KR20050066114A - 웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 측면에 일정각도 간격으로 3개의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트를 설치하여 웨이퍼의 정위치를 감지 및 정렬할 수 있도록 되어 있어, 정렬되지 않은 웨이퍼가 이송공정에서 파손되거나 공정에러가 발생하는 것을 방지할 수 있는 웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법에 관한 것으로,
웨이퍼 정렬링크, 피스톤과 실린더, 상기 피스톤과 실린더 사이에 개재되는 스프링, 상기 피스톤의 상하위치를 감지하는 다수의 위치감지센서로 이루어진 웨이퍼 감지 및 정렬유니트가 웨이퍼의 측면에 일정각도 간격으로 3개 설치되어, 웨이퍼의 정위치 장착 및 정렬여부를 감지하고 비정렬된 웨이퍼를 정렬시킬 수 있도록 하여 이송공정에서의 웨이퍼 로딩/언로딩시에 웨이퍼 파손을 방지하고 공정에러 발생을 줄여, 전체적으로 제조비용이 절감되고 제조수율이 향상되는 효과가 있다.

Description

웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법{device for sensing and aligning the position of a wafer and the method thereof}
본 발명은 웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 측면에 일정각도 간격으로 3개의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트를 설치하여 웨이퍼의 정위치를 감지 및 정렬할 수 있도록 되어 있어, 정렬되지 않은 웨이퍼가 이송공정에서 파손되거나 공정에러가 발생하는 것을 방지할 수 있는 웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법에 관한 것이다.
웨이퍼의 화학기계적연마(CMP : chemical mechanical polishing) 공정은 반도체 소자가 다층 배선 구조를 가지고 좀더 엄격한 광역 평탄화와 엄격한 초점 심도(Depth of Focus)를 요구하기 때문에 도입되었고, 소자가 더욱 미세화되고 웨이퍼가 더욱 대형화 되기 때문에 반도체 제조공정에서 화학기계적연마 공정에 대한 수요는 급격히 증가하고 있다.
화학기계적연마(CMP) 공정은 IBM에서 개발된 후 미국의 유수한 반도체 제조 회사를 중심으로 연구 개발 중이며, 국내 반도체 제조 회사에서도 광역 평탄화를 위한 절연막 CMP공정, 다층 배선을 사용하기 위한 메탈(Metal) CMP공정 등의 기술이 도입 개발되고 있다.
화학기계적연마(CMP) 공정은 그 기능에 따라서, 웨이퍼를 연마하는 폴리싱공정과 연마된 웨이퍼를 세정하는 클리닝공정으로 나뉜다.
폴리싱 공정은 가압된 웨이퍼와 폴리싱패드 사이에 존재하는 연마제에 의한 기계적인 가공과 슬러리(slurry) 등의 화합물에 의한 화학적 에칭이 동시에 일어나는 공정이다.
폴리싱패드는 연마테이블 상부면에 부착되고, 절연막이 형성된 웨이퍼는 폴리싱헤드에 장착되며, 상기 웨이퍼가 상기 폴리싱패드에 밀착된 상태로 웨이퍼와 연마테이블이 상호 반대방향으로 회전하면서 기계적인 연마가 이루어진다. 아울러 별도로 설치되는 슬러리공급부를 통하여 상기 웨이퍼와 폴리싱패드 사이로 슬러리가 투입되어 웨이퍼 표면의 절연막과 반응하도록 하여 화학적인 연마가 이루어진다.
그리고, 화학기계적연마(CMP) 공정에서 표면의 효과적인 연마만큼 중요한 것이 화학기계적연마(CMP) 공정 후의 파티클의 오염 제어와 클리닝공정이다. 화학기계적연마(CMP) 공정에서 웨이퍼에 발생할 수 있는 결함 발생을 방지하기 위하여는 폴리싱이 완료된 후에 최소한의 시간 내에 세정을 실시해야 한다. 일반적으로 화학기계적연마(CMP) 공정을 거친 웨이퍼의 세정 방식은 메가소닉(Megasonic)을 이용한 비접촉식 방법과 브러시 스크러버(PVA brush scrubber)를 이용하는 접촉식 방법 두 가지가 주로 이용되고 있다.
도 1은 종래의 트랜스포터가 설치되는 위치 설명도이고, 도 2는 종래의 트랜스포터의 구조를 설명하는 사시도이다.
이를 참조하면, 웨이퍼(50)를 화학기계적연마(CMP)하는 공정장치에는 폴리싱유니트와 클리닝유니트 사이에 턴오버유니트가 설치되고 상기 턴오버유니트와 폴리싱유니트에 웨이퍼(50)를 로딩/언로딩하는데 필요한 이송장치로서 트랜스포터라는 장비가 장착부 위치(1)에 설치된다.
순차적으로 설명하면, 카세트에 적재된 각각의 웨이퍼(50)를 공정투입 전의 대기장소인 웨이퍼스테이션에 이송하고, 상기 웨이퍼스테이션에 대기중인 웨이퍼(50)를 로봇이 턴오버유니트로 이송하며, 상기 턴오버유니트에서는 웨이퍼(50)를 연마할 면이 하측으로 가도록 뒤집는다.
상기 턴오버유니트에서 뒤집혀진 웨이퍼(50)는 트랜스포터의 턴오버유니트 로딩/언로딩부(100a,200a)로 이송된다. 그리고 상기 턴오버유니트 로딩/언로딩부 (100a,200a)로 이송된 웨이퍼(50)는 트랜스포터의 회전에 의하여 폴리싱유니트 로딩/언로딩부(100b,200b)로 이송된다.
상기 폴리싱유니트 로딩/언로딩부(100b,200b)의 하측에는 푸셔(10)가 장착되고 상측에는 폴리싱헤드(20)가 위치되어 있다. 따라서 상기 폴리싱유니트 로딩/언로딩부(100b,200b)에 웨이퍼(50)가 이송되면 하측의 푸셔(10)가 푸셔실린더(11)에 의하여 상측으로 이동하고 웨이퍼(50)는 상기 푸셔(10)에 마련된 푸셔척(12)에 측면 가이드되어 정위치 고정된 상태로 상측에 위치한 폴리싱헤드(20)에 밀착되게 된다.
상술한 바와 같이 상기 폴리싱헤드(20)는 연마제가 포함된 폴리싱패드에 웨이퍼(50)를 내리 누르면서 회전시켜 연마하는 기능을 한다. 따라서 상기 폴리싱헤드(20)의 하측에서 푸셔(10)가 웨이퍼(50)를 상측으로 밀어주면 폴리싱헤드(20)에 설치된 진공장치가 연마를 위한 웨이퍼(50)면을 흡착하여 연마할 웨이퍼(50)면이 하방 노출된 상태로 웨이퍼(50)가 폴리싱헤드(20)에 단단히 고정된다.
상기 웨이퍼(50)가 흡착된 폴리싱헤드(20)는 폴리싱유니트로 이송되어 웨이퍼(50)의 연마작업을 수행하게 된다.
연마가 완료된 웨이퍼(50)는 폴리싱헤드(20)에 흡착된 상태로 상기 트랜스포터의 폴리싱유니트 로딩/언로딩부(100b,200b)에 이송되며, 푸셔(10)가 상측의 폴리싱헤드(20)에서 웨이퍼(50)를 떼어내고 트랜스포터가 회전하여 턴오버유니트 로딩/언로딩부(100a,200a)로 웨이퍼(50)를 이송한다.
상기 턴오버유니트 로딩/언로딩부(100a,200a)로 이송된 웨이퍼(50)는 턴오버유니트에 이송되어 웨이퍼(50)면이 뒤집히고 클리닝유니트로 투입되어 세정된다.
상기 클리닝유니트에서 세정이 완료된 웨이퍼(50)는 다시 카세트에 적재되어 화학기계적연마(CMP) 후의 공정으로 투입된다.
상술한 특정의 화학기계적연마(CMP) 공정장치에는 제조수율 향상을 위하여 2개의 공정이 병렬적으로 설치되어 있다.
즉, 제 1공정은 카세트1, 웨이퍼스테이션, 로봇1, 턴오버유니트1, 트랜스포터, 폴리싱유니트1, 턴오버유니트1, 클리닝유니트1, 카세트1의 순서로 화학기계적연마(CMP) 공정을 완료하며, 제 2공정은 카세트2, 웨이퍼스테이션, 로봇2, 턴오버유니트2, 트랜스포터, 폴리싱유니트2, 턴오버유니트2, 클리닝유니트2, 카세트2의 순서로 화학기계적연마(CMP) 공정을 완료한다.
따라서, 상기 트랜스포터는 제1공정용 턴오버유니트 로딩/언로딩부(100a)와 폴리싱유니트 로딩/언로딩부(100b), 그리고 제2공정용 턴오버유니트 로딩/언로딩부 (200a)와 폴리싱유니트 로딩/언로딩부(200b)의 총 4개의 부분으로 이루어져 있다.
화학기계적연마(CMP) 공정에서 웨이퍼(50)에 발생할 수 있는 결함 발생을 방지하기 위하여는 폴리싱이 완료된 후에 최소한의 시간 내에 세정을 실시해야 한다.
그러나, 트랜스포터 등의 이송장치에서의 병목현상이나 폴리싱유니트, 턴오버유니트, 클리닝유니트 등에서 장치에러가 발생된 경우 모든 유니트와 이송로에 웨이퍼(50)가 대기된 상태로 일정시간 방치되어, 웨이퍼(50)면에 슬러리 등의 찌꺼기 미세입자가 클리닝유니트에 진입하기 전에 응고되어 세정이 제대로 이루어지지 않는 문제점이 발생한다.
그래서, 화학기계적연마(CMP) 공정에서는 웨이퍼(50)면의 건조 속도보다 웨이퍼(50)의 로딩/언로딩 속도가 빨라야 함은 물론, 폴리싱유니트, 턴오버유니트, 클리닝유니트 등에서 장치에러 발생원인이 제거되어야 슬러리 등의 응고에 의한 웨이퍼(50) 결함 발생을 미연에 차단할 수 있다.
결국, 각 공정유니트에서 웨이퍼(50)가 제대로 정렬된 상태로 정위치에 로딩/언로딩시키는 것이 웨이퍼(50)의 파손방지와 결함발생 방지를 위해 필요한데, 이를 위하여 각 공정유니트에는 웨이퍼(50) 정위치 감지장치가 여러 곳에 설치되어 있다.
따라서, 상기 트랜스포터에도 웨이퍼(50)의 정위치 장착여부 및 정렬여부를 감지하고 정렬되지 않은 웨이퍼(50)는 정위치에 정렬시키도록 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치가 설치되어야 할 필요성이 있다.
즉, 상기 트랜스포터는 장치의 특성상 웨이퍼(50)를 수평상태로 안착시켜 정위치 가이드하고, 웨이퍼(50)가 수평 회전하며 턴오버유니트 로딩/언로딩부(100a,200a)와 폴리싱유니트 로딩/언로딩부(100b,200b)를 이동하며, 푸셔척(12)에 가이드되어 웨이퍼(50)가 수직 이동하며 폴리싱헤드(20)에 장착되는 구조로 되어 있어서, 트랜스포터에 웨이퍼(50) 안착상태가 수평인지 여부 및 푸셔척(12)에 정렬 장착되기 위한 정위치에 웨이퍼(50)가 안착되었는지 여부를 감지하고 정렬되지 않은 경우 필요한 조치를 취할 수 있는 액츄에이터가 설치될 필요성이 있다.
본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하고자 발명된 것으로서, 보다 상세하게는 다수의 위치감지센서를 설치하여 웨이퍼의 정위치 장착여부와 정렬여부를 감지할 수 있고, 웨이퍼의 측면을 가이드하도록 웨이퍼 정렬링크가 설치되어 비정렬된 웨이퍼를 제대로 정렬시킬 수 있도록 된 웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법를 제공함에 그 목적이 있다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 구성과 작용효과 및 실시예에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명의 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치는,
웨이퍼(50)의 측면을 가이드하도록 설치된 웨이퍼 정렬링크 (640a,640b,640c), 상기 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)의 끝단에 결합되며 실린더(630a,630b,630c) 내에서 상하운동을 하는 피스톤(620a,620b,620c), 상기 피스톤(620a,620b,620c)의 하측을 밀도록 상기 피스톤(620a,620b,620c)과 실린더(630a,630b,630c) 사이에 개재되는 스프링(610a,610b,610c), 상기 피스톤(620a,620b,620c)의 상하위치를 감지하도록 상기 실린더 (630a,630b,630c)의 측면에 설치되는 다수의 위치감지센서로 이루어진 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)가 웨이퍼(50)의 측면에 복수로 설치되어,
웨이퍼(50)의 정위치 장착 및 정렬여부를 감지하고 웨이퍼(50)를 정렬시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 바람직한 다른 실시예로,
상기 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)는, 웨이퍼 측면에 120도 간격으로 3개설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치의 실시가 가능하다.
또한, 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예로,
상기 각각의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)에 설치된 스프링 (610a,610b,610c)은 동일한 탄성계수로 되어, 각 실린더(630a,630b,630c)의 상측에서 가스가 배출되면 각 스프링(610a,610b,610c)의 동일한 탄성력에 의하여 각 웨이퍼 정렬링크 (640a,640b,640c)가 웨이퍼(50) 측면을 밀어서 웨이퍼(50)를 정위치에 정렬시키도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치의 실시가 가능하다.
또한, 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예로,
상기 각각의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)에 설치된 다수의 위치감지센서는,
상기 각각의 실린더(630a,630b,630c)의 상측으로부터 순차적으로 설치된 미달위치감지센서(663a,663b,663c), 기준위치감지센서(662a,662b,662c), 초과위치감지센서 (661a,661b,661c)로 이루어져,
상기 각각의 기준위치감지센서(662a,662b,662c)에서 피스톤(620a,620b,620c) 존재신호를 모두 수신한 경우에 웨이퍼(50)가 정위치에 정렬된 것으로 인식하도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치의 실시가 가능하다.
또한, 본 발명의 웨이퍼 감지 및 정렬방법의 바람직한 일 실시예로,
웨이퍼 측면을 가이드하도록 설치된 웨이퍼 정렬링크, 상기 웨이퍼 정렬링크의 단부에 결합되며 실린더 내에서 상하운동을 하는 피스톤, 상기 피스톤과 실린더 사이에 개재되는 스프링, 상기 피스톤의 상하위치를 감지하도록 상기 실린더의 측면에 설치되는 다수의 위치감지센서로 이루어진 웨이퍼 감지 및 정렬유니트를 웨이퍼 측면에 복수로 구비하여,
웨이퍼의 정위치 장착 및 정렬여부를 감지하고 웨이퍼를 정렬시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 감지 및 정렬방법의 실시가 가능하다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 웨이퍼(50) 정위치 감지 및 정렬장치의 구조도이다.
웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)가 웨이퍼(50)의 측면에 일정각도 간격으로 3개 설치되어 웨이퍼(50)의 측면에 접촉하며 정위치 감지와 정렬을 하도록 되어 있다.
상기 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)는, 웨이퍼(50)의 측면을 가이드하도록 설치된 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c), 상기 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)의 끝단에 결합되며 실린더(630a,630b,630c) 내에서 상하운동을 하는 피스톤(620a,620b,620c), 상기 피스톤(620a,620b,620c)의 하측을 밀도록 상기 피스톤(620a,620b,620c)과 실린더(630a,630b,630c) 사이에 개재되는 스프링(610a,610b,610c), 상기 피스톤(620a,620b,620c)의 상하위치를 감지하도록 상기 에어실린더(630a,630b,630c)의 측면에 설치되는 다수의 위치감지센서로 이루어진다.
웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)의 일측 끝단은 웨이퍼(50)의 측면에 접촉하여 웨이퍼(50)가 정위치에 있도록 가이드 하는 역할을 한다. 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)의 타측 끝단은 피스톤(620a,620b,620c)에 연결되어 피스톤(620a,620b,620c)의 왕복운동에 따라 웨이퍼(50)의 측면에 상기 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)의 일측 끝단이 분리 접촉되도록 한다.
피스톤(620a,620b,620c)은 실린더(630a,630b,630c) 내에서 상하운동을 한다. 실린더(630a,630b,630c) 상측에 질소 등의 가스가 주입되면 피스톤(620a,620b,620c)은 하측으로 움직이며, 하측에 가스가 주입되면 피스톤(620a,620b,620c)은 상측으로 움직인다.
상기 피스톤(620a,620b,620c)의 상측운동은 반드시 실린더(630a,630b,630c) 하측에 가스가 주입되어야만 가능한 것은 아니고 바람직한 다른 실시예로, 피스톤(620a,620b,620c)의 하측과 실린더(630a,630b,630c)의 하측벽 사이에 스프링(610a,610b,610c)을 개재하여 실린더(630a,630b,630c) 상측에 가스가 주입되었을 때 스프링(610a,610b,610c)이 압축되었다가, 실린더(630a,630b,630c) 상측의 가스가 배출되면 압축되었던 상기 스프링(610a,610b,610c)의 탄성복원력에 의하여 피스톤(620a,620b,620c)의 상측운동이 되는 구조의 실시가 가능하다.
상기 다수의 위치감지센서는 실린더(630a,630b,630c)의 측면벽에 부착되어 피스톤(620a,620b,620c)의 위치를 감지하게 된다. 실린더(630a,630b,630c)의 제일 하측에는 초과위치감지센서(661a,661b,661c)가 장착되어 상기 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)가 웨이퍼(50)의 측면에 접촉되지 않고 아이들(idle)상태에 있음을 감지하고, 상기 초과위치감지센서(661a,661b,661c)의 상측에는 기준위치감지센서(662a,662b,662c)가 장착되어 상기 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)가 웨이퍼(50)의 측면에 접촉되는 정위치를 감지하며, 상기 기준위치감지센서(662a,662b,662c)의 상측에는 미달위치감지센서(663a,663b,663c)가 장착되어 상기 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)가 웨이퍼(50)의 측면에 접촉되지 않았음을 감지하므로 웨이퍼(50)의 수평정렬이 어긋나 있거나 웨이퍼(50)가 존재하지 않음을 감지한다.
예를 들어, 총 3개의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)에 장착된 3개의 초과위치감지센서(661a,661b,661c)에서 피스톤(620a,620b,620c) 존재신호 3개가 수신되면 아이들(idle)상태이고, 3개의 기준위치감지센서(662a,662b,662c)에서 피스톤(620a,620b,620c) 존재신호 3개가 수신되면 웨이퍼(50) 정위치 정렬상태이며, 만약 3개의 기준위치감지센서(662a,662b,662c)에서 피스톤(620a,620b,620c) 존재신호가 2개 이하로 수신되면 웨이퍼(50) 비정렬상태로 감지된다.
여기서 상기 다수의 위치감지센서에서 수신된 신호에 기준하여, 3개의 기준위치감지센서(662a,662b,662c)에서 피스톤(620a,620b,620c) 존재신호 3개가 수신될 때까지 실린더(630a,630b,630c)를 작동시켜 웨이퍼(50) 정위치 정렬상태로 만들기 위한 동작도 가능하다.
상술한 바와 같이, 능동적으로 실린더(630a,630b,630c)를 동작시켜 웨이퍼(50)를 정위치에 정렬시키는 방법 외에, 수동적으로 스프링(610a,610b,610c)의 탄성력에 의하여 웨이퍼(50)를 정위치에 정렬시키는 구조가 가능하다.
즉, 상기 3개의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)에 각각 설치된 스프링(610a,610b,610c)은 동일한 탄성계수로 되어, 각 실린더(630a,630b,630c)의 상측에서 가스가 배출되면 각 스프링(610a,610b,610c)의 동일한 탄성력에 의하여 각 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)가 웨이퍼(50) 측면의 3점을 밀어서 웨이퍼(50)를 정위치에 정렬시키도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치가 실시 가능하다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명의 웨이퍼 감지 및 정렬장치와 그 방법는, 웨이퍼 정렬링크, 피스톤과 실린더, 상기 피스톤과 실린더 사이에 개재되는 스프링, 상기 피스톤의 상하위치를 감지하는 다수의 위치감지센서로 이루어진 웨이퍼 감지 및 정렬유니트가 웨이퍼의 측면에 일정각도 간격으로 3개 설치되어, 웨이퍼의 정위치 장착 및 정렬여부를 감지하고 비정렬된 웨이퍼를 정렬시킬 수 있도록 하여 이송공정에서의 웨이퍼 로딩/언로딩시에 웨이퍼 파손을 방지하고 공정에러 발생을 줄여, 전체적으로 제조비용이 절감되고 제조수율이 향상되는 효과가 있다.
도 1은 종래의 트랜스포터가 설치되는 위치 설명도
도 2는 종래의 트랜스포터의 구조를 설명하는 사시도
도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 웨이퍼 정위치 감지 및 정렬장치의 구조도
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
10 -- 푸셔(pusher) 11 -- 푸셔실린더(pusher cylinder)
12 -- 푸셔척(pusher chuck) 20 -- 폴리싱헤드(polishing head)
50 -- 웨이퍼
100a,200a -- 턴오버유니트(turn over unit) 로딩/언로딩부
100b,200b -- 폴리싱유니트(polishing unit) 로딩/언로딩부
500a,500b,500c -- 장착부
600 -- 웨이퍼 감지 및 정렬유니트 610a,610b,610c -- 스프링
620a,620b,620c -- 피스톤 630a,630b,630c -- 실린더
640a,640b,640c -- 웨이퍼 정렬링크 661a,661b,661c -- 초과위치감지센서
662a,662b,662c -- 기준위치감지센서 663a,663b,663c -- 미달위치감지센서

Claims (5)

  1. 웨이퍼(50)의 측면을 가이드하도록 설치된 웨이퍼 정렬링크 (640a,640b,640c), 상기 웨이퍼 정렬링크(640a,640b,640c)의 끝단에 결합되며 실린더(630a,630b,630c) 내에서 상하운동을 하는 피스톤(620a,620b,620c), 상기 피스톤(620a,620b,620c)의 하측을 밀도록 상기 피스톤(620a,620b,620c)과 실린더(630a,630b,630c) 사이에 개재되는 스프링(610a,610b,610c), 상기 피스톤(620a,620b,620c)의 상하위치를 감지하도록 상기 실린더 (630a,630b,630c)의 측면에 설치되는 다수의 위치감지센서로 이루어진 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)가 웨이퍼(50)의 측면에 복수로 설치되어,
    웨이퍼(50)의 정위치 장착 및 정렬여부를 감지하고 웨이퍼(50)를 정렬시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)는, 웨이퍼 측면에 120도 간격으로 3개설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 각각의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)에 설치된 스프링 (610a,610b,610c)은 동일한 탄성계수로 되어, 각 실린더(630a,630b,630c)의 상측에서 가스가 배출되면 각 스프링(610a,610b,610c)의 동일한 탄성력에 의하여 각 웨이퍼 정렬링크 (640a,640b,640c)가 웨이퍼(50) 측면을 밀어서 웨이퍼(50)를 정위치에 정렬시키도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 각각의 웨이퍼 감지 및 정렬유니트(600)에 설치된 다수의 위치감지센서는,
    상기 각각의 실린더(630a,630b,630c)의 상측으로부터 순차적으로 설치된 미달위치감지센서(663a,663b,663c), 기준위치감지센서(662a,662b,662c), 초과위치감지센서 (661a,661b,661c)로 이루어져,
    상기 각각의 기준위치감지센서(662a,662b,662c)에서 피스톤(620a,620b,620c) 존재신호를 모두 수신한 경우에 웨이퍼(50)가 정위치에 정렬된 것으로 인식하도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼(50) 감지 및 정렬장치.
  5. 웨이퍼 측면을 가이드하도록 설치된 웨이퍼 정렬링크, 상기 웨이퍼 정렬링크의 단부에 결합되며 실린더 내에서 상하운동을 하는 피스톤, 상기 피스톤과 실린더 사이에 개재되는 스프링, 상기 피스톤의 상하위치를 감지하도록 상기 실린더의 측면에 설치되는 다수의 위치감지센서로 이루어진 웨이퍼 감지 및 정렬유니트를 웨이퍼 측면에 복수로 구비하여,
    웨이퍼의 정위치 장착 및 정렬여부를 감지하고 웨이퍼를 정렬시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 감지 및 정렬방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114279380A (zh) * 2021-12-27 2022-04-05 华海清科股份有限公司 一种弹片式晶圆在位检测装置及检测方法
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