KR20050100404A

KR20050100404A - 수발 가성모낭염을 치료하기 위한 방법 및 장치

Info

Publication number: KR20050100404A
Application number: KR1020057015361A
Authority: KR
Inventors: 일야 야로슬라브스키; 마이클 스모트리치; 그레고리 비. 알트슐러; 안드레이 브이. 에로페에프
Original assignee: 팔로마 메디칼 테크놀로지스, 인코포레이티드
Priority date: 2003-02-19
Filing date: 2004-02-19
Publication date: 2005-10-18
Also published as: AU2004213047A1; CN1750795A; WO2004073537A2; CA2515843A1; JP2006518266A; WO2004073537A3; EP1599147A2; US20040230258A1

Abstract

본 발명은 모의 일부 또는 전부의 형태 및/또는 화학적 구조를 변형시키기 위해 하나 이상의 모에 에너지가 침착되도록 피부 처리 영역에 전자기 방사선(EMR)을 적용시키는 것을 포함하는 모 처리를 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 적용되는 방사선은 모첨을 가열하여 모첨의 형태의 변형, 즉 모첨의 예리함을 감소시킬 수 있다. 모의 변형은 모첨, 모간 및/또는 모기질의 형태, 조성 또는 작용을 열-유도 변화시켜 모가 피부로 덜 재진입하도록 한다. 이러한 방법 및 장치는 처리 영역 내의 수발 가성모낭염(PFB)을 치료하고/하거나 예방할 수 있다. 1200 ㎚ 내지 1400 ㎚의 파장을 이용하여 모 성장을 관리하기 위한 방법이 또한 기재되어 있다

Description

수발 가성모낭염을 치료하기 위한 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR TREATING PSEUDOFOLLICULITIS BARBAE}

본 발명은 일반적으로 모(hair) 처리 방법, 더욱 특히 전자기 방사선(EMR)을 사용하여 수발 가성모낭염(PFB)을 치료하고 예방하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.

수발 가성모낭염은 성장하는 모가 표피로 재진입(reentry) 침투하여 발생하는 수염 영역의 만성 구진농포성 피부염(papulopustular dermatitis)이다. PFB는 곱슬거리는 모를 지닌 사람(남성 및 여성)에게서 보다 우세하게 발생한다. 보다 어두운 피부 유형(Ⅳ 내지 Ⅵ)의 사람이 또한 이러한 질환에 특히 민감하다. 역학적 연구(PK Perry et al. J. Am. Acad. Dermatol., 46:S113-S119, 2002)는 흑인 환자에 대해 45% 내지 83%의 추정 발병율을 제시한다.

PFB의 발병기전은 개인의 모 구조에 의해 결정된다. 곡선 유형의 모 성장은 발병 과정을 개시하는 주요한 특징이다. 이러한 유형의 모 성장을 지닌 사람에서, 모는 피부 표면으로부터 출현하여 표피의 방향으로 굽어진다. 완전한 원을 이루는 방향으로 성장이 지속되는 경우(즉, 모낭외(extrafollicular) 침투), 모가 피부로 침투하게 된다. 이어지는 이물질형(foreign-body-type) 염증 반응은 다수의 구진 및 연속 스펙트럼 내에서 농포를 발생시킨다. 또한, 출현한 모는 재진입에 앞서 피부의 일부를 가로질러 호를 그리기 보다는 모낭벽을 침투한다(즉, 모낭 통과성(transfollicular) 침투).

통상적인 치료 방법은 1) 수염 기르기, 2) PFB-특이적 면도 기술, 3) 탈모 및 국소용 크림의 적용(예컨대, 미국 특허 제 6,352,690호) 및 4) 살로 파고든 모의 처리를 위한 전기 요법(예컨대, 미국 특허 제 5,419,344호)을 포함한다.

최근, 원치 않는 모를 제거하기 위해 최초로 개발된 레이저에 기초한 처리 방식이 PFB를 치료하는데 적용되었다. 그러나, 통상적인 처리 방식은 많은 결점을 지닌다. 특히, 수염을 기르는 것은 많은 직업에 있어서 선택권의 자유가 없고, PFB-특이적 면도 기술은 성가시고, 시간이 걸리고, 종종 충분히 효과적이지 않다. 국소용 탈모제는 사용하기 어려울 수 있고, 중증의 피부 자극을 야기하고 질환을 악화시킬 수 있다. 오직 숙련된 전문가에 의해 수행될 수 있는 전기요법은 비용이 많이 들고 극도로 시간이 걸린다. 레이저 방식은 이러한 문제에 대한 치료 해법을 제공하나, 이는 현재 의료 시설에서만 가능하고, 현존하는 시스템은 보다 어두운 피부 유형의 환자에게는 최적 이하일 수 있다.

따라서, PFB의 안전하고 효과적인 자가 치료 방법이 당 분야에 필요하다.

발명의 개요

한 양태에서, 본 발명은 모첨(hair tip)의 일부 또는 전부를 변형시키기 위해 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모첨 내에 에너지가 침착되도록 피부 처리 영역에 전자기 방사선을 적용시키는 것을 포함하는 모 처리 방법을 제공한다. 적용되는 방사선은 피부 표면 아래 약 0.2 ㎜로부터 피부 표면 위의 약 1 ㎜까지 걸쳐있을 수 있는 모첨을 가열하여 모첨의 형태를 변형(예컨대, 모첨의 예리함을 감소시킴)시킬 수 있다. 모첨의 변형은 모첨의 형태를 가열-유도 변화시켜(즉, 처리되는 모첨의 말단을 실질적으로 둥근 형태로 만듦) 모가 피부로 덜 재진입하도록 하는 것을 수반한다. 따라서, 적용되는 방사선은 처리 영역 내의 수발 가성모낭염(PFB)을 치료하고/하거나 예방할 수 있다. 더욱 특히, 모첨의 형태의 변형은 모첨에 의한 모낭외 침투 및/또는 모낭 통과성 침투를 억제할 수 있다. 몇몇 구체예에서, 적용되는 방사선은 모첨의 피질 및/또는 소피(cuticle)중 어느 것에 비가역적 열손상을 야기시킬 수 있다.

적용되는 방사선은 모첨의 온도를 약 50 내지 약 300℃로 상승시킬 수 있다. 방사선의 파라미터는 모첨의 온도를 약 50 내지 약 300℃로 상승시키며 처리 영역 내의 표피 온도를 약 65℃ 미만, 바람직하게는 60℃ 또는 55℃ 미만으로 유지시키도록 선택될 수 있다. 처리 영역에 대해 약 0.01 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도를 적용시키기 위해 다수의 전자기 펄스가 처리 영역에 유도될 수 있다. 펄스는 약 1 나노 초 내지 약 5 분 또는 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지닐 수 있다. 펄스는 0.1 Hz 내지 약 10 MHz의 반복율을 지닐 수 있다. 통상적으로, 펄스는 처리되는 영역의 ㎠ 당 약 1 나노 초 내지 약 100 초 동안 지속되는 처리 기간 동안 적용된다. 바람직하게는, 적용되는 방사선은 모첨의 멜라닌에 의해 흡수되는 파장 성분을 포함한다. 예를들어, 방사선은 약 280 ㎚ 내지 약 100,000 ㎚, 더욱 바람직하게는 약 360 ㎚ 내지 약 600 ㎚의 파장 성분을 포함할 수 있다.

관련된 양태에서, 모 처리 방법은 예컨대, 표피에 비하여 모첨의 선택적인 가열을 향상시키기 위해 처리 영역 내의 표피를 냉각시키는 것을 포함할 수 있다. 냉각 단계는 방사선을 적용하기 전, 적용하는 동안 또는 적용한 후에 처리 영역에 대해 수행될 수 있고, 처리시의 표피 온도가 위험하거나 불쾌한 수준, 즉 100℃ 이상으로 증가하는 것을 예방하기 위해 사용될 수 있다.

본 발명의 방법은 피부 처리 영역에 대해 국소용 작용제를 적용하는 것을 추가로 포함할 수 있고, 이러한 국소용 작용제는 모첨의 형태를 변형시키는 것을 촉진하기 위해 방사선에 의해 광활성화될 수 있다. 국소용 작용제는 하나 이상의 외인성 발색단(chromophore) 및 임의로는 외인성 발색단을 모 자체에 전달하거나 처리 영역 내의 모의 모지관(pilosebaceous canal)으로 전달하기 위한 비히클을 포함할 수 있다. 외인성 발색단은 모첨의 가열을 촉진하기 위해 적용되는 방사선의 파장과 최소한 부분적으로 매치(match)되는 흡수 스펙트럼을 지니도록 선택될 수 있다.

추가의 양태에서, 모 처리 방법은 처리 영역을 탈모시키는 것을 포함할 수 있다. 탈모는 면도, 클리핑(clipping), 탈모용 크림의 적용, 추가적인 전자기 방사선의 적용 또는 임의의 기타 적절한 기술에 의해 수행될 수 있다. 예를들어, 피부 표면 위로 돌출된 모첨의 부분을 제거할 수 있는 탈모 단계는 전자기 방사선의 처리 펄스를 적용하기 전 또는 적용한 후 또는 실질적으로 전자기 방사선의 처리 펄스 적용과 동시에 처리 영역에 다수의 전자기 펄스를 적용함으로써 수행될 수 있다.

모 처리 방법은 또한 처리하기 전 또는 처리하는 동안에 피부 처리 영역을 스트레칭(stretching)하는 것을 포함할 수 있다. 이러한 방법은 또한 적용되는 방사선에 모첨이 더욱 접근 가능해지도록 피부 처리 영역을 리프팅(lifting)하는 것을 포함할 수 있다. 임의의 적절한 메커니즘, 예컨대 기계적, 진공 또는 정전기적 메커니즘을 통하여 모첨이 적용되는 방사선에 보다 직접적으로 접촉되도록 하기 위해 모첨 자체가 리프팅될 수 있다.

다른 양태에서, 본 발명은 또한 모간(hair shaft)을 변형시키기에 충분히 상승된 온도로 처리 영역 내의 하나 이상의 모간을 가열하기 위해 전자기 방사선을 피부 처리 영역에 적용시킴으로써 모를 처리하는 방법을 제공한다. 모간의 변형은 모간의 곱슬거림을 감소(즉, 모간을 실질적으로 곧은 형태가 되도록 함)시킬 수 있다. 변형은 또한 모간의 연성을 증가시키는 것, 모의 직경 또는 형태를 변화시키는 것, 모의 인장강도를 증가시키는 것 및/또는 모의 탄성을 증가시키는 것을 포함할 수 있다. 상승된 온도는 예컨대 약 50℃ 내지 약 300℃일 수 있다. 방사선은 또한 모간의 인장강도를 변화시킬 수 있다. 인장강도의 변화는 약 1 내지 약 200 MPa의 파괴응력일 수 있다. 방사선은 처리 영역 내의 수발 가성모낭염(PFB)을 치료하고 예방하거나 감소시키기 위해 모간의 충분한 변형(즉, 모간의 곱슬거림의 감소)을 제공할 수 있다. 적용되는 전자기 방사선은 약 380 ㎚ 내지 약 2700 ㎚, 바람직하게는 약 600 내지 약 1400 ㎚ 또는 약 800 내지 약 1350 ㎚의 파장 성분을 지니는 다수의 전자기 펄스를 통해 피부 처리 영역으로 전달될 수 있다. 더욱이, 처리 영역 내의 표피는 처리하기 전, 처리하는 동안 및/또는 처리한 후에 냉각될 수 있다. 게다가, 처리 영역 내의 모는 전자기 방사선의 적용에 앞서 실질적으로 곧은 형태가 될 수 있고/있거나 방사선에 의해 광활성화 될 수 있는 국소용 작용제가 모간의 연화 및/또는 곧은 형태화를 촉진하기 위해 처리 영역에 적용될 수 있다.

또 다른 양태에서, 본 발명은 모 성장을 조절하기 위해 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모낭에 약 1200 내지 약 1400 ㎚의 파장 성분을 지니는 전자기 방사선을 적용시킴으로써 모 성장을 조절하는 방법을 제공한다. 적용되는 방사선은 모 성장을 느리게 하고/하거나 정지시킬 수 있다. 몇몇 구체예에서, 적용되는 방사선은 모 성장을 자극시킬 수 있다. 예를들어, 처리 영역에 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도를 지닌 방사선을 전달하기 위해 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지니는 다수의 전자기 펄스에 처리 영역이 노출될 수 있다. 적용되는 방사선의 지속기간 및 에너지 밀도는 모의 일부 또는 전부를 약 47℃ 보다 높은 온도로 가열시키도록 선택될 수 있다. 또한, 처리 영역 내의 표피는 임의로 냉각될 수 있다. 방사선에 의해 광활성화될 수 있는 국소용 작용제는 또한 모 성장의 조절을 촉진하기 위해 처리 영역에 적용될 수 있다.

또 다른 양태에서, 본 발명은 모기질(hair matrix)로 하여금 변형된 모를 생성시키기에 적합한 파장 및 에너지 밀도의 방사선으로 다수의 모낭을 조사하는 것을 포함하는 모 처리 방법을 제공한다. 방사선은 모구(hair bulb), 각질 영역(keratogenous zone) 및 모낭의 구근(bulbar)을 가열함으로써 모기질로 하여금 덜 곱슬거리고 보다 얇고/얇거나 보다 연한 모를 초래하게 할 수 있다. 변형된 모는 처리 전의 모의 인장 강도에 비해 약 1 내지 약 200 MPa의 파괴 응력의 인장 강도 변화를 나타낼 수 있다. 보다 얇은 모는 처리 전의 모의 직경에 비해 약 1 내지 약 60 ㎛의 직경의 감소를 나타낼 수 있다. 방사선은 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 약 50 J/㎠의 에너지 밀도에 치료 영역을 노출시키기 위해 약 380 ㎚ 내지 약 2700 ㎚, 더욱 바람직하게는 약 600 내지 약 1400 ㎚의 파장 성분 및 예를들어 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지니는 다수의 전자기 펄스를 통해 치료 영역으로 전달될 수 있다.

또 다른 양태에서, 본 발명은 하나 이상의 모첨에 에너지가 침착되도록 피부 처리 영역에 전자기 방사선(EMR)의 하나 이상의 펄스를 적용시켜 모첨의 일부 또는 전부를 변형(즉, 형태의 변화, 인장강도 또는 조직의 변경, 연화, 곧은 형태화)시키는 방사선원 및 피부 처리 영역의 일부 또는 전부를 탈모시키기 위한 탈모 메커니즘을 포함하는 피부 처리를 위한 장치를 제공한다. 탈모 메커니즘은 면도, 탈모용 크림의 적용, 추가적인 전자기 방사선의 적용 또는 당 분야에 공지된 임의의 모 제거 메커니즘을 위한 수단을 포함한다. 방사선원은 약 300 ㎚ 내지 약 1900 ㎚의 파장 성분을 지니는 전자기 펄스를 생성시킬 수 있다. 이러한 장치는 또한 처리하기 전, 처리하는 동안 및/또는 처리한 후에 처리 영역 내의 표피를 냉각시키기 위한 냉각 메커니즘을 포함할 수 있다. 이러한 장치는 또한 피부 표면 위로 돌출된 모첨의 제거를 감지하기 위한 센서(sensor) 및/또는 절단 메커니즘에 의한 모첨의 포획을 향상시키기 위한 리프팅 메커니즘을 지닐 수 있다. 리프팅 메커니즘은 기계적 및/또는 정전기적일 수 있다.

또 다른 양태에서, 본 발명은 또한 모 성장을 조절하기 위해 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모낭에 약 1200 내지 약 1400 ㎚의 파장 성분을 지니는 전자기 방사선을 적용시키기 위한 방사선원을 포함하는, 모 성장을 조절하기 위한 장치를 제공한다.

또 다른 구체예에서, 본 발명은 약 0.01 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도로 피부 처리 영역을 조명하여 처리 영역 내의 모첨의 일부 또는 전부의 형태를 변형시키기 위해 약 280 ㎚ 내지 약 100,000 ㎚의 파장 및 약 1 나노 초 내지 약 5 분의 펄스 폭을 지니는 방사선 펄스를 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는, 모첨의 일부 또는 전부의 형태를 변형시키기 위한 장치를 제공한다. 본 발명은 또한 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도로 피부 처리 영역을 조명하여 처리 영역 내의 모간의 일부 또는 전부의 곱슬거림을 감소시키기 위해 약 380 ㎚ 내지 약 2700 ㎚의 파장 및 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지니는 방사선 펄스를 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는, 모간의 곱슬거림을 감소시키기 위한 장치를 제공한다. 또 다른 구체예에서, 본 발명은 모 성장을 조절하기 위해 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모낭에 적용시키기 위한 약 1200 내지 약 1400 ㎚의 파장 성분을 지니는 전자기 방사선을 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는 모 성장을 조절하기 위한 장치로서, 상기 방사선원이 LED, 레이저 다이오드, 여과된 아크 램프 또는 여과된 할로겐 램프중 어느 하나 일 수 있는 모 성장을 조절하기 위한 장치를 제공한다. 본 발명에 기재된 장치들은 또한 피부 표면 위로 돌출된 모첨의 부분을 제거하기 위한 메커니즘을 포함할 수 있다. 게다가, 이러한 장치는 처리를 위해 모를 정위시키기 위한 정위 메커니즘을 포함할 수 있다. 정위 메커니즘은 모가 적용되는 방사선을 최적으로 수용할 수 있도록 모의 부분을 이동시킬 수 있는 기계적 메커니즘, 정전기적 메커니즘 및/또는 진공원일 수 있다.

또 다른 구체예에서, 본 발명은 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도로 피부 처리 영역을 조명하여 처리 영역 내의 모간의 일부 또는 전부의 탄성을 변형시키기 위해 약 600 내지 약 1400 ㎚의 파장 및 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지니는 방사선 펄스를 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는, 모간의 탄성을 변형시키기 위한 장치를 제공한다.

또 다른 구체예에서, 본 발명은 피부 처리 영역에 걸쳐 스캐닝 하기에 적합한 헤드 부분을 지니고 하나 이상의 방사선원을 포함하는 어플리케이터(applicator), 스캔 동안 헤드 부분의 위치를 나타내는 신호를 발생시키기 위해 헤드 부분에 결합된 트래커(tracker) 및 트래커로부터 수신한 위치 신호를 기초로 하여 방사선원을 주기적으로 활성화시키는 상기 트래커 및 상기 방사선원에 결합된 콘트롤러(controller)를 포함하는 피부과용 시스템을 제공한다. 콘트롤러는 위치 신호를 기초로 하여 앞서의 방사선원의 활성화 이후 헤드 부분의 이동 거리를 결정한다. 콘트롤러는 이동 거리가 한계를 초과하는 경우 방사선원을 활성화시킨다.

도 1A는 EMR 처리 전의 모첨의 도면이다.

도 1B는 EMR 처리 후의 모첨의 도면이다.

도 2는 피부 유형 Ⅵ에 대한 EMR 처리의 결과를 예시하는 그래프이다.

도 3A는 처리 전의 환자 다리의 단면 사진이다.

도 3B는 처리 후 3개월째에 모간의 변화를 나타내는 환자 다리의 단면 사진이다.

도 4는 1000 ㎚ 내지 1400 ㎚ 사이의 멜라닌의 흡수 스펙트럼이다.

도 5는 다양한 파장에서의 조사 후 모첨 및 기저층의 온도의 변화를 비교하는 그래프이다.

도 6A는 밝은 색의 모에서 도파관(waveguide) 효과를 지닌 피부(1), 어두운 색의 모에서 도파관 효과를 지닌 피부(2) 및 도파관 효과가 없는 피부(3)에 대한 파장의 함수로서의 피부 표면으로부터 모구까지의 피부의 투과도의 그래프이다.

도 6B는 밝은 색의 모(1) 및 어두운 색의 모(2)에 대한 파장의 함수로서 도파관 효과를 설명하는, 표피의 기저층의 온도 상승에 대한 모기질에서의 온도 상승의 비("안전성비")의 그래프이다.

도 7A는 피부 처리 영역으로 전자기 방사선을 전달하는 "스탬핑(stamping)" 모드를 예시하는 개략도이다.

도 7B는 피부 처리 영역으로 전자기 방사선을 전달하는 "스캐닝" 모드를 예시하는 개략도이다.

도 7C는 피부 처리 영역으로 전자기 방사선을 전달하는 "매트릭스(matrix)" 모드를 예시하는 개략도이다.

도 8은 스캐닝 모드에서 펄싱(pulsing)된 EMR 공급원을 사용하는 본 발명의 한 구체예를 예시하는 개략도이다.

도 9는 새로운 EMR 펄스의 파이어링(firing)이 소정의 트리거링(triggering) 상태를 기초로 하여 개시되는 본 발명의 한 구체예를 예시하는 개략도이다.

도 10은 다수의 EMR 공급원이 핸드피스(handpiece) 내에 선형 배열로 구성된 본 발명의 한 구체예를 예시하는 개략도이다.

도 11은 EMR 공급원이 회전 드럼(rotating drum) 내에 위치한 본 발명의 한 구체예를 예시하는 개략도이다.

도 12는 추가의 수단이 장치 내에 포함된 본 발명의 한 구체예를 예시하는 개략도이다.

도 13은 실시예 1에서 사용된 실험 장치를 예시하는 개략도이다.

도 14A는 1060 ㎚에서의 EMR 처리 후에 공기중에서의 모의 온도 프로필(profile)의 그래프이다.

도 14B는 1208 ㎚에서의 EMR 처리 후에 공기중에서의 모의 온도 프로필의 그래프이다.

도 15는 파장의 함수로서의 멜라닌 대 수분 흡수의 비의 그래프이다.

본 발명은 PFB의 원인, 즉 모의 플러킹(plucking) 및/또는 면도로부터 발생하는 모의 예리한 말단 및 모의 곱슬거림을 직접적으로 다루는 모간의 변형 방법에 관한 것이다. 이러한 잠재적인 모간 변형법은 간단하고 저렴한 PFB 치료법을 유리하게 발생시킬 수 있다. 본 발명에 의해 기재된 바와 같이, 모간 변형은 1) 모의 인장 특성을 곱슬거리는 경향이 감소하는 방식으로 변형시키기 위해 모간의 구조를 열-유도 변화시키는 방법, 2) 모의 쉐딩(shedding)을 촉진하는 동반층(companion layer) 및 외모근초(outer root sheath, ORS) 사이의 당김을 감소시키기 위해 모간을 열-유도 수축시키는 방법, 3) 모의 쉐딩을 차례로 촉진하는 동반층 및 ORS 사이의 당김을 감소시키기 위해 동반층을 열-유도 변화시키는 방법 및 4) 모낭외 침투 및/또는 모낭 통과성 침투의 가능성을 감소시키기 위해 모의 형태를 열-유도 변화시키는 방법(즉, 예리함 감소)중 하나 이상을 통해 달성될 수 있다.

본 발명의 양태에 따르면, PFB는 전자기 방사선을 피부 처리 영역 내의 다수의 모낭 또는 이들의 일부에 적용시킴으로써 치료되거나 예방될 수 있다. 본 발명에 따른 PFB의 치료 방법은 PFB에 걸린 피부의 일부를 검사하고 확인하는 단계 및 이러한 영역에 EMR을 선택적으로 적용하는 단계를 포함할 수 있다.

PFB는 면도시에 PFB의 원인 인자를 제공하는 유전적으로 부여된 모 또는 모낭 특징을 지니는 개체에게 존재하는 환경적 및 외관 제약(appearance constraint)에 의해 악화되는 피부 질환이다. 더욱이, PFB는 이의 병인학에서의 병원성 미생물이 수반되지 않는다는 점에서 실제 모낭염이 아니다. 오히려, 이의 병인학의 기초는 이물질형(foreign-body-type) 염증 반응이다. 정밀한 면도 후, 모간의 예리한 모서리는 모낭의 벽을 가로로 절개하거나 표피로 재진입한다. 본 발명은 피검체에서 PFB를 감소시키고 예방하고/하거나 치료할 수 있는 방법 및 이러한 방법을 수행하기 위한 장치에 관한 것이다.

본 발명의 한 양태에서, 전자기 방사선(EMR)은 모첨의 형태가 조절되도록 다수의 모첨에 적용된다. 용어 "모첨"은 당 분야에 공지되어 있고, 본원에서는 일반적으로 표면 부근의 피부 표면 아래로부터 피부 표면 위에 달하는 모의 부분을 언급한다. 예를들어, 모첨은 피부 표면 아래 약 0.2 ㎜의 깊이로부터 피부 표면 위의 약 1.0 ㎜까지 걸쳐있는 모간의 부분을 의미할 수 있다. 모첨은 모첨의 피질 및/또는 소피에 대해 일시적 또는 비가역적 열손상 또는 변형을 야기시키기 위해 선택적으로 가열되어 변형된 형태를 취하게 된다. 모첨의 변형은 모첨이 덜 재진입하도록 하는 모첨의 형태의 가열-유도 변화를 수반한다. 더욱 특히, 바람직하게는 변형된 형태는 변형되지 않은 모첨보다 덜 예리할 수 있다(예를들어, 보다 둥글다). 예로서, 도 1A 및 도 1B는 각각 하기에 보다 상세하게 기재되는 바와 같이 본 발명의 교시에 따른 전자기 방사선에 대한 노출에 의해 야기되는 보다 둥근 첨단을 지니는 모첨과 본 발명의 교시에 따른 처리 전의 모첨의 비교를 제공한다. 모첨 형태의 변형은 피부 처리 영역의 탈모 후 또는 탈모와 동시에 수행될 수 있다.

한 구체예에서, EMR은 모첨의 온도가 약 50℃ 내지 약 300℃에 도달하도록 모첨상으로 투사된다. 몇몇 구체예에서는, 모첨의 온도가 약 100℃를 초과하는 것이 바람직하다. 다른 구체예에서는, 모첨의 온도가 약 200℃를 초과하는 것이 바람직하다.

본 발명의 양태에 따른 모첨에 대한 변형은 약 280 ㎚ 보다 긴 파장을 지니는 EMR을 사용하여 달성될 수 있다. 바람직하게는, 파장은 약 280 내지 약 100,000 ㎚, 더욱 바람직하게는 약 280 내지 약 1400 ㎚, 가장 바람직하게는 약 380 내지 약 600㎚이다. 모내의 멜라닌 및/또는 수분에 의해 흡수되는 파장은 가열을 위해 표적화될 수 있다.

모첨의 가열은 밑에 있는 피부가 손상되지 않도록 선택적으로 달성될 수 있다. 이러한 선택성은 모첨 및 피부의 열 소산성의 차이로부터 발생한다. 표피 역시 멜라닌의 영역을 포함하나, 이는 대부분 피부 내에 보다 깊이 위치한 기저막에 존재하고 주위의 조직과 보다 높은 열 접촉을 하므로, EMR은 기저막에 도달하여 모첨에 비해 실질적인 열 소산을 제공하기 전에 표피의 상부층에 의해 약화된다.

또한, 피부 조직(표피)로부터의 열은 주위의 조직의 높은 열전도도로 인해 모첨으로부터의 열보다 훨씬 더 효과적으로 제거될 수 있다. 열 소산은 표피의 온도를 모첨의 온도 아래로 제한한다. 몇몇 구체예에서, 첨단 및/또는 주위 영역으로부터 임의의 열 전도성 물질을 제거하여 피부에 대한 모첨의 선택적인 가열을 향상시키기 위해 피부 표면이 처리 전에 세척될 수 있다. 몇몇 구체예에서, 피부 표면은 표피로부터의 열 소산을 추가로 보장하기 위해 냉각될 수 있다. 예를들어, 냉각된 공기 또는 실온의 공기가 냉각제로 사용될 수 있다. 또 다른 양태에서, 모를 건조시키고, 이에 따라 모첨으로부터의 열 흐름을 감소시키기 위해 기류가 사용된다. 다른 구체예에서, 실온의 공기 또는 가열된 공기가 처리하기 전, 처리하는 동안 및/또는 처리한 후에 처리 영역에 공급될 수 있다.

도 5는 다양한 파장에서의 방사선 조사 후의 모첨 및 표피의 온도 변화를 비교한 그래프이다. 모첨의 선택적인 가열을 위한 가장 효과적인 파장은 UV 및 자색 스펙트럼이다. 이러한 처리를 위한 통상적인 파라미터는 피부의 기저층으로의 빛의 투과를 제한하기 위해 약 280 내지 약 100,000 ㎚, 바람직하게는 360 내지 600 ㎚의 파장, 약 0.01 J/㎠ 내지 1000 J/㎠, 더욱 바람직하게는 약 0.5 내지 약 50 J/㎠의 에너지 밀도를 포함한다. 몇몇 구체예에서, 전자기 에너지는 적절한 파장 및 바람직하게는 모첨의 열 이완 시간보다 짧은 펄스 폭을 지니는 다수의 전자기 펄스에 영역을 노출시킴으로써 처리 영역에 적용된다. 주위의 매질의 건조 상태 및 모첨의 직경에 좌우될 수 있는 모첨의 열 이완 시간은 예컨대 1 밀리 초 내지 10 초일 수 있다. 통상적으로, 보다 짧은 펄스 폭이 이러한 상태를 보다 우수하게 충족시키기 위해 바람직하다. 특정한 적용을 위해 선택된 특정 펄스 폭, 에너지 밀도 및 파장은 피부 유형 및 모의 색을 포함하나 이에 제한되지 않는 많은 특성에 좌우된다. 몇몇 구체예에서, 특정 환자를 위해 선택된 펄스 폭, 에너지 밀도 및 파장은 통상적으로 모 성장의 감소 또는 모 제거를 달성하기 위해 필요한 것 보다 더 적은 EMR을 전달할 것이다. 일반적으로, 약 1 나노 초 내지 약 5 분의 펄스 폭이 사용된다.

다양한 EMR 공급원이 본 발명의 실시에 사용될 수 있다. 이러한 예는 다이오드 레이저, 예를들어 양자 캐스케이드 레이저(quantum-cascade laser), 고체-상태 레이저(solid-state laser), LED 또는 기타 고체-상태 광원(solid-state lighting), LED의 어레이 또는 매트릭스, 아크 램프, 할로겐 램프, 섬유 레이저(fiber laser), 금속 할라이드 램프, 백열 전구, 고주파 발생기(RF generator) 및 마이크로파 발생기를 포함하나 이에 제한되지 않는다. EMR 공급원은 펄스형 방사선 또는 연속 방사선을 생성할 수 있다. 일반적으로, EMR의 적용은 상기에 기재된 파라미터에 따라 EMR을 전달하기 위한 임의의 적절한 장치를 사용하여 달성될 수 있다. 예를들어, 장치는 미국 특허 제 6,517,532호, 미국 특허 제 6,508,813호, 미국 특허 출원 번호 10/154,756("Cooling system for a Photocosmetic Device", 2002년 5월 23일 출원), 미국 특허 출원 번호 10/702,104("Methods and Apparatus for Delivering Low Powered Optical Treatments", 2003년 11월 4일 출원), 미국 특허 출원 번호 10/080,652("Apparatus and Method for Photocosmetic and Photodermatological Treatment", 2002년 2월 22일 출원), 미국 특허 출원 번호 10/706,721("Method and Apparatus for Performing Optical Dermatology", 2003년 11월 12일 출원) 및 미국 특허 제 6,514,242호("Method and Apparatus for Laser Removal of Hair")에 기재된 장치와 유사하게 구성될 수 있다.

몇몇 구체예에서, EMR은 피부 표면에 대해 수직으로 적용되거나 다양한 각도로 적용된다. 예를들어, 빛을 비스듬히 적용하거나 스침각(grazing angle)으로 적용하여, 이에 따라 피부 표면에 대해 비스듬한 각도로 자라는 모내로의 EMP의 결합을 촉진하는 것이 적절할 수 있다.

바람직한 구체예에서, EMR은 피부 처리 영역의 탈모 후에 적용될 것이다. EMR은 매회 면도 후에 적용되거나 필요에 따라(즉, 매 2회 면도 후) 적용될 수 있다. 탈모는 피부 위로 돌출된 모첨의 일부 또는 전부를 제거하기 위한 임의의 적절한 메커니즘을 사용하여 달성될 수 있다. 적절한 탈모 메커니즘의 예는 면도, 클리핑, 탈모용 크림의 적용 및 추가적인 전자기 방사선의 적용을 포함하나 이에 제한되지 않는다. 바람직한 구체예에서, 탈모는 임의의 적절한 장치(예컨대, 면도날 또는 전기 면도기)를 사용한 면도를 통해 달성된다. 통상적으로, EMR 적용시에, 모첨은 피부 표면 아래 0.2 ㎜에서 피부 위의 1.0 ㎜의 깊이에 위치할 것이다.

몇몇 구체예에서, 피부는 모첨이 적용되는 EMR에 보다 접근되도록 하기 위해 처리 전에 스트레칭될 수 있다. 다른 구체예에서, 모첨의 기계적 또는 정전기적 포획을 위한 수단이 처리를 위한 최적의 위치에 모첨이 있게 되도록 사용될 수 있다. 대안적으로, EMR은 또한 단일 패스(single pass)로 절단 도구, 콤바이닝 클리핑(combining clipping) 및 첨단 가공의 역할을 할 수 있다. 가열, 냉각되거나 실온 상태일 수 있는 기류가 EMR 노출 전에 모첨을 건조시키기 위해 피부 처리 영역에 전달 될 수 있다.

몇몇 구체예에서, EMR에 의해 가열되고 연화된 후에 모간을 일직선의 위치로 정렬시키기 위해 곧은 형태화 수단의 사용과 동시에 또는 사용 직전에 EMR이 적용될 수 있다. 이러한 수단은 예를들어 기계적, 정전기적 또는 화학적 작용(또는 이들의 병용)을 사용할 수 있다. 대안적으로, 모를 곧은 형태로 만들 수 있는 국소용 물질이 EMR을 처리하기 전, 처리하는 동안 또는 처리한 후에 피부 처리 영역에 적용될 수 있다. 다양한 모 스트레이트너(straightener)가 당 분야에 공지되어 있다(참조 : 미국 특허 제 6,537,564호 및 제 6,517,822호). 대부분의 이용가능한 모 스트레이트너는 예컨대 활성 성분으로 수산화 나트륨, 수산화 칼슘 및 수산화 칼륨을 지니는 수산화물계이거나 암모늄 티오글리콜레이트계이다.

몇몇 구체예에서, 국소적으로 적용되는 발색단은 전자기 방사선에 의한 처리를 촉진하기 위해 사용된다. EMR의 파장은 발색단의 흡수 스펙트럼과 적어도 부분적으로 매치되기 위해 최적화될 수 있다. 처리는 또한 모지관 및/또는 모간으로의 발색단의 침투를 제공하는 전달 시스템을 사용하여 발색단을 적용시킴으로써 향상될 수 있다. 발색단은 비히클과 병용되는 유기 또는 비-유기 염료일 수 있다. 몇몇 구체예에서, 국소적으로 적용되는 탈모제가 처리를 촉진하기 위해 적용될 수 있다. 탈모제는 EMR을 모첨의 깊이에서 농축(즉, 포커싱(focusing))시킴으로써 모첨의 영역 내에서 선택적으로 활성화될 수 있도록, 빛 또는 열 활성화될 수 있다. 임의적으로, 국소용 조성물은 탈모제 및 EMR을 위한 발색단 작용제 둘 모두를 함유할 수 있다. 발색단 작용제는 염료, 금속, 이온, 착색된 입자, 감광 염료, 감광 물질, 탄소 입자, 전도성 피부 로션, 전해질 스프레이, 전도성 전극 겔 및 산화물로 구성되는 군으로부터 선택될 수 있다. 국소용 물질의 예로는, 예를들어 참조로서 전체 내용이 본원에 통합된 미국 특허 제 6,685,927호, 미국 특허 출원 번호 10/693,682("Phototreatment Device for Use with Coolants and Topical Substances", 2003년 10월 23일 출원)을 참조하라.

본 발명의 또 다른 양태에서, 모간은 덜 곱슬거리게 된다. 본원에서 사용되는 "곱슬거리는" 또는 "곱슬거림"은 곡선(루프)을 형성하는 모의 능력 및 모간의 탄성의 결핍의 조합을 의미한다. 모의 곱슬거림의 감소는 또한 모, 바람직하게는 누두(infundibulum) 영역에서의 연성의 증가, 모의 직경 또는 형태의 변형, 모의 인장 강도의 증가 및/또는 모의 탄성의 증가를 일으킬 수 있다. 따라서, 모간의 물리적 및 화학적 특성은 모첨을 약 50℃ 내지 약 300℃, 바람직하게는 100℃ 이상, 더욱 바람직하게는 200℃ 이상의 온도로 가열시키는 EMR의 적용을 통해 변형된다. 이러한 처리를 위한 통상적인 파라미터는 약 380 내지 약 2700 ㎚, 바람직하게는 약 600 내지 1400 ㎚, 더욱 바람직하게는 약 800 내지 1350 ㎚의 파장을 포함한다. 가열의 결과로서, 모첨의 구조는 모첨의 물질이 보다 연해짐에 따라 변화될 수 있다. 본원에서 사용되는 용어 "연성" 또는 "연화"는 모첨의 모서리의 경도를 감소시키는 모간의 소피, 피질 또는 세포간 접착의 구조의 열 유도 변형을 의미한다. 연성은 예를들어 모간의 인장 강도를 측정함으로써 결정될 수 있다. 본 발명의 몇몇 구체예에서, 적용되는 방사선은 약 1 내지 약 200 MPa의 파괴응력, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 약 100 MPa의 파괴응력으로 모간의 인장강도를 변화시킬 수 있다. 몇몇 구체예에서, 적용되는 방사선은 모의 조직을 변화시키는 모간의 물리적 및 화학적 특성의 변화를 제공할 뿐만 아니라, 모첨의 형태를 상기에 기재된 바와 같이 변형시킬 수 있다.

모첨은 모첨의 피질 및/또는 소피에 대해 일시적 또는 비가역적 열손상 또는 변형을 야기시키기 위해 선택적으로 가열될 수 있다. 이러한 처리의 결과로서, 모 소피 및/또는 피질 및/또는 세포간 접착이 변형(즉, 손상)되어, 덜 곱슬거리는 모, 보다 연성의 모, 보다 가는 모, 모의 인장 강도의 증가 및/또는 모의 탄성의 증가를 발생시킬 수 있다. 본 발명의 이러한 양태에 따른 모첨의 피질 및/또는 소피에 대한 변형은 380 ㎚보다 긴 파장을 지닌 EMR을 사용하여 달성될 수 있다. 바람직하게는,파장은 약 380 내지 약 2700 ㎚, 더욱 바람직하게는 약 600 내지 약 1400 ㎚이다. 빛의 파장은 지질, 수분, 멜라닌 및/또는 케라틴(즉, 모간의 성분)을 선택적으로 표적화하기 위해 선택될 수 있다. EMR의 적용과 동시에 수행되는 표피의 예비-냉각 및 표피의 냉각("병렬적(parallel)" 냉각으로 공지됨)이 또한 이러한 처리의 깊이 선택성을 개선시키기 위해 사용될 수 있다. 냉각은 보다 높은 수분 함량으로 인해 모간보다 현저히 더욱 전도성인 진피 및 표피와 같이 높은 열 전도성 조직에서 더욱 효과적이다. 따라서, 표면 피부 냉각은 모간보다 진피에 더욱 효과적인데, 이는 모간 가열에 대한 선택성을 야기시킨다. 낮은 열 전도성을 지닌 모간의 가열 선택성은 약 380 내지 약 2700 ㎚의 파장을 사용함으로써 달성될 수 있다.

이러한 처리를 위한 통상적인 파라미터는 약 380 내지 약 2700 ㎚의 파장, 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭, 및 약 0.1 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도를 포함한다. 특정 환자를 위해 선택된 펄스 폭, 에너지 밀도 및 파장은 통상적으로 모 성장의 제거 또는 모의 감소를 달성하기 위해 필요한 것보다 더 적은 EMR을 전달할 것이다. 도 2는 800 ㎚의 파장, 20 밀리 초의 펄스 폭 및 7.5 J/㎠의 에너지 밀도를 지니는 다수의 방사선 펄스를 사용함으로써 피부 유형 Ⅵ에 대한 이러한 모드의 처리의 예시적 결과를 나타낸다. 이러한 처리의 결과로서, 약 0 내지 0.8 ㎜의 깊이의 모간은 200℃ 이하로 가열된 반면, 표피의 온도는 65℃를 초과하지 않았다. 몇몇 구체예에서, 빔(beam) 폭은 침투를 모간의 깊이에 제한하기 위해 상대적으로 협소하도록 선택될 수 있다. 빔은 산란을 이용하여 침투를 제한하기 위해 원, 직선 또는 임의의 적절한 형태를 취할 수 있다. 몇몇 구체예는 요망하는 깊이에 EMR이 집중되도록 빔을 포커싱하는 것을 이용할 수 있다.

본 발명의 또 다른 양태에서, 새로운 모 성장에서 변화를 야기시키기 위해 가열 또는 냉각을 통해 모구, 각질 영역 및/또는 모낭의 구근을 변형시키는 방법이 제공된다. 이러한 가열 또는 냉각의 결과로서, 모기질의 기능이 영향을 받을 수 있다. 특히, 모 성장 과정은 재성장하는 모의 특성의 변화를 일으키도록 변형될 수 있다. 예를들어, 새로이 성장한 모는 보다 연화되고/되거나 형태가 변화되어(횡단면의 감소, 즉 보다 가늘어지거나, 타원율이 증가, 즉 보다 둥근 형태가 됨), 모가 곱슬거림에 대해 덜 민감하게 만든다. 또한, 새로이 성장한 모의 화학적 구조는 모간이 실질적으로 보다 곧은 형태가 되도록 하기 위해 변형될 수 있다. 모구 및 모의 구근의 선택적 가열을 위해, EMR이 약 380 내지 약 2700, 더욱 바람직하게는 약 600 ㎚ 내지 약 1400 ㎚의 파장, 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭, 및 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 약 100 J/㎠의 에너지 밀도로 적용될 수 있다.

도 3A 및 3B는 모간의 화학적 및 물리적 특성을 변경하기 위한 본 발명의 용도를 입증한다. EMR 처리 후의 모의 소형화의 예가 도 3A(처리 전) 및 도 3B(처리 후)의 차이를 통해 나타나 있다. EMR 처리는 광대역 공급원(530 내지 1200 ㎚의 파장), 약 12 J/㎠의 에너지 밀도 및 20 밀리 초의 펄스 폭을 사용하여 적용시켰다. 특정 환자에 대해 사용되는 펄스 폭, 에너지 밀도 및 파장은 통상적으로 이러한 환자에 대해 모 성장의 제거 또는 모의 감소를 달성하기 위해 필요한 것보다 더 적은 EMR을 전달할 것이다. 주위의 조직에 대한 구근의 선택적 흡수 및/또는 전도도 및/또는 열적 특성은 구근의 선택적 가열을 가능하게 한다.

몇몇 구체예에서, 피하 영역은 모기질 및/또는 진피유두 및/또는 혈관 루프(loop)가 EMR 처리에 의해 선택적으로 영향을 받도록 하기 위해 약 5℃ 내지 약 30℃의 온도로 모 구근 위치의 깊이에서 냉각될 수 있다. 냉각은 당 분야에 공지된 다양한 메커니즘, 예컨대 냉각 물질(즉, 냉각된 공기 또는 액체)을 분무하거나, 상변화 물질을 사용하거나 표적 영역을 냉각 성분과 접촉시킴으로써 달성될 수 있다. 예를들어, 접촉 냉각(즉, 냉각 성분을 피부 표면과 접촉시켜 발생시킴)이 사용될 수 있다. 대안적으로, 국소용 물질이 치료 영역의 부분을 선택적으로 냉각시키기 위해 피부 표면에 적용될 수 있다(참조 : 미국 특허 출원 번호 10/154,756("Cooling system for a Photocosmetic Device", 2002년 5월 23일 출원) 및 미국 특허 출원 번호 10/693,682("Phototreatment Device for Use with Coolants and Topical Substances", 2003년 10월 23일 출원)).

추가로, 본 발명의 상기 양태와 유사하게, 로션과 같은 국소용 작용제가 모구, 각질 영역 및/또는 모낭의 구근의 가열을 촉진하기 위해 피부 처리 영역에 적용될 수 있다. 국소용 작용제는 모낭의 일부 또는 전부로 침투할 수 있는 외인성 발색단을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 외인성 발색단은 모간의 가열을 촉진하기 위해 적용되는 방사선의 파장과 적어도 부분적으로 매치되는 흡수 스펙트럼을 나타낼 수 있다.

또 다른 양태에서, 본 발명은 피검체의 모 성장을 변형시키기 위한 방법을 제공한다. 모의 제거를 위해 EMR을 사용하거나(참조 : 미국 특허 제 5,595,568호) 모 성장 속도를 감소시키기 위해 EMR을 사용하는 것(참조 : 국제 공개 번호 2003/077783)은 당 분야에 공지되어 있지만, 본 발명은 이러한 목적의 새로운 범위의 파장을 사용하는 것에 관한 것이다. 종래의 방법 및 장치는 1200 ㎚ 보다 짧은 파장을 지닌 광학 방사선을 사용했다. 그러나, 보다 어두운 피부 유형에 대해서 1200 ㎚ 보다 짧은 파장을 사용한 처리는 표피 손상과 같은 원치 않는 부작용을 일으킬 수 있다. 이러한 결점을 극복하기 위해, 본 발명은 약 1200 ㎚ 내지 약 1400 ㎚의 파장 범위가 모 성장을 변형시키기 위해 사용될 수 있다는 것을 인식한다. 약 1200 ㎚ 내지 약 1400 ㎚의 파장이 모 성장을 완화 및/또는 감소시키거나, 모 성장을 정지시키거나 모 성장을 자극시키기 위해 사용될 수 있도록 펄스 폭, 에너지 밀도 및/또는 전력이 조정될 수 있다.

도 4는 멜라닌이 근적외선 스펙트럼의 빛을 흡수하는 것을 나타내는 1000 ㎚ 내지 1400 ㎚ 사이의 멜라닌의 흡수 스펙트럼이다. 멜라닌 함유 표적을 가열하기 위한 1200 ㎚ 보다 긴 파장을 사용하는 것의 가능성이 실시예 1에서 입증되었다. 모낭의 기질에 대한 1200 내지 1400 ㎚ 파장의 광학 방사선의 침투는 파장이 모낭 구조에서의 도파관 효과에 의해 촉진될 수 있다. 도파관 효과는 모간, 내모근초(inner root sheath), 외모근초(outer root sheath) 및 주위 조직 사이의 굴절률의 차이에 의해 야기된다. 특히, 모간, 내모근초, 외모근초의 굴절률은 실질적으로 조직의 굴절률보다 높다. 이러한 결과로서, 인풀비둠(infulbidum)을 통해 모낭에 결합된 약 1200 내지 1400 ㎚의 파장을 지닌 광은 일련의 내부 전반사(TIR)로 모낭 아래로 전파될 수 있으며, 이는 침투의 깊이를 효과적으로 증가시킨다. 이러한 효과는 모낭 밀도가 ㎠ 당 1000개의 모만큼 높을 수 있는 안면 조직과 같은 밀집 모낭의 영역에서 현저할 수 있다. 높은 모낭 밀도의 영역, 즉, 피부 부피의 30% 이상을 모낭이 차지하는 영역에서, 거대한 빔의 사용은 진피를 통해 전파를 확산시킬 수 있는 모낭 도파관 다발을 통해 빛을 전파시키는 것을 돕는 도파관 효과를 발생시킨다. 코히어런트(coherent) 레이저 빔에 대해서, 이러한 구조는 특정한 파장에 대해 도파관 효과의 증폭을 나타내는 포토닉스(photonics) 결정과 유사한 역할을 한다.

도 6A 및 6B는 모구로 전달되는 광학 에너지의 양에 대한 이러한 도파관 효과의 영향을 예시한다. 도 6A는 도파관 효과를 설명하고(1) 도파관 효과를 무시하는(2) 두 가지 경우에 대한 파장의 함수로서의 표면으로부터 (단일 모낭의)모구의 위치까지의 피부내에서 EMR의 투과도의 그래프이다.

도 6B는 파장의 함수로서의 도파관 효과가 없는 피부의 투과도에 대한 도파관 효과를 지닌 피부의 투과도의 비의 그래프이다. 도 6B는 적용되는 방사선의 파장이 예컨대 1200 ㎚ 보다 더 길게 증가하는 경우에 도파관 효과가 가장 현저하고 특히 유리하다는 것을 나타낸다. 따라서, 1200 ㎚ 내지 1400 ㎚의 파장을 사용한 모 성장의 실질적인 지연이 약 1 J/㎠ 내지 500 J/㎠의 에너지 밀도 및 약 1 나노 초 내지 10 분의 펄스 폭을 사용하여 달성될 수 있다.

본 발명은 또한 하기에 논의되는 바와 같이 피부 처리 영역에 대해 탈모를 수행하고 이러한 영역에 EMR을 적용하기 위한 장치를 제공한다. 몇몇 구체예에서, 탈모 장치 및 EMR 전달 장치는 단일 장치에 존재하여, 단일 스트로크(stroke)에서 EMR은 탈모에 이어 또는 탈모와 실질적으로 동시에 적용된다. 탈모 장치는 당 분야에 공지된 모 제거를 위한 적절한 장치, 예컨대 면도를 위한 메커니즘(즉, 면도날 또는 전기 면도기), 모를 뽑기 위한 메커니즘(즉, 피부 처리 영역을 지남감에 따라 모를 뽑는 회전 장치), 탈모용 크림의 적용, 전기 요법 또는 추가적 전자기 방사선의 적용을 포함할 수 있다. 바람직한 구체예에서, EMR은 또한 단일 패스에서 절단 도구, 콤바이닝 클리핑 및 첨단 가공의 역할을 할 수 있다. 장치는 또한 처리를 위한 최적의 위치로 모첨을 제시하기 위해 모첨의 기계적 또는 정전기적 포획을 위한 메커니즘을 함유할 수 있다. 본 발명의 다른 구체예에서, 장치는 EMR 노출 전에 모첨을 건조시키기 위해 공기를 전달하는 기류 메커니즘 및/또는 EMR 처리 전에 피부 처리 영역을 스트레칭하기 위한 스트레칭 메커니즘을 함유할 수 있다.

상기에 기재된 본 발명의 방법을 실시하기 위한 실행 장치를 위해 다양하고 상이한 디자인이 채택될 수 있다. 특히, 본 발명의 방법을 실행하기 위한 다양한 구체예에서 전자기 방사선이 다양하고 상이한 방식으로 피부 처리 영역에 적용될 수 있다. 예로서, 도 7A, 7B 및 7C는 피부 처리 영역으로 전자기 방사선을 전달하는 세 개의 예시적인 모드를 개략적으로 나타낸다. 도 7A를 참조하면, "스탬핑" 모드에서 하나 이상의 전자기 방사선원을 포함하는 어플리케이터(핸드피스)(71)는 피부의 선택된 영역(72)상에 위치할 수 있고, 전자기 방사선의 펄스(73)는 이러한 영역 내의 조직에 적용될 수 있다. 이후 핸드피스는 EMR 펄스를 처리 영역의 또 다른 부분에 적용하기 위해 그러한 부분으로 이동될 수 있다. 이러한 과정은 전자기 펄스가 전체 처리 영역에 적용될 때까지 반복될 수 있다.

도 7B는 본원에서 "스캐닝" 모드로 언급되는 처리 영역에 전자기 방사선을 적용하는 또 다른 모드를 개략적으로 예시하고, 여기서 하나 이상의 전자기 방사선원을 포함하는 핸드피스는 처리 영역 내의 조직에 전자기 에너지를 적용시키기 위해 피부 표면을 따라 연속적으로 이동한다. 많은 구체예에서, 전자기 에너지의 연속파(CW)원이 스캐닝 모드에서 사용될 수 있다. 다른 구체예에서, 전자기 에너지의 펄스원이 하기에서 보다 상세히 기재되는 바와 같이 스캐닝 모드에서 사용될 수 있다.

도 7C는 처리 영역에 전자기 방사선을 적용하는 "매트릭스" 모드를 개략적으로 예시한다. 더욱 특히, 본 발명의 하나의 구체예에 따른 장치(76)는 LED와 같은 개별적으로 어드레스(address)로 불러낼 수 있는 EMR 공급원의 어레이로서 형성되는 복합 EMR 공급원(77)을 포함하고, 이는 동시에, 순차적으로 또는 선택된 유형으로 활성화될 수 있다. 처리 영역, 예컨대 안면 전체와 같은 넓은 처리 영역은 EMR 공급원의 어레이로부터 방사선을 수용하기 위해 장치(76)의 패널(75) 근처에 위치하거나 패널과 접촉할 수 있다. 또한, 빔 형태화 및/또는 냉각 장치(78)가 전자기 방사선의 처리 영역으로의 전달을 최적화시키기 위해 임의로 사용될 수 있다.

몇몇 구체예에서, 스캐닝 모드로 EMR의 펄스원을 사용하는 것이 유리할 수 있다. 도 8에 개략적으로 나타낸 바와 같이, 이러한 구체예는 펄스원(84), 트래킹 장치(85) 및 트리거링 장치(86), 예컨대 컴퓨터를 포함하는 시스템을 사용할 수 있다. 이 시스템은 전자기 방사선을 처리 영역(82)으로 전달하는 핸드피스(어플리케이터)(81)를 추가로 포함한다. 펄스원은 핸드피스와 일체화되거나 일체화되지 않을 수 있다. 후자의 경우에서, 방사선은 추가적인 에너지 가이드(87)를 통해 핸드피스로 전달된다. 어플리케이터는 수동 스캐닝을 위해 핸들(83)이 장착될 수 있다. 대안적으로, 기계적 스캐닝이 사용될 수 있다. 처리 기간은 어플리케이터를 피부 표면에 위치시키고 첫번째 펄스를 파이어링(88)함으로써 개시될 수 있다. 이후 어플리케이터는 피부 표면을 따라 연속적으로 이동하여, 처리하려는 영역을 스캐닝한다. 트래킹 장치(85)는 연속적으로 어플리케이터의 위치를 모니터하고 트리커링 장치(86)로 데이터를 전송한다. 두 장치 모두는 핸드피스 및/또는 서로에 대해 일체화되거나 일체화되지 않을 수 있다.

도 9에 개략적으로 나타낸 바와 같이, 트리거링 장치는 소정의 트리거링 조건을 기초로 하여 새로운 펄스의 파이어링을 개시하기 위해 핸드피스의 현재의 위치(92)를 최종 파이어링 위치(91)와 비교한다. 한 바람직한 구체예에서, 트리거링 장치는 어플리케이터의 프레임상에서 기준점(RP)을 선택하고, 첫번째 펄스 전에 이의 위치를 표시하고, RP의 현재(스캐닝으로 인해 일정하게 변함) 위치(94) 및 이의 최종 파이어링 위치(93) 사이의 거리 d _r 을 모니터한다. 예를들어, 트리거링 장치는 하기의 조건을 모니터할 수 있다:

d _r ≥ l _h - l _o = l _h (1-α), (1)

여기서, α=l _o /l _h 는 요망되는 오버랩(overlap) 정도이고, l _o 는 오버랩의 길이[㎜]이고, l _h 는 핸드피스의 작업 영역의 길이[㎜]이다. 방정식(1)의 조건이 충족되면, 트리거링 장치는 펄스원에 새로운 파이어링 지시를 내릴 수 있다. 파이어링 지시는 아날로그 또는 디지털 펄스(또는 펄스의 시퀀스)의 형태일 수 있고 다양한 메커니즘(예를들어, 전기적, 기계적 또는 광학적 메커니즘)에 의해 펄스원으로 전송될 수 있다. 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 당업자에 의해 다른 트리거링 알고리듬(algorithm)이 고안될 수 있다.

트래킹 장치(85)는 다양한 기술을 사용하여 이행될 수 있다. 예를들어, 한 구체예에서, 트래킹 장치는 한 세트의 바퀴 및 바퀴의 각(angular) 위치를 판독하는 판독 모듈을 포함할 수 있다. 방정식(1)에 상응하는 회전의 수가 되는 경우, 파이어링 지시가 내려진다. 트래킹 장치가 비-접촉식 광학 장치인 몇몇 바람직한 구체예에서, 피부 표면이 조명될 수 있고, 충분한 주파수(예컨대, 2 kHz)를 사용하여 제한된 영역의 사진이 촬영될 수 있다. 이후 사진의 순서가 프로세싱될 수 있고, 프레임이 촬영되는 순간에서의 카메라 위치 사이의 시프트(shift)를 결정하도록 하는 방법으로 프레임 사이의 차이가 분석될 수 있다. 결과적으로, RP의 위치는 확실하게 모니터될 수 있다. 몇몇 바람직한 구체예에서, 트래킹 장치는 시판되는 광학 마우스일 수 있다(가능하게는 특정 적용 형태를 수용하도록 변경됨). 트래킹 장치는 또한 접촉 센서의 기능을 수행할 수 있다.

트리거링 장치(86)는 기계, 전자기계, 전기, 전자, 광학 또는 임의의 다른 적합한 디자인일 수 있다. 이는 아날로그 또는 디지털일 수 있다. 몇몇 바람직한 구체예에서, 트리거링 장치는 전자 디지털 장치이다.

몇몇 구체예는 예컨대 스탬핑 또는 스캐닝 모드를 통해 선택된 피부 처리 영역으로 방사선을 전달하기 위해 복합 EMR 공급원을 사용할 수 있다. 예로서, 도 10을 참조하면, 다수의 EMR 공급원(101)이 핸드피스(102)내의 선형 어레이로 구성될 수 있다. 핸드피스(102)가 피부 표면을 따라 스캐닝되는 경우, 타이밍 장치(103)는 모든 EMR 공급원 또는 선택된 EMR 공급원을 활성화시키기 위해 프로그래밍된 순서에 따라 공급원(101)으로 파이어링 펄스를 전송할 수 있다. 이런 방법으로, 복합 공급원으로부터의 다수의 펄스의 누적 작용으로 인해 표적에 대한 요망되는 효과가 달성될 수 있다. 파이어링 시퀀스는 또한 트래킹 장치(104)에 의해 모니터되는 예컨대 스캐닝 속도 또는 피부 상태(예컨대, 색소침착 또는 홍반)에 따라 "온 더 플라이(on the fly)" 변형될 수 있다. 몇몇 구체예에서, 장치는 또한 처리를 위해 모를 정위시키기 위한 정위 메커니즘(105)을 지닐 수 있다. 정위 메커니즘은 모가 적용되는 방사선을 최적으로 수용할 수 있도록 모의 부분을 이동시킬 수 있는 기계적, 정전기적 및/또는 진공원 메커니즘일 수 있다.

대안적으로, 도 11에 나타낸 바와 같이, EMR 공급원(111)은 회전 드럼(112)내에 위치할 수 있다. 타이밍 장치(113)는 공급원이 처리 영역의 부분과 마주하는 "하부" 위치(114)를 차지하는 순간에 각각의 공급원을 파이어링 하는 방식으로 파이어링 순서를 발생시킬 수 있다. 빔 형태화 및/또는 냉각 기구(115)는 핸드피스 하우징 내에 통합될 수 있다. 어레이 내의 공급원의 기타 배열은 당업자에 의해 고안될 수 있다.

본 발명의 교시에 따른 장치의 몇몇 구체예는 처리의 효능 및/또는 안전성을 추가로 증가시키기 위해 추가적 기구를 포함할 수 있다. 예를들어, 도 12를 참조하면, 장치는 국소적 조성물 분배 기구(121), 냉각 기구(122), 피드백(피부 상태 모니터)기구(123) 또는 모의 곧은 형태화 기구(124)를 포함할 수 있다. 게다가, 장치는 처리 영역을 탈모시키기 위한 면도기와 같은 기구를 포함할 수 있다.

몇몇 구체예에서, 본 발명의 교시에 따른 둘 이상의 처리 방법을 수행하기 위해 단일 장치가 사용될 수 있다.

하기의 실시예는 본 발명의 교시에 따른 모 처리 방법의 몇몇 양태의 추가의 이해를 제공한다.

실시예 1. 멜라닌 함유 표적(모)을 가열하기 위한 1064 ㎚ 파장 대 1208 ㎚ 파장의 효능 비교.

도 13에 개략적으로 나타낸 실험 장치를 사용하여 멜라닌 저함량("백색") 및 멜라닌 고함량("흑색") 모를 가열하기 위한 1060 ㎚ 방사선원에 대한 1208 ㎚ 방사선원의 사용의 효능을 비교하였다.

CW 라만 섬유 레이저(CW Raman fiber laser)(131)를 1060 ㎚ 및 1208 ㎚ 파장의 방사선을 발생시키기 위해 사용했다. 최대 강도("플랫 탑(flat top)")를 지니는 방사선 빔(134)의 부분을 선택하기 위해 2-㎜ 구경(136)을 사용했다. 탈수를 피하기 위해 측정을 수행하기 직전에 수거된 흑색의 모(132) 및 백색의 모(133)를 빔의 중심점에 대해 가능한 대칭적으로 빔 경로내에 마운팅(mounting)시켰다. 전체 입사전력을 240 mW(즉, 7.6 W/㎠ 조사)에서 두개의 파장에 대해 매치시켰다. 두 파장에서 ~200 밀리 초의 펄스(~1.5 J/㎠ 에너지 밀도를 발생시킴)를 발생시키기 위해 펄스 발생기에 의해 조절되는 전자 셔터(135)를 사용했다. 컴퓨터(138)에 의해 조절되는 적외선 열 카메라(137)를 모를 함유하는 평면에 집중시키고, 두 개의 모에서 최대온도 상승 포인트를 선택하였다. 이러한 포인트에서의 온도의 일시적 프로필을 기록했다.

결과:

도 14A 및 14B는 각각의 파장에 대한 두 개의 온도의 변천을 각각 나타낸다. 더욱이, 하기의 표 1은 두 파장에서의 두 개의 모에 대한 평균 온도 데이터를 개괄한 것이다.

표 1

파장㎚	최대 온도 상승, ℃		대비흑색/백색
파장㎚	백색 모	흑색 모	대비흑색/백색
1060	4.8	21.8	4.5
1208	3.3	11.8	3.6
비1060/1208	1.5	1.8	1.25

흑색 및 백색 모 사이의 온도 상승에서의 대비는 두 파장 사이에서 현저하게 변화하지 않았고, 이는 멜라닌이 1208 ㎚에서 우세한 흡수제(absorber)로 잔류함을 암시한다. 그렇지 않은 경우, 대비에 있어서의 변화는 도 15에 나타낸 바와 같이 멜라닌/수분 흡수의 비에서의 변화에 보다 근접할 것이다.

1208 ㎚에서의 온도 상승에 대한 1060 ㎚에서의 온도 상승의 비는 IR에서의 멜라닌 흡수 스펙트럼과 일치한다(도 4 참조). 데이터는 1208 ㎚에서의 멜라닌의 흡수가 실질적인 가열 효율(이러한 장치에서 ~8 ℃/(J/㎠))을 유도하기에 충분하다는 것을 추가로 나타낸다.

당업자는 본 발명의 추가의 특징 및 장점이 상기 기재된 구체예를 기초로 함을 인식하거나, 더 이상 일상적인 실험을 이용하지 않음을 인지할 수 있을 것이다. 따라서, 본 별명은 첨부된 청구의 범위에 의해 지시되는 바를 제외하고는, 구체적으로 설명된 내용에 의해 제한되지 않는다. 모든 간행물 및 참고문헌은 전체 내용이 참조로서 본원에 명백하게 통합된다.

Claims

약 0.01 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도(fluence)로 피부 처리 영역을 조명하여 처리 영역 내의 모첨(hair tip)의 일부 또는 전부의 형태를 변형시키기 위해 약 280 ㎚ 내지 약 100,000 ㎚의 파장 및 약 1 나노 초 내지 약 5 분의 펄스 폭을 지니는 방사선 펄스를 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는, 모첨의 일부 또는 전부의 형태를 변형시키기 위한 장치.
제 1 항에 있어서, 피부 표면 위로 돌출된 모첨의 부분을 제거하기 위한 메커니즘을 추가로 포함함을 특징으로 하는 장치.
약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도로 피부 처리 영역을 조명하여 처리 영역 내의 모간(hair shaft)의 일부 또는 전부의 곱슬거림을 감소시키기 위해 약 380 ㎚ 내지 약 2700 ㎚의 파장 및 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지니는 방사선 펄스를 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는, 모간의 곱슬거림을 감소시키기 위한 장치.
제 3 항에 있어서, 피부 표면 위로 돌출된 모첨의 부분을 제거하기 위한 메커니즘을 추가로 포함함을 특징으로 하는 장치.
모(hair) 성장을 조절하기 위해 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모낭에 적용시키기 위한 약 1200 내지 약 1400 ㎚의 파장 성분을 지니는 전자기 방사선(EMR)을 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는 모 성장을 조절하기 위한 장치로서, 상기 방사선원이 LED, 레이저 다이오드, 여과된 아크 램프 또는 여과된 할로겐 램프중 어느 하나일 수 있는 모 성장을 조절하기 위한 장치.
약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도로 피부 처리 영역을 조명하여 처리 영역 내의 모간의 일부 또는 전부의 탄성을 변형시키기 위해 약 600 내지 약 1400 ㎚의 파장 및 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지니는 방사선 펄스를 발생시키는 하나 이상의 방사선원을 포함하는, 모간의 탄성을 변형시키기 위한 장치.
피부 처리 영역에 걸쳐 스캐닝하기에 적합한 헤드 부분을 지니고 하나 이상의 방사선원을 포함하는 어플리케이터(applicator),

스캔 동안 헤드 부분의 위치를 나타내는 신호를 발생시키기 위해 헤드 부분에 결합된 트래커(tracker) 및

트래커로부터 수신한 위치 신호를 기초로 하여 방사선원을 주기적으로 활성화시키는, 상기 트래커 및 상기 방사선원에 결합된 콘트롤러(controller)를 포함하는 피부과용 시스템.
제 7 항에 있어서, 콘트롤러가 위치 신호를 기초로 하여 앞서의 방사선원의 활성화 이후 헤드 부분의 이동 거리를 결정함을 특징으로 하는 장치.
제 8 항에 있어서, 이동 거리가 한계를 초과하는 경우 콘트롤러가 방사선원을 활성화시킴을 특징으로 하는 장치.
모첨의 일부 또는 전부의 형태를 변형시키기 위해 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모첨 내에 에너지가 침착되도록 피부 처리 영역에 전자기 방사선(EMR)을 적용시키는 단계를 포함하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 방사선 적용 단계가 처리 영역의 일부 또는 전부를 다수의 EMR 펄스에 노출시키는 것을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모첨을 가열하여 모첨의 예리함을 감소시킴을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모첨의 형태를 실질적으로 둥근 형태로 변형시킴을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모첨의 모낭외(extrafollicular) 침투 및/또는 모낭 통과성(transfollicular) 침투를 억제하기 위해 모첨의 형태를 변형시킴을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 처리 영역 내의 수발 가성모낭염(pseudofolliculitis barbae, PFB)의 치료 및/또는 예방중 어느 하나를 야기시킴을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모첨의 온도를 약 50 내지 약 300℃로 상승시킴을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 모첨의 온도를 약 50 내지 약 300℃로 상승시키며 처리 영역의 표피 온도를 약 65℃ 미만으로 유지하도록 적용되는 방사선을 선택하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 11 항에 있어서, 펄스가 약 1 나노 초 내지 약 5 분의 펄스 폭을 지님을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 11 항에 있어서, 펄스가 약 1 마이크로 초 내지 약 100 밀리 초의 펄스 폭을 지님을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 19 항에 있어서, 펄스가 약 0.1 Hz 내지 약 1 MHz의 반복율을 지님을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 방사선이 약 0.01 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도를 처리 영역에 적용함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 약 280 ㎚ 내지 약 100000 ㎚의 파장 성분을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 약 380 ㎚ 내지 약 600 ㎚의 파장 성분을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모첨 내의 멜라닌, 수분 및 케라틴중 하나 이상에 의해 흡수되는 파장 성분을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 전자기 방사선의 적용에 앞서 처리 영역 내의 모첨을 건조시키는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 25 항에 있어서, 모첨을 건조시키기 위해 처리 영역에 걸쳐 공기의 흐름을 전달하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 처리 영역 내의 표피를 냉각시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 27 항에 있어서, 냉각 단계가 방사선을 처리 영역에 적용하기 전, 적용하는 동안 또는 적용한 후에 수행됨을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 방사선에 의해 화학적으로 또는 열적으로 광활성되어 모첨의 형태를 변형시키는 것을 촉진하는 국소용 작용제를 피부 처리 영역에 적용시키는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 29 항에 있어서, 국소용 작용제가 하나 이상의 발색단(chromophore)을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 30 항에 있어서, 국소용 작용제가 처리 영역 내의 모의 모지관(pilosebaceous canal)으로 발색단을 전달하기 위한 비히클을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 모첨이 피부 표면 아래의 약 0.2 ㎜로부터 피부 표면 위의 약 1 ㎜까지 걸쳐있음을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 방사선 적용 전에 피부 표면 위로 돌출된 모첨의 부분을 제거하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 33 항에 있어서, 모첨의 부분을 제거하는 단계가 전자기 방사선의 적용과 실질적으로 동시에 수행됨을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 33 항에 있어서, 모첨의 부분을 제거하는 단계가 면도, 클리핑(clipping), 탈모용 크림의 적용 또는 추가적인 전자기 방사선의 적용으로 구성되는 군으로부터 선택됨을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 방법이 피부 처리 영역을 스트레칭(stretching)하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 10 항에 있어서, 방법이 피부 처리 영역 내의 모를 리프팅(lifting)하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
모간의 탄성의 변화를 야기시키기 위해 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모간에 대한 피부 처리 영역으로 전자기 방사선을 적용하는 것을 포함하는 모 처리 방법.
제 38 항에 있어서, 방사선이 방사선 조사된 모간의 탄성을 증가시킴을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 38 항에 있어서, 방사선이 모간의 인장 강도를 약 1 내지 약 200 MPa의 파괴 응력의 범위에서 변화시킴을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 38 항에 있어서, 방사선이 모간을 실질적으로 곧은 형태가 되게 함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 38 항에 있어서, 모간의 탄성 변화가 처리 영역 내의 수발 가성모낭염(PFB)의 예방 또는 치료를 촉진함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 38 항에 있어서, 상승된 온도가 약 50 ℃ 내지 약 300 ℃임을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 38 항에 있어서, 전자기 방사선 적용의 단계가 다수의 전자기 펄스를 처리 영역에 적용하는 것을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 44 항에 있어서, 방사선이 약 380 ㎚ 내지 약 2700 ㎚의 파장 성분을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 44 항에 있어서, 방사선이 약 600 ㎚ 내지 약 1400 ㎚의 파장 성분을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 44 항에 있어서, 펄스가 약 1 나노 초 내지 약 1 분의 펄스 폭을 지님을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 47 항에 있어서, 펄스가 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠의 에너지 밀도를 제공함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 44 항에 있어서, 처리 영역 내의 표피를 냉각시키는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 44 항에 있어서, 방사선에 의해 광활성화되어 모간의 연화를 촉진할 수 있는 국소용 작용제를 처리 영역에 적용하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
모 성장을 조절하기 위해 약 1200 내지 약 1400 ㎚의 파장 성분을 지니는 전자기 방사선을 피부 처리 영역 내의 하나 이상의 모낭에 적용하는 것을 포함하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모 성장을 느리게 함을 특징으로 하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모 성장을 정지시킴을 특징으로 하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 적용되는 방사선이 모 성장을 자극시킴을 특징으로 하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 모 성장의 조절이 처리 영역 내의 수발 가성모낭염의 예방 또는 치료를 야기시킴을 특징을 하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 적용되는 방사선의 에너지 밀도를 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠가 되도록 선택하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 방사선을 적용하는 단계가 피부 처리 영역을 약 1 나노 초 내지 약 1000 초의 펄스 폭을 지니는 다수의 방사선 펄스에 노출시키는 것을 포함함을 특징으로 하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 처리 영역 내의 표피를 냉각시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 성장 조절 방법.
제 51 항에 있어서, 모낭의 일부 또는 전부의 가열을 야기시키기 위해 적용되는 방사선의 지속기간 및 에너지 밀도를 선택하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 성장 조절 방법.
모의 일부 또는 전부의 곱슬거림을 감소시키기에 적합한 파장 및 에너지 밀도의 방사선으로 처리 영역 내의 다수의 모낭을 조사하는 것을 포함하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 모낭의 조사된 부분이 모구(hair bulb), 각질 영역(keratogenous zone) 및 모낭의 구근(bulbar)중 하나 이상을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 방사선이 모기질(hair matrix)로 하여금 보다 얇은 모를 성장시키게 함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 곱슬거림이 감소된 모가 처리 전의 모의 인장 강도에 비해 약 1 내지 약 200 MPa의 파괴 응력의 인장 강도의 변화를 나타냄을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 곱슬거림이 감소된 모가 처리 전의 모의 직경에 비해 약 1 내지 약 60 ㎛의 직경의 감소를 나타냄을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 파장을 약 380 ㎚ 내지 약 2700 ㎚가 되도록 선택하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 파장을 약 600 ㎚ 내지 약 1400 ㎚가 되도록 선택하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 에너지 밀도를 약 0.1 J/㎠ 내지 약 1000 J/㎠가 되도록 선택하는 것을 추가로 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 조사 단계가 다수의 전자기 펄스를 처리 영역에 적용하는 것을 포함함을 특징으로 하는 모 처리 방법.
제 60 항에 있어서, 펄스가 약 1 나노 초 내지 약 10 분의 펄스 폭을 지님을 특징으로 하는 모 처리 방법.