JPH09215695A - パルス電磁放射を使用する脱毛法および装置 - Google Patents

パルス電磁放射を使用する脱毛法および装置

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JPH09215695A
JPH09215695A JP9025618A JP2561897A JPH09215695A JP H09215695 A JPH09215695 A JP H09215695A JP 9025618 A JP9025618 A JP 9025618A JP 2561897 A JP2561897 A JP 2561897A JP H09215695 A JPH09215695 A JP H09215695A
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energy
tissue
pulses
generating
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Shimon Eckhouse
シモン・エツクハウス
Hillel Bachrach
ヒレル・バカラツク
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ESC Medical Systems Ltd
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II S SHII MEDICAL SYST Ltd
ESC Medical Systems Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 脱毛方法および装置の提供。 【解決手段】 本方法は、非干渉性電磁エネルギーの複
数のパルスを発生させる段階を含む。パルス間の遅れは
0.1〜100ミリ秒の範囲である。次に、非干渉性電
磁エネルギーを、二個以上の毛小胞を有する組織の表面
部分に結合させる。一個または複数のフィルタを使用し
て、毛の色により選択した波長を有するエネルギーを得
る。代替方法として、組織を冷却するために、ゲルを組
織の表面に塗布する段階を含むものであってもよい。こ
のエネルギーは組織を加熱することなく、毛および毛小
胞を加熱する。この装置は、パルス化非干渉性電磁エネ
ルギー源を有する。このエネルギー源はハウジング内に
位置し、カプラが非干渉性電磁エネルギーを組織表面に
向ける。代替装置では、組織を冷却するように組織の表
面にゲルを塗布するが、隣接する毛小胞には塗布せず、
毛小胞を冷却しない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は脱毛の装置および方
法に関し、具体的には電磁エネルギーを利用して毛小胞
を破壊するような装置および方法に関する。
【0002】
【関連出願】本出願は、本明細書に参照によって組み込
まれる、前の1995年3月29日付同時係属出願米国
特許出願第08/412519号「パルス電磁放射を使
用する脱毛法および装置(Method and Apparatus For D
epilation Using Pulsed Electromagnetic Radiatio
n)」の部分継続である。
【0003】
【従来の技術】毛は、美容上の理由により各種の方法、
たとえば毛および毛小胞を凝固が生じるのに十分な高温
に加熱することにより、永久に除去することができる。
血液は、70℃台の温度に加熱すると凝固することが知
られている。同様に、上皮、毛、および毛小胞を同程度
の温度に加熱しても、凝固が生じ、毛が永久に除去され
る。
【0004】脱毛の一般に用いられる一方法に、しばし
ば電気分解と呼ばれる方法があるが、これは個々の毛に
適用する「電気針」の使用に基づくものである。針を介
して、各毛に電流が供給される。この電流が毛を加熱
し、毛の炭化を生じさせるとともに、毛の周囲の組織の
凝固と、毛小胞に栄養を供給する毛細血管の一部凝固を
生じさせる。
【0005】電気針法により、永久または長期の脱毛が
可能であるが、処理は痛みを伴い、この方法は一般に退
屈で長時間を要するので実際には使用は限定される。
【0006】光も脱毛のために有効に使用することがで
きる。たとえば、他の従来の技術による脱毛法には、一
般にレーザなどの干渉性光源からのパルス光の照射によ
るものがある。R.A.ハートほか(R. A. Harte, et
al.)の米国特許第3693623号明細書、および
C.ブロック(C. Block)の米国特許第3834391
号明細書には、毛のすぐ近くで光ファイバにより個々の
毛に光を結合させることによって、単一の毛を凝固させ
て脱毛する方法が教示されている。同様に、R.G.メ
イヤー(R. G. Meyer)の米国特許第3538919号
明細書には、パルスレーザからのエネルギーを利用し
て、一本一本脱毛する方法が開示されている。小さなフ
ァイバを利用する同様の発明が、H.ワイスマンほか
(H. Weissman,et al.)の米国特許第4388924号
明細書、およびA.サットン(A. Sutton)の米国特許
第4617926号明細書に記載されている。これらの
一度に一本の毛を除去する方法は、遅くて退屈である。
【0007】N.タンコビッチ(N. Tankovich)の米国
特許第5226907号明細書には、毛および毛小胞を
被覆する材料を使用して脱毛する方法が記載されてい
る。被覆材料は、光源の周波数を材料の吸収周波数と一
致させるか、または光化学反応により、小胞によるエネ
ルギーの吸収を促進させる。いずれの場合も、光源はレ
ーザである。このような方法および装置の欠点の一つ
は、レーザが高価であり、厳しく規制されていることで
ある。さらに、被覆材料は毛小胞にのみ塗布して、確実
に脱毛するとともに、他の組織の損傷を防止する必要が
ある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】脱毛に使用する光(電
磁)エネルギーは、毛および毛小胞により十分なエネル
ギーが吸収されて、所期の値まで昇温させるようなフル
エンスを持つものでなければならない。しかし、毛小胞
の正確な位置以外の皮膚の表面に光が照射されると、光
は皮膚も凝固温度まで加熱して、皮膚の火傷を起こさせ
る。
【0009】したがって、周囲の皮膚に火傷を起こさせ
ることなく、多数の毛小胞を効果的に加熱できることが
望ましい。このような方法および装置は、一度に二本以
上の毛を、好ましくは皮膚の広い面積、たとえば少なく
とも2cm2から除去できなければならない。さらに、
この方法および装置は、非干渉性の光を使用することが
できなければならない。
【0010】また、光は毛の色により選択された周波数
のものにして、さまざまな毛の色の吸収周波数を利用す
ることが望ましい。さらに、パルス間の遅れは、周囲の
組織が冷却されるが、毛小胞が冷却されるのを防止する
ようなものであることが望ましい。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の一態様によれ
ば、組織の一部から毛を除去する方法には、非干渉性電
磁エネルギーの複数のパルスを発生させることが含まれ
る。このエネルギーは、除去される毛の色に合わせて濾
波される。次にこの非干渉性電磁エネルギーを、二個以
上の毛小胞を含む組織の表面部分に結合させる。
【0012】さらに、代替実施形態の一つでは、エネル
ギーはせん光ランプを点滅させて0.1〜100ミリ秒
台の遅れを有し、エネルギーフルエンスが10〜100
J/cm2であるパルスを発生させることができるが、
必ずしもこの方法による必要はない。エネルギーはせん
光ランプを収納するハウジングの窓を介して、および組
織表面に塗布したゲルを介してエネルギーを組織に反射
させることにより結合させることができる。この窓はゲ
ルに接触させてもよい。他の代替実施形態では、電磁エ
ネルギーの角拡散を制御することにより、組織への浸透
深さ、および毛と毛小胞への結合を制御する。他の代替
実施形態では、この方法の各段階を、少なくとも二種類
の角拡散を使用して反復し、少なくとも二種類の浸透深
さを得る。
【0013】他の代替実施形態では、電磁エネルギーを
濾波する。具体的に一実施形態では、処理する組織の色
素沈着度により、または除去する毛の色により濾波す
る。他の代替実施形態では、500または600nm未
満、および1300nmを超える波長を有するエネルギ
ーが濾波される。このようなエネルギーの全部を濾波し
ても、一部を濾波してもよい。
【0014】さらに他の代替実施形態では、発生させた
パルスは幅が200ミリ秒未満である。一実施形態で
は、組織におけるエネルギーの表面積は少なくとも2c
2である。
【0015】一代替実施形態によれば、光源はせん光ラ
ンプと、エネルギーフルエンスが10〜100J/cm
2台であるエネルギーのパルスを発生させるパルス発生
回路である。カプラは、透明な窓と反射性の内面を有す
るハウジングからなり、エネルギーが窓に反射される。
組織の表面にゲルを塗布し、窓をゲルに接触させて、エ
ネルギーを窓およびゲルを介して組織の表面に結合させ
る。他の代替実施形態では、カプラにより供給されるエ
ネルギーは、一定範囲の拡散角度を有する。
【0016】本発明を理解するため、図面を添付する
が、同様の番号は全体を通じて対応する要素または部分
を示す。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の少なくとも一実施形態を
詳細に説明する前に、本発明は下記の説明および図に示
された構造の詳細および部品の配置に限定されるもので
ないことを理解すべきである。本発明は他の実施形態も
可能であり、また各種の方法により実施することができ
る。また、本明細書の表現および用語は説明のためのも
のであり、限定するためのものではないことを理解すべ
きである。
【0018】一般に、本発明では、「毛の生えた」部分
を強力な、大面積のパルス電磁(光)エネルギーに露出
することにより脱毛する。このエネルギーが毛を加熱
し、健康な皮膚に損傷を与えることなく、毛および毛小
胞の周囲の組織を凝固させる。
【0019】処理前に光学的に透明な水性ゲルを皮膚に
塗布してもよい。本明細書で使用するゲルとは、粘度の
高い液体を意味し、水性であることが好ましいが、必ず
しも水性である必要はない。ゲルは、上皮のメラニン含
有量のため組織への光の吸収の主要な位置である上皮を
冷却するのに使用される。ゲルは毛小胞によりつくられ
た凹部に浸透して、毛および毛小胞を冷却しないように
塗布する。その結果、エネルギーが選択的に供給され、
皮膚に損傷を与えることなく、毛を凝固させる。
【0020】高出力パルスせん光ランプなどの多色性光
源は、本明細書に記載された目的に適した光源の一例で
ある。せん光ランプなどの多色性光源の特長の一つは、
波長が550〜630nmの範囲のエネルギーが血液に
強く吸収され、毛に栄養を供給する血管を凝固させるの
に使用可能なことである。さらに、これより波長が長い
600〜1100nmの範囲では、色素が沈着していな
い皮膚への浸透が非常に良好である。この波長範囲は、
毛のメラニンに結合させるのに使用することができる。
毛および毛小胞の色素沈着が多いと、毛によるエネルギ
ーの吸収が増大することがある。
【0021】せん光ランプは、大面積を照射して、処理
時間を短縮させる利点も有する。せん光ランプを適当な
反射装置と組み合わせると、一回の照射で数平方センチ
メートル台の面積に必要なフルエンスを供給することが
できる。しかし、パルスレーザなどの他の光源も同様に
使用することができる。
【0022】図1を参照すると、上皮102中の毛小胞
100の断面の略図が示されている。図1に見られるよ
うに、ゲル103が上皮103に塗布されている。本発
明では、毛105などの毛に覆われた皮膚の大きい部分
に、水性の透明なゲル103を塗布する。ゲル103
は、上皮104に塗布され、上皮104の上に薄い層を
形成する。この薄い層が上皮104に密着して、光(電
磁エネルギー)がこの部分に照射された時、上皮104
を冷却するヒートシンクとして機能する。図1に示すよ
うに、ゲル103はその表面張力特性と、毛を疎水性に
する油性の天然物質の薄層に毛が覆われていることによ
り、毛小胞が形成する凹部106にまで浸透しない。凹
部106を満たす空気と比較してゲル103の熱の拡散
能がはるかに高いため、矢印107で示すように上皮1
04を速く冷却することができ、毛105ははるかに遅
い速度で冷却される。
【0023】代表的寸法d、拡散能αの物体の冷却時間
δtは、下記の式で表される。
【0024】δt≒d2/16α 上皮は通常断面寸法が0.1mm未満であり、これは毛
の代表的直径と同じである。水の拡散能は約α=3×1
-92sec-1である。
【0025】ゲルは、図1に示すような方法で広い面積
に塗布する。このようにしてゲルを塗布した場合、毛の
冷却時間は通常200ミリ秒台であり、上皮の冷却時間
は5ミリ秒台である。この冷却時間の差は、ゲルが毛小
胞に浸透しないためである。ゲルは冷却剤としてのみ機
能し、外部からの照射により加熱されないほうがよいた
め、透明なゲルを使用するのが好ましい。
【0026】本発明によれば、長いパルス、または遅れ
によって分離された連続パルスのいずれかにより、処理
部分を露光する。この遅れおよび(または)パルス長
は、脱毛のためには十分であり、しかも皮膚は損傷させ
ない熱を供給するように、オペレータが制御するのが好
ましい。たとえば、パルス長またはパルス間の遅れは、
ゲルに被覆された上皮の冷却時間より長く、毛および毛
小胞の冷却時間より短くすべきである。このように、上
述の冷却時間の説明を参照して、単一のパルスを使用す
る場合にはパルス長を50ミリ秒、連続パルスを使用す
る場合にはパルス間の遅れを50ミリ秒とするのが適当
な値である。
【0027】光源のスペクトルは、皮膚、毛、および毛
に栄養を供給する血管による吸収を参照して選択するこ
とができる。たとえば、毛小胞は通常深さが1〜2mm
である。したがって、大幅に減衰することなくこの深さ
まで浸透する範囲の波長の光を使用することが好まし
い。
【0028】図2は、400〜1000nmの範囲にお
ける正常な皮層の拡散、吸収、および有効減衰係数と、
血液の吸収係数を示すグラフである。1本の毛ではな
く、広い面積を照射するため、大幅に減衰することなく
皮膚に浸透する範囲の波長を使用することが好ましい。
皮膚の減衰係数は、光が皮膚に浸透する深さを制御す
る。図2に示すように、550nmより長い波長が、皮
膚に深く浸透する効果が高い。これより短い波長は、毛
小胞の深い部分にまで到達する前に大幅に減衰する。
【0029】1000nmよりかなり長い波長も、皮膚
の70%を超える部分を構成する水の中での赤外線の吸
収が大きいため効果が少ない。本発明の大面積光熱脱毛
には、光が皮膚に浸透した後にのみ毛および毛小胞に結
合するため、皮膚の深部にまで浸透する光を使用するの
が好ましい。1300nmより長い波長の光のスペクト
ルの大部分が水に吸収され、皮膚の非常に深部まで浸透
しないため、有用性が低い。たとえば、10,000n
mの範囲のCO2レーザの放射は、1μmの10分のい
くつかしか皮膚に浸透しない。
【0030】次に図3および図4を参照すると、脱毛装
置の好ましい実施形態の一つ300は、ハンドル付のハ
ウジング302に収納されたせん光ランプ301を有す
る。せん光ランプは、ゲル103および毛に覆われた皮
膚102/104/105に隣接して示されている。本
発明による脱毛に有効なせん光ランプの一つは、本明細
書に参照により組み込まれた、1992年10月20日
付同時係属出願の米国特許出願第07/964210号
明細書「電磁医療のための方法および装置(Method and
Apparatus For Therapeutic Electromagnetic Treatme
nt)」に詳細に記載されている。同明細書に記載された
せん光ランプは、適当なフルエンスを有し、単一のパル
スで広い面積(10×50mm程度)を照射する。
【0031】このようなせん光ランプは、可変パルス幅
の電源により駆動される。このせん光ランプは、ハウジ
ング302に収納され、せん光ランプからの光は、反射
能の高いリフレクタ305により皮膚に向けられる。
【0032】図3および図4には、せん光ランプ301
とゲル103との間に配置されたフィルタ307も示さ
れている。このフィルタ、または代替実施形態では複数
のフィルタは、光源により発生するスペクトルを制御す
るのに使用される。本明細書で使用するフィルタ、すな
わちバンドパスフィルタは、ある波長または周波数の電
磁エネルギー(光)を通過させるものである。他の波長
または周波数は一部または全部が除去される。
【0033】オペレータは、脱毛処理される人の皮膚の
色素沈着によってフィルタを選択することができる。せ
ん光ランプを使用する実施形態では、このようなランプ
から通常発生するスペクトル範囲、すなわち高電流密度
(1000〜5000A/cm2)で点灯する高圧キセ
ノンせん光ランプの場合、200〜1300nmの範囲
である。脱毛は主として美容上の理由により行い、毛が
濃い場合ほど重要であるため、毛自体が可視および近赤
外線の広範囲のスペクトルの光を吸収する。せん光ラン
プが発生するこれより短い波長は皮膚の深部にまで浸透
しないため、(図2からわかるように)除去される。
【0034】一実施形態では、フィルタのカットオフ波
長より長い波長のみを透過させるロングパスフィルタを
使用する。好ましい実施形態では、脱毛処理をされてい
る人が通常の皮膚を有する場合、600nmのカットオ
フ波長を使用する。好ましい実施形態では、皮膚の黒い
人を脱毛処理する場合は、700〜800nmの範囲の
カットオフ波長を使用する。本発明によれば、フィルタ
はたとえばダイクロイックフィルタまたは吸収フィルタ
を使用することができる。所期のスペクトルは、二個以
上のフィルタ、またはバンドパスフィルタを使用しても
得られる。
【0035】一実施形態によれば、使用するフィルタ
は、毛の吸収特性に基づいて選択する。たとえば、黒い
毛は明色の毛とは異なる吸収特性を有する。したがっ
て、周波数(または波長)は、除去される毛の色によっ
て決められる。たとえば、黒い毛は600nmより長い
波長で、明色の毛は500nmより長い波長で処理する
のが最良である。
【0036】せん光ランプ301からの光は、透明な窓
308およびカプラ310(下記)を介して皮膚と結合
する。図3および図4に示すように、窓308を、透明
な水性ゲル103の上に置く。使用に際しては、オペレ
ータは脱毛装置300をハンドル304により保持し、
処理が必要な(ゲル103を塗布してある)皮膚の部分
に置く。透明な窓308は、ゲル103の上に、良く画
定された平坦な表面を形成し、窓308を介して光がゲ
ル103と皮膚に入射する。
【0037】オペレータは制御装置(図示せず)上でパ
ルスとエネルギーフルエンスパラメータを選択する。電
源および制御装置は、別のボックスに収納されているの
が好ましく、直流電源により高電圧に充電されたキャパ
シタからの電力を有し、キャパシタはせん光ランプによ
って放電する。脱毛装置300は、患者の皮膚の処理部
分に装置を向ける場合に容易なように、柔軟なケーブル
を介して電源および制御装置に接続することができる。
パルス長の制御は、異なるパルス幅を発生させることが
できる数個のパルス形成ネットワークを使用して行うこ
とができる。代替方法として、開口309は、オペレー
タがプリセットした時間に放電を停止してパルス幅を制
御することができるソリッドステートの開口スイッチを
有するものでも良い。装置のこれらの要素は、周知のも
のであり、当業者が知っているように、容易に製作した
り、同様な要素と置換したりすることができる。
【0038】パラメータを選択した後、オペレータは各
種の位置に置かれたスイッチを押すことにより装置を始
動させる。
【0039】10〜100J/cm2の全フルエンスに
より、毛がうまく除去される。このフルエンスは、毛お
よび毛小胞の温度が高温に達する必要条件から、皮膚を
介しての毛および毛小胞への光の浸透、毛および毛小胞
への光の吸収、毛および毛小胞の比熱容量、および周囲
の皮膚への伝熱によるパルスの間の毛の冷却により決定
する。
【0040】カプラ310は、せん光ランプ301から
の光をゲル103および皮膚に伝達する。カプラは、せ
ん光ランプ301により発生した光の案内として機能
し、光(電磁エネルギー)を皮膚に伝達する内部反射壁
を有する中空のボックスからなる。カプラ310は、他
の材料、たとえば壁からの光の反射を側壁による全内部
反射を利用して得るガラスまたはアクリル樹脂などの固
体の透明材料で製作してもよい。
【0041】一代替実施形態では、カプラ310は皮膚
に当たる光線の角分布を制御するために使用する。光線
は、皮膚の面に垂直方向に移動する時、毛または毛小胞
に優先的に当たる。浅い毛を処理する時、エネルギーの
大部分を毛および毛小胞へ向ける比較的広い角発散を有
する光線の分布が望ましい。反対に、深い浸透が望まし
い場合には、狭い発散が好ましい。
【0042】一実施形態では、二段階の処理段階を使用
することにより、浅い浸透と深い浸透の両方を得る。先
ず深い毛小胞を処理するために狭い発散光線を使用し、
毛小胞の上部を処理するために高い発散光線を使用す
る。
【0043】図5は、入口の光線より出口の光線のほう
が角拡散の大きいカプラ501を示す。図5に示すよう
に、光線502がカプラ501の軸に対して、小さい角
度でカプラ501に入る。光線502がカプラ501か
ら出る時、軸に対する角度ははるかに大きくなる。カプ
ラ501の傾斜した形状が、この拡散を増大させる。
【0044】図6は、入射する光線の角拡散を維持する
直線的なカプラ601を示す。光線602は、カプラ6
01の軸に対して、同じ角度でカプラ601に入り、カ
プラ601から出る。カプラ501とカプラ601の両
方を交互に使用すると、上述の浅い浸透と深い浸透が得
られる。代替方法として、利用者は処理する毛の深さに
よりカプラの種類を選択することができる。
【0045】数名の患者の足の毛について臨床試験を行
った。少なくとも二カ月は脱毛され、この期間には露光
した部分に毛の成長は観察されなかった。この実験は、
高フルエンス、すなわち各露光に45J/cm2までを
使用した。使用したスペクトルは、570〜1100n
mの範囲で、フルエンスはパルス間の遅れが50〜10
0ミリ秒の三重パルスの形で供給した。パルスの連続に
より、痛みが最少で、皮膚の損傷のない脱毛が可能であ
った。この実験に使用した透明ゲルは、市販の水性超音
波ゲルである。
【0046】代替実施形態では、パルス間の遅れが10
〜100ミリ秒台であり、好ましくは0.1〜100ミ
リ秒の範囲である。本発明では、この範囲のパルスの遅
れが特に効果的であることがわかった。
【0047】このように、本発明によれば、上記の目的
および利点を完全に満足させるせん光ランプとカプラが
供給されることが明白である。本発明は特定の実施形態
について説明したが、当業者により多くの代替、変更、
および修正を行うことができることは明白である。した
がって、請求項の原理および範囲に該当するこれらすべ
ての代替、変更、および修正が包含されることを意図す
るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】上皮中の毛と、本発明により上皮に塗布したゲ
ルの断面の概略を示す図である。
【図2】皮膚の光学特性を示すグラフである。
【図3】本発明により製作した脱毛装置を示す側面図で
ある。
【図4】本発明により製作した脱毛装置を示す前面図で
ある。
【図5】本発明に使用する拡散カプラである。
【図6】本発明に使用する非拡散カプラである。
【符号の説明】
100 毛小胞 102 真皮 103 ゲル 104 上皮 105 毛 300 脱毛装置 301 せん光ランプ 302 ハウジング 304 ハンドル 305 リフレクタ 307 フィルタ 308 透明窓 310、501、601 カプラ

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の非干渉性電磁エネルギーのパルス
    を発生させる段階と、 前記エネルギーを濾波して所期の波長を形成する段階
    と、 前記非干渉性電磁エネルギーを組織の表面に結合させる
    段階とからなる複数の毛小胞を有する組織の部分から脱
    毛する方法。
  2. 【請求項2】 複数のパルスを発生させる段階で、パル
    ス間に0.1〜100ミリ秒台の遅れを発生させること
    を含む請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 複数のパルスを発生させる段階が、せん
    光ランプを点滅させて、10〜100J/cm2台のエ
    ネルギーフルエンスを有するパルスを発生させる段階か
    らなる請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 結合させる段階が、電磁エネルギーの角
    発散を制御し、これにより組織への浸透深さ、および毛
    ならびに毛小胞との結合を制御する請求項1から3のい
    ずれか一項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記方法の各段階を少なくとも二回反復
    し、少なくとも二種類の角発散を使用することにより、
    少なくとも二種類の浸透深さを得る請求項4に記載の方
    法。
  6. 【請求項6】 複数のパルスを発生させる段階が、幅が
    200ミリ秒未満の少なくとも一個のパルスを形成する
    段階を含む請求項2に記載の方法。
  7. 【請求項7】 組織にエネルギーを与える面積が、少な
    くとも2cm2である請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 パルス化非干渉電磁エネルギー源と、エ
    ネルギー源と皮膚との間に置かれた第1のバンドパス電
    磁フィルタからなり、前記エネルギー源が、非干渉電磁
    エネルギーを組織の表面に向けるように配置することが
    できるカプラを有するハウジング内に置かれる複数の毛
    小胞を有する組織の部分から脱毛する装置。
  9. 【請求項9】 前記エネルギー源が、せん光ランプと、
    パルス間に0.1〜100ミリ秒台の遅れを有する複数
    のパルスを発生させることができるパルス発生回路を有
    する請求項8に記載の装置。
  10. 【請求項10】 前記パルス発生回路が、10〜100
    J/cm2台のエネルギーフルエンスを有するパルスを
    発生させることができる請求項9に記載の装置。
  11. 【請求項11】 前記ハウジングの内部が反射性で、透
    明な窓を有し、前記エネルギーが反射されたカプラを介
    し前記窓に至り、さらにゲルを組織の表面に塗布して前
    記窓を前記ゲルに接触させる請求項8から10のいずれ
    か一項に記載の装置。
  12. 【請求項12】 組織にエネルギーを与える面積が、少
    なくとも2cm2である請求項8に記載の装置。
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