KR20050070232A - An alignment strip device and the stripping method - Google Patents
An alignment strip device and the stripping method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050070232A KR20050070232A KR1020030099482A KR20030099482A KR20050070232A KR 20050070232 A KR20050070232 A KR 20050070232A KR 1020030099482 A KR1020030099482 A KR 1020030099482A KR 20030099482 A KR20030099482 A KR 20030099482A KR 20050070232 A KR20050070232 A KR 20050070232A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- bath
- alignment film
- chemical liquid
- alignment
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
Abstract
본 발명은 액정 표시 장치를 제조하는 장치에 관한 것으로, 기판에 형성된 배향막을 제거하여 재생하기 위한 배향막 처리 장치 및 그 처리 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, and relates to an alignment film processing apparatus for removing and regenerating an alignment film formed on a substrate and a processing method thereof.
본 발명은 액정 표시 장치에서 배향 불량으로 발생된 기판을 재생을 위하여 배향막 제거 장치로 이송하여 적재 매수만큼 알칼리 계열의 화학 물질을 이용하여 일괄적으로 제거하 새로운 배향막을 형성함으로써 기판의 재사용이 가능하고 경비를 절감하는 효과가 있으며, 그에 따라 배향막의 불량을 제거할 수 있어 소자의 신뢰성을 향상시킨다.The present invention is capable of reusing a substrate by forming a new alignment layer by transferring a substrate generated due to misalignment in a liquid crystal display device to an alignment layer removing device for regeneration and collectively removing the amount of the number of sheets by using an alkali-based chemical. There is an effect of reducing the cost, it is possible to eliminate the defect of the alignment film thereby improving the reliability of the device.
또한, 본 발명은 기판을 카세트에 적재하여 다수 매를 일괄적으로 처리함으로써 기판의 재사용에 따른 수율 로스(loss)를 해소하고 생산률을 향상시키는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of eliminating the yield loss due to the reuse of the substrate by improving the production rate by processing a plurality of sheets in a batch by loading the substrate in the cassette.
Description
본 발명은 액정 표시 장치를 제조하는 제조 장치에 관한 것으로, 기판에 형성된 배향막을 제거하여 재생하기 위한 배향막 처리 장치 및 그 처리 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a manufacturing apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, and relates to an alignment film processing apparatus for removing and regenerating an alignment film formed on a substrate and a processing method thereof.
최근, 계속해서 주목받고 있는 평판표시소자 중 하나인 액정 표시 장치(LCD : Liquid Crystal Display device)는 액체의 유동성과 결정의 광학적 성질을 겸비하는 액정에 전계를 가하여 광학적 이방성을 변화시키는 소자로서, 종래 음극선관(Cathod Ray Tube)에 비해 소비전력이 낮고 부피가 작으며 대형화 및 고정세가 가능하여 널리 사용하고 있다.BACKGROUND ART Liquid crystal display devices (LCDs), one of flat panel display devices, which are attracting attention in recent years, are devices that change optical anisotropy by applying an electric field to a liquid crystal having both liquidity and optical properties of crystals. Compared to cathode ray tube, it has low power consumption, small volume, large size, and high definition.
이러한 액정 패널은 두 개의 기판을 일정 간격 이격되도록 대향 합착한 후, 상기 두 기판 사이에 액정을 주입하여 형성하는데, 그 기능은 액정 분자의 배열 특성에 따라 결정되므로 액정 분자의 배향을 균일하게 제어하는 기술은 매우 중요하다.The liquid crystal panel is formed by injecting liquid crystals between the two substrates after the two substrates are opposed to each other to be spaced apart from each other by a predetermined distance, and the function of the liquid crystal panel is determined according to the arrangement characteristics of the liquid crystal molecules to uniformly control the alignment of the liquid crystal molecules. Technology is very important.
상기 액정 패널의 제조방법을 좀 더 자세히 살펴보면, 먼저 제 1 기판 상에 게이트 배선 및 데이터 배선을 교차 형성하여 화소 영역을 정의하고, 상기 각 화소 영역에 박막트랜지스터와 화소전극을 형성한다.Referring to the method of manufacturing the liquid crystal panel in more detail, first, a pixel region is defined by crossing gate lines and data lines on a first substrate, and a thin film transistor and a pixel electrode are formed in each pixel region.
이 때, 상기 박막트래지스터는 게이트 전극, 반도체층, 소스/드레인 전극을 적층하여 형성한다.In this case, the thin film transistor is formed by stacking a gate electrode, a semiconductor layer, and a source / drain electrode.
다음, 제 2 기판 상에 블랙 매트릭스를 형성하고, 상기 블랙 매트릭스 사이에 컬러필터층을 형성한 뒤, 상기 컬러필터층을 포함한 전면에 공통전극을 형성한다.Next, a black matrix is formed on the second substrate, a color filter layer is formed between the black matrices, and a common electrode is formed on the entire surface including the color filter layer.
이와 같이, 액정 패널을 구성하는 패턴들을 형성한 후, 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판 상에 액정 분자를 배향시킬 수 있는 배향막을 형성한다.As such, after forming the patterns constituting the liquid crystal panel, an alignment layer capable of orienting liquid crystal molecules is formed on the first substrate or the second substrate.
이 때, 배향막으로는 주로 폴리이미드(polyimide)와 같은 유기고분자 물질을 이용한다.At this time, an organic polymer material such as polyimide is mainly used as the alignment layer.
계속하여, 상기 배향막을 형성한 후에 그 표면을 특수 형태의 천으로 러빙하여 배향막 처리를 한다.Subsequently, after the alignment film is formed, the surface is rubbed with a special type of cloth to perform an alignment film treatment.
하지만, 배향막을 잘못 도포하여 오염되거나 홀(hole)이 생기면 액정 분자를 균일하게 배향할 수 없게 되고 이로 인해 소자에 불량이 발생하므로 유의해야 한다.However, if the alignment layer is improperly coated and contaminated or holes are generated, it is impossible to uniformly align the liquid crystal molecules, which may cause defects in the device.
이어서, 상기 제 2 기판의 가장자리에 접착제 역할을 하는 실란트를 형성하고, 상기 제 1 기판에 스페이서를 골고루 산포한 뒤, 상기 제 1 ,제 2 기판을 대향하도록 합착시킨다. Subsequently, a sealant acting as an adhesive agent is formed on the edge of the second substrate, the spacer is evenly distributed on the first substrate, and the first and second substrates are bonded to face each other.
이 후, 상기에서와 같이 합착된 두 기판 사이에 액정을 주입하고 액정주입구를 봉함으로써 소정의 액정 패널을 완성한다.Thereafter, the liquid crystal is injected between the two bonded substrates as described above, and the predetermined liquid crystal panel is completed by sealing the liquid crystal inlet.
그러나, 상기와 같은 종래의 액정패널의 제조방법은 기판 상에 배향막을 도포하거나 또는 배향막 처리할 때, 이물질에 의해 배향막이 오염되거나 배향막에 홀이 생기게 되면 액정분자를 균일하게 배향시킬 수 없을 뿐만 아니라 불량 소자를 발생시키는 문제점이 있다.However, in the conventional method of manufacturing a liquid crystal panel as described above, when the alignment layer is coated or treated on the substrate, the liquid crystal molecules may not be uniformly aligned if the alignment layer is contaminated by foreign matter or holes are formed in the alignment layer. There is a problem of generating a defective device.
그리고, 배향막 상태가 매우 좋지 못한 기판은 사용할 수 없으므로 그대로 폐기 처리시에 생산 마진(margin)이 감소하게 되는 문제점이 있다. In addition, since the substrate having a very poor alignment film state cannot be used, there is a problem that the production margin is reduced during disposal.
본 발명은 액정 표시 장치에서 배향 불량으로 발생된 기판을 재생을 위하여 배향막 제거 장치로 이송하여 적재 매수만큼 알칼리 계열의 화학 물질을 이용하여 일괄적으로 제거하는 배향막 처리 장치 및 그 처리 방법을 제공하는 데 목적이 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an alignment film processing apparatus and a method for treating the same, wherein the substrate generated by the alignment defect in the liquid crystal display device is transferred to the alignment film removing device for regeneration and collectively removed using an alkali-based chemical substance as the number of sheets. There is a purpose.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 배향막 처리 장치는, 배향막이 형성된 기판과; 상기 배향막 제거를 위한 약액이 채워지는 바쓰(bath)와; 상기 바쓰 내부에 다수의 기판이 적재되는 카세트(cassette)와; 상기 바쓰 내에 약액을 공급하는 약액 펌프(pump)와; 상기 바쓰 내에 순수(Deionized water:DI water)를 공급하는 순수 펌프와; 상기 바쓰 내에 질소(N2)가스 버블(bubble)을 발생시키는 가스 발생기를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an alignment film processing apparatus according to the present invention comprises: a substrate on which an alignment film is formed; A bath filled with a chemical solution for removing the alignment layer; A cassette in which a plurality of substrates are stacked in the bath; A chemical pump for supplying a chemical to the bath; A pure water pump for supplying deionized water (DI water) in the bath; And a gas generator for generating nitrogen (N 2 ) gas bubbles in the bath.
상기 기판에 약액 또는 순수를 분사하는 분사 노즐(nozzle)을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.It characterized in that it further comprises an injection nozzle (nozzle) for injecting a chemical or pure water to the substrate.
상기 기판을 건조시키기 위한 에어(air) 분사 노즐을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that it further comprises an air jet nozzle for drying the substrate.
상기 약액은 소정 횟수 반복되어 사용되는 것을 특징으로 한다.The chemical liquid is characterized in that it is used repeatedly a predetermined number of times.
상기 기판은 바쓰 내에서 약액 또는 순수에 디핑(dipping)되는 것을 특징으로 한다.The substrate is characterized in that it is dipped in chemical or pure water in the bath.
상기 약액이 리턴되어 재사용되는 약액 공급 탱크(supply tank)를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.It is characterized in that it further comprises a chemical liquid supply tank (supply tank) that the chemical liquid is returned and reused.
상기 배향막을 제거하기 위한 약액은 알칼리 계열의 화학 물질인 것을 특징으로 한다.The chemical liquid for removing the alignment layer is characterized in that the alkali chemicals.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 다른 배향막 처리 방법은, 배향막이 형성된 기판이 로딩(loading)되는 단계와; 상기 기판이 바쓰(bath) 내의 카세트에 적어도 하나 이상이 적재되는 단계와; 상기 바쓰 내로 약액이 공급되어 배향막이 제거되는 단계와; 상기 바쓰 내로 순수가 공급되어 기판이 세정되는 단계와; 상기 기판을 건조시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, another alignment film processing method according to the present invention comprises the steps of loading a substrate on which the alignment film is formed; At least one substrate is loaded into a cassette in a bath; Supplying the chemical liquid into the bath to remove the alignment layer; Pure water is supplied into the bath to clean the substrate; It characterized in that it comprises a step of drying the substrate.
상기 배향막이 제거되는 단계와, 기판이 세정되는 단계에 있어서, 상기 바쓰 내로 질소 가스 버블(N2 gas bubble)이 발생되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the step, a step in which the substrate is cleaned on which the alignment film removal, characterized in that it further comprises a step in which the nitrogen gas bubbles (N 2 gas bubble) occurred within the above Bath.
상기 순수가 공급되어 기판이 세정되는 단계 이전에, 상기 기판에 순수가 노즐에 의해서 분사되어 초기 세정되는 것을 특징으로 한다.Before the pure water is supplied and the substrate is cleaned, pure water is sprayed on the substrate by a nozzle, and the initial cleaning is performed.
이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명의 구체적인 실시예에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 배향막 처리 장치에 의해 재생되는 액정 패널의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal panel reproduced by an alignment film processing apparatus according to the present invention.
도 1에 도시된 바와 같이, 투명한 제 1 기판(111) 위에 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 게이트 전극(121)이 형성되어 있고, 그 위에 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiOx)으로 이루어진 게이트 절연막(130)이 게이트 전극(121)을 덮고 있다.As shown in FIG. 1, a gate electrode 121 made of a conductive material such as a metal is formed on the transparent first substrate 111, and a gate insulating film made of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) is formed thereon. 130 covers the gate electrode 121.
상기 게이트 전극(121) 상부의 게이트 절연막(130) 위에는 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(141)이 형성되어 있으며, 그 위에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹 콘택층(151, 152)이 형성되어 있다.An active layer 141 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating layer 130 on the gate electrode 121, and ohmic contact layers 151 and 152 made of amorphous silicon doped with impurities are formed thereon. .
또한, 상기 오믹 콘택층(151, 152) 상부에는 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 소스 및 드레인 전극(161, 162)이 형성되어 있는데, 상기 소스 및 드레인 전극(161, 162)은 상기 게이트 전극(121)과 함께 박막 트랜지스터(T)를 이룬다.In addition, source and drain electrodes 161 and 162 made of a conductive material such as a metal are formed on the ohmic contact layers 151 and 152, and the source and drain electrodes 161 and 162 are the gate electrode 121. ) Together with the thin film transistor (T).
상기 소스 및 드레인 전극(161, 162) 위에는 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiOx) 또는 유기 절연막으로 이루어진 보호층(170)이 형성되어 있으며, 상기 보호층(170)은 드레인 전극(162)을 드러내는 콘택홀(171)을 가진다.A passivation layer 170 made of a silicon nitride layer (SiNx), a silicon oxide layer (SiOx), or an organic insulating layer is formed on the source and drain electrodes 161 and 162, and the passivation layer 170 forms a drain electrode 162. It has a contact hole 171 to expose.
상기 보호층(170) 상부의 화소 영역에는 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극(181)이 형성되어 있고, 상기 화소 전극(181)은 콘택홀을 통해서 상기 드레인 전극(162)과 연결되어 있다.A pixel electrode 181 made of a transparent conductive material is formed in the pixel area above the passivation layer 170, and the pixel electrode 181 is connected to the drain electrode 162 through a contact hole.
상기 화소 전극(181) 상부에는 폴리이미드(polyimide)와 같은 물질로 이루어지고 표면이 일정 방향을 가지도록 형성된 제 1 배향막(191)이 형성되어 있다.A first alignment layer 191 formed of a material such as polyimide and having a surface in a predetermined direction is formed on the pixel electrode 181.
이 때, 상기 게이트 전극(121)은 게이트 배선과 연결되어 있고, 상기 소스 전극(161)은 데이터 배선과 연결되어 있으며, 상기 게이트 배선과 데이터 배선은 서로 직교하여 화소 영역을 정의한다.In this case, the gate electrode 121 is connected to a gate wiring, the source electrode 161 is connected to a data wiring, and the gate wiring and the data wiring are orthogonal to each other to define a pixel region.
한편, 상기와 같이 구성되어 있는 제 1 기판(111)을 포함하는 하부 기판 상부에는 상기 제 1 기판(111)과 일정 간격을 가지며 투명한 제 2 기판(110)을 포함하는 상부 기판이 배치되어 있다.Meanwhile, an upper substrate including a transparent second substrate 110 having a predetermined distance from the first substrate 111 is disposed on the lower substrate including the first substrate 111 configured as described above.
상기 제 2 기판(110) 하부의 박막 트랜지스터와 대응되는 부분에는 화소 영역 이외의 부분에서 빛샘이 발생하는 것을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(120)가 형성되어 있다.A black matrix 120 is formed in a portion corresponding to the thin film transistor under the second substrate 110 to prevent light leakage from occurring in portions other than the pixel region.
상기 블랙 매트릭스(120) 하부에는 컬러 필터(131)가 형성되어 있으며, 상기 컬러 필터(131)는 적(R), 녹(G), 청(B)의 세 가지 색이 순차적으로 반복되어 형성되어 있으며, 하나의 색이 하나의 화소 영역에 대응된다.A color filter 131 is formed below the black matrix 120, and the color filter 131 is formed by sequentially repeating three colors of red (R), green (G), and blue (B). One color corresponds to one pixel area.
이 때, 상기 컬러 필터(131)는 염색법, 인쇄법, 안료 분산법, 전착법 등에 의해 형성되어질 수 있다.In this case, the color filter 131 may be formed by a dyeing method, a printing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, or the like.
이어서, 상기 컬러 필터(131)의 하부에는 투명한 도전 물질로 이루어진 공통 전극(140)이 형성되어 있으며, 상기 공통 전극(140) 하부에는 플리이미드(polyimide)와 같은 물질로 이루어지고 표면이 일정 방향을 가지도록 형성된 제 2 배향막(150)이 형성되어 있다.Subsequently, a common electrode 140 made of a transparent conductive material is formed under the color filter 131, and a lower surface of the common filter 140 is formed of a material such as polyimide, and the surface of the color filter 131 is formed in a predetermined direction. The second alignment layer 150 formed to have is formed.
여기서, 상기 제 1 배향막(191)과 제 2 배향막(150) 사이에는 액정층(190)이 형성되며, 상기 액정층(190)의 액정 분자는 상기 배향막(191, 150)의 배향 방향에 의해서 초기 배향 상태가 결정된다.Here, the liquid crystal layer 190 is formed between the first alignment layer 191 and the second alignment layer 150, and the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 190 are initially initialized by the alignment directions of the alignment layers 191 and 150. The orientation state is determined.
상기 제 1 배향막(191)과 제 2 배향막(150)은 각각 상기 액정층(190)이 형성되기전 배향 처리되며, 이를 위하여 상기 제 1 기판(111) 및 제 2 기판(110)은 배향막(191, 150)이 형성되어 있는 상태로 전자 빔 조사 장치에 투입되어 배향 공정을 거치게 된다.The first alignment layer 191 and the second alignment layer 150 are aligned before the liquid crystal layer 190 is formed, respectively. For this purpose, the first substrate 111 and the second substrate 110 may be aligned with the alignment layer 191. 150 is placed in the electron beam irradiation apparatus in a state in which it is formed to undergo an alignment process.
이때, 상기 배향 공정중에 배향 불량이 발생하거나 이물질에 의해 오염되어 재작업을 해야하는 기판은 표면에 형성된 불량 배향막을 제거하여 재사용하는 작업을 거치게 된다.In this case, the substrate in which the alignment defect occurs during the alignment process or is contaminated by foreign matter and needs to be reworked is removed and reused by removing the defective alignment layer formed on the surface.
이 때, 상기 배향막으로는 통상 폴리이미드(polyimide)를 사용한다.In this case, polyimide is usually used as the alignment layer.
도 2는 본 발명에 따른 배향막 제거를 위한 처리 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.2 is a view schematically showing a processing apparatus for removing an alignment film according to the present invention.
먼저, 도 1에서와 같이 형성된 제 1 기판, 제 2 기판은 기판(220) 재생을 위하여 배향막(도시되지 않음)을 제거하는데, 상기 기판(220)은 배향막 처리 장치로 로딩(loading)을 준비한다.First, the first substrate and the second substrate formed as shown in FIG. 1 remove an alignment layer (not shown) for regenerating the substrate 220, and the substrate 220 is prepared for loading into the alignment layer processing apparatus. .
이와 같이 로딩된 기판(220)은 배향막 처리 장치의 바쓰(bath)(200) 내부의 카세트(cassette)(210)에 적재된다.The substrate 220 loaded as described above is loaded in a cassette 210 inside the bath 200 of the alignment layer processing apparatus.
상기 바쓰(200) 내부에 있는 카세트(210)에 적재된 기판(220)은 소정의 매수로 적재된다.The substrate 220 loaded in the cassette 210 inside the bath 200 is loaded with a predetermined number of sheets.
상기 바쓰(200)에는 상기 배향막을 제거하기 위한 약액을 공급하기 위한 펌프(241)가 구비되어 있으며, 약액에 의해서 배향막이 제거된 기판(220)을 세정하기 위한 순수(Deionized water : DI water)를 공급하기 위한 순수 펌프(242)가 구비되어 있다.The bath 200 includes a pump 241 for supplying a chemical liquid for removing the alignment layer, and deionized water (DI water) for cleaning the substrate 220 from which the alignment layer is removed by the chemical liquid. A pure water pump 242 is provided for supplying.
또한, 상기 약액에 디핑(dipping)된 기판(220)의 배향막 제거 작용과, 순수에 디핑된 기판(220)의 세정 작용을 더욱 원활히 해주기 위하여 질소(N2)가스 버블(bubble)을 발생시키는 수단(243)을 구비한다.In addition, the means for generating a nitrogen (N 2 ) gas bubble (bubble) in order to more smoothly remove the alignment film of the substrate 220 dipping in the chemical liquid and the cleaning action of the substrate 220 dipped in pure water 243.
그리고, 상기 카세트(210)에 적재된 기판(220)의 배향막 제거를 위한 약액 처리가 끝난 후 기판(220) 세정을 위하여 순수를 기판(220)으로 분사하기 위한 분사 노즐(shower nozzle)(230)을 구비하고 있다.In addition, a spray nozzle 230 for spraying pure water onto the substrate 220 for cleaning the substrate 220 after the chemical liquid treatment for removing the alignment layer of the substrate 220 loaded on the cassette 210 is finished. Equipped with.
이때, 상기 분사 노즐(230)은 기판 건조를 위한 에어 분사 노즐로 사용할 수도 있다.In this case, the spray nozzle 230 may be used as an air spray nozzle for drying the substrate.
여기서, 상기 기판(220) 상에 형성되어 있는 배향막을 제거하기 위하여 약액을 바쓰(200) 내부에 채워 제거하는 디핑(dipping) 방식을 사용하며, 사용된 약액은 약액 공급 탱크(supply tank;도시되지 않음)로 리턴(return)되어 재사용된다.Here, in order to remove the alignment layer formed on the substrate 220, a dipping method of filling and removing the chemical liquid in the bath 200 is used, and the chemical liquid used is a chemical liquid supply tank; Are returned and reused.
이와 같이 본 발명에 따른 배향막 처리 장치는 다수 매의 기판(220)을 카세트(210)에 적재하여 바쓰(200) 내에서 배향막 제거에서 세정 및 건조를 일괄적으로 처리하는 장치로서 공정이 간단하고 수율을 향상시키는 효과가 있다.As described above, the alignment film processing apparatus according to the present invention is a device that loads a plurality of substrates 220 into the cassette 210 and processes the cleaning and drying at the time of removing the alignment film in the bath 200. Has the effect of improving.
도 3은 본 발명에 따른 배향막을 제거하여 기판을 재사용하기 위한 배향막 처리 공정을 보여주는 순서도이다.3 is a flow chart showing an alignment film treatment process for reusing a substrate by removing the alignment film according to the present invention.
먼저, 불량으로 배향막이 형성되었거나 이물질에 의해서 오염이 되어 재사용 판정을 받은 기판이 배향막 처리 장치로 로딩된다(ST100).First, an alignment film is formed due to a defect or is contaminated by foreign matter, and the substrate which has been judged to be reused is loaded into the alignment film processing apparatus (ST100).
이와 같이 로딩된 기판(11)은 바쓰(bath) 내의 카세트에 적재되고, 상기 바쓰 내로 약액이 공급된다(ST110). The substrate 11 thus loaded is loaded into a cassette in a bath, and the chemical liquid is supplied into the bath (ST110).
이때, 상기 배향막을 제거하기 위한 약액은 알칼리 계열의 화학 물질로서, 상기 배향막은 주로 폴리이미드(polyimide)를 사용한다.In this case, the chemical liquid for removing the alignment layer is an alkali-based chemical substance, and the alignment layer mainly uses polyimide.
상기 폴리이미드를 박리하기 위한 화학 물질은 알칼리 계열의 사메틸 암모늄수산화물, 수용성 용제인 디메틸 황산화물, 금속이온 봉지제인 에틸렌디아민테트라아세트산, 계면활성제, 물 등으로 구성된다. The chemical substance for peeling the polyimide is composed of alkali-based tetramethyl ammonium hydroxide, dimethyl sulfur oxide as a water-soluble solvent, ethylene diamine tetraacetic acid as a metal ion encapsulant, a surfactant, water and the like.
상기 약액은 약액 공급 탱크에서 펌프로 공급되며, 카세트에 적재되어 있는 기판이 모두 디핑(dipping)될 수 있을만큼 충분히 공급된다.The chemical liquid is supplied to the pump from the chemical liquid supply tank, and is sufficiently supplied so that all the substrates loaded in the cassette can be dipped.
이어서, 상기 약액에 카세트가 담궈진 상태에서 기판의 배향막이 제거된다(ST120).Subsequently, the alignment layer of the substrate is removed while the cassette is immersed in the chemical liquid (ST120).
이때, 상기 기판의 표면에서 배향막 박리가 원활히 일어날 수 있도록 약액 내에서 소정 시간동안 질소 가스 버블(N2 gas bubble)을 발생시킨다.In this case, N 2 gas bubbles are generated in the chemical liquid for a predetermined time so that the alignment layer peeling occurs smoothly on the surface of the substrate.
여기서, 상기 약액은 유동이 발생할 경우에 거품이 생길수 있으므로 적정한 질소 가스 압력을 유지하여 거품 발생을 방지한다.Here, since the chemical liquid may form bubbles when the flow occurs, it maintains an appropriate nitrogen gas pressure to prevent foaming.
그리고, 상기 바쓰에 디핑된 약액에 의해서 기판 상에 형성된 배향막이 제거되면 약액은 약액 공급 탱크로 리턴된다.When the alignment layer formed on the substrate is removed by the chemical liquid dipped in the bath, the chemical liquid is returned to the chemical liquid supply tank.
이와 같이, 사용된 약액은 소정의 회수만큼 재처리되어 사용할 수 있으며, 일정 횟수만큼 반복되어 사용된 후에는 폐수 처리되고 새로운 약액을 사용한다.In this way, the used chemical liquid can be reprocessed a predetermined number of times, and after repeated use a predetermined number of times, the wastewater is treated and a new chemical liquid is used.
상기 기판 상의 배향막이 제거되고 바쓰 내의 약액이 약액 공급 탱크로 리턴되면 바쓰 내에서 세정 공정을 거치게 된다. When the alignment layer on the substrate is removed and the chemical liquid in the bath is returned to the chemical liquid supply tank, a cleaning process is performed in the bath.
먼저, 상기 카세트에 적재되어 있는 기판에 순수 분사 노즐(DI shower nozzle)을 통해서 순수를 분사해 줌으로써 기판, 카세트, 바쓰 내부를 초기 세정한다. 이어서, 상기 기판을 세정하기 위하여 바쓰 내부에 순수 분사 노즐 및 공급 펌프를 통해 순수(DI)를 채워 카세트에 적재되어 있는 기판이 모두 잠기도록 한다. First, the pure water is sprayed onto the substrate loaded in the cassette through a DI shower nozzle to clean the inside of the substrate, the cassette, and the bath. Subsequently, in order to clean the substrate, pure water (DI) is filled in the bath through a pure water spray nozzle and a supply pump so that all the substrates loaded in the cassette are locked.
그리고, 상기 기판의 세정을 위하여 순수 내에 질소 가스 버블을 발생시켜 세정이 원활히 진행되도록 한다(ST140).In addition, nitrogen gas bubbles are generated in the pure water to clean the substrate so that the cleaning may proceed smoothly (ST140).
이어서, 기판의 세정이 완료되면 상기 바쓰 내의 순수를 배수하고 건조 공정을 진행한다.Subsequently, when the substrate is cleaned, the pure water in the bath is drained and a drying process is performed.
상기 기판의 건조는 노즐을 통해서 이루어질 수 있으며, 순수로 세정된 기판 표면에 노즐을 통해서 압축 공기를 분사하여 수분을 제거/건조시킨다.The substrate may be dried through a nozzle, and the compressed air is sprayed through the nozzle to the surface of the purely cleaned substrate to remove / dry moisture.
마지막으로, 건조까지 마친 기판을 언로딩하면 불량 배향막이 완전히 제거된 기판을 얻게 된다.Finally, unloading the substrate after drying yields a substrate from which the bad alignment film is completely removed.
그리고, 상기 불량 배향막이 완전히 제거된 기판은 다시 배향막 인쇄 장치로 이송됨으로써 배향막을 재도포한다.And the board | substrate from which the said bad alignment film was removed completely is transferred to an alignment film printing apparatus, and reapplies an alignment film.
이와 같이 배향막이 도포된 제 1 기판, 제 2 기판은 배향 처리된 후, 액정층을 사이에 두고 대향 합착됨으로써 액정패널을 완성한다.The first substrate and the second substrate coated with the alignment film in this manner are subjected to an alignment treatment, and then face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween to complete the liquid crystal panel.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 배향막 처리 장치 및 그 처리 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.Although the present invention has been described in detail with reference to specific examples, this is for describing the present invention in detail, and the alignment film processing apparatus and the processing method thereof according to the present invention are not limited thereto, and the technical field of the present invention is known in the art. It is apparent that modifications and improvements are possible by those skilled in the art.
본 발명은 배향막 처리 장치에서 불량 배향막을 제거하고 새로운 배향막을 형성함으로써 기판의 재사용이 가능하고 경비를 절감하는 효과가 있으며, 그에 따라 배향막의 불량을 제거할 수 있어 소자의 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.The present invention has the effect of reusing the substrate and reducing the cost by removing the defective alignment film and forming a new alignment film in the alignment film processing apparatus, thereby reducing the defect of the alignment film, thereby improving the reliability of the device. .
또한, 본 발명은 기판을 카세트에 적재하여 다수 매를 일괄적으로 처리함으로써 기판의 재사용에 따른 수율 로스(loss)를 해소하고 생산률을 향상시키는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of eliminating the yield loss due to the reuse of the substrate by improving the production rate by processing a plurality of sheets in a batch by loading the substrate in the cassette.
도 1은 본 발명에 따른 배향막 처리 장치에 의해 재생되는 액정 패널의 개략적인 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal panel reproduced by an alignment film processing apparatus according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 배향막 제거를 위한 처리 장치를 개략적으로 보여주는 도면.2 schematically shows a processing apparatus for removing an alignment film according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 배향막을 제거하여 기판을 재사용하기 위한 배향막 처리 공정을 보여주는 순서도.Figure 3 is a flow chart showing an alignment film processing process for removing the alignment film according to the present invention to reuse the substrate.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>
200 : 바쓰(bath) 210 : 카세트(cassette)200 bath 210 cassette
220 : 기판 230 : 분사 노즐220: substrate 230: injection nozzle
241 : 약액 펌프 242 : 순수 펌프241: chemical pump 242: pure water pump
243 : 질소 가스 공급 수단243: nitrogen gas supply means
Claims (10)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030099482A KR101010486B1 (en) | 2003-12-30 | 2003-12-30 | An alignment strip device and the stripping method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020030099482A KR101010486B1 (en) | 2003-12-30 | 2003-12-30 | An alignment strip device and the stripping method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050070232A true KR20050070232A (en) | 2005-07-07 |
| KR101010486B1 KR101010486B1 (en) | 2011-01-21 |
Family
ID=37260336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020030099482A KR101010486B1 (en) | 2003-12-30 | 2003-12-30 | An alignment strip device and the stripping method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101010486B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150037554A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH052167A (en) * | 1991-06-04 | 1993-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of liquid crystal display element |
| KR100209731B1 (en) * | 1996-11-06 | 1999-07-15 | 구본준 | Cleaning apparatus for semiconductor wafer |
| KR100337259B1 (en) * | 2000-11-24 | 2002-05-17 | Systems Technology Inc | Method and apparatus for removing photoresist from glass substrate of liquid crystal display |
| KR100760931B1 (en) * | 2000-12-28 | 2007-09-21 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Method for fabricating liquid crystal display panel |
-
2003
- 2003-12-30 KR KR1020030099482A patent/KR101010486B1/en active IP Right Grant
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150037554A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101010486B1 (en) | 2011-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6731368B2 (en) | Manufacturing process of liquid crystal cell for a small size liquid crystal display device | |
| US6542215B2 (en) | Method of forming a seal pattern for liquid crystal display device | |
| US6444255B2 (en) | Method for producing liquid crystal display and method for cleaning substrate | |
| KR100347436B1 (en) | Method of forming a seal pattern for liquid crystal display device | |
| KR20070070916A (en) | Printing apparatus and method of manufacturing liquid crystal display device using the same | |
| US7740709B2 (en) | Apparatus for stripping photoresist and method thereof | |
| KR101010486B1 (en) | An alignment strip device and the stripping method | |
| US7405799B2 (en) | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same | |
| US20060011222A1 (en) | Apparatus for treating substrates | |
| US8169584B2 (en) | Fabricating method of a lightweight liquid crystal display device utilizing an auxiliary seal pattern | |
| US20110041876A1 (en) | Composition For Stripping Color Filter And Regeneration Method Of Color Filter Using The Same | |
| KR101252481B1 (en) | In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof | |
| JP2007047353A (en) | Manufacturing method for electro-optical device, and washing device for electro-optical panel | |
| KR100760931B1 (en) | Method for fabricating liquid crystal display panel | |
| US20020063837A1 (en) | Seal pattern for liquid crystal display device and forming method thereof | |
| US20080088781A1 (en) | Method and apparatus for printing alignment layer of liquid crystal display | |
| KR20100062538A (en) | Composition for photoresist stripper and method of fabricating thin film transistor array substrate | |
| KR100731041B1 (en) | Liquid crystal deaeration apparatus and method using it | |
| KR20070077997A (en) | Cleaning device and cleaning method using the same | |
| JP2009008868A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display element, and liquid crystal display element | |
| KR100815906B1 (en) | Manufacturing Apparatus of Liquid Crystal Display Devices | |
| JP2005309180A (en) | Method for cleaning substrate, method for manufacturing substrate, and device for cleaning substrate | |
| JP2017078729A (en) | Manufacturing method of liquid crystal display | |
| JP4200740B2 (en) | Substrate cleaning apparatus and cleaning method in liquid crystal display device | |
| KR20060000009A (en) | Cleaning equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131227 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141230 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151228 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161214 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171218 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181226 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191212 Year of fee payment: 10 |