KR20050061728A - Forming method of thin film using pulsed chemical vapor deposition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화학기상증착 방식을 이용하여 고종횡비를 갖는 콘택홀이나 비아홀과 같은 오픈부를 매립시 계단 도포성을 향상시킬 수 있는 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법을 제공하기 위한 것으로, 이를 위해 본 발명은, 기판 상에 소정의 오픈부를 갖는 반도체층을 형성하는 단계; 상기 오픈부 상에 소정의 소스가스와 반응가스를 이용한 화학기상증착 방식을 이용하여 박막을 형성하는 단계; 잔류하는 상기 소스가스와 상기 반응가스 및 반응 부산물을 제거하기 위해 퍼지하는 단계; 상기 오픈부 내부에서의 상기 박막의 계단 도포성을 향상시키기 위해 상기 반응가스 만을 이용하여 상기 오픈부 내에 있는 상기 소스가스를 환원시키는 단계; 및 잔류하는 상기 반응가스를 제거하기 위해 퍼지하는 단계를 포함하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법을 제공한다.The present invention is to provide a method for forming a thin film using a chemical vapor deposition method that can improve the step coverage when filling the open portion such as a contact hole or via hole having a high aspect ratio using the chemical vapor deposition method. The invention includes forming a semiconductor layer having a predetermined opening on a substrate; Forming a thin film on the open part by using a chemical vapor deposition method using a predetermined source gas and a reaction gas; Purging to remove the remaining source gas and the reaction gas and reaction byproducts; Reducing the source gas in the open portion using only the reaction gas to improve the step coverage of the thin film in the open portion; And it provides a thin film formation method using a pulsed chemical vapor deposition method comprising the step of purging to remove the remaining reaction gas.

Description

펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법{FORMING METHOD OF THIN FILM USING PULSED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION} Formation method of thin film using pulsed chemical vapor deposition method {FORMING METHOD OF THIN FILM USING PULSED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION}

본 발명은 반도체소자 제조 방법에 관한 것으로 특히, 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition; 이하 CVD라 함) 방식을 이용한 박막 형성 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a method of forming a thin film using a chemical vapor deposition (CVD) method.

반도체 소자의 고집적화에 따라 적층 구조의 배선공정이 보편화되었고, 이로 인해 하부층과 상부층간의 전기적 연결을 위해 플러그(Plug)가 도입되었다.Due to the high integration of semiconductor devices, the wiring process of the laminated structure has become common, and thus, a plug has been introduced for electrical connection between the lower layer and the upper layer.

초기에는 플러그를 채우기 위해 주로 폴리실리콘을 이용하였으나, 고속 동작을 위해 텅스텐이나 알루미늄과 같이 폴리실리콘에 비해 저항이 낮은 물질을 사용하고 있다.Initially, polysilicon was mainly used to fill the plug, but a material having a lower resistance than polysilicon such as tungsten or aluminum is used for high speed operation.

이 가운데 구수한 계단 도포성(Step coverage)으로 인해 텅스텐 플러그는 고 종횡비(High aspect ratio)를 가지는 금속 콘택(Metal Contact)에 오랫동안 적용되고 있다.Tungsten plugs have been applied to metal contacts having high aspect ratios for a long time due to the reduced step coverage.

도 1은 텅스텐 플러그를 적용한 일반적인 반도체소자를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a general semiconductor device to which a tungsten plug is applied.

도 1을 참조하면, 반도체 기판(100) 상에 필드산화막(101)이 국부적으로 형성되어 있고, 필드산화막(101) 상부 또는 그 외 지역의 기판(100) 상에 하드마스크(104)/전도막(103)/절연막(102) 구조의 도전패턴이 형성되어 있다.Referring to FIG. 1, the field oxide film 101 is locally formed on the semiconductor substrate 100, and the hard mask 104 / conductive film is formed on the substrate 100 in the upper portion of the field oxide film 101 or elsewhere. A conductive pattern having a structure of (103) / insulating film 102 is formed.

도전패턴은 게이트전극 패턴, 비트라인 또는 금속배선 등 다양한 형태가 가능하며, 여기서는 게이트전극 패턴을 그 예로 하였다.The conductive pattern may be in various forms such as a gate electrode pattern, a bit line or a metal wiring, and the gate electrode pattern is used as an example.

게이트전극 패턴의 측면에 얼라인되며, 필드산화막(101)과 인접하는 기판(100)에 소스/드레인 등의 불순물 접합층(106)이 형성되어 있다. 게이트전극 패턴을 감싸는 구조로 산화막 계열의 물질을 사용하는 제1층간절연막(107)이 형성되어 있으며, 하드마스크(104)를 관통하여 전도막(103)에 전기적으로 접속되도록 연결패턴(109)이 형성되어 있으며, 연결패턴(109) 상에는 비트라인 등과 같은 소정의 제1전도패턴(110)이 형성되어 있다.An impurity bonding layer 106 such as a source / drain is formed on the substrate 100 adjacent to the field oxide film 101 and aligned with the side of the gate electrode pattern. A first interlayer insulating film 107 using an oxide-based material is formed to surround the gate electrode pattern, and the connection pattern 109 is electrically connected to the conductive film 103 through the hard mask 104. The first conductive pattern 110, such as a bit line, is formed on the connection pattern 109.

전도패턴(110)이 형성된 전면에 제2절연막(108)과 제3절연막(111) 및 제4절연막(113)이 적층되어 있고, 제3절연막(111) 내에 제2전도패턴(112)이 형성되어 있으며, 제4절연막(113)을 관통하여 제2전도패턴(112)에 콘택된 연결패턴(114)과 그 상부의 패턴(116a)이 형성되어 있다.The second insulating layer 108, the third insulating layer 111, and the fourth insulating layer 113 are stacked on the entire surface on which the conductive pattern 110 is formed, and the second conductive pattern 112 is formed in the third insulating layer 111. The connection pattern 114 contacting the second conductive pattern 112 and the pattern 116a thereon are formed through the fourth insulating layer 113.

제4절연막(113) 내지 제1절연막(107)을 관통하여 불순물 접합층(106)에 콘택된 텅스텐 플러그(115)가 형성되어 있으며, 그 상부에는 패턴들(116b, 116c)이 형성되어 있고, 제5절연막(117)과 연결패턴(118a, 118b)과 금속배선(119a, 119b) 및 제6절연막(120)이 형성되어 있다.Tungsten plugs 115 are formed through the fourth insulating layer 113 to the first insulating layer 107 and contacted to the impurity bonding layer 106, and patterns 116b and 116c are formed thereon. The fifth insulating layer 117, the connection patterns 118a and 118b, the metal wirings 119a and 119b, and the sixth insulating layer 120 are formed.

상기한 도 1의 구조에서 텅스텐 플러그(115)는 고종횡비를 가짐을 알 수 있다.It can be seen that the tungsten plug 115 in the structure of FIG. 1 has a high aspect ratio.

일반적으로, 소스가스로 WF6를 사용하는 텅스텐 플러그는 3단계의 공정을 통해 갭필된다.In general, tungsten plugs using WF 6 as the source gas are gapfilled through a three step process.

즉, 텅스텐 박막 증착 전에 반응가스인 사일렌(이하 SiH4라 함) 가스로 전처리(Pretreatment)하는 공정과, SiH4를 환원가스로 사용하여 핵형성층을 형성하는 공정과, H2를 환원가스로 사용하여 오픈부를 매립하는(예컨대, Bulk plug fill) 공정으로 구성된다.That is, a process of pretreatment with a xylene (hereinafter referred to as SiH 4 ) gas which is a reaction gas before deposition of tungsten thin film, a process of forming a nucleation layer using SiH 4 as a reducing gas, and H 2 as a reducing gas It is composed of a process of filling the open portion (for example, bulk plug fill).

이 중 두번째 단계인 SiH4를 환원가스로 사용하는 공정은 H2를 환원가스로 사용하는 공정에 비해 텅스텐 플러그 공정시 확산방지막으로 사용되고 있는 TiN 위에서 잠복기(Incubation time)없이 빠르게 막을 성장시킬 수 있어 H2를 환원가스로 사용하여 오픈부를 매립하는 공정 전에 얇은 두께로 텅스텐막을 형성하는 공정이다.The process using SiH 4 as the reducing gas, the second step, can grow the film faster without incubation time on TiN, which is used as a diffusion barrier during the tungsten plug process, compared to the process using H 2 as the reducing gas. It is a process of forming a tungsten film with a thin thickness before the process of embedding an open part using 2 as a reducing gas.

그런데, 이러한 핵형성층 공정은 H2를 환원가스로 사용하여 오픈부를 매립하는 'Bulk plug fill' 공정에 비해 계단 도포성이 열악하며, 이러한 열악한 계단 도포성으로 인해 후속 'Bulk plug fill' 공정 진행 후에 심(Seam)을 형성하며, 후속 공정시에 플러그가 손상될 수 있는 문제점을 야기시킨다. 이러한 문제점은 반도체소자의 집적도가 증가함에 따라 더욱 심해진다.However, the nucleation layer process has a poor stair coatability compared to the 'bulk plug fill' process that fills the open part using H 2 as a reducing gas, and due to such poor stair coatability, after the subsequent 'bulk plug fill process' It forms a seam and causes a problem that the plug may be damaged during subsequent processing. This problem is exacerbated as the degree of integration of semiconductor devices increases.

상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 본 발명은, 화학기상증착 방식을 이용하여 고종횡비를 갖는 콘택홀이나 비아홀과 같은 오픈부를 매립시 계단 도포성을 향상시킬 수 있는 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention proposed to solve the problems of the prior art as described above, the chemical vapor deposition method that can improve the step coating properties when filling the open portion such as a contact hole or via hole having a high aspect ratio using the chemical vapor deposition method It is an object of the present invention to provide a thin film forming method using the same.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 본 발명은, 기판 상에 소정의 오픈부를 갖는 반도체층을 형성하는 단계; 상기 오픈부 상에 소정의 소스가스와 반응가스를 이용한 화학기상증착 방식을 이용하여 박막을 형성하는 단계; 잔류하는 상기 소스가스와 상기 반응가스 및 반응 부산물을 제거하기 위해 퍼지하는 단계; 상기 오픈부 내부에서의 상기 박막의 계단 도포성을 향상시키기 위해 상기 반응가스 만을 이용하여 상기 오픈부 내에 있는 상기 소스가스를 환원시키는 단계; 및 잔류하는 상기 반응가스를 제거하기 위해 퍼지하는 단계를 포함하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법을 제공한다.The present invention to solve the above problems, forming a semiconductor layer having a predetermined opening on the substrate; Forming a thin film on the open part by using a chemical vapor deposition method using a predetermined source gas and a reaction gas; Purging to remove the remaining source gas and the reaction gas and reaction byproducts; Reducing the source gas in the open portion using only the reaction gas to improve the step coverage of the thin film in the open portion; And it provides a thin film formation method using a pulsed chemical vapor deposition method comprising the step of purging to remove the remaining reaction gas.

SiH4를 환원가스로 사용하는 텅스텐 핵형성층 공정의 계단 도포성이 H2를 환원가스로 사용하는 'Bulk via fill' 공정에 비해 계단 도포성이 떨어지는 이유는 고 종횡비가 가지는 콘택이나 비아에서 WF6의 환원가스인 SiH4의 고갈로 인해 오픈부의 저면(예컨대, 콘택이나 비아의 아래쪽)으로 들어감에 따라 증착이 일어나지 못하기 때문이다. 이는 SiH4의 확산계수가 H2에 비해 떨어지며, 반응속도가 H 2의 경우는 H2 농도의 1/2승에 비례하는데 반해 SiH4의 경우는 SiH4 농도의 1승에 비례하기 때문에 SiH4 농도 감소에 더 민감하게 막의 성장 속도가 달라지기 때문이다.The reason this step coating property of the tungsten nucleation layer process using SiH 4 as the reducing gas falling staircase coating property than the 'Bulk via fill' process using H 2 as the reducing gas is WF 6 in a contact or a via with a high aspect ratio This is because deposition of SiH 4 , which is a reducing gas of, does not occur as it enters the bottom of the open portion (eg, the bottom of a contact or via). This is proportional to the square of the 1 falls relative to the H 2 diffusion coefficients of SiH 4, if the reaction rate of the H 2 is, whereas the proportion to the 1/2 power of the H 2 concentration when the SiH 4 is SiH 4 concentration of SiH 4 This is because the growth rate of the membrane is more sensitive to the decrease in concentration.

이에 본 발명에서는 예컨대, 텅스텐의 핵형성층 공정시 소스가스인 WF6와 반응가스인 SiH4를 이용한 CVD 반응(Reaction) 후, 반응에 부족한 SiH4 만을 공급(또는 펄스식으로 공급)하여 계단 도포성을 향상시킨다. 그리고, 이 두 단계 사이에 Ar이나 N2 등의 비활성가스(Inert gas)를 이용하여 퍼지시킴으로서 가스 상태의 반응(Gas phase reaction)에 의한 계단 도포성의 저하나 막질의 저하를 막고자 한다.Therefore, in the present invention, for example, in the tungsten nucleation layer process, after CVD reaction using WF 6 as a source gas and SiH 4 as a reaction gas, only SiH 4 insufficient in the reaction is supplied (or pulsed) to be applied. To improve. In addition, by purging with an inert gas such as Ar or N 2 between the two stages, it is intended to prevent the deterioration of the step coating property and the film quality due to the gas phase reaction.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 보다 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can more easily implement the present invention.

도 2는 본 발명의 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 공정을 도시한 플로우챠트이다.2 is a flowchart illustrating a thin film formation process using the chemical vapor deposition method of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 공정은, 기판 상에 콘택이나 비아와 같은 오픈부를 갖는 반도체층을 형성하는 공정(S20)과, 반도체층 상에 소스가스와 반응가스를 이용한 화학기상증착 방식을 이용하여 박막을 형성(븍, 핵형성층층 형성)하는 공정(S21)과, 잔류하는 소스가스와 반응가스를 제거하기 위해 퍼지하는 공정(S22)과, 오픈부 내부에서의 박막의 계단 도포성을 향상시키기 위해 반응가스 만을 이용하여 오픈부 내에 있는 소스가스를 환원시키는 고정(S23)과, 오픈부 내에 잔류하는 반응가스를 제거하기 위해 퍼지하는 공정(S24)으로 이루어진다.Referring to FIG. 2, the thin film forming process using the chemical vapor deposition method according to the present invention includes forming a semiconductor layer having an open portion such as a contact or a via on a substrate (S20), and reacting with a source gas on the semiconductor layer. A process of forming a thin film using a chemical vapor deposition method using a gas (ie, forming a nucleation layer) (S21), a process of purging to remove residual source gas and a reactive gas (S22), and an inside of an open part. In order to improve the applicability of the step of the thin film in the step of using a reaction gas to reduce the source gas in the open portion (S23), and to purge to remove the reaction gas remaining in the open portion (S24) .

여기서, 박막을 형성하는 공정(S21) ∼ 반응가스를 제거하기 위해 퍼지하는 공정(S24)을 하나의 사이클로 하고, 이러한 사이클을 반복적으로 실시하여 원하는 두께의 박막을 형성하게 된다.Here, the process of forming a thin film (S21) to a purge process (S24) to remove the reaction gas is made into one cycle, and the cycle is repeatedly performed to form a thin film having a desired thickness.

박막을 형성하는 공정(S21)에서, 반응가스와 소스가스에 플라즈마를 인가하여 반응성이 큰 래디컬을 이용할 수 있으며, 소스가스를 환원시키는 공정(S23)에서도 반응가스에 플라즈마를 인가하여 반응성이 큰 래디컬을 이용할 수 있다.In the step S21 of forming a thin film, radicals having high reactivity may be used by applying plasma to the reaction gas and the source gas, and the radicals having high reactivity by applying plasma to the reaction gas may also be used in the step S23 of reducing the source gas. Can be used.

이하에서는 상기한 박막이 텅스텐막인 것을 그 예로 하여 설명한다. In the following description, the thin film is a tungsten film as an example.

텅스텐막 형성을 위한 소스가스는, WF6, WCl5, WBr6, W(Co)6 , W(C2H2)6, W(PF3)6, W(allyl)4, (C2H5)WH2, [CH 3(C5H4)]2WH2, (C5H5)W(CO) 3(CH3), W(butadiene)3, W(methylvinyl-ketone)3, (C5H5)HW(CO)3, (C7H 8)W(CO)3 및 (1, 5-COD)W(CO)4로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나를 포함하고, 반응가스는, H2, Si2H6 , B2H6, PH3 및 Si으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나를 포함한다.Source gases for tungsten film formation are WF 6 , WCl 5 , WBr 6 , W (Co) 6 , W (C 2 H 2 ) 6 , W (PF 3 ) 6 , W (allyl) 4 , (C 2 H 5 ) WH 2 , [CH 3 (C 5 H 4 )] 2 WH 2 , (C 5 H 5 ) W (CO) 3 (CH 3 ), W (butadiene) 3 , W (methylvinyl-ketone) 3 , ( C 5 H 5 ) HW (CO) 3 , (C 7 H 8 ) W (CO) 3 and (1,5-COD) W (CO) 4 and any one selected from the group consisting of, the reaction gas, It includes any one selected from the group consisting of H 2 , Si 2 H 6 , B 2 H 6 , PH 3 and Si.

또한, 여기서는 텅스텐 소스 가스로 WF6를 사용하는 것을 그 예로 하며, 반응가스는 H2와 SiH4를 사용하는 것을 그 예로 한다.In this case, the use of WF 6 as the tungsten source gas is taken as an example, and the reaction gas uses H 2 and SiH 4 as an example.

퍼지하는 두 단계(S22, S24)에서는 He, Ne, Ar, Xe, N2 등의 비활성가스를 이용하며, 반도체층은 실리콘 기판 또는 절연막을 포함하며, 오픈부는 셀콘택, 비트라인 콘택, 스토리지노드 콘택 또는 비아 콘택 형성 영역 등을 포함한다.In the two purging steps S22 and S24, inert gases such as He, Ne, Ar, Xe, and N 2 are used, the semiconductor layer includes a silicon substrate or an insulating layer, and the open part includes a cell contact, a bit line contact, and a storage node. Contact or via contact forming regions and the like.

먼저, 'S20' 공정에서는 산화막 등의 층간절연막을 식각하여 오픈부를 형성하며, 'S21' 공정에서는 텅스텐막의 소스가스인 WF6와 반응가스인 SiH4를 CVD 챔버 내에 동시에 공급하여 수초(예컨대, 1.5초)간 CVD 반응을 한 후에, 'S22' 공정에서는 Ar이나 N2와 같은 비활성가스를 이용하여 퍼지한다. 그 후, 'S23' 공정에서는 SiH4, H2 또는 두가지의 반응가스 모두를 수초(예컨대, 2초)간 공급하는 부가적인 환원 공정을 실시하며, 그 후 'S24' 공정에서는 비활성가스를 이용하여 퍼지함으로써 1사이클이 마무리된다.First, in the 'S20' process, an open portion is formed by etching an interlayer insulating film such as an oxide film. In the 'S21' process, WF 6 , which is a source gas of tungsten film, and SiH 4 , which is a reactant gas, are simultaneously supplied into a CVD chamber for several seconds (eg, 1.5). After the second CVD reaction, purge using an inert gas such as Ar or N 2 in the 'S22' process. Subsequently, in the 'S23' process, an additional reduction process of supplying SiH 4 , H 2, or both reaction gases for several seconds (for example, 2 seconds) is performed, and in the 'S24' process, an inert gas is used. One cycle is completed by purging.

종래의 CVD 방식을 이용한 텅스텐막 형성 공정에서는 소스가스(WF6)와 반응가스(SiH4)를 동시에 CVD 챔버에 주입하여 막을 형성하였다. 따라서, 확산속도가 느린 SiH4는 오픈부 하단까지는 플로우되지 못하게 되므로, 계단 도포성이 불량하였다.을In the conventional tungsten film forming process using the CVD method, a source gas (WF 6 ) and a reaction gas (SiH 4 ) are simultaneously injected into the CVD chamber to form a film. Therefore, SiH 4, which has a slow diffusion rate, cannot flow to the bottom of the open portion, so that the step coating property is poor.

따라서, 본 발명에서는 반응가스와 소스가스와의 CVD 반응을 이용하여 텅스텐막(핵형성층)을 형성한 후, 퍼지를 실시하여 소스가스를 제거한 다음, 반응가스인 SiH4(또는 H2)를 CVD 챔버에 투입하여 오픈부 하단에서 환원 반응을 유도함으로써, 양호한 계단 도포성을 확보할 수 있다.Therefore, in the present invention, after forming a tungsten film (nucleation layer) by using a CVD reaction between the reaction gas and the source gas, purging is performed to remove the source gas, and then the reaction gas SiH 4 (or H 2 ) is CVD. By introducing into the chamber and inducing a reduction reaction at the lower end of the open portion, it is possible to ensure good step coatability.

한편, 종래의 방식에서 초기에 SiH4 등의 반응가스를 다량 투입하면 가스 반응이 발생하고, 또한 Si를 포함하는 반응소스를 다량 투입하면 막내에 불순물로 Si이 다량 포함되거나 저항이 상대적으로 높은 텅스텐 실리사이드를 형성하게 되므로 반응가스와 소스가스를 동시에 투입하는 공정에서는 그 한계가 드러난다.On the other hand, in the conventional method, when a large amount of reaction gas such as SiH 4 is initially added, a gas reaction occurs, and when a large amount of a reaction source containing Si is added, a large amount of Si is contained as an impurity in the film or a relatively high resistance of tungsten. Since the silicide is formed, the limitation is revealed in the process of simultaneously adding the reaction gas and the source gas.

초기에 SiH4와 WF6를 투입하게 되면 텅스텐막이 형성되고, 이 때 SiF4와 HF 가스가 배출된다. 그러나, SiH4의 플로우가 안되는 오픈부 하단에서는 WF6가 그대로 존재한다. 따라서, 퍼지 공정 이후 추가의 환원 공덩을 실시함으로써 계단 도포성이 향상된다.When SiH 4 and WF 6 are initially introduced, a tungsten film is formed, and SiF 4 and HF gases are discharged. However, WF 6 remains at the bottom of the open portion where SiH 4 does not flow. Therefore, the step applicability is improved by carrying out additional reducing pores after the purge process.

도 3은 본 발명에 의해 증착된 텅스텐막의 사이클 수에 따른 두께 변화를 도시한 그래프로서, 가로축은 사이클 수를 나타내고 세로축은 두께(Å)를 나타낸다.Fig. 3 is a graph showing the thickness change according to the cycle number of the tungsten film deposited by the present invention, where the horizontal axis represents the cycle number and the vertical axis represents the thickness.

도 3을 참조하면, 350℃의 기판 온도에서 텅스텐막 증착 공정을 실시한 것으로, 'a'의 경우는 환원 공정에서 SiH4만 추가적으로 공급한 것이며, 'b'의 경우는 SiH4 이외에 H2 까지 첨가한 경우를 나타낸다.Referring to FIG. 3, a tungsten film deposition process was performed at a substrate temperature of 350 ° C., in the case of 'a', only SiH 4 was additionally supplied in the reduction process, and in the case of “b”, up to H 2 was added in addition to SiH 4. One case is shown.

도 3에 알 수 있듯이. 본 발명의 CVD 증착 방식을 적용함으로써, 원자층증착(Atomic Layer Deposition; 이하 ALD라 함) 방식과 마찬가지로 20nm 이하의 얇은 두께에서도 사이클 수에 따라 박막의 두께가 정확하게 조절됨을 알 수 있다. 한편, ALD 방식은 1모노레이어(Mono layer) 단위로 막이 증착되므로 증착 속도가 느려 생산성이 떨어지는 문제가 있으나, 본 발명의 펄스 CVD 방식에서는 ALD 방식에 비해 하나의 사이클당 박막의 증착 속도가 현저히 향상되어 쓰루풋(Throughput)을 증가시킬 수 있다.As can be seen in FIG. By applying the CVD deposition method of the present invention, it can be seen that the thickness of the thin film is precisely adjusted according to the number of cycles even in a thin thickness of 20 nm or less as in the atomic layer deposition (ALD) method. On the other hand, in the ALD method, since the film is deposited in units of one mono layer, the deposition rate is low, thereby decreasing productivity. However, the pulse CVD method of the present invention significantly improves the deposition rate of a thin film per cycle compared to the ALD method. This can increase throughput.

도 4는 본 발명의 종래기술의 핵형성층에 대한 계단 도포성을 비교한 SEM(Scanning Electron Microscopy) 사진이다.Figure 4 is a scanning electron microscopy (SEM) photograph comparing the step coverage of the prior art nucleation layer of the present invention.

도 4의 (a)는 종래의 CVD 방식에 의한 텅스텐 핵형성층(X)을 나타내고, 도 4의 (b)는 본 발명의 CVD 방식에 의한 텅스텐 핵형성층(Y)을 나타낸다. 도 4에서 알 수 있듯이 본 발명이 종래기술에 비해 계단 도포성이 현저하게 향상되었음을 알 수 있다.4A shows a tungsten nucleation layer X by the conventional CVD method, and FIG. 4B shows a tungsten nucleation layer Y by the CVD method of the present invention. As can be seen in Figure 4 it can be seen that the present invention is significantly improved in the step application properties compared to the prior art.

한편, 전술한 본 발명의 실시예에서는 텅스텐막을 형성하는 것을 일예로 하였으나, 이외에도 할로겐화물(Halide) 계열의 무기소스(Inorganic source)나 금속유기소스(Metalorganic source)를 이용하여 Cu, Al, Au, Ag, Pt, Pd, Ni, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Ir, Rh, Zn, Cd, Sn 및 Pb로 이루어진 그룹으로 부터 선택된 어느 하나를 포함하는 박막과 이들의 질화물이나 산화물을 형성할 수 있다.On the other hand, in the above-described embodiment of the present invention to form a tungsten film as an example, in addition to Cu, Al, Au, using a halide (Inorganic source) or a metal organic source (Metalorganic source) Group consisting of Ag, Pt, Pd, Ni, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Ir, Rh, Zn, Cd, Sn and Pb A thin film including any one selected from and nitrides or oxides thereof may be formed.

또한, 단지 핵형성층 공정 이외에 반도체소자에서 사용되는 여러 물질의 CVD 공정의 계단 도포성을 향상시키는 공정이나 계단 도포성이 CVD에 비해 현저하게 떨어지는 물리기상증착(Physical Vapor Deposition; 이하 PVD라 함) 방식을 대체하는 공정으로 이용될 수 있다. 예를 들어, 현재 PVD로 증착되어 구리배선 공정의 확산방지막으로 사용되는 Ta, TaN이다 Cu 전기도금(Electro-plating)을 위한 핵생성/접착층으로 사용되는 Cu를 증착하는 공정으로 사용될 수 있다. Ta의 경우 반응 공정에서 TaCl5 또는 TaBr5와 같은 무기 소스가스나 PDEAT(Pentakis-Dimethylamido-Tantalum)와 같은 금속유기소스(Metalorganic source)와 환원 가스로 H2가 사용될 수 있으며, TaN 의 경우는 환원 가스로 NH3가 이용될 수 있다.In addition, the step of improving the step coverage of the CVD process of various materials used in the semiconductor device in addition to the nucleation layer process, or the physical vapor deposition (PVD) method, which has a significantly lower step coverage than CVD. It can be used as a process to replace the. For example, Ta, TaN, which is currently deposited by PVD and used as a diffusion barrier of a copper wiring process, may be used as a process of depositing Cu, which is used as a nucleation / adhesion layer for Cu electroplating. In the case of Ta reaction step as TaCl 5, or with a reducing gas inorganic source gas or PDEAT metal organic sources, such as (Pentakis-Dimethylamido-Tantalum) ( Metalorganic source) , such as TaBr 5, and the H 2 may be used, in the case of TaN is reduced NH 3 may be used as the gas.

전술한 본 발명은 박막의 핵형성층 공정시 소스가스와 반응가스를 이용한 CVD 반응 후, 반응에 부족한 반응가스 만을 훤원가스로 공급(또는 펄스식으로 공급)하여 계단 도포성을 향상시키고, 이 두 단계 사이에 Ar이나 N2 등의 비활성가스를 이용하여 퍼지시킴으로서 가스 상태의 반응에 의한 계단 도포성의 저하나 막질의 저하를 막고자 방지할 수 있어, 박막의 계단 도포성을 향상시킬 수 있으며, ALD 방식에 비해 증착 속도가 빨라서 스루풋을 향상시킬 수 있고, 얇은 두께에서도 박막의 두께를 정확히 조절할 수 있음을 실시예를 통해 알아 보았다.In the present invention described above, after the CVD reaction using the source gas and the reaction gas in the process of forming the nucleation layer of the thin film, only the reactive gas that is insufficient in the reaction is supplied to the source gas (or pulsed) to improve the step coatability, and these two steps By purging with an inert gas such as Ar or N 2 in between, it is possible to prevent deterioration of stair coatability due to gaseous reaction or deterioration of film quality, thereby improving the stair coatability of a thin film. Compared to the deposition rate is faster than the throughput can be improved, even in a thin thickness it was found through the embodiment that the thickness of the thin film can be precisely adjusted.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be clear to those of ordinary knowledge.

전술한 본 발명은, 박막 형성시 계단 도포성을 향상시키면서도 증착 속도를 빨리할 수 있어, 빈도체소자의 수율과 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention described above has an effect of improving the yield and productivity of the frequency element device while improving the deposition rate while improving the step coatability at the time of forming the thin film.

도 1은 텅스텐 플러그를 적용한 일반적인 반도체소자를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a general semiconductor device to which a tungsten plug is applied.

도 2는 본 발명의 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 공정을 도시한 플로우챠트.Figure 2 is a flow chart showing a thin film formation process using the chemical vapor deposition method of the present invention.

도 3은 본 발명에 의해 증착된 텅스텐막의 사이클 수에 따른 두께 변화를 도시한 그래프.3 is a graph showing the change in thickness according to the number of cycles of the tungsten film deposited by the present invention.

도 4는 본 발명의 종래기술의 핵형성층에 대한 계단 도포성을 비교한 SEM 사진.Figure 4 is a SEM photograph comparing the step coverage of the prior art nucleation layer of the present invention.

Claims (10)

기판 상에 소정의 오픈부를 갖는 반도체층을 형성하는 단계;Forming a semiconductor layer having a predetermined opening on the substrate; 상기 오픈부 상에 소정의 소스가스와 반응가스를 이용한 화학기상증착 방식을 이용하여 박막을 형성하는 단계;Forming a thin film on the open part by using a chemical vapor deposition method using a predetermined source gas and a reaction gas; 잔류하는 상기 소스가스와 상기 반응가스 및 반응 부산물을 제거하기 위해 퍼지하는 단계;Purging to remove the remaining source gas and the reaction gas and reaction byproducts; 상기 오픈부 내부에서의 상기 박막의 계단 도포성을 향상시키기 위해 상기 반응가스 만을 이용하여 상기 오픈부 내에 있는 상기 소스가스를 환원시키는 단계; 및Reducing the source gas in the open portion using only the reaction gas to improve the step coverage of the thin film in the open portion; And 잔류하는 상기 반응가스를 제거하기 위해 퍼지하는 단계Purging to remove the remaining reaction gas 를 포함하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.Thin film formation method using a pulsed chemical vapor deposition method comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 박막을 형성하는 단계 내지 상기 반응가스를 제거하기 위해 퍼지하는 단계를 하나의 사이클로 하고, 상기 사이클을 반복적으로 실시하여 원하는 두께의 상기 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.Forming the thin film to purging to remove the reaction gas in one cycle, and repeatedly performing the cycle to form the thin film of the desired thickness using a chemical vapor deposition method characterized in that Thin film formation method. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 박막을 형성하는 단계에서,In the step of forming the thin film, 상기 반응가스와 상기 소스가스에 플라즈마를 인가하여 반응성이 큰 래디컬을 이용하는 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.A method of forming a thin film using a pulsed chemical vapor deposition method, characterized by using radicals having high reactivity by applying plasma to the reaction gas and the source gas. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 소스가스를 환원시키는 단계에서,In the step of reducing the source gas, 상기 반응가스에 플라즈마를 인가하여 반응성이 큰 래디컬을 이용하는 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.A method of forming a thin film using a pulsed chemical vapor deposition method, characterized by using radicals having high reactivity by applying plasma to the reaction gas. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 박막은 텅스텐막인 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.The thin film is a thin film forming method using a pulsed chemical vapor deposition method, characterized in that the tungsten film. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 소스가스는, WF6, WCl5, WBr6, W(Co)6, W(C2 H2)6, W(PF3)6, W(allyl)4, (C2H5)WH2, [CH3(C5H4)]2 WH2, (C5H5)W(CO)3(CH3), W(butadiene) 3, W(methylvinyl-ketone)3, (C5H5)HW(CO)3, (C7H8)W(CO) 3 및 (1, 5-COD)W(CO)4로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나를 포함하며,The source gas is WF 6 , WCl 5 , WBr 6 , W (Co) 6 , W (C 2 H 2 ) 6 , W (PF 3 ) 6 , W (allyl) 4 , (C 2 H 5 ) WH 2 , [CH 3 (C 5 H 4 )] 2 WH 2 , (C 5 H 5 ) W (CO) 3 (CH 3 ), W (butadiene) 3 , W (methylvinyl-ketone) 3 , (C 5 H 5 ) HW (CO) 3 , (C 7 H 8 ) W (CO) 3 and (1, 5-COD) W (CO) 4, and any one selected from the group consisting of 상기 반응가스는, H2, SiH4, Si2H6, B2H6 , PH3 및 Si으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.The reaction gas, H 2 , SiH 4 , Si 2 H 6 , B 2 H 6 , PH 3 And a thin film forming method using a pulsed chemical vapor deposition method characterized in that it comprises any one selected from the group consisting of Si. . 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 퍼지하는 두 단계에서, 비활성가스를 이용하는 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.In the two steps of purging, a thin film formation method using a pulsed chemical vapor deposition method, characterized in that using an inert gas. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반도체층은, 실리콘 기판 또는 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.The semiconductor layer is a thin film formation method using a pulsed chemical vapor deposition method characterized in that it comprises a silicon substrate or an insulating film. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 오픈부는, 셀콘택, 비트라인 콘택, 스토리지노드 콘택 또는 비아 콘택 중 어느 하나를 형성하기 위한 것임을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.The open part is a thin film forming method using a pulsed chemical vapor deposition method, characterized in that for forming any one of a cell contact, a bit line contact, a storage node contact or a via contact. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 박막은,The thin film, Cu, Al, Au, Ag, Pt, Pd, Ni, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Ir, Rh, Zn, Cd, Sn 및 Pb로 이루어진 그룹으로 부터 선택된 어느 하나를 포함하는 박막인 것을 특징으로 하는 펄스식 화학기상증착 방식을 이용한 박막 형성 방법.Cu, Al, Au, Ag, Pt, Pd, Ni, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Ir, Rh, Zn, Cd, Thin film formation method using a pulsed chemical vapor deposition method, characterized in that the thin film comprising any one selected from the group consisting of Sn and Pb.
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