KR20050020636A - Grinding material for use in forming partition walls of plasma display panel and method of manufacturing plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 형성하기 위한 연마재 및 이 연마재를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an abrasive for forming partition walls of a plasma display panel and a method of manufacturing a plasma display panel using the abrasive.
최근, 대형이면서 박형인 컬러 화면 표시 장치로서 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라 함)이 주목을 받고 있고, 가정 등으로도 급속히 보급되고 있다.In recent years, plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs) have attracted attention as large sized and thin color screen displays, and are rapidly spreading into homes and the like.
도 1 및 도 2는 이 PDP의 구성을 모식적으로 도시한 도면으로서, 도 1은 이 PDP의 정면도, 도 2는 도 1의 V-V선을 따라 취한 단면도이다.1 and 2 are diagrams schematically showing the structure of this PDP. FIG. 1 is a front view of the PDP, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line V-V in FIG.
도 1 및 도 2에 있어서, PDP는 패널의 표시면이 되는 전면 유리 기판(1)의 배면에, 복수의 행전극쌍(X, Y)과, 이 행전극쌍(X, Y)을 피복하는 유전체층(2)과, 이 유전체층(2)의 이면을 피복하는 MgO로 이루어진 보호층(3)이 차례로 형성되어 있다.1 and 2, the PDP covers a plurality of row electrode pairs (X, Y) and the row electrode pairs (X, Y) on the back surface of the front glass substrate 1 serving as the display surface of the panel. A dielectric layer 2 and a protective layer 3 made of MgO covering the back surface of the dielectric layer 2 are formed in this order.
각 행전극(X, Y)은 각각 T자형의 투명 전극(Xa, Ya)과 띠형의 금속막으로 이루어진 버스 전극(Xb, Yb)으로 구성되어 있다.Each row electrode X, Y is composed of T-shaped transparent electrodes Xa, Ya and bus electrodes Xb, Yb each formed of a band-shaped metal film.
그리고, 행전극(X, Y)은 각각의 투명 전극(Xa, Ya)이 서로 방전 갭(g)을 사이에 두고 대향하도록 열 방향으로 교대로 배치되어 있고, 각 행전극쌍(X, Y)에 의해 매트릭스 표시의 1 표시 라인 L이 구성된다.The row electrodes X and Y are alternately arranged in the column direction so that the respective transparent electrodes Xa and Ya face each other with the discharge gap g interposed therebetween, and the row electrode pairs X and Y respectively. This constitutes one display line L of the matrix display.
한편, 방전 가스가 봉입된 방전 공간을 통해 전면 유리 기판(1)에 대향하도록 배치된 배면 유리 기판(4)에는 행전극쌍(X, Y)과 직교하는 방향으로 연장되도록 배열된 복수의 열전극(D)과, 이 열전극(D)을 피복하는 열전극 보호층(5)과, 방전 공간을 구획하는 후술하는 형상의 격벽(6)과, 이 격벽(6)의 측면과 열전극 보호층(5) 상에 각각 적, 녹, 청으로 색이 나뉘어 형성된 형광체층(7)이 형성되어 있다.Meanwhile, a plurality of column electrodes arranged on the rear glass substrate 4 disposed to face the front glass substrate 1 through the discharge space in which the discharge gas is enclosed so as to extend in a direction orthogonal to the row electrode pairs X and Y. (D), a column electrode protective layer 5 covering the column electrode D, partition walls 6 to be described later that partition discharge spaces, side surfaces of the partition walls 6, and a column electrode protective layer. On (5), phosphor layers 7 formed by dividing colors into red, green, and blue, respectively, are formed.
격벽(6)은, 서로 인접하는 행전극쌍(X, Y) 사이에서 표리 관계로 위치하는 버스 전극(Xb, Yb)에 대향하는 위치에 있어서 행 방향으로 연장되는 가로벽(6A)과, 각 행전극(X, Y)의 각각 버스 전극(Xb, Yb)을 따라 등간격으로 배열된 각 투명 전극(Xa, Ya)의 중간 위치에 대향하는 위치에 있어서 열 방향으로 연장되는 세로벽(6B)을 따라 거의 격자 형상으로 형성되어 있다.The partition wall 6 includes horizontal walls 6A extending in the row direction at positions facing the bus electrodes Xb and Yb positioned in the front and back relationship between the row electrode pairs X and Y adjacent to each other, and Vertical walls 6B extending in the column direction at positions opposite to the intermediate positions of the respective transparent electrodes Xa and Ya arranged at equal intervals along the bus electrodes Xb and Yb of the row electrodes X and Y, respectively. It is formed almost in a lattice shape.
그리고, 방전 공간의 행전극쌍(X, Y)의 각 방전 갭(g)을 통해 서로 대향되어 있는 투명 전극(Xa, Ya)에 대향하는 부분마다 형성되는 방전 셀(C)이 각각 격벽(6)에 의해 구획되어 있다.In addition, the discharge cells C formed in the portions facing the transparent electrodes Xa and Ya facing each other through the discharge gaps g of the row electrode pairs X and Y in the discharge space are partition walls 6, respectively. It is partitioned by).
이와 같이 방전 공간을 방전 셀(C)마다 구획하는 격벽(6)은, 열전극 보호층(5)이 형성된 배면 유리 기판(4) 상에, 예컨대 유리 페이스트 등의 절연성 격벽 재료를 후막(厚膜) 도포하여 건조시킴으로써 격벽 형성용 재료층을 형성하고, 그 위에 샌드 블라스트 저항성의 감광성 레지스트 필름을 적층하며, 이 감광성 레지스트 필름을 통해 격벽 형성용 재료층을 노광시키고, 그 후 현상을 행하여 샌드 블라스트 저항성 레지스트 마스크를 형성하고, 추가로 연마재(블라스트재)에 의해 샌드 블라스트 저항성 레지스트 마스크를 매개로 하여 격벽 형성용 재료층을 연마하는 샌드 블라스트 가공을 행하여, 레지스트 마스크를 제거한 후, 마지막으로 소성을 행함으로써 형성된다.Thus, the partition wall 6 which partitions a discharge space for every discharge cell C is formed into a thick film on the back glass substrate 4 in which the column electrode protective layer 5 was formed, for example, insulating partition material, such as glass paste. ) By coating and drying to form a barrier rib material layer, laminating a sand blast resistant photosensitive resist film thereon, exposing the barrier rib material layer through the photosensitive resist film, and then developing to perform sand blast resistance. By forming a resist mask, sandblasting is carried out by polishing the layer forming material layer with a sandblast resistant resist mask by means of an abrasive (blast material), removing the resist mask, and finally firing Is formed.
종래, 상기와 같은 PDP의 격벽을 형성할 때의 샌드 블라스트 가공에 있어서는, 연마재(블라스트재)로서 유리 비드나 스테인레스 비드(SUS 비드), SiC, SiO2, Al2O3, ZrO2 등이 이용되고 있다.Conventionally, in the sand blasting process when forming the above-mentioned PDP partition wall, glass beads, stainless beads (SUS beads), SiC, SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2, etc. are used as the abrasive (blast material). It is becoming.
또한, 연마재(블라스트재)로서, 입자 지름이 10∼15 ㎛인 지르코니아 또는 지르코니아 화합물을 이용하는 것이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조).Moreover, it is proposed to use a zirconia or a zirconia compound whose particle diameter is 10-15 micrometers as an abrasive (blast material) (for example, refer patent document 1).
[특허문헌 1][Patent Document 1]
일본 특허 공개 제2001-113465호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2001-113465
그러나, 연마재(블라스트재)로서 유리 비드가 이용되는 경우에는, 이 유리 비드가 구형 입자이기 때문에 충분한 가공율을 얻을 수 없다고 하는 문제가 발생하고 있다.However, when glass beads are used as an abrasive (blast material), there arises a problem that a sufficient processing rate cannot be obtained because these glass beads are spherical particles.
또한, SUS 비드 등의 금속계 연마재가 이용되는 경우에는, 이 SUS 비드 등은 고경도이면서 비중이 크기 때문에, 가공율이 높은 반면, 패널의 가공면에 금속 불순물이 잔류해 버린다고 하는 문제가 발생하고 있다.In addition, when a metallic abrasive such as SUS beads is used, the SUS beads have a high hardness and a high specific gravity, so that the processing rate is high, but there is a problem that metal impurities remain on the processing surface of the panel. .
전술한 세라믹계인 입자 지름 10∼15 ㎛의 지르코니아 또는 지르코니아 화합물을 연마재(블라스트재)로서 이용하는 제안은 이러한 문제를 해결하기 위해서 행해지고 있는 것이지만, 지르코니아는 경도와 비중이 높기 때문에, 샌드 블라스트 가공에 이용한 경우에 유리 기판의 표면이 거칠어진다고 하는 문제가 야기된다.The above-mentioned proposal to use zirconia or zirconia compounds having a ceramic particle diameter of 10 to 15 µm as an abrasive (blast material) has been made to solve such a problem, but since zirconia has high hardness and specific gravity, it is used for sand blasting. This causes a problem that the surface of the glass substrate is rough.
본 발명은 상기와 같은 PDP의 격벽 형성용 연마재에 있어서의 문제점을 해결하는 것을 과제의 하나로 하고 있는 것이다.This invention makes it one of a subjects to solve the problem in the above-mentioned PDP partition formation abrasives.
상기 목적을 달성하기 위해서, 제1 발명(청구항 1에 기재한 발명)에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 연마재는, 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 공간을 구획하는 격벽을 형성하는 제조 공정에 있어서의 샌드 블라스트 가공에 사용되는 연마재로서, 평균 입자 지름이 16∼25 ㎛이고 평균 비커스 경도가 700∼900 Kgf/㎟인 지르콘 비드로 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the abrasive for forming partition walls of the plasma display panel according to the first invention (invention described in claim 1) is a sand blast in a manufacturing step of forming a partition wall that partitions the discharge space of the plasma display panel. The abrasive used for processing is characterized by consisting of zircon beads having an average particle diameter of 16 to 25 µm and an average Vickers hardness of 700 to 900 Kgf / mm 2.
또한, 상기 목적을 달성하기 위해서, 제2 발명(청구항 2에 기재한 발명)에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 기판 상에 형성된 격벽 형성용 재료층을 그 위에 적층된 샌드 블라스트 저항성 마스크를 통해 노광시킨 후, 이 격벽 형성용 재료층을 샌드 블라스트 가공함으로써 격벽을 형성하는 공정을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 상기 샌드 블라스트 가공을 평균 입자 지름이 16∼25 ㎛이고 평균 비커스 경도가 700∼900 Kgf/㎟인 지르콘 비드로 이루어진 연마재를 이용하여 행하는 것을 특징으로 한다.Moreover, in order to achieve the said objective, the manufacturing method of the plasma display panel by 2nd invention (invention of Claim 2) is carried out through the sand blast resistive mask which laminated | stacked the layer formation material layer formed on the board | substrate on it. A method of manufacturing a plasma display panel comprising a step of forming a partition by sand blasting the material layer for forming a partition after exposure, wherein the sand blasting is performed with an average particle diameter of 16 to 25 µm and an average Vickers hardness. It is characterized by using an abrasive composed of zircon beads of 700 to 900 Kgf / mm 2.
이하, 본 발명에 의한 PDP의 격벽 형성용 연마재의 실시 형태에 대해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the abrasive for formation of the partition of PDP by this invention is described.
상기 실시 형태에 있어서의 연마재(블라스트재)는 비중 약 4.0, 경도 HV700∼900, 평균 입자 지름 D50=16∼25 ㎛인 지르콘 비드(Zr+ SiO4)이다.The abrasive (blast material) in the above embodiment is zircon beads (Zr + SiO 4 ) having a specific gravity of about 4.0, a hardness of HV700 to 900, and an average particle diameter D 50 = 16 to 25 µm.
그리고, 이 지르콘 비드는 폭 50 ㎛, 높이 100∼150 ㎛, 간격 100∼300 ㎛인 PDP의 격벽의 형성시 샌드 블라스트 가공에 이용된다.And this zircon bead is used for sand blasting at the time of formation of the partition wall of PDP of 50 micrometers in width, 100-150 micrometers in height, and 100-300 micrometers in spacing.
상기 연마재(블라스트재)로서 지르콘 비드의 입자 지름의 상한은 격벽의 가공 정밀도를 확보하기 위해서, 또한 입자 지름의 하한은 가공 능력을 확보하기 위해서 각각 설정되어 있다.As the abrasive (blast material), the upper limit of the particle diameter of the zircon beads is set in order to ensure the processing accuracy of the partition wall, and the lower limit of the particle diameter is set in order to ensure the processing capability.
연마재(블라스트재)로서 지르콘 비드의 입자 지름이 너무 큰 경우에는, 필요한 가공 정밀도를 얻을 수 없고, 또한 입자 지름이 너무 작으면 충분한 가공율을 얻을 수 없기 때문이다.This is because when the particle diameter of the zircon beads is too large as the abrasive (blast material), the required processing accuracy cannot be obtained, and when the particle diameter is too small, sufficient processing rate cannot be obtained.
후술하는 바와 같이, 상기 지르콘 비드는 PDP의 격벽 형성 공정에 있어서 샌드 블라스트 가공을 행할 때 연마재(블라스트재)로서 사용된다.As will be described later, the zircon beads are used as an abrasive (blast material) when sandblasting is performed in the partition formation process of the PDP.
즉, 열전극 및 열전극 보호층(5)이 형성된 배면 유리 기판(4) 상에, 예컨대 유리 페이스트 등의 절연성 격벽 재료를 후막 도포하여 건조시킴으로써 격벽 형성용 재료층을 형성한다.That is, on the back glass substrate 4 in which the column electrode and the column electrode protective layer 5 were formed, an insulating partition material, such as glass paste, was thick-film-coated and dried, and a partition layer formation material layer is formed.
이 격벽 형성용 재료층 위에 샌드 블라스트 저항성의 감광성 레지스트 필름을 적층하고, 이 감광성 레지스트 필름을 통해 격벽 형성용 재료층을 노광시키며, 이 후에 현상을 행함으로써 샌드 블라스트 저항성 레지스트 마스크를 형성한다.A sand blast resistant photosensitive resist film is laminated on the barrier rib material layer, the barrier layer material layer is exposed through the photosensitive resist film, and then developed to form a sand blast resistant resist mask.
그리고, 비중 약 4.0, 경도 HV700∼900, 평균 입자 지름 D50=16∼25 ㎛인 전술한 지르콘 비드(Zr+SiO4)에 의해 샌드 블라스트 저항성 레지스트 마스크를 매개로 하여 격벽 형성용 재료층을 연마함으로써, 샌드 블라스트 가공을 행한다.Then, the above-mentioned zircon beads (Zr + SiO 4 ) having a specific gravity of about 4.0, a hardness of HV700 to 900, and an average particle diameter D 50 = 16 to 25 µm are used to grind the layer forming material layer through the sandblast resistant resist mask. Thereby, sand blasting is performed.
이 후, 레지스트 마스크를 제거하고 소성을 행함으로써, 원하는 치수를 갖는 거의 격자 형상의 격벽이 형성된다.Thereafter, by removing the resist mask and firing, an almost lattice-shaped partition wall having a desired dimension is formed.
여기서, 지르코니아계에는 ZrY(지르코니아+이트륨)의 지르코니아 비드와 ZrSiO4(지르코니아+실리카)의 지르콘 비드가 있다.Here, zirconia-based zirconia beads of ZrY (zirconia + yttrium) and zircon beads of ZrSiO 4 (zirconia + silica) are included.
2종류의 연마재, 즉 구형의 지르코니아 연마재와 지르콘 연마재에 의해 각각 유리 기판을 가공했을 때의 결과를 비교하면, 지르코니아 비드(ZrY)에 의해 가공한 기판은 그 유리면이 간유리형으로 되어, PDP로서의 내구성 또는 중첩시 프릿(frit)의 밀착성 등에 문제가 남게 된다.Comparing the results of processing a glass substrate with two types of abrasives, namely, spherical zirconia abrasives and zircon abrasives, the substrates processed by zirconia beads (ZrY) have a glass surface in which the glass surface is formed as a PDP. Problems remain such as durability or adhesion of the frit when overlapping.
이에 비하여, 지르콘 비드(ZrSiO4)는 지르코니아 비드(ZrY)의 경도가 1000 kgf/㎟인 것에 비해 그 경도가 700∼900 kgf/㎟밖에 안되기 때문에, 가공율은 떨어지지만, 유리 기판에 대한 데미지는 지르코니아 비드(ZrY)에 비하여 절반 이하가 된다.On the other hand, since the hardness of zircon beads (ZrSiO 4 ) is only 700 to 900 kgf / mm 2 compared to the hardness of the zirconia bead (ZrY) of 1000 kgf / mm 2, the damage to the glass substrate is inferior. It is less than half as compared to zirconia beads (ZrY).
그래서, 전술한 실시 형태의 연마재(블라스트재)는, 가공율을 높이기 위해 종래에 10∼15 ㎛이던 평균 입자 지름을 16∼25 ㎛로 설정하고, 경도 대신에 1 입자당 무게를 증가시킴으로써, 가공율의 증가를 도모하고 있다.Therefore, the abrasive (blast material) of the above-described embodiment is processed by setting the average particle diameter from 10 to 15 µm to 16 to 25 µm and increasing the weight per particle instead of hardness in order to increase the processing rate. We plan to increase rate.
그 결과, 지르콘 비드(ZrSiO4)에 의해 지르코니아 비드(ZrY)의 88% 정도의 가공율을 달성할 수 있었다.As a result, the processing rate of about 88% of zirconia beads (ZrY) was achieved by zircon beads (ZrSiO 4 ).
이 지르콘 비드(ZrSiO4)를 연마재(블라스트재)로서 사용함으로써, 비금속계의 연마재에 의해 유리 기판에 대한 데미지를 작게 하면서, 높은 가공율을 달성할 수 있다.By using this zircon bead (ZrSiO4) as an abrasive (blast material), a high processing rate can be achieved while reducing the damage to a glass substrate with a nonmetallic abrasive.
도 3의 (a), 도 3의 (b)는 지르콘 비드(ZrSiO4)와 지르코니아 비드(ZrY)를 각각 연마재(블라스트재)로서 이용하여 유리판에 대한 데미지 비교 실험을 행했을 때의 결과를 나타내고 있다.3 (a) and 3 (b) show the results when a damage comparison experiment was performed on a glass plate using zircon beads (ZrSiO 4 ) and zirconia beads (ZrY) as abrasives (blast materials), respectively. have.
또한, 이 실험은 다음과 같은 형태의 지르콘 비드(ZrSiO4)와 지르코니아 비드(ZrY)를 이용하여 행하였다.In addition, this experiment was carried out using zircon beads (ZrSiO 4 ) and zirconia beads (ZrY) in the following forms.
지르콘 비드:Zircon Beads:
비중 4.0, 경도 HV700∼900, 평균 입자 지름 20 ㎛Specific gravity 4.0, hardness HV700-900, average particle diameter 20 ㎛
지르코니아 비드:Zirconia Beads:
비중 6.0, 경도 HV1300, 평균 입자 지름 15 ㎛Specific gravity 6.0, hardness HV1300, average particle diameter 15 ㎛
도 4의 (a), 도 4의 (b)는 유리판에 대한 실험에 사용한 것과 동일한 지르콘 비드(ZrSiO4)와 지르코니아 비드(ZrY)를 각각 연마재(블라스트재)로서 이용하여 SUS 판에 대한 데미지의 비교 실험을 행했을 때의 결과를 나타내고 있다.4 (a) and 4 (b) show damage of SUS plates using the same zircon beads (ZrSiO 4 ) and zirconia beads (ZrY) as abrasives (blast materials), respectively, as used for the experiments on the glass plates. The result at the time of performing a comparative experiment is shown.
이상의 실험 결과로부터, 경도 HV700∼900, 평균 입자 지름 D50=16∼25 ㎛인 지르콘 비드(ZrSiO4)를 PDP의 격벽의 형성 공정에 있어서 샌드 블라스트 가공을 행할 때 연마재(블라스트재)로서 사용했을 경우, 지르코니아 비드(ZrY)와 거의 동등한 가공율을 확보하면서, 유리판에 대한 데미지를 지르코니아 비드(ZrY)에 비하여 거의 23분의 1 내지 50분의 1로 억제할 수 있는 것을 알 수 있었다.From the above experimental results, zircon beads (ZrSiO 4 ) having a hardness of HV700 to 900 and an average particle diameter D 50 = 16 to 25 µm were used as an abrasive (blast material) when sandblasting was performed in the formation process of the partition wall of the PDP. In this case, it was found that the damage to the glass plate can be suppressed to almost 1/23 to 1/50 as compared with the zirconia beads (ZrY) while securing a processing rate almost equivalent to that of the zirconia beads (ZrY).
또한, 이 지르콘 비드(ZrSiO4)는 SUS판에 대한 데미지도 지르코니아 비드(ZrY)에 비하여 거의 0.87배로 억제할 수 있기 때문에, 지르코니아 비드(ZrY)의 사용을 전제로 한 종래의 PDP의 제조 장치에 있어서도, 장치에 대한 데미지가 저감되고, 이에 의해 PDP 제조 장치의 고장 빈도를 감소시킬 수 있다.In addition, since the zircon beads (ZrSiO 4 ) can suppress the damage to the SUS plate by almost 0.87 times as compared to the zirconia beads (ZrY), in the conventional PDP manufacturing apparatus on the premise of using zirconia beads (ZrY). Even in this case, damage to the device can be reduced, whereby the failure frequency of the PDP manufacturing device can be reduced.
또한, 연마재(블라스트재)로서 지르콘 비드(ZrSiO4)가 사용될 때 그 입자 지름은, 격벽의 개구부의 치수에 맞추어 상한계치 25 ㎛의 범위 내에서 최대의 가공율이 달성되도록 설정된다.In addition, when zircon beads (ZrSiO 4 ) are used as the abrasive (blast material), the particle diameter thereof is set such that the maximum work rate is achieved within the upper limit of 25 μm in accordance with the dimension of the opening of the partition wall.
상기 실시 형태에 있어서의 연마재(블라스트재)는, 평균 입자 지름이 16∼25 ㎛이고 평균 비커스 경도가 700∼900 Kgf/㎟인 지르콘 비드로 이루어진 PDP의 격벽 형성용 연마재를 그 상위 개념의 실시 형태로 하고 있는 것이다.The abrasive material (blast material) in the above embodiment is an abrasive material for forming partition walls of PDP composed of zircon beads having an average particle diameter of 16 to 25 µm and an average Vickers hardness of 700 to 900 Kgf / mm 2. I'm doing it.
이 상위 개념의 실시 형태를 구성하는 PDP의 격벽 형성용 연마재는, 종래의 지르코니아 비드의 입자 지름이 10∼15 ㎛이던 것에 비해 지르콘 비드의 평균 입자 지름이 16∼25 ㎛로 설정되고, 1 입자당 무게가 증가되어 있어, PDP의 제조 공정에 있어서의 샌드 블라스트 가공을 행하기 위한 연마재로서 사용되는 경우, 지르코니아 비드에 비하여 경도가 작은 것에 따른 가공율의 저하가 억제되는 동시에, 지르코니아 비드보다도 유리 기판에 대한 데미지가 작기 때문에, 고품질의 PDP를 제조할 수 있게 된다.In the PDP partition wall forming abrasive constituting the above-described embodiment, the average particle diameter of the zircon beads is set to 16 to 25 µm, compared to the conventional particle size of the zirconia beads of 10 to 15 µm, and per particle. When the weight is increased and used as an abrasive for sand blasting in the manufacturing process of the PDP, the decrease in the processing rate due to the smaller hardness as compared with the zirconia beads is suppressed, and the glass substrate is more than the zirconia beads. Since the damage is small, it is possible to manufacture high quality PDP.
또한, 상기 실시 형태에 있어서의 PDP의 제조 방법은, 기판 상에 형성된 격벽 형성용 재료층을 그 위에 적층된 샌드 블라스트 저항성 마스크를 통해 노광시킨 후, 이 격벽 형성용 재료층을 샌드 블라스트 가공함으로써 격벽을 형성하는 공정을 포함하는 PDP의 제조 방법에 있어서, 상기 샌드 블라스트 가공을 평균 입자 지름이 16∼25 ㎛이고 평균 비커스 경도가 700∼800 Kgf/㎟인 지르콘 비드로 이루어진 연마재를 이용하여 행하는 실시 형태의 PDP의 제조 방법을, 그 상위 개념의 실시 형태로 하고 있는 것이다.Moreover, in the manufacturing method of the PDP in the said embodiment, after exposing the partition formation material layer formed on the board | substrate through the sandblast resistant mask laminated | stacked on it, a partition wall is formed by sandblasting this partition formation material layer. In the manufacturing method of PDP including the process of forming a WHEREIN, Embodiment which performs the said sandblasting process using the abrasive which consists of zircon beads whose average particle diameter is 16-25 micrometers and average Vickers hardness is 700-800 Kgf / mm <2>. The manufacturing method of PDP of the above is made into embodiment of the higher concept.
이 상위 개념의 실시 형태를 구성하는 PDP의 제조 방법에 따르면, 격벽 형성용 재료층을 샌드 블라스트 가공할 때에, 연마재로서 지르콘 비드가 사용되고, 그 지르콘 비드의 평균 입자 지름은 종래의 지르코니아 비드의 입자 지름이 10∼15 ㎛이던 것에 비해 16∼25 ㎛로 설정되며, 1 입자당 무게가 증가되어 있어, 지르코니아 비드에 비하여 경도가 작은 것에 따른 가공율의 저하가 억제되는 동시에, 지르코니아 비드보다도 유리 기판에 대한 데미지가 작기 때문에, 고품질의 PDP를 제조할 수 있게 된다.According to the manufacturing method of the PDP which comprises this higher concept embodiment, when sandblasting a partition formation material layer, zircon beads are used as an abrasive, and the average particle diameter of the zircon beads is the particle diameter of the conventional zirconia beads. It is set to 16-25 micrometers compared with what was 10-15 micrometers, and the weight per particle increases, and the fall of the processing rate by the hardness which is small compared with zirconia bead is suppressed, Since the damage is small, it is possible to manufacture high quality PDP.
본 발명에 따른 PDP 제조 방법 및 PDP의 격벽 형성용 연마재에 의하면, 종래의 지르코니아 비드에 비하여 경도가 작아서 가공율의 저하가 억제되고, 지르코니아 비드보다도 유리 기판에 대한 데미지가 작기 때문에, 고품질의 PDP를 제조할 수 있다.According to the PDP manufacturing method and the PDP partition forming abrasive according to the present invention, since the hardness is smaller than that of the conventional zirconia beads, the decrease in the processing rate is suppressed, and the damage to the glass substrate is smaller than that of the zirconia beads. It can manufacture.
도 1은 종래의 PDP의 패널 구조를 도시한 정면도.1 is a front view showing a panel structure of a conventional PDP.
도 2는 도 1의 V-V선을 따라 취한 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line V-V of FIG.
도 3은 본 발명에 의한 PDP의 격벽 형성용 연마재에 의한 유리판에 대한 데미지 실험의 결과를 도시한 도면.Figure 3 is a view showing the results of the damage experiment on the glass plate by the abrasive for forming partition walls of the PDP according to the present invention.
도 4는 본 발명에 의한 PDP의 격벽 형성용 연마재에 의한 SUS판에 대한 데미지 실험의 결과를 도시한 도면.4 is a view showing the results of a damage experiment on the SUS plate by the abrasive for forming the partition wall of the PDP according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
1 : 전면 유리 기판1: front glass substrate
2 : 유전체층2: dielectric layer
3 : 보호층3: protective layer
4 : 배면 유리 기판4: back glass substrate
5 : 열전극 보호층5: thermal electrode protective layer
6 : 격벽6: bulkhead
7 : 형광체층7: phosphor layer
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