KR20050050927A - 샤시 베이스 형성용 수지 복합재 및 이로부터 제조된 샤시베이스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 샤시 베이스 형성용 수지 복합재와 이로부터 제조된 샤시 베이스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고분자 매트릭스 수지 내부에 분산된 탄소 나노 튜브를 포함하는 샤시 베이스 형성용 수지 복합재와 이로부터 제조된 샤시 베이스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것이다.
본 발명의 샤시 베이스 형성용 수지 복합재는 치수안정성, 기계적 강도, 전기전도성, 및 열전도성이 우수하며, 알루미늄보다 낮은 온도에서 사출성형이 가능하므로 플라즈마 디스플레이 장치의 생산 공정에 있어서 장점을 갖는다.

Description

샤시 베이스 형성용 수지 복합재 및 이로부터 제조된 샤시 베이스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치{RESIN COMPOSITE FOR FORMING CHASSIS BASE AND PLASMA DISPLAY DEVICE COMPRISING CHASSIS BASE PREPARED THEREFROM}
[산업상 이용분야]
본 발명은 샤시 베이스 형성용 수지 복합재 및 이로부터 제조된 샤시 베이스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것으로, 치수안정성, 기계적 강도, 전기전도성, 및 열전도성이 우수한 샤시 베이스 형성용 수지 복합재 및 이로부터 제조된 샤시 베이스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것이다.
[종래기술]
일반적으로 평판 디스플레이 장치(FPD;Flat Panel Display)는 두 기판 사이에 사이드 벽을 세워 밀폐된 용기를 제조하고, 이 용기의 내부에 적절한 소재를 배치하여 원하는 화면을 표시하는 장치로서, 최근들어 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다.
이러한 평판 디스플레이 장치 중에서 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel; 이하 "PDP"라 칭함)은 형광 물질이나 특수가스를 여기시킴으로써 빛을 발생시켜 화상을 표시하는 장치로서, 밀폐된 공간에 설치된 두 전극 사이에 가스를 봉입한 후 방전 전압을 인가하고, 방전 전압으로 인하여 발생되는 자외선을 이용하여 소정의 패턴으로 형성된 형광체층을 여기시켜 소망하는 숫자, 문자 또는 화상을 얻는 디스플레이 장치이다.
도 1은 플라즈마 디스플레이 장치의 분해사시도를 나타낸다. 플라즈마 디스플레이 장치는 PDP(2)의 배면에 위치하는 샤시 베이스(4)와 상기 샤시 베이스(4) 후면에 위치하는 회로기판을 순차적으로 포함하며, 전면 케이스(6) 및 후면 케이스(8)와 함께 일체화되는 구조를 갖는다.
이렇게 일체화된 구조에서는 PDP로 인가되는 방전 전압으로 인하여 많은 열이 발생되는데, 발생된 열을 외부로 방출하고, 또 그 배면으로 탑재된 회로기판을 외부의 충격으로부터 보호하기 위해서 통상적으로는 열전도성이 양호하고 강성이 있는 알루미늄을 이용하여 샤시 베이스를 제작하고 있다.
알루미늄 샤시 베이스를 제작하는 방법으로는 미리 제작된 판재를 가지고 프레스 공정을 거치는 프레스 생산방식과 알루미늄 소재를 용융하여 고압으로 주조하는 다이캐스팅 생산방식이 주로 사용되고 있다. 그러나 알루미늄 판재를 이용한 상기 프레스 방식에 있어서는 구조강도용 보강재 및 어셈블리(assembly) 조합에 따른 공정 산포, 회로보드(PBA), 및 구조물 조립을 위한 스터드(stud) 삽입 및 압입에 따른 공정 불량, 및 부품의 평면도 확보를 위한 수작업 등의 문제점이 있다.
또한, 알루미늄 소재를 이용한 상기 다이캐스팅 방식은 생산성의 한계, 주조후 기계가공을 필요로 하는 부품의 생산, 고온 용융점을 갖는 알루미늄 소재 사용에 의한 치수 정밀도 저하, 및 부품의 평면도 확보를 위한 수작업 등의 문제점을 가지고 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 치수안정성, 기계적 강도, 전기전도성, 및 열전도성이 우수하며, 비교적 낮은 온도에서도 사출성형이 가능한 샤시 베이스 형성용 수지 복합재와 이로부터 제조된 샤시 베이스를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 고분자 매트릭스 수지 내부에 분산된 탄소 나노 튜브를 포함하는 샤시 베이스 형성용 수지 복합재를 제공한다.
본 발명은 또한, 플라즈마 디스플레이 패널; 상기 플라즈마 디스플레이 패널과 나란히 배치되며, 고분자 매트릭스 수지 내부에 분산된 탄소 나노 튜브를 포함하는 수지 복합재로부터 제조되는 샤시 베이스; 및 상기 샤시 베이스의 일면에 장착되어 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 구동회로부를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치를 제공한다.
본 발명은 또한, 고분자 매트릭스 수지와 탄소 나노 튜브를 사출 성형기에 혼입하는 단계; 상기 사출 성형기 내에서 열을 가하며 고분자 매트릭스 수지와 탄소 나노 튜브를 혼합하는 단계; 및 상기 혼합물을 사출 성형하여 샤시 베이스를 제조하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치용 샤시 베이스의 제조방법을 제공한다.
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 샤시 베이스 형성용 수지 복합재는 고분자 매트릭스 수지 내부에 전도성 물질인 탄소 나노 튜브를 포함하여 치수안정성, 기계적 강도, 전기전도성, 열전도성 등이 우수한 특성을 갖는다. 또한, 필요에 따라 여러가지 형태의 샤시 베이스로 성형이 자유로우며, 성형공정이 간단한 장점을 갖는다.
상기 고분자 매트릭스 수지는 열가소성 수지, 열경화성 수지, 고무 또는 열가소성 일래스토머 등을 단독, 혼합, 또는 공중합체의 형태로 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 열가소성수지를 사용할 수 있다.
상기 열가소성 수지의 예로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 폴리메틸펜텐 등을 사용할 수 있다.
상기 열경화성 수지의 예로는 에폭시 수지, 페놀수지, 아크릴수지 등을 사용할 수 있다.
상기 고무의 예로는 천연고무 또는 합성고무를 사용할 수 있으며, 상기 합성고무로는 부타디엔 고무, 이소프렌 고무, 스틸렌 부타디엔 공중합 고무 등을 사용할 수 있다.
상기 열가소성 일래스토머는 스틸렌-부타디엔 또는 스틸렌-이소프렌 블록 공중합체와 스틸렌계 열가소성 일래스토머, 올레핀계 열가소성 일래스토머 등을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 탄소 나노 튜브는 시판되는 탄소 나노 튜브를 사용할 수도 있고, 전기방전법, 또는 레이저 증착법과 같은 물리적 방법과 화학기상증착법(CVD)과 같은 화학적 방법 등에 의하여 제조된 탄소 나노 튜브를 사용할 수 있다.
본 발명의 샤시 베이스 형성용 수지 복합재에 있어서, 상기 고분자 매트릭스 수지와 혼합되는 탄소 나노 튜브의 함량은 고분자 매트릭스 수지 100 중량부에 대하여 0.01 내지 100 중량부인 것이 바람직하며, 0.1 내지 20 중량부인 것이 더 바람직하다. 탄소 나노튜브의 함량이 0.1 중량부 미만인 경우에는 기계적 강도, 전기전도성, 열전도성 등 원하는 물성을 얻을 수 없으며, 100 중량부를 초과하는 경우에는 성형상의 문제점이 있다.
상기 고분자 매트릭스 수지 내부에 탄소 나노 튜브를 혼합하는 방법은 특별한 제한이 없으나, 바람직하게는 고분자 물질과 탄소 나노 튜브를 통상의 압출기, 니더(kneader), 롤 등의 혼련기계에 투입하여 혼합할 수 있다.
우선, 고분자 매트릭스 수지와 탄소 나노 튜브를 사출 성형기에 혼입하고, 상기 사출 성형기 내에서 열을 가하며 고분자 매트릭스 수지와 탄소 나노 튜브를 혼합하는 단계를 거친 뒤, 상기 혼합물을 사출 성형하여 플라즈마 디스플레이 장치용 샤시 베이스를 제조할 수 있다. 본 발명의 샤시 베이스 형성용 수지 복합재를 이용하여 제조되는 샤시 베이스의 형태에는 특별한 제한이 없으며, 플라즈마 디스플레이 장치의 크기 또는 특성에 따라 다양한 형태로 제조할 수 있다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
폴리프로필렌과 탄소 나노 튜브를 100:20의 중량비로 니더(kneader)에 넣고 180℃에서 10분간 혼합하였다. 상기 혼합된 복합재를 사출성형하여 도 1의 4와 같은 형태의 샤시 베이스를 제조하였다.
본 발명의 샤시 베이스 형성용 수지 복합재는 기계적 강도, 전기전도성, 및 열전도성이 우수하며, 비교적 낮은 온도에서도 사출성형이 가능하므로 생산성이 우수한 장점을 갖는다.
도 1은 플라즈마 디스플레이 장치의 분해사시도.

Claims (9)

  1. 고분자 매트릭스 수지 내부에 분산된 탄소 나노 튜브를 포함하는 샤시 베이스 형성용 수지 복합재.
  2. 제1항에 있어서, 상기 탄소 나노 튜브는 고분자 매트릭스 수지 100 중량부에 대하여 0.01 내지 100 중량부로 포함되는 샤시 베이스 형성용 수지 복합재.
  3. 제1항에 있어서, 상기 탄소 나노 튜브는 고분자 매트릭스 수지 100 중량부에 대하여 0.1 내지 20 중량부로 포함되는 샤시 베이스 형성용 수지 복합재.
  4. 제1항에 있어서, 상기 고분자 매트릭스 수지는 열가소성 수지, 열경화성 수지, 고무 및 열가소성 일래스토머로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종 이상의 유기고분자인 샤시 베이스 형성용 수지 복합재.
  5. 플라즈마 디스플레이 패널;
    상기 플라즈마 디스플레이 패널과 나란히 배치되며, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 샤시 베이스 형성용 수지 복합재로부터 제조되는 샤시 베이스; 및
    상기 샤시 베이스의 일면에 장착되어 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 구동회로부
    를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  6. 고분자 매트릭스 수지와 탄소 나노 튜브를 사출 성형기에 혼입하는 단계;
    상기 사출 성형기 내에서 열을 가하며 고분자 매트릭스 수지와 탄소 나노 튜브를 혼합하는 단계; 및
    상기 혼합물을 사출 성형하여 샤시 베이스를 제조하는 단계
    를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치용 샤시 베이스의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 탄소 나노 튜브는 고분자 매트릭스 수지 100 중량부에 대하여 0.01 내지 100 중량부로 포함되는 것인 플라즈마 디스플레이 장치용 샤시 베이스의 제조방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 탄소 나노 튜브는 고분자 매트릭스 수지 100 중량부에 대하여 0.1 내지 20 중량부로 포함되는 것인 플라즈마 디스플레이 장치용 샤시 베이스의 제조방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 고분자 매트릭스 수지는 열가소성 수지, 열경화성 수지, 고무 및 열가소성 일래스토머로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종 이상의 유기고분자인 플라즈마 디스플레이 장치용 샤시 베이스의 제조방법.
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