KR20050027021A - 광 소자 형성방법 - Google Patents

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KR20050027021A
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푸글리아노니콜라
알렌크레이그에스.
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롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨.
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Abstract

광 소자 형성방법이 제공된다. 이 방법은 (a) 기판상에 하이브리드 유기-무기 폴리머 및 광활성 성분을 포함하며 제 1 굴절율 및 제 1 용해 속도를 가지는 광이미지성 조성물 층을 형성하고; (b) 화학 조사선을 사용하여 다광자 흡수에 의해 예정된 용적의 층을 노광하는 단계를 포함한다. 이에 따라 용적에 (i) 제 1 굴절율과 상이한 제 2 굴절율 및/또는 (ii) 제 1 용해 속도와 상이한 제 2 용해 속도가 제공된다. 본 발명에 따른 방법은 광 도파로 및 다른 광 소자를 형성하는데 특히 적합하다.

Description

광 소자 형성방법{Optical component formation method}
본 출원은 그의 전체 내용이 본 원에 참고로 인용되는 2003년 9월 12일 출원된 미국 가출원 제 60/502,767호의 U.S.C. §119(e)의 이점을 청구한다.
본 발명은 일반적으로 광 소자 분야에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 다광자 흡수를 이용하여 광 소자, 예를 들어 도파로, 필터(filter), 광 연결 장치(optical interconnect), 렌즈, 회절 격자 및 기타 소자를 형성하는 방법에 관한 것이다.
고속 통신에 있어서 0.01 내지 1 미터 길이 스케일로 광 펄스 순서를 사용한 신호 전달이 점점 더 중요해지고 있다. 예를 들어, 광 집적회로(optical integrated circuit)(OIC)가 인쇄배선판상에 고 밴드폭 광 연결을 위해 중요성을 더해 가고 있다. 그 결과, 인쇄배선판(PWB) 상에 도파로, 필터, 광 연결 장치, 렌즈, 회절 격자 등의 광 소자를 통합하는 것이 점점 더 중요해 지고 있다.
광 도파로는 전형적으로 코어 물질을 클래딩 층(cladding layer)으로 에워 쌈으로써 구성된다. 클래딩 층은 코어 물질 보다 굴절률(index of refraction)이 작기 때문에 광선은 코어 물질내로 전파된다. 이 조건은 코어내 총 내부 굴절에 대한 필요 조건을 만족한다. 도파로는 개별적으로 또는 기판상에 담지된 어레이(array)로서 사용될 수 있다. 도파로는 종종 광선에 수동적으로 작용한다. 예를 들어, 스플리터(splitter)는 하나의 도파로에서의 광 신호를 둘 이상의 도파로로 분할하며; 커플러 (coupler)는 둘 이상의 도파로로부터의 광 신호를 보다 적은 수의 도파로로 합치며; 파장 분할 다중화("WDM", wavelength division multiplexing) 구조는 통상적으로 페이즈 어레이 디자인(phase array design) 또는 그레이팅(grating)을 사용하여 입력 광 신호를 스펙트럼적으로 분리된 출력 신호(이들은 각각 쌍을 이루어 도파로를 분리한다)로 분리한다. 스펙트럼 필터, 편광기 및 절연체(isolator)가 도파로 디자인에 내입될 수 있다. 또한, 도파로는 택일적으로 활동적인 기능(active functionality)을 가질 수 있으며, 이때 입력 신호는 이차 광 또는 전기 신호와의 상호작용에 의해 변경된다. 예시적인 활동적 기능으로 전기-광학, 열-광학 또는 음파-광학 장비에서와 같이 증폭 및 스위칭 기능이 포함된다.
공지된 광 도파로의 제조방법은, 예를 들어 유리섬유를 기판상의 중공 영역에 손으로 위치시키고; 목적하는 구조의 몰드에 열 경화되어 후에 몰드로부터 제거되는 폴리머 물질을 충전시킨 후; 기판상에 광 물질을 침착시키며, 반응성 이온 에칭(RIE) 공정을 이용하여 패턴화시키는 단계를 포함한다. 그러나, 이들 각 공정은 도파로를 디파인하기 위해 여러 단계를 필요로 하고, 측벽이 거칠어질 염려가 있으며, 해상도가 제한적이고, PWB 제조 스킴과 상용적이지 않으며, 생산 단가가 높은 단점을 갖는다.
평면 도파로와 같은 광 소자를 형성하는데 광이미지성 물질을 사용하는 것이 또한 제안되어 왔다. 평면 도파로의 경우, 예를 들어 광이미지성 코어층을 제 1 클래딩 층상에 침착시킨다. 그후, 코어층을 표준 UV 노광 및 표준 현상 기법을 이용하여 패턴화시키고, 제 1 클래드층 및 패턴화된 코어 구조상에 제 2 클래드층을 침착시킨다. 이 과정은 상기 언급된 기술에 비해 공정 단계수를 더 줄였다.
국제 공개 번호 제 WO 01/96917 A2호는 광 기능 소자를 제조하는데 다광자-유도된 광중합법을 이용하는 것에 대해 개시하였다. 이미지식 다광자 중합 및 블랭킷(blanket) 조사 기술을 결합하여 동일계에서 캡슐화 보호 모놀리식(monolithic) 폴리머 매트릭스로 광 소자를 제조하였다. 적합한 광중합 그룹에 대한 다양한 예가 알려졌으며, 아릴 및 (메트)아릴의 자유 중합가능한 부분이 가장 바람직한 것으로 예시되었다.
그러나, 광 소자를 형성하기 위해 아크릴레이트를 사용하는데는 많은 결점이 있다. 예를 들어, 아크릴레이트는 통상 고온 응용예, 예컨대 칩-대-칩(chip-to-chip) 응용예에 사용하기에 적합치 않다. 200 ℃ 근처의 온도에서, 대부분의 아크릴레이트 물질은 분해 및 탈중합하기 시작하여, 예를 들어 광 성능에서 분해 형태의 신뢰성 문제를 야기한다. 또한, 아크릴레이트는 글래스와 구조적으로 및 광학적으로 상이한 단점을 갖는다. 광 섬유 및 피크테일(pigtail) 구조에 현재 선택되는 재료인 글래스는 유익한 구조 및 광학적 성질을 제공한다. 광 손실에 연루된 문제를 감소시키기 위하여, 아크릴레이트 보다 글래스의 것과 보다 밀접한 성질을 가지는 광 소자용 재료를 사용하는 것이 바람직하다.
따라서, 광전자 산업에서는 광 소자를 형성하는 개선된 방법 뿐 아니라 이로부터 형성된 광 소자 및 전자 장비가 요망된다.
발명의 요약
본 발명은 하이브리드 유기-무기 폴리머를 포함하는 광이미지성 조성물이 다광자 노광에 의해 이미지화되는 광 소자의 형성방법을 제공한다. 폴리머는 생성된 소자가 알맞은 광 및 기계적 성질을 가짐에 따라 처리에 있어서 유연적이다. 본 발명의 한 측면에 따라, 광 소자의 형성방법이 제공된다. 이 방법은 (a) 기판상에 하이브리드 유기-무기 폴리머 및 광활성 성분을 포함하며 제 1 굴절율 및 제 1 용해 속도를 가지는 광이미지성 조성물 층을 형성하고; (b) 화학 조사선을 사용하여 다광자 흡수에 의해 예정된 용적의 층을 노광하여, 이 용적에 (i) 제 1 굴절율과 상이한 제 2 굴절율 및/또는 (ii) 제 1 용해 속도와 상이한 제 2 용해 속도를 제공하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 측면에 따라, 광 도파로의 형성방법이 제공된다. 이 방법은 (a) 기판상에 하이브리드 유기-무기 폴리실세스퀴옥산 및 광활성 성분을 포함하며 제 1 굴절율 및 제 1 용해 속도를 가지는 광이미지성 조성물 층을 형성하고; (b) 화학 조사선을 사용하여 다광자 흡수에 의해 예정된 용적의 층을 이미지식으로(imagewise) 노광하여, 이 용적에 (i) 제 1 굴절율과 상이한 제 2 굴절율 및/또는 (ii) 제 1 용해 속도와 상이한 제 2 용해 속도를 제공하고, 노광된 층 용적이 도파로 코어를 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 목적 및 측면은 명세서, 도면 및 첨부된 청구범위를 검토하여 당업자들이 명백히 알 수 있을 것이다.
도면에서, 동일한 참조 숫자는 동일한 특징(faeture)을 나타낸다.
본 발명은 광 도파로, 필터, 연결 장치, 렌즈, 회절 격자 등의 광 소자를 형성하는 방법을 제공한다. 달리 특별한 언급이 없으면, 도파로 코어 및 클래딩 조성물중 성분의 양은 용매를 함유하지 않는 조성물에 기초한 중량%로 제공된다. 본 원에 사용된 용어 "폴리머"는 올리고머, 다이머, 트리머, 테트라머 등을 포함하며, 하나 이상의 타입의 모노머 단위로부터 형성된 폴리머를 포괄한다. 용어 "알킬"은 선형, 측쇄 및 사이클릭 알킬을 포함한다. 용어 방향족은 카보사이클 및 헤테로사이클을 포함한다. 용어 "할로겐" 및 "할로"는 불소, 염소, 브롬 및 요오드를 포함한다. 따라서, 용어 "할로겐화"는 불소화, 염소화, 브롬화 및 요오드화를 의미한다.
이하, 본 발명이 본 발명의 제 1 측면에 따른 방법을 수행하기 위하여 사용될 수 있는 예시적인 시스템(100)을 나타내고 있는 도 1를 참조로 하여 설명될 것이다. 이 방법에 따라 광이미지성 하이브리드 유기-무기 폴리머를 직접 이미지화하여 광 소자를 제조할 수 있다. 본 발명에 따라 형성된 광 소자는 개별적으로 또는 복수개의 소자로 제조될 수 있다.
기판(102)이 제공된다. 층에 형성된 광이미지층 및 광 소자를 지지하기에 적합한 기판이 사용될 수 있다. 적합한 기판에는 인쇄배선판 및 직접회로와 같은 전자 장비의 제조에 사용되는 기판이 포함되나, 이로만 한정되지 않는다. 특히 적합한 기판은 구리 클래드 보드의 라미네이트 표면 및 구리 표면, 인쇄배선판 내층 및 외층, 집적회로의 제조에 사용되는 웨이퍼, 예를 들어 실리콘, 갈륨 아르세나이드 및 인듐 포스파이드 웨이퍼, 액정 디스플레이("LCD") 글래스 기판을 포함하나, 이로만 한정되지 않는 글래스 기판, 절연체 코팅, 산화규소, 질화규소, 실리콘 옥시나이트라이드, 사파이어, 에폭시 라미네이트, 폴리이미드, 폴리실록산, 클래딩 층 등을 포함한다. 예를 들어, 형성될 광 소자가 광 도파로인 경우, 기판은 임의로 클래딩 층을 포함할 수 있으나, 본 발명의 방법은 단일층으로부터 클래딩 및 코어를 형성케 할 수 있다.
제 1 굴절율을 가지는 광이미지성 조성물 층(104)이 기판(102) 상에 침착된다. 광이미지성 조성물은 하이브리드 유기-무기 폴리머 및 광활성 성분을 포함한다. 하이브리드 폴리머의 사용은 형성된 광 소자의 기계 및 광학적 성질을 알맞게 할 수 있다는 점에서 유리하다. 적합한 하이브리드 유기-무기 폴리머는 예를 들어 폴리실세스퀴옥산 및 폴리실록산과 같은 하이브리드 유기-무기 실리콘-함유 물질 및 지르콘, 알루미늄, 게르마늄, 티탄 및 이들의 조합물을 함유하는 하이브리드 유기-무기 폴리머를 포함한다. 이러한 실리콘-함유 물질은, 예를 들어 광학적, 열적 및 기계적 성질과 관련하여 글래스와 같은 성질이 달성되어 목적하는 광 손실 특성 및 고 분해 온도를 제공함으로써 이들을 광 소자 제조 뿐 아니라 그의 고온 응용에 특히 적합하도록 만든다는 점에서 추가의 이점을 가진다.
폴리머 화합물은 비치환되거나, 예를 들어 중수소 또는 하나 이상의 할로겐에 의해 치환될 수 있다. 적합한 하이브리드 실세스퀴옥산 폴리머는, 예를 들어 POSS(다면체 올리고머 실세스퀴옥산)-기본 폴리머 및 그의 전체 내용이 본 원에 참고로 인용되는, 함께 계류중인 미국 출원 제 10/307,904호(Attorney Docket No. DN 51203) 및 공개된 미국 출원 제 20020172492 A1에 개시된 것을 포함한다. 이러한 실세스퀴옥산 폴리머는 식 (RSiO1.5)의 단위를 포함할 수 있다(여기에서, R은 치환되거나 비치환된 유기 측쇄 그룹을 나타낸다). 측쇄 그룹은 하이드록시 그룹을 포함하거나 포함하지 않을 수 있다. 예시적인 R 그룹은 치환 및 비치환된 알킬, 아릴, 알케닐, 알키닐, 아르알킬, 아크릴레이트 그룹 및 이들의 조합물을 포함한다. 이들중에서, 알킬 및 아릴 그룹이 대표적이다. 알킬 그룹은 예를 들어 탄소원자수 1 내지 20의 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭일 수 있으며, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, t-부틸, t-아밀, t-옥틸, 데실, 도데실, 세틸, 스테아릴, 사이클로헥실, 노보닐, 아다만틸 및 2-에틸헥실이 있다. 예시적인 아릴 그룹은 6 내지 20개, 전형적으로 6 내지 15개의 탄소원자를 가지는 것을 포함하며, 예컨대 페닐, 톨릴, 1-나프틸, 2-나프틸 및 2-페난트릴이 있다.
폴리머는 실세스퀴옥산 호모폴리머일 수 있으며, 이 경우 실세스퀴옥산 폴리머는 식 (RSiO1.5)의 단일 형태의 중합 단위로부터 형성되며, 이론적인 일반식 (RSiO1.5)n(여기에서, R은 상기 정의된 바와 같고, n은 0 보다 큰 정수이다)을 가진다. 예시적인 실세스퀴옥산 호모폴리머는 알킬 실세스퀴옥산, 예를 들어 메틸 실세스퀴옥산, 에틸 실세스퀴옥산, 프로필 실세스퀴옥산, n-부틸 실세스퀴옥산, 이소부틸 실세스퀴옥산, t-부틸 실세스퀴옥산 등, 및 아릴 실세스퀴옥산, 예를 들어 페닐 실세스퀴옥산 및 톨릴 실세스퀴옥산을 포함한다.
또한, 폴리머는 랜덤- 또는 블록-타입의 코폴리머 형태를 취할 수 있다. 코폴리머는 예를 들어 각 단위의 비율이 1 내지 99 몰%인 2 이상의 상이한 형태의 실세스퀴옥산 단위의 조합일 수 있다. 실세스퀴옥산 코폴리머는 식 (R1SiO1.5) 및 (R2SiO1.5)(여기에서, R1 및 R2는 상이하며 상기 R에 정의된 바와 같다)의 중합 단위를 포함할 수 있다. 코폴리머는 예를 들어 메틸, 에틸 또는 프로필 실세스퀴옥산 및 페닐 실세스퀴옥산을 함유하거나, 메틸 실세스퀴옥산, 에틸 실세스퀴옥산 및 페닐 실세스퀴옥산을 함유하는 코폴리머와 같은 알킬/아릴 실세스퀴옥산; 메틸 실세스퀴옥산 및 에틸 실세스퀴옥산을 함유하는 코폴리머와 같은 알킬 실세스퀴옥산 코폴리머; 또는 페닐 실세스퀴옥산 및 톨릴 실세스퀴옥산을 함유하는 코폴리머와 같은 아릴 실세스퀴옥산 코폴리머일 수 있다.
실세스퀴옥산-기초 폴리머는 임의로 실세스퀴옥산 단위 이외에, 하나 이상의 비-실세스퀴옥산 단위를 포함할 수 있다. 이러한 비-실세스퀴옥산 단위는, 예를 들어 식 ((R3)2SiO) 또는 ((R3R4SiO)의 중합 단위(여기에서, R3 및 R4는 동일하거나 상이하며 치환되거나 비치환된 유기 그룹, 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필 등과 같은 알킬 그룹 또는 페닐, 톨릴 등과 같은 아릴 그룹중에서 선택된다)일 수 있다. 코폴리머는 또한, 하나 이상의 상기와 같은 중합 비-실세스퀴옥산 단위와 함께, 상기 정의된 바와 같은 단일 형태의 실세스퀴옥산 단위를 포함한다. 측쇄 그룹상의 하나 이상의 수소 원자는 다른 치환체 그룹, 예를 들어 중수소, 불소, 브롬 및 염소와 같은 할로겐, (C1-C6)알킬, (C1-C6)할로알킬, (C1 -C10)알콕시, (C1-C10)알킬카보닐, (C1-C10)알콕시카보닐, (C1-C10)알킬카보닐옥시 등에 의해 치환될 수 있다. 실세스퀴옥산 폴리머는 광범위한 반복 단위를 함유할 수 있다. 실세스퀴옥산 폴리머는 예를 들어 5 내지 150개, 전형적으로 약 10 내지 35개의 반복 단위를 가질 수 있다.
적합한 하이브리드 유기-무기 실록산 폴리머는 실세스퀴옥산-기초 폴리머에 대해 상술된 바와 같이 식 ((R3)2SiO)의 중합 단위를 가지는 것이다(여기에서, R3 그룹은 동일하거나 상이하고 치환되거나 비치환된 유기 그룹이다). 폴리머는 실록산 호모폴리머일 수 있으며, 이 경우 실세스퀴옥산 폴리머는 주로 식 ((R3)2SiO)의 단일 형태의 중합 단위로부터 형성되며, 이론적인 일반식 ((R3)2SiO)n(여기에서, R3은 상기 정의된 바와 같고, n은 0 보다 큰 정수이다)을 갖는다. 예시적인 실록산 호모폴리머는 알킬 실록산, 예를 들어 메틸 실록산, 에틸 실록산, 프로필 실록산, n-부틸 실록산, 이소부틸 실록산, t-부틸 실록산 등, 및 아릴 실록산, 예를 들어 페닐 실록산 및 톨릴 실록산을 포함한다.
또한, 폴리머는 랜덤- 또는 블록-타입의 실록산-기초 코폴리머 형태를 취할 수 있다. 코폴리머는 예를 들어 각 단위의 비율이 1 내지 99 몰%인 2 이상의 상이한 형태의 실록산 단위의 조합일 수 있다. 실록산 코폴리머는, 예를 들어 식 ((R4)2SiO) 및 ((R5)2SiO)(여기에서, R4 및 R5 는 상이하며 상기 R3에 정의된 바와 같다)의 중합 단위를 포함할 수 있다. 실록산-기초 코폴리머는 예를 들어 메틸 실록산 및 페닐 실록산을 함유하거나, 메틸 실록산, 에틸 실록산 및 페닐 실록산을 함유하는 코폴리머와 같은 알킬/아릴 실록산; 메틸 실록산 및 에틸 실록산을 함유하는 코폴리머와 같은 알킬 실록산 코폴리머; 또는 페닐 실록산 및 톨릴 실록산을 함유하는 코폴리머와 같은 아릴 실록산 코폴리머일 수 있다.
전형적으로, 폴리머는 500 이상, 예를 들어 약 500 내지 25,000, 약 1,000 내지 10,000 및 약 1,000 내지 5,000의 중량 평균 분자량(Mw)을 가진다. 폴리머는 추가로 축합 중합이 일어나도록 하는 2 이상의 말단 작용 그룹을 포함할 수 있다. 이러한 말단 그룹은 예를 들어 하이드록시, 알콕시, 예컨대 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 카복시에스테르, 아미노, 아미도, 에폭시, 이미노, 카복시산, 무수물, 올레핀, 아크릴, 아세탈, 오르토에스테르, 비닐 에테르 및 이들의 조합일 수 있다.
다광자 노광시에 상술된 폴리머 구성 화합물들의 굴절율을 변경시키기 위하여 광활성 성분이 또한 광이미지성 조성물에 존재한다. 광활성 성분은 구성 화합물의 노광 부분의 커플링을 촉매화하여 폴리머 물질의 굴절율을 변화시킨다. 포토애시드(photoacid) 발생제, 포토베이스(photobase) 발생제 및 광개시제를 포함하나, 이들로만 한정되지 않는 각종 광활성 성분이 본 발명에 사용될 수 있다.
본 발명에 유용한 포토애시드 발생제는 광에 노광시 산을 유리하는 임의의 화합물(들)일 수 있다. 적합한 포토애시드 발생제는 공지되었으며, 할로겐화 트리아진, 할로겐화 옥사디아졸, 오늄 염, 설폰화 에스테르, 치환된 하이드록시이미드, 치환된 하이드록실이민, 아지드, 나프토퀴논, 예를 들어 디아조나프토퀴논, 디아조 화합물 및 이들의 배합물을 포함하나 이들에만 한정되지 않는다.
특히 유용한 할로겐화 트리아진에는 예를 들어 할로메틸-s-트리아진과 같은 할로겐화 알킬 트리아진이 포함된다. s-트리아진 화합물은 특정의 메틸-할로메틸-s-트리아진과 특정의 알데하이드 또는 알데하이드 유도체의 축합 반응 생성물이다. 이러한 s-트리아진 화합물은 미국 특허 제 3,954,475호 및 Wakabayashi 등에 의한 Bulletin of the Chemical Society of Japan, 42, 2924-30(1969)에 개시된 방법에 따라 제조될 수 있다. 본 발명에 유용한 다른 트리아진 타입의 포토애시드 발생제가 그의 전체내용이 본 원에 참고로 인용되는 미국 특허 제 5,366,846호에 기술되어 있다.
약한 친핵성 음이온과의 오늄 염이 본 발명에서 포토애시드 발생제로서 사용하기에 특히 적합하다. 이러한 음이온의 예에는 2 내지 7 가 금속 또는 비-금속(예를 들어 안티몬, 주석, 철, 비스무스, 알루미늄, 갈륨, 인듐, 티탄, 지르콘, 스칸듐, 크롬, 하프늄, 구리, 붕소, 인 및 비소)의 할로겐 착 음이온이다. 적합한 오늄 염의 예로는 주기율표 VA 및 B 족, IIA 및 B 족 및 I 족의 디아릴-디아조늄 염 및 오늄 염, 예를 들어, 요오도늄 염과 같은 할로늄 염, 4급 암모늄, 포스포늄 및 아르소늄 염, 방향족 설포늄 염과 같은 설포늄 염, 이를테면 나프탈렌 및 안트라센, 및 설폭소늄 염 또는 셀레늄 염이 포함되나 이들에만 한정되지 않는다. 적합한 오늄의 예가 예를 들어 모두가 본 원에 참고로 포함되는 미국 특허 제 4,442,197호; 4,603,101호 및 4,624,912호에 개시되어 있다. 트리페닐설포늄 헥사플루오로포스페이트와 같은 설포늄 염 및 이들의 혼합물이 바람직하다.
본 발명에서 포토애시드 발생제로서 유용한 설폰화 에스테르에는, 예를 들어 설포닐옥시 케톤이 포함된다. 적합한 설폰화 에스테르에는 벤조인 토실레이트, t-부틸페닐 알파-(p-톨루엔설포닐옥시)-아세테이트, 2,6-디니트로벤질 토실레이트 및 t-부틸 알파-(p-톨루엔설포닐옥시)-아세테이트가 포함되나 이들에만 한정되지 않는다. 이러한 설폰화 에스테르가 예를 들어 본 원에 참고로 포함되는 문헌 [Journal of Photopolymer Science and Technology, vol. 4, No. 3,337-340 (1991)]에 개시되어 있다.
사용될 수 있는 치환된 하이드록시이미드에는 예를 들어 n-트리플루오로메틸설포닐옥시-2,3-디페닐말레이미드 및 2-트리플루오로메틸벤젠설포닐옥시-2,3-디페닐말레이미드가 포함된다. 적합한 치환된 하이드록시이민에는 예를 들어 2-(니트릴로-2-메틸벤질리덴)-(5-하이드록시이미노부틸설포닐)-티오펜이 포함된다. 본 발명에 유용한 아지드는 예를 들어 2,6-(4-아미도벤질리덴)사이클로헥사논을 포함한다. 나프토퀴논은 예를 들어 2,3,4-트리하이드록시벤조페논의 2,1-디아조나프토퀴논-4-설포네이트 에스테르를 포함할 수 있다. 디아조 화합물중에서 1,7-비스(4-클로로설포닐 페닐)-4-디아조-3,5-헵탄디온이 사용될 수 있다.
본 발명에 유용한 포토베이스 발생제는 광에 노광시 염기를 유리하는 임의의 화합물(들)일 수 있다. 적합한 포토베이스 발생제로는 벤질 카바메이트, 벤조인 카바메이트, O-카바모일하이드록시아민, O-카바모일옥심, 방향족 설폰아미드, 알파-락탐, N-(2-알릴에테닐)아미드, 아릴아지드 화합물, N-아릴포름아미드, 4-(오르토-니트로페닐)디하이드로피리딘 및 이들의 배합물이 포함되나 이들에만 한정되지 않는다.
예를 들어 아크릴 그룹 등의 불포화 측쇄 그룹이 존재하는 광개시제가 사용될 수 있다. 자유 래디칼을 발생하는 적합한 광개시제 화합물에는 예를 들어 아조 화합물, 황 함유 화합물, 금속 염 및 착물, 옥심, 아민, 다핵 화합물, 유기 카보날 화합물 및 이들의 혼합물(이들은 그의 개시 내용이 본 원에 참고로 인용되는 미국 특허 제 4,343,885호의 칼럼 13, 라인 26 에서 칼럼 17, 라인 18에 기술되어 있다); 9,10-안트라퀴논; 1-클로로안트라퀴논; 2-클로로안트라퀴논; 2-메틸안트라퀴논; 2-에틸안트라퀴논; 2-t-부틸안트라퀴논; 옥타메틸안트라퀴논; 1,4-나프토퀴논; 9,10-펜안트렌퀴논; 1,2-벤즈안트라퀴논; 2,3-벤즈안트라퀴논; 2-메틸-1,4-나프토퀴논; 2,3-디클로로나프토퀴논; 1,4-디메틸안트라퀴논; 2,3-디메틸안트라퀴논; 2-페닐안트라퀴논; 2,3-디페닐안트라퀴논; 3-클로로-2-메틸안트라퀴논; 레텐퀴논; 7,8,9,10-테트라하이드로나프탈렌 및 1,2,3,4-테트라하이드로벤즈(a)안트라센-7,12-디온이 포함된다. 유용한 그밖의 다른 광활성 성분이 또한 미국 특허 제 2,760,863호에 게재되었으며, 비시널(vicinal) 케트알도닐 알콜, 예컨대 벤조인, 피발로인, 아크릴로인 에테르, 예를 들면 벤조인 메틸 및 에틸 에테르; 알파-메틸벤조인, 알파-알릴벤조인 및 알파-페닐벤조인을 포함한 알파-탄화수소-치환된 방향족 아크릴로인을 포함한다. 미국 특허 제 2,850,445호; 2,875,047호; 3,097,096호; 3,074,974호; 3,097,097호 및 3,145,104호에 개시된 광환원성 염료 및 환원제 뿐 아니라 펜아진, 옥사진 및 퀴논계 염료; 미국 특허 제 3,427,161호; 3,479,185호 및 3,549,367호에 개시된 바와 같은 벤조페논, 수소 공여체와의 2,4,5-트리페닐이미다졸릴 다이머 및 이들의 혼합물이 또한 광개시제로 사용될 수 있다. 미국 특허 제 4,162,162호에 게재된 감광제가 또한 광개시제 및 광억제제로 유용하다. 자유-래디칼 발생제가 아니지만 트리페닐포스핀이 촉매로 광활성 화학 시스템내에 포함될 수 있다.
본 발명에 유용한 광활성 성분의 양은 성분들이 그의 의도하는 목적에 맞게 작용하도록 하기에 충분한 다광자 조사선에 노광시에 하이브리드 유기-무기 폴리머의 굴절율(Δn)을 변화시키기에 충분한 양이다. 노광은 굴절율을 증가 또는 감소시킬 수 있다. 노광후 굴절율이 증가되었다면 +Δn으로 되고, 감소되었다면 -Δn으로 된다. 광활성 성분의 양은 특정 광활성 성분 및 폴리머에 좌우될 것이지만, 광활성 성분은 전형적으로 조성물중에 0.1 내지 25 중량%, 보다 전형적으로 0.1 내지 12 중량%의 양으로 존재한다.
형성된 성분에 목적하는 양의 유연성을 부여하기 위하여 하나 이상의 유연제(flexibilizer)가 조성물에 임의로 포함될 수 있다. 예를 들어, 3 미크론 이상의 것과 같이, 크랙(crack)의 형성가능성이 증가된 비교적 두꺼운 코팅을 형성하는데 사용되는 조성물에 유연제를 첨가하는 것이 유리할 수 있다. 선택된 특정 유연제는 조성물의 다른 성분에 좌우될 것이나, 전형적인 유연제 물질은 예를 들어 폴리실록산 및 장쇄 알키드와 같은 가소제를 포함한다. 전형적으로, 유연제는 그의 쇄에 구성 화합물과 커플링을 이룰 수 있는 2 이상의 그룹을 가진다. 바람직한 그룹은 하이드록시, 알콕시, 카복시에스테르, 아미노, 아미도, 에폭시, 이미노, 카복시산, 무수물, 올레핀, 아크릴, 아세탈, 오르토에스테르, 비닐 에테르 및 이들의 조합을 포함할 수 있다. 이들 그룹중에서, 하이드록시가 특히 바람직하다. 예시적인 폴리실록산 유연제 물질은 작용기로 종결된 폴리실록산, 예를 들어 실라놀-종결된 폴리디페닐실록산 및 실라놀-종결된 폴리디메틸실록산을 포함한다(전형적으로, 말단 그룹은 예를 들어 33 중량% 메틸-트리에톡시-실란, 33 중량% 페닐-트리에톡시-실란 및 33 중량% 디메틸(디알킬)-디에톡시-실란의 반응으로부터 형성된 것과 같이, 작용기 또는 유연성 실레스퀴옥산 폴리머로만 구성된다). 유연제는 전형적으로 조성물중에 30 중량% 미만, 보다 특히 20 중량% 미만의 양으로 존재한다.
표면 평탄화제(leveling agent), 예를 들어 GE Silicones로부터 시판되는 SILWET L-7604 실리콘-기제 오일과 같은 실리콘-기제 오일, 습윤제, 소포제, 접착 촉진제, 틱소트로프제(thixotropic agent) 등을 포함하나 이들로만 한정되지 않는 다른 첨가제가 본 발명의 조성물에 임의로 존재할 수 있다. 이러한 첨가제들은 코팅 조성물용으로 당업계에 널리 알려져 있다. 복수개의 첨가제가 광이미지성 조성물에 배합될 수 있음이 이해될 것이다. 예를 들어, 습윤제가 틱소트로프제와 배합될 수 있다. 이러한 임의적인 첨가제는 다양한 공급자들로부터 상업적으로 입수가능하다. 이러한 임의적인 첨가제의 사용량은 특정 첨가제 및 목적하는 효과에 따라 달라질 것이며, 당업자의 능력에 의한다. 이와 같은 다른 첨가제는 전형적으로 광이미지성 조성물중에 5 중량% 미만, 보다 특히 2.5 중량% 미만의 양으로 존재한다.
광이미지성 조성물은 임의로 하나 이상의 유기 가교결합제를 함유할 수 있다. 가교결합제는 예를 들어 조성물의 성분들을 삼차원적으로 연결하는 물질을 포함한다. 구성 성분과 반응하는 임의의 방향족 또는 지방족 가교결합제가 본 발명에 사용하기에 적합하다. 이러한 유기 가교결합제는 경화하여 구성 성분과 함께 중합망을 형성함으로써 현상액에서의 용해도를 감소시키고(용해 속도 증가), 조성물의 굴절율을 변화시킬 것이다. 이와 같은 유기 가교결합제는 모노머 또는 폴리머일 수 있다. 당업자들은 가교결합제의 배합물이 본 발명에서 성공적으로 사용될 수 있음을 이해할 것이다.
본 발명에 유용한 적합한 유기 가교결합제로는 아민 함유 화합물, 에폭시 함유 물질, 적어도 두 개의 비닐 에테르 그룹을 함유하는 화합물, 알릴 치환된 방향족 화합물, 및 이들의 배합물이 포함되나 이들에만 한정되지 않는다. 바람직한 가교결합제에는 아민 함유 화합물 및 에폭시 함유 물질이 포함된다.
본 발명에서 가교결합제로서 유용한 아민 함유 화합물에는 멜라민 모노머, 멜라민 폴리머, 알킬올메틸 멜라민, 벤조구아나민 수지, 벤조구아나민-포름알데하이드 수지, 우레아-포름알데하이드 수지, 글리코우릴-포름알데하이드 수지 및 이들의 배합물이 포함되나 이들에만 한정되지 않는다.
본 발명에서 가교결합제로서 유용한 에폭시 함유 물질은 개환에 의해 중합될 수 있는 하나 이상의 옥시란 환을 갖는 유기 화합물이다.
광이미지성 조성물은 적합하게는 단일 형태의 유기 가교제, 예를 들어 아민 함유 가교제만을 함유할 수 있거나, 2 이상의 상이한 가교제를 함유할 수 있다. 적합한 유기 가교제 농도가 가교제의 반응성 및 조성물의 특정 응용예와 같은 요인에 따라 달라질 것임을 당업자들은 인지할 것이다. 사용시, 가교결합제(들)는 전형적으로 조성물중에 0.1 내지 50 중량%, 보다 특히 0.5 내지 25 중량% 및 보다 더 특히 1 내지 20 중량%의 양으로 존재한다.
광이미지성 조성물은 임의로 하나 이상의 용매를 함유할 수 있다. 이러한 용매는 조성물의 제제화 및 기판상에서 본 발명의 조성물의 코팅을 돕는다. 각종 용매가 사용될 수 있다. 적합한 용매로는 글리콜 에테르, 예를 들어 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에스테르, 예를 들어 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 이염기성 에스테르, 카보네이트, 예를 들어 프로필렌 카보네이트, γ-부티로락톤, 에스테르, 예를 들어 에틸 락테이트, n-아밀 아세테이트 및 n-부틸 아세테이트, 알콜, 예를 들어 n-프로판올, 이소프로판올, 케톤, 예를 들어 사이클로헥사논, 메틸 이소부틸 케톤, 디이소부틸 케톤 및 2-헵타논, 락톤, 예를 들어 γ-부티로락톤 및 ε-카프로락톤, 에테르, 예를 들어 디페닐 에테르 및 아니솔, 탄화수소, 예를 들어 메시틸렌, 톨루엔 및 크실렌, 및 헤테로사이클릭 화합물, 예를 들어 N-메틸-2-피롤리돈, N,N'-디메틸프로필렌우레아, 또는 이들의 혼합물이 포함되나 이들에만 한정되지 않는다.
광이미지성 조성물은 임의의 기술, 예를 들어 스크린 프린팅, 커튼 코팅(curtain coating), 롤러(roller) 코팅, 슬롯(slot) 코팅, 스핀(spin) 코팅, 플러드(flood) 코팅, 정전 스프레이(electrostatic spray), 스프레이 코팅 또는 딥(dip) 코팅에 의해 침착될 수 있다. 조성물이 스프레이 코팅될 경우, 가열 스프레이 건(heated spray gun)이 임의로 사용될 수 있다. 조성물의 점도는 점도 조절제, 틱소트로프제, 충전제 등에 의해 각 적용 방법의 요건을 만족시키도록 조정될 수 있다. 전형적으로, 층은 약 1 내지 200 ㎛, 보다 전형적으로 약 1 내지 100 ㎛, 보다 더 전형적으로 2 내지 80 ㎛ 및 보다 더욱 더 전형적으로 약 5 내지 64 ㎛의 두께로 코팅된다.
이어, 코팅 기판을 전형적으로 건조시켜 코팅내에 있는 용매를 제거한다. 건조는 예를 들어 적외선 오븐, 대류식 오븐, 대류/전도식 오븐, 진공 오븐과 같은 오븐이나, 또는 열판상에서 수행될 수 있다. 이러한 건조는 선택된 특정 용매 및 건조 기법에 따라 다양한 온도 및 시간으로 수행될 수 있다. 적합한 온도는 존재하는 용매를 실질적으로 제거하기에 충분한 온도이다. 전형적으로, 실온(25 ℃) 내지 170 ℃의 온도에서 5 초 내지 120 분 동안 건조시킬 수 있다. 오븐 사용시, 전형적인 시간은 10 내지 120 분이고 열판의 경우에는 10 초 내지 10 분이다.
건조후, 예정된 부분의 광이미지층(104)을 다광자 흡수 시스템(100)을 사용하여 조사선에 노광시켜 이미지화한다. 다광자 흡수 이미지화 시스템 및 기술은 당업자들에게 알려져 있으며, 예를 들어 전체 내용이 본 원에 참고로 인용되는 국제 공개 번호 제 WO 01/96917 A2 및 WO 02/16070 A2 및 미국 특허 제 6,081,632호에 기재되어 있다.
시스템(100)은 광원(106), 초점 렌즈(110) 및 임의로 다른 광 요소, 예를 들어 미러 및 추가의 렌즈를 포함하는 하나 이상의 노광 시스템(105)을 가진다. 광원(106), 전형적으로 하나 이상의 레이저 광원은 초점 렌즈(110)를 통해 층내 목적하는 위치에 초점(112)을 가지는 광이미지층(104)에 도달하는 화학 조사선(108)을 발생한다. 다수의 광원이(106)이 사용되는 경우(도 2 참조), 광이미지층에서 조사선의 공간 및 일시적 오버랩으로 노광 용적이 확정된다. 다수의 광원으로 얻은 동일한 효과를 단일 광원으로부터 조사선을 스플릿하여 달성할 수 있다. 이러한 방식에 의해, 스플릿 조사선의 적절한 조작으로 출력 밀도, 편광, 주파수 및 펄스의 일시적 축소 등의 동일하거나 상이한 특성을 갖는 광을 얻을 수 있다.
조사선의 특성으로 다광자 흡수가 초점 부근에서 일어나고 일반적으로 이 영역 밖에서는 일어나지 않는다. 이에 의해, 초점 영역내 층의 굴절율은 비노광 물질에 비해 변하기 시작한다. 상술된 바와 같이, 광이미층의 특정 조성에 따라, 노광층 영역의 굴절율 변화는 원래 물질에 대해 포지티브(+Δn) 또는 네거티브(-Δn)일 수 있다. 이러한 특성은 어느 광이미지층 부분이 노광될지를 결정할 것이다.
적합한 광원은 당업계에 공지되었으며, 예를 들어 펨토초 티탄 사파이어 레이저, 아르곤 이온-펌프 레이저, 충돌-펄스 모드-로크 레이저(colliding-pulse mode-locked laser) 및 예컨대 1 내지 10 kHz의 주파수에서 작동하는 이들의 증폭 버전이 포함된다. 이러한 레이저는 예를 들어 Spectra-Physics로부터 상업적으로 입수가능하다.
광이미지층(104)내 초점(112)의 상대적 위치는 노광 단계시에 하나 이상의 광 소자들을 디파인할 예정된 용적의 광이미지성 물질이 노광되도록 모든 방향으로 변할 수 있다. 이는 예를 들어 기판을, 도시된 바와 같이 고정 위치로 유지하면서(화살표 참조) 광이미지층내 초점(112)을 이동시키거나, 초점을 고정 위치로 유지하면서 기판을 이동시키거나, 이들을 조합하여 달성할 수 있다. 이러한 효과를 이루기 위하여 다수의 노광 시스템(105)이 사용될 수 있다. 예시적인 구체예에 설명된 바와 같이, 초점(112)은 광이미지층(104)을 통해 좌에서 우로 스케닝된다. 이는 영역(116)과 상이한 굴절율을 가지는 영역(114)을 형성한다. 광도파로의 경우, 예를 들어 영역(114)는 도파로 코어에 상응하는 반면, 영역(116)은 클래드를 디파인하고, 이때 코어 영역(114)의 굴절율은 클래드 영역(116)의 것보다 크다.
당업자들은 본 발명에 따라 다광자 중합을 수행하는데 적합한 조건, 예를 들어 영역 제곱 단위당 펄스 에너지(Ep), 펄스 기간, 강도, 노광 시간, 스캔 속도를 용이하게 선택하여 사용할 수 있다. 이러한 변수의 세팅은 예를 들어 광이미지층(104)의 특정 조성 및 특히 광활성 성분의 타입 및 농도에 따라 달라질 것이다.
노광후, 이미지화 층(104)을 전형적으로 40 내지 300 ℃의 온도에서 부분적으로 경화시킬 수 있다. 경화 시간은 달라질 수 있으나, 일반적으로 약 30 초 내지 약 1 시간이다. 이 단계에 의해 비노광 층 영역에 비해 이미지화된 용적의 굴절율을 추가로 변경시킬 수 있다. 광 소자는 이 단계에서 최종 형태일 수 있다. 임의로, 광이미지층상에 하나 이상의 추가의 층을 형성하는 등의 추가 공정이 수행될 수 있다. 본 발명에 따른 방법에 의해 이미지화 층을 현상하고 광 소자로부터 굴절율이 상이한 추가 층을 형성하는 추가의 단계없이 광 소자를 형성할 수 있다.
도 3은 광소자를 형성하는데 광이미지층(104)의 현상을 포함하는 본 발명의 또 다른 측면을 도시한다. 이러한 예시적인 구체예에서, 형성되는 광소자는 광 도파로이다. 도 3은 본 발명에 따른 방법을 실행하기 위해 사용될 수 있는 추가의 예시적인 시스템을 도시한다. 도 4(a) 내지 (c)는 여러 형성 단계에서의 광 도파로에 대한 도 3의 A-A 면에 따른 횡단면을 나타낸다.
제 1 클래딩 층(116)이 기판(102) 상에 형성된다. 클래딩에 적합한 물질은 예를 들어 광이미지성 성분을 함유하거나 함유하지 않는 광이미지층에 대해 상술된 임의의 물질, 및 당업자들에게 공지된 다른 물질을 포함한다. 제 1 클래딩 층(116)은 광이미지층과 관련하여 상술된 임의의 기술을 이용하여 코팅될 수 있다. 전형적으로, 제 1 클래딩 층(116)은 약 1 내지 200 ㎛, 예를 들어 약 1 내지 100 ㎛, 예를 들어 약 10 내지 50 ㎛의 두께로 코팅된다.
제 1 클래딩 층은 예를 들어 열적으로 및/또는 광분해적으로 경화될 수 있다. 전형적으로, 열 경화 온도는 130 내지 300 ℃이고, 예를 들어 오븐 또는 열판상에서 5 초 내지 1 시간에 이르는 시간에 걸쳐 일어난다. 열처리에 추가하여 또는 별도로, 도파로는 예를 들어 1 내지 2 줄(Joule)/㎠의 화학 조사선으로 플러드(flood) 노광될 수 있다.
상술된 광이미지성 조성물 층(104)이 제 1 클래딩 층(116) 상에 침착된다. 도파로 코어를 형성하는 조성물은 클래딩 물질 보다 큰 굴절율을 가지는 코어 물질을 초래하여야 한다. 광활성 성분은 화학 조사선에 노광시에 현상액에서 상술된 구성 화합물들의 용해 속도를 변경시키는데 효과적이다. 각종 현상액이 사용될 수 있으나, 용해 속도 변화는 0.7N NaOH 현상액에 대해 측정된다. 비노광 영역에 대비된 노광 영역의 용해 속도값은, 예를 들어 2의 비율(factor), 50의 비율, 100의 비율, 200의 비율, 500의 비율, 1,000의 비율, 5,000의 비율 또는 10,000의 비율을 초과하는 정도로 달라질 수 있다. 전형적으로, 광이미지층(104)은 약 1 내지 100 ㎛, 예를 들어 약 5 내지 50 ㎛의 두께로 침착된다.
광이미지층(104)은 전형적으로 건조된 후, 도 3 및 4a에 도시된 바와 같이 상술한 바대로 다광자 흡수에 의해 이미지화된다. 초점 영역내 층(104)의 용해 속도는 비노광 층 물질에 대비해 달라지기 시작한다. 네거티브-작용성 물질의 경우, 코어 패턴은 비노광 영역보다 현상액에 덜 용해되는 노광 영역인 반면, 포지티브-작용성 물질의 경우, 코어 패턴은 비노광 영역이고, 노광 영역이 현상액에 용해된다. 노광후, 조성물을 상술한 바와 같이 부분적으로 경화시킬 수 있다. 경화는 코어 패턴의 제거없이 다른 영역이 현상액에서 제거될 수 있도록, 코어층의 다른 영역에 대비 도파로 코어 패턴의 용해 속도를 추가로 변경시킬 수 있다.
네거티브-작용성 물질의 경우 비노광 영역 또는 포지티브-작용성 물질의 경우 노광 영역을, 예를 들어 적합한 현상액과 접촉시켜 제거하여 도 4b에 도시된 바와 같이 하나 이상의 도파로 코어 구조(114)를 남길 수 있다. 현상액의 특정 타입은 광이미지층의 물질에 따라 달라지나, 수성-기제 또는 용매-기제 현상액의 사용이 기대된다. 적합한 수성-기제 현상액에는, 예를 들어 수산화나트륨 및 수산화칼륨 수용액 등의 알칼리 금속 하이드록사이드 뿐 아니라 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 수용액 등의 테트라알킬암모늄 하이드록사이드가 포함된다. 이러한 현상액은 전형적으로 0.1 내지 2N, 보다 전형적으로 0.15 내지 1N, 보다 더 특히 0.26 내지 0.7N의 농도로 사용된다. 현상액은 임의로 하나 이상의 공지된 계면활성제, 예를 들어 폴리에틸렌 글리콜, 알킬 설포네이트, 및 당업계에 공지된 다른 계면활성제를 포함할 수 있다. 계면활성제는 전형적으로 현상액중에 0.5 내지 3 중량%의 양으로 존재한다. 적합한 용매-기제 현상액에는 예를 들어 에탄올, 이소프로필 알콜과 같은 알콜, 아세톤, 메틸 이소부틸 케톤과 같은 케톤, 에틸 아세테이트 및 프로필렌 글리콜 모노메틸 에티르 아세테이트와 같은 에스테르가 포함된다. 다른 적합한 용매가 당업자들에게 공지되었다. 다양한 온도, 예를 들어 실온 내지 약 50 ℃에서 현상이 수행될 수 있다.
도 4(c)에 도시된 바와 같이, 제 2 클래딩 층(118)이 제 1 클래딩 층(116) 및 코어 구조(124) 위에 형성될 수 있다. 제 2 클래딩 층(118)에 적합한 물질은, 예를 들어 제 1 클래딩 층과 관련하여 상기 언급된 물질을 포함한다. 제 2 클래딩 층(118)은 제 1 클래딩 층(116)과 동일하거나 상이한 물질일 수 있다. 그러나, 제 1 및 제 2 클래딩 층의 굴절율은 거의 같아야 한다. 그후, 제 2 클래딩 층을 열적으로 경화시키고/시키거나 광-노광하여 도파로 구조를 제공한다. 제 1 클래딩 층의 경화와 관련하여 상기 언급된 설명이 마찬가지로 제 2 클래딩 층에도 적용된다. 제 2 클래딩 층은 도파로 코어 구조를 커버하기에 충분한 두께로 침착된다. 이 두께는 전형적으로 약 2 내지 150 ㎛이다. 이에 따라, 본 발명에 따른 광 도파로가 형성된다.
본 발명이 그의 특정 구체예를 참조로 하여 상세히 설명되었으나, 청구범위의 영역을 벗어나지 않는 한, 다양하게 변화 및 변경될 수 있고 등가물이 사용될 수 있음이 당업자들에게는 자명할 것이다.
본 발명에 따른 방법은 광 도파로 및 다른 광 소자를 형성하는데 특히 적합하다.
도 1은 본 발명에 따른 방법을 수행하는데 사용될 수 있는 예시적인 시스템을 나타낸다.
도 2는 본 발명에 따른 방법을 수행하는데 사용될 수 있는 다른 예시적인 시스템을 나타낸다.
도 3은 본 발명에 따른 방법을 수행하는데 사용될 수 있는 또 다른 예시적인 시스템을 나타낸다.
도 4(a) 내지 (c)는 본 발명에 따른 광 도파로의 여러 형성 단계에서의 횡단면을 나타낸다.

Claims (10)

  1. (a) 기판상에 하이브리드 유기-무기 폴리머 및 광활성 성분을 포함하며 제 1 굴절율 및 제 1 용해 속도를 가지는 광이미지성 조성물 층을 형성하고;
    (b) 화학 조사선을 사용하여 다광자 흡수에 의해 예정된 용적의 층을 노광하여, 이 용적에 (i) 제 1 굴절율과 상이한 제 2 굴절율 및/또는 (ii) 제 1 용해 속도와 상이한 제 2 용해 속도를 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하여, 광 소자(optical component)를 형성하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 하이브리드 유기-무기 폴리머가 실리콘-함유 폴리머인 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 하이브리드 유기-무기 폴리머가 식 (RSiO1.5)(여기에서, R은 치환되거나 비치환된 유기 측쇄 그룹이다)의 중합 단위를 포함하는 방법.
  4. 제 2 항에 있어서, 하이브리드 유기-무기 폴리머가 식 (R1SiO1.5) 및 (R2SiO1.5)(여기에서, R1 및 R2는 상이하며 치환되거나 비치환된 유기 측쇄 그룹이다)의 중합 단위를 포함하는 방법.
  5. 제 1 항 내지 4 항중의 어느 한 항에 있어서, 화학 조사선이 레이저에 의해 발생되는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 화학 조사선이 다수의 레이저 빔에 의해 발생되는 방법.
  7. 제 1 항 내지 6 항중의 어느 한 항에 있어서, 현상 단계가 없는 과정인 방법.
  8. 제 1 항 내지 6 항중의 어느 한 항에 있어서, 노광 기판을 수성 기제 현상액으로 현상하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  9. (a) 기판상에 식 (RSiO1.5)(여기에서, R은 치환되거나 비치환된 유기 측쇄 그룹이다)의 중합 단위를 가지는 하이브리드 유기-무기 폴리머 및 광활성 성분을 포함하며 제 1 굴절율 및 제 1 용해 속도를 가지는 광이미지성 조성물 층을 형성하고;
    (b) 화학 조사선을 사용하여 다광자 흡수에 의해 예정된 용적의 층을 노광하여, 이 용적에 (i) 제 1 굴절율과 상이한 제 2 굴절율 및/또는 (ii) 제 1 용해 속도와 상이한 제 2 용해 속도를 제공하는데, 이때 노광된 층 용적이 도파로 코어를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하여, 광 도파로를 형성하는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 현상 단계가 없는 과정인 방법.
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