another object of the present invention is to provide a pattern forming method capable of forming a fine pattern by improving printability.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해 이루어지는 본 발명은 형성하고자 하는 패턴과 대응하는 위치에 오목한 홈이 형성된 클리체를 준비하는 단계와, 상기 홈내부에 감광액을 충진시키는 단계와, 상기 홈내부에 충진된 감광액을 노광시키는 단계와, 노광된 감광액을 인쇄롤 표면에 전사시켜 감광패턴을 형성하는 단계 및 상기 인쇄롤 표면에 전사된 감광패턴을 식각대상층 상에 재전사시키는 단계를 포함하여 이루어진다. 이때, 상기 감광액은 감광액은 PAC(Photo Active Compound) 또는 PI(Photo initiator)를 함유하고 있으며, 이들의 100cps 이하의 점도(viscosity)특성을 가진다. In order to achieve the above object, the present invention provides a method for forming a recess in which a recess is formed in a position corresponding to a pattern to be formed, filling a photoresist into the groove, and filling the groove. Exposing the exposed photosensitive liquid, transferring the exposed photosensitive liquid to the surface of the printing roll to form a photosensitive pattern, and retransferring the photosensitive pattern transferred to the surface of the printing roll onto the etching target layer. In this case, the photoresist contains a photo active compound (PAC) or a photo initiator (PI) and has a viscosity characteristic of 100 cps or less.
상기 클리체는 평평한 기판을 사용할 수 있으며, 이때, 상기 클리체의 홈내부에 감광액을 충진시키는 단계는 상기 클리체 상에 감광액을 도포하는 단계 및 상기 클리체 표면에 닥터블레이드를 접촉시킨 상태에서 닥터블레이드를 평평하게 밀어줌으로써, 홈내부에 감광액을 충진하고, 클리체 표면에 도포된 감광액을 제거하는 단계로 이루어진다. The cliché may use a flat substrate. In this case, filling the photoresist into the groove of the cliché may include applying a photoresist on the cliché and a doctor blade in contact with the surface of the cliché. By pushing the blade flat, the photoresist is filled into the groove, and the photoresist applied to the surface of the cleavage is removed.
그리고, 상기 홈내부에 충진된 감광패턴을 식각대상층 상에 전사시키는 단계는 상기 인쇄롤을 클리체 표면에 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라, 클리체에 충진된 감광패턴을 인쇄롤 표면에 전사시키는 단계와, 상기 인쇄롤 표면에 전사된 감광패턴을 식각대상층 상에 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라, 인쇄롤 표면에 전사된 감광패턴을 식각대상층 상에 재전사시키는 단계로 이루어진다.The transferring of the photosensitive pattern filled in the groove on the etching target layer is performed by rotating the printing roll in contact with the surface of the body, thereby transferring the photosensitive pattern filled in the body to the surface of the printing roll. And rotating the photosensitive pattern transferred to the surface of the printing roll on the etching target layer, thereby retransferring the photosensitive pattern transferred to the surface of the printing roll onto the etching target layer.
한편, 상기 클리체는 원통형의 롤을 사용할 수도 있으며, 이때, 상기 클리체의 홈내부에 감광액을 충진시키는 단계는 상기 클리체 상부에 구비된 감광액 공급부를 통해 클리체 상에 감광액을 공급하는 단계와, 상기 클리체를 회전시킴으로써, 홈내부에 감광액을 충진하고, 닥터블레이드에 의해 클리체 표면에 도포된 감광액을 제거하는 단계로 이루어진다.On the other hand, the cliché may be a cylindrical roll, wherein the filling of the photoresist into the groove of the cliché is the step of supplying the photoresist on the cliché through the photosensitive liquid supply unit provided on the top of the cliché; By rotating the cliché, the photosensitive liquid is filled into the groove, and the photosensitive liquid applied to the surface of the cliché is removed by a doctor blade.
그리고, 상기 홈내부에 충진된 감광패턴을 식각대상층 상에 전사시키는 단계는 상기 인쇄롤을 상기 클리체 표면에 접촉시킨 상태에서 인쇄롤과 클리체를 맞물려 회전시킴에 따라, 클리체에 충진된 감광패턴을 인쇄롤 표면에 전사시키는 단계와, 상기 인쇄롤 표면에 전사된 감광패턴을 식각대상층 상에 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라, 인쇄롤 표면에 전사된 감광패턴을 식각대상층 상에 재전사시키는 단계로 이루어진다.The transferring of the photosensitive pattern filled in the groove on the etching target layer is performed by rotating the printing roll and the cliché in a state in which the printing roll is in contact with the surface of the cliché. Transferring the pattern to the surface of the printing roll, and rotating the photosensitive pattern transferred to the surface of the printing roll on the etching target layer, thereby retransferring the photosensitive pattern transferred to the surface of the printing roll onto the etching target layer. Consists of steps.
또한, 본 발명은 인쇄롤을 준비하는 단계와, 상기 인쇄롤 표면에 감광액을 도포하는 단계와, 상기 인쇄롤 표면에 도포된 감광액을 노광시키는 단계와, 노광된 감광액을 볼록한 패턴이 형성된 클리체 상에 접촉시킴으로써, 상기 클리체와 접촉하는 영역의 감광액을 클리체 상에 전사시키고, 인쇄롤 표면에는 형성하고자하는 패턴과 대응하는 감광패턴을 형성하는 단계 및 상기 감광패턴을 식각대상층 상에 전사키는 단계를 포함하여 이루어진다.The present invention also provides a method for preparing a printing roll, applying a photoresist on the surface of the printing roll, exposing the photoresist applied on the surface of the printing roll, and forming a convex pattern of the exposed photoresist. Transferring the photosensitive liquid in the area in contact with the cliché onto the cliché, forming a photosensitive pattern corresponding to the pattern to be formed on the surface of the printing roll, and transferring the photosensitive pattern onto the etching target layer. A step is made.
또한, 본 발명에 의한 패턴형성용 인쇄장치는 형성하고자 하는 패턴과 대응하는 위치에 오목한 홈이 형성된 제1롤과, 상기 제1롤에 감광액을 공급하는 감광액 공급기와, 상기 제1롤 표면에 잔류하는 감광액을 제거함으로써, 홈내부에 감광액을 충진시키는 닥터블레이드 및 상기 제1롤과 맞물려 회전하며 상기 홈내부에 충진된 감광패턴이 전사되고, 상기 전사된 감광패턴을 식각대상층 상에 재전사시키는 제2롤을 포함하여 구성된다. 이때, 상기 홈내부에 충진된 감광액에 광을 조사하는 광조사기를 더 포함하여 구성될 수 있다. In addition, the printing apparatus for pattern formation according to the present invention includes a first roll having a concave groove formed at a position corresponding to a pattern to be formed, a photosensitive liquid feeder for supplying a photosensitive liquid to the first roll, and remaining on the surface of the first roll. Removing the photosensitive liquid, the doctor blade filling the photosensitive liquid into the grooves and the first roll to engage with the first roll and transfer the photosensitive pattern filled in the grooves, and transfer the transferred photosensitive pattern onto the etching target layer. It consists of two rolls. At this time, it may be configured to further include a light irradiator for irradiating light to the photosensitive liquid filled in the groove.
또한, 본 발명에 의한 패턴형성용 인쇄장치는 원통형의 인쇄롤과, 상기 인쇄롤 표면에 감광액을 공급하는 감광액 공급기 및 복수의 볼록패턴이 형성되고, 상기 인쇄롤 표면에 도포된 감광막을 상기 볼록패턴에 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라, 상기 인쇄롤 표면에는 형성하고자하는 패턴과 대응하는 감광패턴을 형성하는 클리체를 포함하여 구성되고, 상기 인쇄롤 표면에 공급된 감광액에 광을 조사하는 광조사기를 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the printing apparatus for pattern formation according to the present invention includes a cylindrical printing roll, a photosensitive liquid supplier for supplying a photosensitive liquid to the surface of the printing roll, and a plurality of convex patterns, and the photosensitive film coated on the printing roll surface is the convex pattern. When rotated in contact with the light, the surface of the printing roll comprises a cliché to form a photosensitive pattern corresponding to the pattern to be formed, the light irradiator for irradiating light to the photosensitive liquid supplied to the surface of the printing roll It may be configured to include more.
상기한 바와 같이, 본 발명에서는 액정표시소자 등과 같은 표시소자의 능동소자 패턴을 형성하기 위해, 인쇄방법을 사용한다. 특히, 그라비아 오프셋 인쇄는 오목판에 잉크를 묻혀 여분의 잉크를 긁어내고 인쇄를 하는 인쇄방식으로서, 출판용, 포장용, 셀로판용, 비닐용, 폴리에틸렌용 등의 각종 분야의 인쇄방법으로서 알려져 있다. 본 발명에서는 이러한 인쇄방법을 사용하여 표시소자에 적용되는 능동소자나 회로패턴을 제작한다.As described above, in the present invention, a printing method is used to form an active element pattern of a display element such as a liquid crystal display element. In particular, gravure offset printing is a printing method in which ink is applied to a concave plate to scrape off excess ink, and printing is known as a printing method in various fields such as publishing, packaging, cellophane, vinyl, polyethylene, and the like. In the present invention, such an printing method is used to produce an active element or a circuit pattern applied to the display element.
그라비아 오프셋 인쇄는 인쇄롤을 이용하여 기판 상에 잉크를 전사하기 때문에, 원하는 표시소자의 면적에 대응하는 인쇄롤을 이용함으로써 대면적의 표시소자의 경우에도 1회의 전사에 의해 패턴을 형성할 수 있게 된다. 이러한 그라비아 오프셋 인쇄는 표시소자의 각종 패턴들, 예를 들어 액정표시소자의 경우 TFT 뿐만 아니라 상기 TFT와 접속되는 게이트라인 및 데이터라인, 화소전극, 캐패시터용 금속패턴을 패터닝하는데 사용될 수 있다.Since gravure offset printing transfers ink onto a substrate using a printing roll, it is possible to form a pattern by one transfer even in the case of a large display element by using a printing roll corresponding to the area of a desired display element. do. Such gravure offset printing can be used to pattern various patterns of display devices, for example, TFTs as well as gate patterns and data lines, pixel electrodes, and capacitor metal patterns connected to the TFTs.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 패턴형성방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a pattern forming method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도3a∼도3c는 인쇄방식을 이용하여 기판 상에 잉크패턴을 형성하는 방법을 나타내는 도면이다. 도3a에 도시된 바와 같이, 인쇄방식에서는 우선 오목판 또는 클리체(130)의 특정 위치에 홈(132)을 형성한 후 상기 홈(132) 내부에 잉크(134)을 충진한다. 상기 클리체(130)에 형성되는 홈(132)은 일반적인 포토리소그래피방법에 의해 형성되며, 홈(132) 내부로의 잉크(134) 충진은 클리체(130)의 상부에 패턴형성용 잉크(134)을 도포한 후 닥터블레이드(138)를 클리체(130)의 표면에 접촉한 상태에서 밀어줌으로써 이루어진다. 따라서, 닥터블레이드(138)의 진행에 의해 홈(132) 내부에 잉크(134)가 충진됨과 동시에 클리체(130) 표면에 남아 있는 잉크(134)는 제거된다.3A to 3C show a method of forming an ink pattern on a substrate using a printing method. As shown in FIG. 3A, in the printing method, first, the groove 132 is formed at a specific position of the concave plate or the cliché 130, and then the ink 134 is filled in the groove 132. The grooves 132 formed in the cliché 130 are formed by a general photolithography method, and the filling of the ink 134 into the grooves 132 is pattern forming ink 134 on the top of the cliché 130. ) And then push the doctor blade 138 in contact with the surface of the cliché 130. Therefore, the ink 134 is filled in the groove 132 by the progress of the doctor blade 138 and the ink 134 remaining on the surface of the cliché 130 is removed.
도3b에 도시된 바와 같이, 상기 클리체(130)의 홈(132) 내부에 충진된 잉크(134)는 상기 클리체(130)의 표면에 접촉하여 회전하는 인쇄롤(131)의 표면에 전사된다. 상기 인쇄롤(131)은 제작하고자 하는 표시소자의 패널의 폭과 동일한 폭으로 형성되며, 패널의 길이와 동일한 길이의 원주를 갖는다. 따라서, 1회의 회전에 의해 클리체(130)의 홈(132)에 충진된 잉크(134)이 모두 인쇄롤(131)의 원주 표면에 전사된다.As shown in FIG. 3B, the ink 134 filled in the groove 132 of the cliché 130 is transferred to the surface of the printing roll 131 which rotates in contact with the surface of the cliché 130. do. The printing roll 131 is formed to have the same width as the width of the panel of the display device to be manufactured, and has a circumference of the same length as the length of the panel. Therefore, the ink 134 filled in the groove 132 of the cliché 130 is transferred to the circumferential surface of the printing roll 131 by one rotation.
이후, 도3c에 도시된 바와 같이, 상기 인쇄롤(131)을 기판(130') 위에 형성된 식각대상층(140)의 표면과 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라 상기 인쇄롤(131)에 전사된 잉크(134)이 상기 식각대상층(140)에 전사되며, 이 전사된 잉크(134)에 UV 조사 또는 열을 가하여 건조시킴으로써 잉크패턴(133)을 형성한다. 이때에도 상기 인쇄롤(131)의 1회전에 의해 표시소자의 기판(130') 전체에 걸쳐 원하는 패턴(133)을 형성할 수 있게 된다. 이어서, 상기 잉크패턴(133)을 마스크로 하여 식각대상층(140)을 식각함으로써, 원하는 패턴을 형성할 수가 있다.3C, the ink transferred to the printing roll 131 as the printing roll 131 is rotated in contact with the surface of the etch target layer 140 formed on the substrate 130 ′. 134 is transferred to the etching target layer 140, and the ink pattern 133 is formed by applying UV radiation or heat to the transferred ink 134 to dry. In this case, the desired pattern 133 may be formed over the entire substrate 130 ′ of the display device by one rotation of the printing roll 131. Subsequently, by etching the etching target layer 140 using the ink pattern 133 as a mask, a desired pattern can be formed.
상기한 바와 같이, 인쇄방식에서는 클리체(130)와 인쇄롤(131)을 원하는 표시소자의 크기에 따라 제작할 수 있으며, 1회의 전사에 의해 기판(130')에 패턴을 형성할 수 있으므로, 대면적 표시소자의 패턴도 한번의 공정에 의해 형성할 수 있게 된다.As described above, in the printing method, the cliché 130 and the printing roll 131 can be manufactured according to the size of the desired display element, and a pattern can be formed on the substrate 130 'by one transfer. The pattern of the area display element can also be formed by one process.
상기 식각대상층(140)은 TFT의 게이트전극이나 소스/드레인전극, 게이트라인, 데이터라인 혹은 화소전극과 같은 전극을 형성하기 위한 금속층이거나, 액티브층을 형성하기 위한 반도체층을 수 있으며, SiOx나 SiNx와 같이 절연층일 수도 있다.The etching target layer 140 may be a metal layer for forming an electrode such as a gate electrode, a source / drain electrode, a gate line, a data line, or a pixel electrode of the TFT, or may be a semiconductor layer for forming an active layer, and may be SiOx or SiNx. It may be an insulating layer as shown.
실제의 표시소자의 패턴을 형성하는 경우, 상기 잉크패턴(133)은 종래 포토공정에서의 레지스트(resist) 역할을 하며, 인쇄방식에서는 감광물질이 첨가되지 않는다. 따라서, 금속층이나 절연층 위에 상기와 같은 잉크패턴(133)을 형성한 후 일반적인 에칭공정에 의해 금속층이나 절연층을 에칭함으로써 원하는 패턴의 금속층(즉, 전극구조)이나 절연층(예를 들면, 컨택홀 등)을 형성할 수 있게 된다.When the actual pattern of the display device is formed, the ink pattern 133 serves as a resist in the conventional photo process, and no photosensitive material is added in the printing method. Therefore, after forming the ink pattern 133 as described above on the metal layer or the insulating layer, the metal layer or the insulating layer is etched by a general etching process, so that the metal layer (ie, the electrode structure) or the insulating layer (for example, the contact) of the desired pattern is formed. Holes, etc.) can be formed.
상기와 같이 인쇄방식은 많은 장점을 가진다. 특히, 대면적인 표시소자에 1회의 공정에 의해 잉크패턴을 형성하거나 종래의 포토리소그래피 공정에 비해 공정이 매우 간단하다는 점은 인쇄방식이 가질 수 있는 대표적인 장점이다.As described above, the printing method has many advantages. In particular, the ink pattern is formed on a large display element by one process or the process is very simple compared to the conventional photolithography process, which is a representative advantage of the printing method.
그러나, 상기와 같은 인쇄방식은 클리체의 홈내부에 잘 채워기기 위한 잉크특성과 인쇄롤 표면에 전사된 잉크패턴이 식각대상층에 제대로 재전사되기 위해 요구되는 잉크특성이 상반되기 때문에, 인쇄특성을 향상시키는데, 한계가 있다.However, the printing method as described above is incompatible with the ink properties for filling the inside of the groove of the cliché and the ink properties required for the ink pattern transferred to the surface of the printing roll to be properly retransferred to the etching target layer. There is a limit to improvement.
이를 좀더 구체적으로 설명하면, 상기 클리체 홈내부에 잉크가 잘 채워지기 위해서는 상대적으로 잉크의 점도(viscosity)가 낮고, 분자량이 적은 특성이 요구되는 반면에, 클리체의 홈내부에 충진된 잉크를 인쇄롤 표면에 전사시키고, 이를 다시 식각대상층 상에 재전사시키기 위해서는 홈내부에 충진되는 잉크에 비해 점도가 높고, 어느 정도의 경도(hardness)와 탄력성(elasticity)이 요구된다. In more detail, in order for the ink to be well filled in the cliché groove, a relatively low viscosity and low molecular weight of the ink are required, whereas the ink filled in the cleft of the cliché is filled. In order to transfer to the surface of the printing roll and retransfer it on the etching target layer, the viscosity is higher than the ink filled in the groove, and a certain degree of hardness and elasticity is required.
이와같이, 인쇄방식은 동일한 물질에 대하여 공정중에 서로 상이한 특성이 요구되기 때문에 패턴불량이 발생하며, 특히 미세패턴을 형성하기에 적합하지 않다. 즉, 홈내부에 잉크를 완전하게 충진시킬 수 있는 잉크를 선택할 경우, 인쇄롤로의 잉크전사가 제대로 이루지지 않게 되며, 상대적으로 점도가 높은 잉크(인쇄롤로의 전사가 용이한 잉크)를 선택할 경우, 클리체 홈내부에 잉크가 완전하게 충진되지 않는 문제가 발생하게 된다. 따라서, 클리체로부터 인쇄롤에 잉크가 제대로 전사되지 않거나, 클리체의 홈내부에 잉크가 완전히 충진되지 않게되면, 패턴이 제대로 형성될 수가 없다.As described above, the printing method generates a pattern defect because different characteristics are required in the process for the same material, and is not particularly suitable for forming a fine pattern. That is, when selecting an ink that can completely fill the ink in the groove, ink transfer to the printing roll is not made properly, and when a relatively high viscosity ink (ink that is easy to transfer to the printing roll) is selected, There is a problem that ink is not completely filled in the cliché groove. Therefore, if ink is not transferred from the cliché to the printing roll properly or ink is not completely filled in the grooves of the cliché, the pattern cannot be formed properly.
따라서, 본 발명은 특히 이러한 문제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 잉크 대신 감광액을 인쇄방식에 사용함으로써, 인쇄특성을 향상시키고, 미세패턴을 형성하는데 적합한 패턴형성방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention has been made in particular to solve such a problem, and by using a photosensitive liquid instead of ink in a printing method, it is to provide a pattern forming method suitable for improving printing characteristics and forming fine patterns.
즉, 클리체 홈내부에 잘 채워질 수 있는 물성을 충족시키는 감광액을 선택하여, 클리체의 홈내부에 감광액을 완전히 충진시킨 후에, 이를 노광하여 점도 및 경도와 같은 물성을 변화시킨다. 일반적으로, 감광액은 광과 반응하게 되면, 점도 및 경도가 높아지는 특성을 가지고 있기 때문에, 클리체 홈내부에 감광액을 완전히 채운 후에, 광을 조사하게 되면, 인쇄롤에 전사되기에 적합한 점도 및 경도를 가지게 된다. 이와같이, 감광액의 물성을 변화시킨 상태에서 인쇄롤에 전사시킨 후, 이를 다시 식각대상층에 재전사시킴으로써, 인쇄공정 중에 요구되는 레지스트의 특성을 모두 충족킬 수가 있다.That is, by selecting a photosensitive liquid that satisfies the physical properties that can be well filled in the cliché groove, and after completely filling the photosensitive liquid in the groove of the cliché, it is exposed to change properties such as viscosity and hardness. In general, the photosensitive liquid has a property of increasing viscosity and hardness when reacted with light. Therefore, when the photosensitive liquid is completely filled into the cliché groove, the photosensitive liquid is irradiated with light to obtain a viscosity and hardness suitable for transferring to a printing roll. Have. In this manner, the transfer of the photoresist to the printing roll in a state where the physical properties of the photoresist is changed and then retransmitted to the etching target layer can satisfy all the properties of the resist required during the printing process.
도4a∼도4e는 미세패턴에 적합한 본 발명의 패턴형성방법을 나타낸 것으로, 먼저, 도4a에 도시된 바와 같이, 클리체(230)의 특정 위치에 홈(232)을 형성한 후 상기 홈(232) 내부에 PAC(Photo Active Compound) 또는 PI(Photo initiator)와 같은 감광물질을 함유된 감광액(234)을 충진시킨다. 이때, 사용되는 감광액(234)은 100cps이하의 점도를 가지는 것으로, 홈(232)내부에 완전히 채워질 수 있을 정도의 점도를 선택한다.4A to 4E illustrate a pattern forming method of the present invention suitable for a fine pattern. First, as shown in FIG. 4A, a groove 232 is formed at a specific position of the cliché 230, and then the groove ( 232 is filled with a photosensitive liquid 234 containing a photosensitive material such as PAC (Photo Active Compound) or PI (Photo Initiator). In this case, the photosensitive liquid 234 used has a viscosity of 100 cps or less, and selects a viscosity that can be completely filled in the groove 232.
홈(232) 내부로의 감광액(234) 충진은 클리체(230)의 상부에 감광액(234)을 도포한 후, 닥터블레이드(238)를 클리체(230)의 표면에 접촉한 상태에서 밀어줌으로써 이루어진다. 따라서, 닥터블레이드(238)의 진행에 의해 홈(232) 내부에 감광액(234)가 충진됨과 동시에 클리체(230) 표면에 남아 있는 감광액(234)은 제거된다.Filling the photosensitive liquid 234 into the groove 232 is applied by applying the photosensitive liquid 234 to the upper portion of the cliché 230, by pushing the doctor blade 238 in contact with the surface of the cliché 230 Is done. Therefore, the photosensitive liquid 234 is filled in the groove 232 by the progress of the doctor blade 238 and the photosensitive liquid 234 remaining on the surface of the cliché 230 is removed.
이어서, 도4b에 도시된 바와 같이, 클리체(230)의 홈(232) 내부에 충진된 감광액(234)에 UV와 같은 광(도면 상에 화살표로 표기)을 조사함으로써, 상기 감광액(234)의 물성을 변화시킨다. 즉, 도4c에 도시된 바와 같이, 노광된 감광액(234a)은 PAC(Photo Active Compound) 또는 PI(Photo initiator)와 같은 감광물질을 함유하고 있기 때문에, 광과 반응하여 점도 및 경도가 광을 조사하기 이전에 비하여 높아지게 된다.Subsequently, as shown in FIG. 4B, the photosensitive liquid 234 is irradiated by irradiating light such as UV (indicated by arrows on the drawing) to the photosensitive liquid 234 filled in the groove 232 of the cliché 230. Change the physical properties of That is, as shown in FIG. 4C, since the exposed photosensitive liquid 234a contains a photosensitive material such as a PAC (Photo Active Compound) or PI (Photo Initiator), the viscosity and hardness of the photoresist react with the light to irradiate the light. It will be higher than before.
도4c에 도시된 바와 같이, 상기 클리체(230)의 홈(232) 내부에 충진된 감광패턴(234a)은 상기 클리체(230)의 표면에 접촉하여 회전하는 인쇄롤(231)의 표면에 전사된다. 이때, 감광패턴(234a)은 클리체(230)로부터 분리되어 인쇄롤(231)에 전사되기에 적합한 점도와 경도를 가지고 있으며, 이것은, 노광강도 및 노광시간에 의해 조절할 수 있다.As shown in FIG. 4C, the photosensitive pattern 234a filled in the groove 232 of the cliché 230 is formed on the surface of the printing roll 231 which rotates in contact with the surface of the cliché 230. Is transferred. At this time, the photosensitive pattern 234a is separated from the cliché 230 and has a viscosity and hardness suitable for being transferred to the printing roll 231, which can be adjusted by the exposure intensity and the exposure time.
상기 인쇄롤(231)은 제작하고자 하는 표시소자의 패널의 폭과 유사한 폭으로 형성되며, 패널의 길이와 유사한 길이의 원주를 갖는다. 따라서, 1회의 회전에 의해 클리체(230)의 홈(232)에 충진된 감광패턴(234a)이 모두 인쇄롤(231)의 원주 표면에 전사된다.The printing roll 231 is formed to have a width similar to the width of the panel of the display device to be manufactured, and has a circumference of a length similar to the length of the panel. Therefore, all of the photosensitive patterns 234a filled in the grooves 232 of the cliché 230 are transferred to the circumferential surface of the printing roll 231 by one rotation.
이후, 도4e에 도시된 바와 같이, 상기 인쇄롤(231)을 기판(230') 위에 형성된 식각대상층(240)의 표면과 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라 상기 인쇄롤(231)에 전사된 감광패턴(234a)이 상기 식각대상층(240)에 전사되며, 전사된 감광패턴(234a)에 UV 조사 또는 열을 가하여 감광패턴(234a)의 경도(hardness)를 더욱 향상시킬 수가 있다.Thereafter, as shown in FIG. 4E, the photosensitive transferred to the printing roll 231 is rotated by rotating the printing roll 231 in contact with the surface of the etching target layer 240 formed on the substrate 230 ′. The pattern 234a is transferred to the etching target layer 240, and UV hardness or heat is applied to the transferred photosensitive pattern 234a to further improve the hardness of the photosensitive pattern 234a.
이때에도 상기 인쇄롤(231)의 1회전에 의해 표시소자의 기판(230') 전체에 걸쳐 원하는 패턴(234a)을 형성할 수 있게 되며, 상기 감광패턴(234a)을 마스크로하여 식각대상층(240)을 식각함으로써, 원하는 패턴을 형성할 수가 있다.In this case, the desired pattern 234a may be formed over the entire substrate 230 'of the display device by one rotation of the printing roll 231, and the etching target layer 240 may be formed using the photosensitive pattern 234a as a mask. By etching), a desired pattern can be formed.
상기한 바와 같이, 본 실시예는 감광액을 인쇄방식에 적용함으로써, 동일재료에 대하여 각각의 공정에서 요구하는 다른 특성을 충족시킬 수가 있다. 즉, 클리체의 홈내부에 감광액을 충진시키는 공정과, 클리체의 홈내부에 충진된 감광액을 인쇄롤에 전사시키고, 이를 다시 기판 상에 재전사시키기는 공정에 있어서, 감광액에 대한 서로 다른 물리적 특성이 요구되는데, 감광액의 노광을 통해 두 공정이 요구하는 특성을 모두 만족시킬 수가 있다.As described above, in this embodiment, by applying the photosensitive liquid to the printing method, it is possible to satisfy other characteristics required in each step for the same material. That is, in the process of filling the photoresist into the grooves of the cliché, and the process of transferring the photoresist filled in the grooves of the cliché to a printing roll and retransferring it onto the substrate, different physical properties of the photoresist Properties are required, and the photoresist can be exposed to satisfy the properties required by both processes.
한편, 본 실시예에서 클리체는 원통형의 롤을 사용할 수도 있으며, 도5a∼도5c은 원통형 롤을 클리체로 이용한 패턴형성방법을 나타낸 것으로, 클리체의 형상을 제외한 모든 공정이 이전실시예와 동일하다.Meanwhile, in the present embodiment, the cliché may use a cylindrical roll, and FIGS. 5A to 5C illustrate a pattern forming method using the cylindrical roll as the cliché, and all processes except for the shape of the cliché are the same as in the previous embodiment. Do.
도5a에 도시된 바와 같이, 표면에 형성하고자 하는 감광패턴과 동일한 형상의 홈(332)이 형성되어 있으며, 인쇄롤(331)과 맞물려 회전하는 어닐록스롤(330)을 준비한다. 이때, 상기 어닐록스롤(330)은 클리체와 동일한 역할을 하는 것으로, 상기 어닐록스롤(330)이 회전하는 동안 감광액공급기(335)로부터 감광액(334)이 공급되며, 홈(332) 내부에는 감광액(334)이 충진된다. 홈(332) 내부로의 감광액(334) 충진은 상기 어닐롤스롤(330)의 일측에 구비된 닥터블레이드(338)가 어닐록스롤(330) 표면에 접촉한 상태에서 어닐롤스롤(330)이 회전함에 따라, 홈(332) 내부에 감광액(334)이 충진됨과 동시에 어닐록스롤(330) 표면에 남아 있는 감광액(334)은 제거된다.As shown in FIG. 5A, grooves 332 having the same shape as the photosensitive pattern to be formed are formed on the surface thereof, and an anneal roll 330 which rotates in engagement with the printing roll 331 is prepared. At this time, the anilox roll 330 plays the same role as the cliché, and the photoresist 334 is supplied from the photoresist supply 335 while the anilox roll 330 is rotated, and the inside of the groove 332 is provided. The photosensitive liquid 334 is filled. Filling the photoresist 334 into the groove 332 is the annealing roll 330 in the state that the doctor blade 338 provided on one side of the anneal roll 330 is in contact with the surface of the anneal roll 330. As it rotates, the photoresist 334 is filled in the groove 332 and the photoresist 334 remaining on the surface of the anneal roll 330 is removed.
상기 감광액(334)은 이전실시예에서 언급한 바와 같이, PAC(Photo Active Compound) 또는 PI(Photo initiator)와 같은 감광물질을 함유하고 있는 것으로, 100cps이하의 점도를 가진다.As mentioned in the previous embodiment, the photoresist 334 contains a photosensitive material such as a photo active compound (PAC) or a photo initiator (PI), and has a viscosity of 100 cps or less.
상기 홈(332) 내부에 충진된 감광액(324)은 어닐록스롤(330) 일측에 구비된 노광기에 의해 광이 조사되어, 그 특성이 바뀌게 된다. 즉, 노광된 감광패턴(334a)은 광과 반응하여 점도 및 경도가 광을 조사하기 이전에 비하여 높아지게 된다.The photoresist 324 filled in the groove 332 is irradiated with light by an exposure apparatus provided at one side of the annealing roll 330, and the characteristics thereof are changed. That is, the exposed photosensitive pattern 334a reacts with the light, and the viscosity and hardness thereof are higher than before the light is irradiated.
이어서, 노광된 감광패턴(334a)은 상기 어닐록스롤(330)과 맞물려 회전하는 인쇄롤(331) 표면에 전사된다. Subsequently, the exposed photosensitive pattern 334a is transferred to the surface of the printing roll 331 which rotates in engagement with the annealing roll 330.
이때, 노광기가 상기 인쇄롤(331)의 일측에 구비되어 인쇄롤(331)에 전사된 감광패턴을 노광시킬 수 있으며, 인쇄롤(331)에 전사된 감광패턴을 노광하는 경우, 어닐록스롤(330)의 홈(332) 내부에 충진된 감광액(334)의 노광공정을 생략할 수 있다.At this time, the exposure machine is provided on one side of the printing roll 331 to expose the photosensitive pattern transferred to the printing roll 331, when exposing the photosensitive pattern transferred to the printing roll 331, The exposure process of the photosensitive liquid 334 filled in the groove 332 of the 330 may be omitted.
이후, 도5b에 도시된 바와 같이, 상기 인쇄롤(331)을 기판(330') 위에 형성된 식각대상층(340)의 표면과 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라 상기 인쇄롤(331)에 전사된 감광패턴(334a)이 상기 식각대상층(340)에 전사된다. 아울러, 전사된 감광패턴(334a)에 UV 조사 또는 열을 가하여 감광패턴(334a)의 경도(hardness)를 더욱 향상시킬 수가 있다.5B, the photosensitive transferred to the printing roll 331 is rotated by rotating the printing roll 331 in contact with the surface of the etching target layer 340 formed on the substrate 330 '. The pattern 334a is transferred to the etching target layer 340. In addition, the hardness of the photosensitive pattern 334a may be further improved by applying UV irradiation or heat to the transferred photosensitive pattern 334a.
도6a∼도6c는 본 발명의 기본개념을 이용한 인쇄방식을 나타낸 것으로, 도6a에 도시된 바와 같이, 원통형 롤(431) 표면에 감광액공급기(435)를 통해 감광막(434)을 도포한다. 이때, 감광액(434)은 100cps 이하의 점도를 가지며, PAC(Photo Active Compound) 또는 PI(Photo initiator)와 같은 감광물질을 함유하고 있다.6A to 6C illustrate a printing method using the basic concept of the present invention. As shown in FIG. 6A, the photosensitive film 434 is coated on the surface of the cylindrical roll 431 through the photosensitive liquid supplier 435. At this time, the photosensitive liquid 434 has a viscosity of 100 cps or less and contains a photosensitive material such as a photo active compound (PAC) or a photo initiator (PI).
이때, 상기 원통형롤(431)에 도포된 감광막(434)의 낮은 점도특성 때문에 흘러내리지 않도록, 감광막(434)을 도포하는 동안, 원통형롤(431)의 일측에 구비된 노광기를 통해 상기 감광막(434)을 노광시킨다. 이때, 노광된 감광막(434a)은 점도가 향상되기 때문에, 원통형롤(431)에서 흘러내리지 않으며, 이에따라, 롤(431) 표면에 균일한 두께의 감광막(434a)을 형성할 수가 있다.At this time, during the application of the photosensitive film 434, so as not to flow down due to the low viscosity characteristics of the photosensitive film 434 applied to the cylindrical roll 431, the photosensitive film 434 through an exposure machine provided on one side of the cylindrical roll 431 ) Is exposed. At this time, the exposed photosensitive film 434a does not flow down from the cylindrical roll 431 because the viscosity is improved, whereby the photosensitive film 434a having a uniform thickness can be formed on the surface of the roll 431.
이어서, 도6b에 도시된 바와 같이, 표면에 복수의 볼록패턴(430')이 형성된 클리체(430)을 준비한 다음, 상기 클리체(430) 표면에 감광막(434a)이 도포된 롤(431)을 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라, 상기 클리체(430)의 볼록패턴(430')과 접촉하지 않는 인쇄롤(431) 표면에 감광패턴(434b)을 형성한다. 이때, 볼록패턴(430')을 갖는 클리체(430)는 기존의 포토리소그래피공정을 통해 형성할 수 있다. 즉, 유리재질의 기판을 준비한 다음, 상기 기판 전면에 금속막을 증착한 후, 이를 패터닝함으로써, 금속패턴을 형성한다. 이어서, 상기 금속패턴을 마스크로 하여 기판을 에칭함으로써, 금속패턴이 형성된 영역에 볼록패턴(430')을 형성할 수가 있다. 이때, 금속패턴을 제거할 수도 있다. Subsequently, as shown in FIG. 6B, a cliché 430 having a plurality of convex patterns 430 ′ is prepared, and then a roll 431 having a photosensitive film 434a applied to the cliché 430 surface. As it rotates in the contact state, a photosensitive pattern 434b is formed on the surface of the printing roll 431 which is not in contact with the convex pattern 430 'of the cliché 430. In this case, the cliché 430 having the convex pattern 430 ′ may be formed through a conventional photolithography process. That is, after preparing a glass substrate, a metal film is deposited on the entire surface of the substrate, and then patterned to form a metal pattern. Subsequently, by etching the substrate using the metal pattern as a mask, the convex pattern 430 'can be formed in the region where the metal pattern is formed. In this case, the metal pattern may be removed.
이와 같이 제작된 클리체(430) 표면에 감광막(434a)이 도포된 롤(431)을 회전시켜 진행시킴에 따라, 볼록패턴(430')과 접촉하는 영역의 유기막(434a')이 볼록패턴(430') 상에 남게된다. 이에 따라, 볼록패턴(430')과 접촉하지 않는 인쇄롤(431) 표면에는 감광패턴(434b)이 남게된다.As the roll 431 having the photosensitive film 434a coated on the surface of the cliché 430 manufactured as described above is rotated, the organic film 434a 'of the area in contact with the convex pattern 430' is convex. Remain on 430 '. Accordingly, the photosensitive pattern 434b remains on the surface of the printing roll 431 which does not contact the convex pattern 430 '.
이후에, 도6c에 도시된 바와 같이, 상기 인쇄롤(431) 표면에 남아 있는 감광패턴(434b)에 UV를 조사하거나, 열을 안가함으로써, 감광패턴(434a)의 점도 및 경도를 더욱 향상시킬 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 6C, by irradiating UV to the photosensitive pattern 434b remaining on the surface of the printing roll 431 or by applying no heat, the viscosity and hardness of the photosensitive pattern 434a may be further improved. Can be.
상기한 바와 같이 본 발명은 인쇄방식에 의한 패턴형성방법을 제공하는 것으로, 특히 클리체의 홈내부에 완전히 채워질 수 있으며, 롤표면에 도포가 유리한 점도특성과, 식각대상층에 전사시키기에 유리한 점도(경도) 특성을 모두 충족시킬 수 있는 감광물질을 사용함으로써, 패턴의 불량을 방지하고, 미세패턴을 유리한 패턴형성방법을 제공한다.As described above, the present invention provides a method for forming a pattern by a printing method. In particular, the present invention can be completely filled in the groove of the cliché, and has a favorable viscosity property to be applied to the roll surface and a viscosity to be transferred to the etching target layer. By using a photosensitive material capable of satisfying all the hardness) characteristics, it is possible to prevent a defect of a pattern and to provide a pattern formation method that favors a fine pattern.
상기한 인쇄방식에 의한 패턴형성방법은 액정표시소자와 같은 표시소자의 능동소자나 회로뿐만 아니라 반도체 웨이퍼상에서의 소자형성에도 사용될 수 있을 것이다. 또한, 본 발명의 기본 개념인 감광물질을 인쇄방식에 적용하는 예는 본 발명의 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 실시예에 설명되지 않는 감광물질을 이용한 인쇄방식을 모두 포함할 것이다. 따라서, 이러한 본 발명의 다른 예나 변형예는 본 발명의 기본적인 개념을 이용하면 본 발명이 속하는 기술분야에 종사하는 사람이라면 누구나 용이하게 창안할 수 있을 것이다.The pattern forming method by the printing method may be used not only for the active element or circuit of a display element such as a liquid crystal display element but also for element formation on a semiconductor wafer. In addition, the example of applying the photosensitive material, which is the basic concept of the present invention, to the printing method is not limited to the embodiment of the present invention, and will include all the printing methods using the photosensitive material which are not described in the present embodiment. Therefore, the other examples or modifications of the present invention can be easily created by anyone in the technical field to which the present invention belongs by using the basic concept of the present invention.
상술한 바와 같이, 본 발명은 인쇄방식에서 감광액을 이용하여 패턴을 형성함으로써, 각각의 공정마다 요구되는 동일한 재질에 대한 상반되는 특성을 모두 충족시킴으로써, 패턴불량을 방지하여 원하는 패턴을 정확하게 형성할 수 있게 된다.As described above, the present invention by forming a pattern using a photosensitive liquid in the printing method, by satisfying all the opposing properties for the same material required for each process, it is possible to prevent the pattern defects to accurately form the desired pattern Will be.
도1은 일반적인 액정표시소자의 구조를 나타내는 평면도.1 is a plan view showing the structure of a general liquid crystal display device.
도2는 도1에 도시된 액정표시소자의 박막트랜지스터 구조를 나타내는 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a thin film transistor structure of the liquid crystal display shown in FIG.
도3a∼도3c는 그라비아 오프셋 인쇄방식에 의한 패턴 형성방법을 나타내는 도면.3A to 3C are views showing a pattern forming method by a gravure offset printing method.
도4a∼도4e는 본 발명의 일실시예에 따른 패턴형성방법을 나타낸 도면.4A to 4E illustrate a pattern forming method according to an embodiment of the present invention.
도5a∼도5b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 패턴형성방법을 나타낸 도면.5a to 5b are views showing a pattern forming method according to another embodiment of the present invention.
도6a∼도6c는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 패턴형성방법을 나타낸 도면.6a to 6c are views showing a pattern forming method according to another embodiment of the present invention.
*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for main parts of drawing ***
231,331,431 : 인쇄롤 234,334,434: 감광액231,331,431: Printing rolls 234,334,434: Photoresist
234a,334a,434a: 노광된 감광패턴 350,450: 노광기234a, 334a, 434a: Exposed photosensitive pattern 350, 450: Exposure machine
Claims (17)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040040105A KR100724480B1 (en) | 2004-06-02 | 2004-06-02 | Method for fabricating patterns by printing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040040105A KR100724480B1 (en) | 2004-06-02 | 2004-06-02 | Method for fabricating patterns by printing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050114968A true KR20050114968A (en) | 2005-12-07 |
| KR100724480B1 KR100724480B1 (en) | 2007-06-04 |
Family
ID=37289067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020040040105A KR100724480B1 (en) | 2004-06-02 | 2004-06-02 | Method for fabricating patterns by printing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100724480B1 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012128481A2 (en) * | 2011-03-22 | 2012-09-27 | (주)뉴옵틱스 | Method for duplicating pattern using exposure process on cylindrical mold |
| WO2012128482A2 (en) * | 2011-03-22 | 2012-09-27 | (주)뉴옵틱스 | Method for duplicating pattern on cylindrical mold using uv imprint technique |
| KR101272980B1 (en) * | 2010-07-08 | 2013-06-10 | 주식회사 엘지화학 | Light guide plate for led using gravure-offset method, and the process of manufacturing the same |
| KR20160029481A (en) * | 2014-09-05 | 2016-03-15 | 한국기계연구원 | A method of manufacturing a printing roller |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3141296B2 (en) * | 1991-07-12 | 2001-03-05 | 株式会社リコー | Recording method |
| JPH0872384A (en) * | 1994-08-31 | 1996-03-19 | Toyo Shigyo Kk | Method for printing very fine pattern |
| EP1003078A3 (en) * | 1998-11-17 | 2001-11-07 | Corning Incorporated | Replicating a nanoscale pattern |
| JP2000289320A (en) * | 1999-04-02 | 2000-10-17 | Mitsumura Printing Co Ltd | Imaging device |
| JP2004111822A (en) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | Method of manufacturing translucent electromagnetic wave shielding member |
-
2004
- 2004-06-02 KR KR1020040040105A patent/KR100724480B1/en active IP Right Grant
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101272980B1 (en) * | 2010-07-08 | 2013-06-10 | 주식회사 엘지화학 | Light guide plate for led using gravure-offset method, and the process of manufacturing the same |
| WO2012128481A2 (en) * | 2011-03-22 | 2012-09-27 | (주)뉴옵틱스 | Method for duplicating pattern using exposure process on cylindrical mold |
| WO2012128482A2 (en) * | 2011-03-22 | 2012-09-27 | (주)뉴옵틱스 | Method for duplicating pattern on cylindrical mold using uv imprint technique |
| WO2012128482A3 (en) * | 2011-03-22 | 2012-12-27 | (주)뉴옵틱스 | Method for duplicating pattern on cylindrical mold using uv imprint technique |
| WO2012128481A3 (en) * | 2011-03-22 | 2012-12-27 | (주)뉴옵틱스 | Method for duplicating pattern using exposure process on cylindrical mold |
| KR101389270B1 (en) * | 2011-03-22 | 2014-04-30 | (주)뉴옵틱스 | Method for reprinting pattern using exposure in cylindrical mold |
| KR20160029481A (en) * | 2014-09-05 | 2016-03-15 | 한국기계연구원 | A method of manufacturing a printing roller |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100724480B1 (en) | 2007-06-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7361285B2 (en) | Method for fabricating cliche and method for forming pattern using the same | |
| US7276445B2 (en) | Method for forming pattern using printing method | |
| JP4084290B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display element | |
| US7441500B2 (en) | Method for forming printing roll patterns | |
| US7569153B2 (en) | Fabrication method of liquid crystal display device | |
| KR100825315B1 (en) | A cliche for printing ink and a method of fabricating thereof | |
| US6759348B1 (en) | Pattern and its forming method of liquid crystal display device | |
| US6875704B2 (en) | Method for forming pattern using printing process | |
| KR100724480B1 (en) | Method for fabricating patterns by printing method | |
| KR100631016B1 (en) | A method for fabricating printing roll forming pattern using printing process and method for forming pattern using the same | |
| US7520220B2 (en) | Cliché unit, printing apparatus, and printing method using the same | |
| KR20080062952A (en) | Printing roll and method for fabricating liquid crystal display device using it | |
| KR100950133B1 (en) | A method of forming pattern using printing process | |
| KR100631015B1 (en) | A method for fabricating printing roll and method for forming pattern using the same | |
| KR100631014B1 (en) | Method of fabricating a printing roll and method of forming pattern using thereof | |
| KR20080001797A (en) | Cliche for printing resist and process of fabricating thereof | |
| US8105762B2 (en) | Method for forming pattern using printing process | |
| KR100817126B1 (en) | An apparatus for printing magnetic resist and a method of forming pattern using thereof | |
| KR20030034975A (en) | A gravure printing apparatus and a method of forming pattern using thereof | |
| KR100923679B1 (en) | Method of forming pattern for liquid crystal display device by printing process | |
| KR20040059093A (en) | Fabrication method of liquid crystal display device | |
| KR20080062953A (en) | Method for forming pattern using printing process |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| G170 | Publication of correction | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120330 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130329 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150429 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160428 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170413 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180416 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190417 Year of fee payment: 13 |