KR20050110486A - 광 주사장치 - Google Patents

광 주사장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20050110486A
KR20050110486A KR1020040035525A KR20040035525A KR20050110486A KR 20050110486 A KR20050110486 A KR 20050110486A KR 1020040035525 A KR1020040035525 A KR 1020040035525A KR 20040035525 A KR20040035525 A KR 20040035525A KR 20050110486 A KR20050110486 A KR 20050110486A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
reflection mirror
mirror
light beams
optical
Prior art date
Application number
KR1020040035525A
Other languages
English (en)
Inventor
천진권
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020040035525A priority Critical patent/KR20050110486A/ko
Publication of KR20050110486A publication Critical patent/KR20050110486A/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B62—LAND VEHICLES FOR TRAVELLING OTHERWISE THAN ON RAILS
    • B62J—CYCLE SADDLES OR SEATS; AUXILIARY DEVICES OR ACCESSORIES SPECIALLY ADAPTED TO CYCLES AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR, e.g. ARTICLE CARRIERS OR CYCLE PROTECTORS
    • B62J9/00—Containers specially adapted for cycles, e.g. panniers or saddle bags
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F21/00—Mobile visual advertising
    • G09F21/04—Mobile visual advertising by land vehicles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Accounting & Taxation (AREA)
  • Marketing (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)

Abstract

광 주사장치가 개시되어 있다. 개시된 광 주사장치는, 입사광빔을 편향 주사하기 위한 복수의 편향면을 갖는 광 편향기와; 광 편향기에서 편향 주사된 광빔을 결상시키기 위한 결상 광학계와; 출사된 광빔들이 서로 반대 방향에서 광 편향기의 서로 다른 편향면에 입사되도록 배치된 제1 및 제2광원과; 입사광빔들을 반사시키는 제1반사 미러와; 제1 및 제2광원에서 출사되고, 광 편향기에 의해 편향된 광빔들의 광경로를 조절하여, 편향된 광빔들이 제1반사 미러 상에 부주사 방향에 대해 서로 다른 높이로 입사되고 제1반사미러에 의해 반사되어 나란히 진행하도록 하는 제1반사 미러 시스템;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 개시된 광 주사장치는, 제1반사 미러에서 반사된 4개의 광빔들의 간격을 조정하는 제2반사 미러 시스템;을 더 포함할 수 있다.
이러한 광 주사장치는 광학적 배치에 의해 광빔들의 주사 방향을 일치시키므로, 소프트웨어를 단순화시킬 수 있다. 따라서, 주사 방향이 바뀌어 에러를 일으킬 가능성을 최소화할 수 있다.

Description

광 주사장치{Light scanning apparatus}
본 발명은 광 주사장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 주사 방향을 일치시킬 수 있도록 된 광 주사장치에 관한 것이다.
일반적으로, LSU(Laser Scanning Unit)와 같은 광 주사장치는 디지털 복사기, 레이저 프린터, 팩시밀리, 바코드판독기 등과 같이 인쇄용지에 화상을 재현하는 화상형성장치에 적용되어, 화상 신호에 의해 반도체 레이저와 같은 광원으로부터 출사된 광을 화상형성장치의 감광매체에 주사하여 정전잠상(electrostatic latent image)을 형성하는 장치이다. 감광매체에 형성된 잠상을 현상하고 종이 등의 매개체에 전사함에 의해 화상이 재현된다.
일반적으로, 단색 화상형성장치에서는 하나의 광 주사장치가, 칼라 화상형성장치에서는 예를 들어, 시안(Cyan:C), 옐로우(Yellow:Y), 마젠타(Magenta:M) 및 블랙(Black:K) 각각에 대응하는 4개의 광 주사장치가 사용된다. 최근에는 칼라 화상형성장치에서도 장치 구성을 단순화하기 위하여 하나의 광 주사장치로 칼라 화상을 구현할 수 있도록 개발된 탠덤(Tandem)형 광 주사장치가 알려져 있다.
도 1은 대한민국 공개특허 2000-0047538호에 개시된 종래의 탠덤형 광 주사장치의 구조를 개략적으로 보인 측면도이고, 도 2는 도 1의 평면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 종래의 탠덤형 광 주사장치에 있어서, 4개의 광원(14a)(14b)(14c)(14d)은 각각 반도체 레이저, 반도체 레이저에서 출사된 광빔을 평행광속으로 바꾸어주는 콜리메이팅렌즈, 빔폭을 정화시켜주는 슬릿, 광빔을 부주사 방향에 대응하여 폴리곤 미러(polygon mirror:26)에 초점이 맺히도록 하는 실린드리컬 렌즈로 구성되어 있다.
광원(14a)(14b)에서 출사된 광빔(14a')(14b')은 평면 미러(17a)에서 반사되어 주주사 방향에 대응하는 방향으로만 파워를 가지는 에프-세타(f-θ) 렌즈(20a)를 투과하여 폴리곤 미러(26)에 입사된다.
광원(14c)(14d)에서 출사된 광빔(14c')(14d')은 평면 미러(17b)에서 반사되어 주주사 방향에 대응하는 방향으로만 파워를 가지는 에프-세타(f-θ) 렌즈(20b)를 투과하여 폴리곤 미러(26)에 입사된다.
이때, 폴리곤 미러(26)의 각 미러면(26a)에서는 실린드리컬 렌즈로 인하여 주주사 방향으로 긴 상이 맺히게 된다.
회전 구동부(28)에 의해 폴리곤 미러(26)가 회전하면서 주사된 광빔(14a')(14b')과 광빔(14c')(14d')은 다시 한번 에프-세타 렌즈(20a)(20b)에 각각 입사된다. 에프-세타 렌즈(20a)(20b)를 각각 투과한 광빔(14a')(14b')과 광빔(14c')(14d')은 평면 미러(18a)(18b)(18c)(18d)에서 반사되어 원통 미러(24c)(24d)(24a)(24b)에 이르고, 이 광빔(14a')(14b')(14c')(14d')은 감광매체(38c)(38d)(38a)(38b)에 수평으로 반사된다.
상기와 같은 종래의 탠덤형 광 주사장치는, 4개의 단일 광원을 사용하여, 양측에서 주사한 광빔들(14a')(14b')(14c')(14d')이 감광매체(38c)(38d)(38a)(38b)에 주사할 때, 광원(14a)(14b)에서 출사된 광빔(14a')(14b')이 주사되는 방향과 광원(14c)(14d)에서 출사된 광빔(14c')(14d')에서 주사되는 방향이 다르다.
이와 같이 주사되는 방향이 다른 경우, 소프트웨어적으로 주사 순서를 바꾸어 주사 방향이 다른 문제를 해결할 수는 있지만, 프로그램이 복잡하여 에러를 일으킬 가능성이 높아 바람직하지 못하다.
또한, 평면 반사 미러는 가격이 싸고 가공이 쉽지만, 원통 미러는 가공이 어려워 가격 상승의 원인이 되는데, 종래의 탠덤형 광 주사장치는, 4개의 원통 미러(24c)(24d)(24a)(24b)를 사용하므로, 제조 단가 상승의 원인이 된다.
또한, 종래의 탠덤형 광 주사장치는, 별개로 된 4개의 광원을 사용하므로, 그 광원의 수만큼 콜리메이팅렌즈, 슬릿 및 실린드리컬 렌즈가 필요하여, 제조 단가를 낮추는데 어려움이 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 점을 감안하여 안출된 것으로, 광학적 배치에 의해 주사방향을 일치시킬 수 있으며, 가공이 어려워 가격 상승의 원인이 되는 원통 미러의 사용이 배제되고, 광원내에 포함되는 전체 광학부품의 수를 줄일 수 있도록 개선된 광 주사장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 광 주사장치는, 입사광빔을 편향 주사하기 위한 복수의 편향면을 갖는 광 편향기와; 상기 광 편향기에서 편향 주사된 광빔을 결상시키기 위한 결상 광학계와; 출사된 광빔들이 서로 반대 방향에서 상기 광 편향기의 서로 다른 편향면에 입사되도록 배치된 제1 및 제2광원과; 입사광빔들을 반사시키는 제1반사 미러와; 상기 제1 및 제2광원에서 출사되고, 상기 광 편향기에 의해 편향된 상기 광빔들의 광경로를 조절하여, 편향된 광빔들이 상기 제1반사 미러 상에 부주사 방향에 대해 서로 다른 높이로 입사되고 상기 제1반사미러에 의해 반사되어 나란히 진행하도록 하는 제1반사 미러 시스템;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 광 편향기는 복수의 미러면을 가지는 폴리곤 미러이고, 상기 제1 및 제2광원은 그로부터 출사된 광빔들이 상기 폴리곤 미러의 서로 평행하지 않은 두 미러면에 서로 반대 방향에서 입사되도록 배치된 것이 바람직하다.
상기 제1 및 제2광원은 각각 제1 및 제2듀얼 광빔을 출사하는 듀얼 광원을 포함하여, 적어도 4개의 광빔이 상기 광 편향기에 의해 편향 주사되도록 된 것이 바람직하다.
상기 제1반사 미러 시스템은, 상기 제1광원에서 출사되고 상기 광 편향기에 의해 편향된 제1듀얼 광빔을 반사시켜 상기 제1반사미러 상의 소정 위치로 입사시키는 제1평면미러와; 상기 제2광원에서 출사되고 상기 광 편향기에 의해 편향된 제2듀얼 광빔을 2회 반사시켜 상기 부주사 방향에 대해 상기 제1듀얼 광빔보다 위쪽에서 상기 제1반사미러로 입사되도록 하는 제2 및 제3평면미러;를 포함할 수 있다.
상기 제1반사 미러에서 반사된 4개의 광빔들의 간격을 조정하는 제2반사 미러 시스템;을 더 포함할 수 있다.
상기 제2반사 미러 시스템은, 상기 제1반사 미러에서 반사된 4개의 광빔 간격을 조정하여 나란히 진행시키도록 배치된 다수의 평면 미러를 포함하여, 4개의 광빔이 각각 나란히 배치된 4개의 감광매체로 전달되도록 마련될 수 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하면서 본 발명에 따른 광 주사장치의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 탠덤형 광 주사장치를 개략적으로 보인 평면도이고, 도 4는 도 3의 제1반사 미러에 의해 반사된 광빔의 경로를 보인 측면도이다.
도면들을 참조하면, 본 발명에 따른 광 주사장치는, 광 편향기와, 결상 광학계와, 제1 및 제2광원(50)(70)과, 제1반사 미러(97)와, 제1반사 미러 시스템(90)을 포함하여 구성된다. 또한, 본 발명에 따른 광 주사장치는, 제2반사 미러 시스템(100)을 더 구비하는 것이 바람직하다.
상기 광 편향기는, 주주사 방향으로 등선속으로 광을 주사하기 위한 것으로, 상기 제1 및 제2광원(50)(70)으로부터 출사된 광을 편향시키기 위한 복수의 편향면을 갖는다. 이 광 편향기는 구동 모터에 의해 화상 형성동작 동안 한 방향으로 일정속도로 회전 구동된다.
상기 광 편향기로는 도 3에 도시된 바와 같이 입사된 광빔을 반사시키는 다수의 미러면(편향면:80a,80b)을 가지는 폴리곤 미러(polygon mirror:80)을 구비할 수 있다. 이하에서는, 상기 광 편향기가 폴리곤 미러(80)인 경우를 예를 들어 설명한다.
상기 결상 광학계는, 폴리곤 미러(80)의 미러면(80a)(80b)에서 편향된 등속도의 광을 수차를 보정하여 피주사면 예컨대, 감광드럼과 같은 감광매체(30)의 화상 형성면상에 결상시키기 위한 것으로, 결상 렌즈로서 에프-세타(f-θ) 렌즈(110)를 구비할 수 있다. 도 3에서는 상기 결상 광학계로 1매의 렌즈로 된 에프-세타 렌즈(110)를 구비한 예를 보여준다. 이와 같이, 에프-세타 렌즈(110)가 1매의 렌즈로 이루어진 경우, 2매의 렌즈로 된 경우에 비해 제조 단가를 낮출 수 있는 이점이 있다.
후술하는 바와 같이, 본 발명에 따른 광 주사장치가, 하나의 폴리곤 미러(80)에 의해 4개의 광빔(도 5의 51a,51b,71a,71b)을 편향 주사하는 경우, 상기 에프-세타 렌즈(110)는 도 4에 보여진 바와 같이, 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b) 각각의 경로 상에 배치된다.
상기 에프-세타 렌즈(110)는 폴리곤 미러(80)의 미러면(80a)(80b)에서 편향된 광빔을 주주사 방향과 부주사 방향으로 서로 다른 굴절력으로 감광매체(30) 상에 결상시킨다.
상기 제1 및 제2광원(50)(70)은 레이저 광빔을 출사하도록 반도체 레이저를 구비할 수 있다.
상기 제1 및 제2광원(50)(70)은 출사된 광빔들이 서로 반대 방향에서 상기 폴리곤 미러(80)의 서로 다른 미러면(80a)(80b)에 입사되도록 배치된다.
상기와 같이, 광 편향기로 복수의 미러면(80a)(80b)을 가지는 폴리곤 미러(80)을 구비하는 경우, 상기 제1 및 제2광원(50)(70)은 그로부터 출사된 광빔들(51a,51b,71a,71b)이 상기 폴리곤 미러(80)의 서로 평행하지 않은 두 미러면(80a)(80b)에 서로 반대 방향에서 일직선상으로 입사되도록 배치된다.
도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 광 주사장치는 상기 제1 및 제2광원(50)(70)으로 각각 듀얼 광원 즉, 듀얼 반도체 레이저를 구비하는 것이 바람직하다. 이 경우, 제1광원(50)으로부터 제1듀얼 광빔(51), 제2광원(70)으로부터 제2듀얼 광빔(71)이 출사되어, 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)이 하나의 폴리곤 미러(80)에 의해 편향 주사되게 된다.
제1광원(50)에서 출사된 제1듀얼 광빔(51)은 콜리메이팅 렌즈(53), 슬릿(55) 및 실린드리컬 렌즈(57)를 순차로 경유하여 폴리곤 미러(80)의 일 미러면(80a)에 입사된다. 상기 제1듀얼 광빔(51)은 콜리메이팅 렌즈(53)를 투과하여 평행광으로 되고, 슬릿(55)을 통과하면서 빔폭이 정형화된다. 정형화된 제1듀얼 광빔(51)은 폴리곤 미러(80)이 고속 회전할 때 빔의 흔들림을 최소화하기 위해, 실린드리컬 렌즈(57)를 투과하면서 폴리곤 미러(80)의 미러면(80a)에 주주사 방향으로 긴 상을 맺는다.
마찬가지로, 제2광원(70)에서 출사된 제2듀얼 광빔(71)은 콜리메이팅 렌즈(73), 슬릿(75) 및 실린드리컬 렌즈(77)를 순차로 경유하여 폴리곤 미러(80)의 상기 일 미러면(80a)과 평행하지 않은 다른 미러면(80b)에 입사된다. 상기 제2듀얼 광빔(71)은 콜리메이팅 렌즈(73)를 투과하여 평행광으로 되고, 슬릿(75)을 통과하면서 빔폭이 정형화된다. 정형화된 제1듀얼 광빔(71)은 폴리곤 미러(80)이 고속 회전할 때 빔의 흔들림을 최소화하기 위해, 실린드리컬 렌즈(77)를 투과하면서 폴리곤 미러(80)의 미러면(80b)에 주주사 방향으로 긴 상을 맺는다.
여기서, 칼라 화상형성장치에서는, 예컨대, 시안, 옐로우, 마젠타, 블랙의 4칼라를 사용하여 칼라 화상을 구현하는데, 상기와 같이 본 발명에 따른 광 주사장치가 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)을 하나의 폴리곤 미러(80)에 의해 편향 주사하는 경우에는, 칼라 화상형성장치에 하나의 본 발명에 따른 광 주사장치만을 사용하는 것으로 충분하다. 따라서, 비교적 고가인 폴리곤 미러(80)을 1개만 사용하게 되므로, 칼라 화상형성장치의 제조 단가를 낮추는데 기여할 수 있다. 또한, 제1 및 제2광원(50)(70)으로 각각 듀얼 광원을 사용하면, 두 광빔(51a,51b)(71a,71b)에 대해 콜리메이팅렌즈(53)(73), 슬릿(55)(75) 및 실린드리컬 렌즈(57)(77)를 공통으로 사용할 수 있기 때문에, 별개로 된 4개의 광원을 사용하는 경우에 비해, 필요한 콜리메이팅렌즈, 슬릿 및 실린드리컬 렌즈의 수를 반으로 줄일 수 있어, 제조 단가를 낮출 수 있다.
여기서는, 본 발명에 따른 광 주사장치가, 제1 및 제2광원(50)(70)을 구비하고, 제1 및 제2광원(50)(70)이 각각 듀얼 광원으로, 4개의 광빔을 주사하도록 된 경우를 예를 들어 설명 및 도시하지만, 본 발명에 따른 광 주사장치의 광학적 구성이 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 보다 섬세한 칼라 표현을 위해, 본 발명에 따른 광 주사장치는, 5개 또는 그 이상의 광빔을 주사하도록 구성될 수도 있다.
예를 들어, 상기 제1 및 제2광원(50)(70) 중 적어도 어느 하나는 3개의 광빔을 출사하도록 구성된 광원이거나, 듀얼 광원 및 이에 부가하여 일측에 별도로 1개의 광빔 또는 복수개의 광빔을 출사하는 광원을 더 추가한 구성을 갖는 광원일 수 있다. 이 경우, 후술하는 제2반사 미러 시스템(100), 에프-세타 렌즈(110) 및/또는 감광매체(30)는 5개 이상의 광빔 간격을 조정하여, 감광매체(30)에 결상시키도록 적절히 변형된다.
한편, 상기 제1반사 미러(97)는, 상기 폴리곤 미러(80)에 의해 편향되고, 제1반사 미러 시스템(90)에 의해 반사되어 입사된 광빔들을 반사시켜 나란히 진행시킨다. 상기 제1반사 미러(97)로는 평면 미러를 사용할 수 있다.
상기 제1반사 미러 시스템(90)은 제1 내지 제3평면 미러(91)(93)(95)를 포함할 수 있다.
상기 제1평면 미러(91)는, 제1광원(50)에서 출사되고 폴리곤 미러(80)에 편향된 제1듀얼 광빔(51)을 반사시켜 제1반사미러(97) 상의 소정 위치 즉, 상대적으로 아래쪽으로 입사시킨다.
상기 제2 및 제3평면 미러(93)(95)는, 제2광원(70)에서 출사되고 폴리곤 미러(80)에 의해 편향된 제2듀얼 광빔(71)을 2회 반사시켜 부주사 방향에 대해 상기 제1듀얼 광빔(51)보다 위쪽에서 제1반사 미러(97)로 입사되도록 한다.
상기 제1평면 미러(91)와 상기 제2 및 제3평면 미러(93)(95)는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 제1 및 제2듀얼 광빔(51)(71)이 제1반사 미러(97) 상에 서로 다른 높이로 입사되도록 함과 동시에, 그 제1반사 미러(97)에 의해 반사된 제1 및 제2듀얼 광빔(51)(71)이 서로 나란히 즉, 부주사 방향에 수직으로 진행하도록 배치된 것이 바람직하다. 도 5에 보여진 바와 같이, 제1 및 제2광원(50)(70)이 각각 폴리곤 미러(80)의 미러면(80a)(80b) 상에 상,하로 이격된 듀얼 광빔(51)(71)을 조사하도록 배치될 때, 제1반사 미러(97)에는 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)이 서로 다른 높이로 입사된다.
이 경우, 상기 제1반사 미러 시스템(90)은, 제1 및 제2광원(50)(70)으로부터 출사되고 폴리곤 미러(80)에 의해 편향된 광빔들(51a,51b,71a,71b)의 광경로를 조절하여, 편향된 광빔들(51a,51b,71a,71b)이 상기 제1반사 미러(97) 상에 부주사 방향에 대해 서로 다른 높이로 입사되고, 상기 제1반사 미러(97)에 의해 반사되어 나란히 진행하도록 한다.
한편, 상기와 같이 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)이 하나의 폴리곤 미러(80)에 의해 편향 주사되는 경우, 상기 제2반사 미러 시스템(100)은, 제1반사 미러(97)에서 반사된 4개의 광빔들(51a,51b,71a,71b)의 간격을 조정하도록 구성된다.
도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제2반사 미러 시스템(100)은, 제1반사 미러(97)에서 반사된 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b) 간격을 조정하고 나란히 진행시키도록 배치된 다수의 평면 미러(101)(102)(103)(104)(105)(106)(107)(108)(109)(111)를 포함할 수 있다. 이 제2반사 미러 시스템(100)은, 충분한 광빔 간격이 확보되도록 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b) 간격을 조정하여, 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)이 각각 나란히 배치된 4개의 감광매체(30)로 전달될 수 있도록 한다.
상기 제2반사 미러 시스템(100)에 의해 간격이 조정된 광빔들(51a,51b,71a,71b)은, 에프 세타 렌즈(110)에 의해 피주사면 즉, 감광매체(30) 상에 결상된다.
상기 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)이 감광매체(30)에 이르는 광경로 상에는 각각 결상 광학계 예컨대, 1매의 렌즈로 된 에프-세타 렌즈(110)가 배치된다. 따라서, 본 발명에 따른 광 주사장치는 총 4개의 에프-세타 렌즈(110)를 사용한다.
여기서, 화상형성장치에서는, 대전장치에 의해 감광매체(30) 예컨대, 감광드럼을 대전시키고, 화상 정보에 따라 주사되는 광빔에 의해 감광매체(30)를 노광시켜 잠상을 형성한다. 그리고, 현상 장치에 의해 잠상을 현상한 뒤 일정 속도로 반송되는 용지에 전사를 행한다.
상기한 바와 같은 구성을 갖는 광 주사장치는 탠덤형 광 주사장치로, 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)이 단일 폴리곤 미러(80)에 의해 편향되고, 제1반사 미러 시스템(90) 및 제1반사 미러(97)에 의해 나란히 진행하므로, 4개의 광빔(51a,51b,71a,71b)이 동일한 주사 방향으로 주사된다. 따라서, 본 발명에 따른 광 주사장치를 적용하면, 소프트웨어적으로 주사 순서를 바꿀 필요가 없다.
상기한 바와 같은 본 발명에 따르면, 광 주사장치에서 광학적 배치에 의해 광빔들의 주사 방향을 일치시키므로, 소프트웨어를 단순화시킬 수 있다. 따라서, 주사 방향이 바뀌어 에러를 일으킬 가능성을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 광 주사장치는, 가공이 어려워 가격 상승의 원인이 되는 원통 미러의 사용을 배제하고 평면 미러를 사용하며, 듀얼 광원을 사용함에 의해 필요한 콜리메이팅렌즈, 슬릿 및 실린드리컬 렌즈의 수를 줄일 수 있으므로, 제조 단가를 낮출 수 있다.
도 1은 대한민국 공개특허 2000-0047538호에 개시된 종래의 탠덤형 광 주사장치의 구조를 개략적으로 보인 측면도이다.
도 2는 도 1의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 탠덤형 광 주사장치를 개략적으로 보인 평면도이다.
도 4는 도 3의 제1반사 미러에 의해 반사된 광빔의 경로를 보인 측면도이다.
도 5는 도 3의 폴리곤 미러에 제1 및 제2광원으로부터 출사된 제1 및 제2듀얼 광빔이 입사되는 경로를 보인 도면이다.
도 6은 도 3의 제1반사 미러에 4개의 광빔이 입사되는 위치를 보여준다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
30...감광매체 50,70...제1 및 제2광원
51,71...제1 및 제2듀얼 광빔 51a,51b,71a,71b...광빔
80...폴리곤 미러 80a,80b...미러면
90...제1반사 미러 시스템 91,93,95...제1 내지 제3평면 미러
97...제1반사 미러 100...제1반사 미러 시스템
110...에프-세타 렌즈

Claims (8)

  1. 입사광빔을 편향 주사하기 위한 복수의 편향면을 갖는 광 편향기와;
    상기 광 편향기에서 편향 주사된 광빔을 결상시키기 위한 결상 광학계와;
    출사된 광빔들이 서로 반대 방향에서 상기 광 편향기의 서로 다른 편향면에 입사되도록 배치된 제1 및 제2광원과;
    입사광빔들을 반사시키는 제1반사 미러와;
    상기 제1 및 제2광원에서 출사되고, 상기 광 편향기에 의해 편향된 상기 광빔들의 광경로를 조절하여, 편향된 광빔들이 상기 제1반사 미러 상에 부주사 방향에 대해 서로 다른 높이로 입사되고 상기 제1반사미러에 의해 반사되어 나란히 진행하도록 하는 제1반사 미러 시스템;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광 편향기는 복수의 미러면을 가지는 폴리곤 미러이고,
    상기 제1 및 제2광원은 그로부터 출사된 광빔들이 상기 폴리곤 미러의 서로 평행하지 않은 두 미러면에 서로 반대 방향에서 입사되도록 배치된 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 및 제2광원은 각각 제1 및 제2듀얼 광빔을 출사하는 듀얼 광원을 포함하여, 적어도 4개의 광빔이 상기 광 편향기에 의해 편향 주사되도록 된 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제1반사 미러 시스템은,
    상기 제1광원에서 출사되고 상기 광 편향기에 의해 편향된 제1듀얼 광빔을 반사시켜 상기 제1반사미러 상의 소정 위치로 입사시키는 제1평면미러와;
    상기 제2광원에서 출사되고 상기 광 편향기에 의해 편향된 제2듀얼 광빔을 2회 반사시켜 상기 부주사 방향에 대해 상기 제1듀얼 광빔보다 위쪽에서 상기 제1반사미러로 입사되도록 하는 제2 및 제3평면미러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2광원은 각각 제1 및 제2듀얼 광빔을 출사하는 듀얼 광원을 포함하여, 적어도 4개의 광빔이 상기 광 편향기에 의해 편향 주사되도록 된 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1반사 미러 시스템은,
    상기 제1광원에서 출사되고 상기 광 편향기에 의해 편향된 제1듀얼 광빔을 반사시켜 상기 제1반사미러 상의 소정 위치로 입사시키는 제1평면미러와;
    상기 제2광원에서 출사되고 상기 광 편향기에 의해 편향된 제2듀얼 광빔을 2회 반사시켜 상기 부주사 방향에 대해 상기 제1듀얼 광빔보다 위쪽에서 상기 제1반사미러로 입사되도록 하는 제2 및 제3평면미러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
  7. 제3항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1반사 미러에서 반사된 4개의 광빔들의 간격을 조정하는 제2반사 미러 시스템;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제2반사 미러 시스템은,
    상기 제1반사 미러에서 반사된 4개의 광빔 간격을 조정하여 나란히 진행시키도록 배치된 다수의 평면 미러를 포함하여, 4개의 광빔이 각각 나란히 배치된 4개의 감광매체로 전달되도록 마련된 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
KR1020040035525A 2004-05-19 2004-05-19 광 주사장치 KR20050110486A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040035525A KR20050110486A (ko) 2004-05-19 2004-05-19 광 주사장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040035525A KR20050110486A (ko) 2004-05-19 2004-05-19 광 주사장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20050110486A true KR20050110486A (ko) 2005-11-23

Family

ID=37286004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040035525A KR20050110486A (ko) 2004-05-19 2004-05-19 광 주사장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20050110486A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5648488B2 (ja) 光走査装置及び画像形成装置
JP3851469B2 (ja) マルチビーム光源走査装置
JP2001004948A (ja) マルチビーム光源走査装置
JP2006258918A (ja) 走査光学装置及びそれを用いたカラー画像形成装置
KR100359049B1 (ko) 다중 비임 주사 광학 장치 및 칼라 화상 형성 장치
US6313906B1 (en) Multibeam scanning device
US7639273B2 (en) Image forming apparatus
KR100856154B1 (ko) 주사광학장치 및 그것을 이용한 화상형성장치
JP2001133707A (ja) 走査光学装置
US6873445B2 (en) Optical multi-beam scanning device and image forming apparatus
JP2004163740A (ja) マルチビーム走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置
JP3832087B2 (ja) 光ビーム走査光学装置
JP2002287057A (ja) マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
JP5511226B2 (ja) 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置
JP4425505B2 (ja) 画像形成装置
US20080158329A1 (en) Light scanning unit and image forming apparatus having the same
JP2004020607A (ja) 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
JP2002090672A (ja) 光走査装置およびこれを用いた画像形成装置
KR20050110486A (ko) 광 주사장치
US11550147B2 (en) Optical scanning device, image forming apparatus including optical scanning device, and optical scanning method
US20040056185A1 (en) Light scanning device of laser printer
JP2000180749A (ja) 光走査装置
JPH10239626A (ja) 光学走査装置及び画像形成装置
US7202986B2 (en) Light scanning unit
JPH10253905A (ja) 光ビーム走査光学装置

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination