KR20050011020A - 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2수소-디벤조퓨란-1-온, 및 이를중간체로 하는 1-히드록시디벤조퓨란, 4-히드록시카바졸의제조 방법 - Google Patents

3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2수소-디벤조퓨란-1-온, 및 이를중간체로 하는 1-히드록시디벤조퓨란, 4-히드록시카바졸의제조 방법 Download PDF

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Abstract

3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온, 및 이를 중간체로 하는 1-히드록시디벤조퓨란(1-hydroxy dibenzofuran)과 4-히드록시카바졸(4-Hydroxycarbazole)의 제조 방법이 개시된다. 2-클로로사이클로헥산온과 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성시킨 후, 산 용액의 존재 하에서 상기 반응물을 고리화 반응시켜 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 제조하고, 이를 중간체로 하여 질소치환 반응 및 탈수소화 반응을 거쳐 4-히드록시카바졸을 제조한다. 한편, 1-히드록시디벤조퓨란은 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 탈수소화시킴으로서 얻을 수 있다. 본 발명에 따른 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온, 및 이를 중간체로 하는 1-히드록시디벤조퓨란(1-hydroxy dibenzofuran)과 4-히드록시카바졸의 제조 방법은 저가의 출발 물질을 사용함으로써 경제성을 높이고, 특정 염기 및 유기용매 조건에서 반응이 안정하며, 산 용액의 존재하에 일어나는 고리화 반응으로 인해 고수율의 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온이 생성된다. 또한, 이러한 중간체를 이용하여 보다 안정하고 경제적으로 1-히드록시디벤조퓨란과 4-히드록시카바졸을 제조할 수 있다.

Description

3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2수소-디벤조퓨란-1-온, 및 이를 중간체로 하는 1-히드록시디벤조퓨란, 4-히드록시카바졸의 제조 방법{Process for the preparation of 3,4,5,7,8,9-hexahydro-2H-dibenzofuran-1-on, and 1-hydroxydibenzofuran and 4-hydroxycarbazole with 3,4,5,7,8,9-hexahydro-2H-dibenzofuran-1-on being a intermadiate}
본 발명은 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온, 및 이를 중간체로 하는 1-히드록시디벤조퓨란(1-hydroxydibenzofuran) 과 4-히드록시카바졸(4-Hydroxycarbazole)의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 2-클로로사이클로헥산온과 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 조건 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성하게 한 뒤, 산 조건 하에서 빠른 고리화 반응을 통해 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 생성하고, 생성된 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 산소를 질소로 치환하여 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 얻고, 상기 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온과 상기 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 고비점 용매 및 금속 촉매의 존재 하에서 각각 탈수소화 반응시켜 1-히드록시디벤조퓨란과 4-히드록시카바졸을 제조하는방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 1-히드록시디벤조퓨란(1-hydroxy dibenzofuran)과 4-히드록시카바졸(4-Hydroxycarbazole)의 합성 중간체인 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 방법으로는 1,3-사이클로헥산디온과 사이클로헥산온을 파라톨루엔설포닉산을 사용하여 크실렌 조건 하에서 환류시켜 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 합성하는 방법이 있는 데, 이는 J. Chem. Soc. Perkin trans 1984,6,1213에 기재되어 있다. 그러나, 이 방법은 반응 수율이 14 %수준에 머무는 단점이 있다.
한편, Organic Letter, 2000.2.10., 1387에는 Fetizon’s reagent (Ag2CO3/Celite)를 이용하여 1,3-사이클로헥산디온과 페닐설파닐사이클로헥센을 반응시켜 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 합성하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 여기서 사용한 Ag2CO3는 산업적으로 사용하기엔 비경제적인 문제가 있다.
3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 또 다른 제조 방법으로는 1,3-사이클로헥산디온과 2-클로로사이클로헥산온을 수산화칼륨과 메탄올하에서 반응시켜 합성한 방법이 있고, 이는 J. Indian. Chem. Soc. 1962, 39, 599 에 개시되어 있다. 그러나, 이 방법 역시 그 수율이 53% 로 비교적 낮다. 이에, 본 발명자들은 수산화나트륨, 메탄올 및 물의 최적 비율 조건 하에서 1,3-사이클로헥산디온과 2-클로로사이클로헥산온을 반응시킴으로써 수율이 55 %로 다소 증가된 결과를얻었으나, 2-클로로사이클로헥산온이 염기조건 하에서 불안정하기 때문에 상기 반응 조건 하에서의 수율은 한계가 있음을 확인하였다.
본 발명에 따른 1-히드록시디벤조퓨란과 4-히드록시카바졸은 미국 특허 제3,846,445호에 개시된 바와 같이, 혈청지질농도를 낮추어 주는 항 콜레스테롤 물질로 알려진 디벤조퓨라닐록시알카노익 액시드/에스테르 및 카바조일알카노익 액시드/에스테르의 합성 중간체이다. 또한, 4-히드록시카바졸은 로슈사의 비선택적 베타저해제인 카베디롤의 중간체로 알려진 바 있으며, 이것은 다른 의약품의 중요한 중간체로 사용되고 있다.
이러한 4-히드록시카바졸을 합성하는 방법으로는 Boehringer Mannheim의 독일 특허 제2240599호에 개시된 브로모니트로벤젠과 아이오도아니졸을 이용한 방법과 클로로니트로벤젠과 디니트로바이페닐을 이용한 방법이 있다. 그러나, 상기 특허에서는 매우 비경제적이며 위험한 하이드라조익산(HN3)이 출발 물질로 사용됨으로써 산업적으로 이용하는데 문제가 있다.
한편, 미국 특허 제4,273,711호에서는 사이클로헥산디온과 페닐히드라진을 반응시켜 얻은 사이클로헥산-1,3-아이온-모노페닐 히드라존을 염화아연을 이용하여 피셔(Fischer)재배치반응으로 1,2,3,4,-테트라히드로-4-옥소-카바졸을 만든 후 니켈 촉매 하에서 탈수소화 반응을 통해 4-히드록시카바졸을 만드는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 미국 특허 제4,273,711호의 제조 방법은 생산시 자극적인 냄새를 유발하는 아세트산을 사용하고, 반응 수율이 좋지 않을 뿐만 아니라, 탈수화 반응시 반응시간이 너무 길어져 4-히드록시카바졸을 산업적으로 생산하는데 있어서 비경제적이다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 출발 물질인 2-클로로사이클로헥산온이 안정할 수 있는 특정 염기를 사용하고, 탄소-탄소 결합 단계 후에 산 용액 처리 공정을 수행함으로써 중간체인 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 수율을 높이는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 경제적이며 자극적이거나 위험하지 않은 환경 친화적인 원료를 출발 물질로 사용함으로써 종래 방법에 비해 보다 효율적이고 친환경적인 공정을 통하여 1-히드록시디벤조퓨란(1-hydroxy dibenzofuran)과 4-히드록시카바졸(4-Hydroxycarbazole)을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 하기 구조식 3으로 표시되는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 방법은 (a) 하기 구조식 1로 표시되는 2-클로로사이클로헥산온과 하기 구조식 2로 표시되는 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성시키는 단계와 (b) 산 용액의 존재 하에서 상기 반응물을 고리화 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[구조식 1]
[구조식 2]
[구조식 3]
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 하기 구조식 5로 표시되는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법은 (a) 하기 구조식 1로 표시되는 2-클로로사이클로헥산온과 하기 구조식 2로 표시되는 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성시킨 후, 산 용액으로 산성화시킴으로써 빠른 고리화 반응을 통해 하기 구조식 3으로 표시되는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 생성하는 단계와 (b) 고비점 용매 및 금속촉매의 존재 하에서 상기 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 탈수소화 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[구조식 1]
[구조식 2]
[구조식 3]
[구조식 5]
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 하기 구조식 6으로 표시되는 4-히드록시카바졸의 제조 방법은 (a) 하기 구조식 1로 표시되는 2-클로로사이클로헥산온과 하기 구조식 2로 표시되는 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성시킨 후, 산 용액으로 산성화시킴으로써 빠른 고리화 반응을 통해 하기 구조식 3으로 표시되는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 생성하는 단계, (b) 암모니아 또는 암모니아수를 이용하여 상기3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온내의 산소를 질소로 치환 반응시켜 하기 구조식 4로 표시되는 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 얻는 단계, 그리고 (c) 고비점 용매 및 금속촉매의 존재 하에서 상기 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 탈수소화 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[구조식 1]
[구조식 2]
[구조식 3]
[구조식 4]
[구조식 6]
이하 본 발명을 좀 더 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
본 발명에 따른 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 생성반응에 사용되는 염기는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 수산화칼슘, 수산화 마그네슘, 수산화리튬, 피리딘, 트리메틸아민 등이 있는데, 특히 탄산칼륨을 사용하는 것이 바람직하다. 이는 탄산칼륨을 사용하면 반응의 안정성이 증가되는 효과가 있기 때문이다.
반응 용매로는 아세톤, 메틸에틸키톤, 메틸이소부틸키톤, 노르말헥산, 노르말헵탄, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디에틸에테르, 디노말부틸에테르, 메틸네오부틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 디클로로메탄, 클로로포름, 디클로로에탄, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 이소부틸알코올, 이소프로필알코올, 아세토니트릴, 디메틸포름아미드 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것이 사용될 수 있고, 바람직하게는, 아세톤, 메틸에틸키톤 또는 메틸이소부틸키톤이 사용된다.
한편, 상기 탄소-탄소 결합을 형성시키는 단계의 반응 온도는 0 ℃ 내지 150 ℃, 바람직하게는, 40 ℃ 내지 80 ℃ 이며, 상기 반응 시간은 1 내지 6시간이다. 상기 반응 온도가 상기 범위에서 너무 낮아지면 반응시간이 많이 소요되어서 경제적이지 못하고, 상기 반응 온도가 상기 범위에서 너무 초과하는 경우 부산물이 생성될 수 있다. 상기 반응 시간이 상기 범위로부터 너무 낮아지면 반응이 일어나지 못하는 문제가 생기고, 반응 시간이 너무 길어지면 비경제적이다.
상기 탄소-탄소 결합의 형성 반응이 완료되면, 아세톤을 제거하고 반응물을물에 녹인 뒤 염산, 황산, 인산, 질산 또는 아세트산 등의 산 용액으로 산성화시킨다. 상기 산성화로 인해 빠르게 고리화 반응이 일어나고, 그 결과, 대략 85 %의 수율의 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온이 얻어진다.
상기 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 이용하여 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 생성하고, 다시 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 기초로 4-히드록시카바졸을 제조하는 방법과, 상기 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온로부터 1-히드록시디벤조퓨란을 제조하는 방법을 설명한다. 다만, 4-히드록시카바졸 및 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 공정내의 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 과정은 상기에서 언급된 내용과 동일하므로 생략한다.
먼저, 4-히드록시카바졸의 제조 방법에 관하여 설명한다.
상기 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 당량 이상의 암모니아 또는 암모니아수와 반응시키면 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온내의 산소가 질소로 치환되어서 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온이 생성된다. 이때, 암모니아를 이용하는 경우, 반응물과 생성물을 용해시킬 수 있는 용매를 사용하는 것이 유리하며, 용매는 노르말헥산, 노르말헵탄, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디에틸에테르, 디노말부틸에테르, 메틸네오부틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 1,4-다이옥산, 다이글라임, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 이소부틸알코올, 이소프로필알코올 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된다.
암모니아의 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온에 대한 당량비는 2내지 30 이 바람직하다. 당량비가 상기 범위에서 너무 낮아지면 반응 전환율이 감소하고, 상기 범위를 너무 초과하면 경제적이지 못한 단점이 있다.
한편, 상기 치환 반응은 50 내지 250℃ 에서 2 내지 60 시간 동안 수행되는 것이 바람직한데, 상기 반응 온도 및 반응 시간이 상기 범위에서 벗어나는 경우 비경제적 문제가 야기된다. 상기 반응이 완료된 후에는 반응물의 온도를 25℃ 이하로 낮추어 반응물을 고체상태로 석출시킴으로써 별도의 정제단계를 거치지 않고 상기 구조식 4로 표시되는 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 얻는다.
최종 목적물인 4-히드록시카바졸은 상기 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 고비점 용매 및 금속 촉매의 존재 하에서 탈수소화 반응시킴으로써 생성된다. 상기 탈수소화 반응에 사용되는 용매는 큐멘, 트리메틸벤젠, 트리클로로벤젠, 메틸나프탈렌, 디메틸나프탈렌, 다이글라임, 트리글라임 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것이고, 바람직하게는, 트리클로로벤젠, 메틸나프탈렌, 디메틸나프탈렌 또는 트리글라임 즉, 끓는점이 180℃ 이상인 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 이 반응의 경우, 반응온도가 낮으면 반응 전환율이 낮아져 반응성이 떨어지므로, 끊는점이 높은 용매를 필요로 하는 것이다. 한편, 상기 탈수소화 반응에 사용되는 금속 촉매로는 팔라튬-카본, 팔라듐-알루미나, 팔라듐-실리카 또는 팔라듐-칼슘카보네이트가 바람직하다.
상기 탈수소화 반응은 140 ℃ 내지 350℃의 반응 온도에서 2 내지 60시간 동안 수행되는 것이 바람직한데, 반응 온도가 상기 범위보다 너무 낮아지면 반응성이 떨어지고, 상기 범위를 너무 초과하면 선택도가 떨어진다. 또한, 상기 반응시간이상기 범위를 벗어나는 경우는 선택도가 떨어지고 경제적이지 못하다.
3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온를 중간체로 하는 또 다른 최종 목적물인 1-히드록시디벤조퓨란은 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 고비점 용매 및 금속 촉매의 존재 하에서 탈수소화 반응시킴으로써 생성된다. 상기 탈수소화 반응에 있어서, 고비점 용매, 금속 촉매, 반응 온도 및 반응 시간에 관한 세부 사항은 앞서 언급된 4-히드록시카바졸의 제조 방법에서 설명된 것과 동일하므로 생략한다.
이하, 하기 실시예를 통해 본 발명을 좀더 구체적으로 설명하지만 이에 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다.
실시예 1: 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조
반응용기에 1,3-사이클로헥산디온(100g)과 탄산칼륨(134g)을 넣은 뒤, 50g의 아세톤을 투입하고 교반시킨다. 여기에 2-클로로사이클로헥산온(118g)을 서서히 적가한다. 2-클로로사이클로헥산온의 적가가 끝나면 0 ℃ 내지 150 ℃ 로 가열하여 환류시키면서 5 시간동안 교반한다. 반응이 끝나면 아세톤을 제거하고 물 200g 을 넣고 교반한 뒤, 염산용액(6N)을 천천히 넣어 산성이 되게 한다. 이 때, pH 가 약 2가 되게 한 뒤, 디클로로메탄으로 추출하고 용매를 제거한다. 생성된 고체를 소량의 메탄올에 녹여 물에 떨어뜨림으로써 99% 순도의 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온(145g)을 얻었다.
실시예 2: 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온의 제조
상기 실시예 1에서 제조된3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온(100g)과 암모니아수(600g, Assay 25% as NH3)를 회분식 고압 반응기에 넣고 반응기 내부 공기를 질소로 치환 시킨다. 내부공기가 질소로 완전히 치환되면 반응기를 강 교반시키면서 반응기 온도를 130 ℃까지 올린다. 20 시간 후 반응이 진행됨을 확인한 뒤 반응기 온도를 상온까지 떨어뜨리면 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온이 고체상태로 석출된다. 고체상태로 석출된 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 여과하여 98% 순도의 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온(84.1g)을 얻었다.
실시예 3 : 4-히드록시카바졸의 제조
상기 실시예 2를 통해 얻어진 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온(50g)과 고비점 방향족 용매(b.p.= 230~270 ℃, 300g), 그리고 5%의 팔라듐-카본 촉매(5g)를 회분식 반응기에 투입한다. 반응 중 발생되는 수소를 제거하고 반응기 중 외부공기의 유입을 차단하기 위하여 반응기 내부로 질소를 흘리면서 반응기 내부온도를 230 ℃까지 올린다. 반응이 진행되는 동안 반응기를 계속 교반하고 질소를 흘려주면서, 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온의 전환율이 99% 이상이 되는 시점까지 반응을 지속한다. 반응이 완료되면 고온에서 반응용액을 여과하여 촉매를 제거한다. 수산화나트륨 수용액을 넣어 고비점 방향족 용매를 제거하고, 수용액 층으로 반응물을 추출한 다음, 염산 용액으로 중화하여 고체상태로 석출시킨다. 이를 여과하여 순도 98%인 4-히드록시카바졸(34g)을 얻었다.
실시예 4 : 1-히드록시디벤조퓨란의 제조
상기 실시예 1에서 제조된 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온(5g)과 고비점 방향족 용매(b.p.= 230~270 ℃, 300g) 그리고 5% 팔라듐-카본 촉매(0.5g)를 회분식 반응기에 투입한다. 반응 중 발생되는 수소를 제거하고 반응기 중 외부공기의 유입을 차단하기 위하여 반응기 내부로 질소를 흘리면서 반응기 내부온도를 230 ℃까지 올린다. 반응이 진행되는 동안 반응기를 계속 교반하고 질소를 흘려주면서, 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 전환율이 99% 이상이 되는 시점까지 반응을 지속한다. 반응이 완료되면, 고온에서 반응용액을 여과하여 촉매를 제거한다. 수산화나트륨 수용액을 넣어 고비점 방향족 용매를 제거하고, 수용액 층으로 반응물을 추출한 다음, 염산 용액으로 중화하여 고체상태로 석출시킨다. 이를 여과하여 순도 98%인 1-히드록시디벤조퓨란(3.87g)을 얻었다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 특정 염기 및 산성 조건하의 반응으로 인해 고수율의 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 제조할 수 있는 효과를 도모할 수 있다. 또한, 종래의 방법에 비해 저가이고, 자극적이거나 위험하지 않은 출발 물질을 사용함으로써 경제성 있고 환경친화적인 공정으로 1-히드록시디벤조퓨란 및 4-히드록시카바졸을 제조하는 효과를 도모할 수 있다.

Claims (23)

  1. (a) 하기 구조식 1로 표시되는 2-클로로사이클로헥산온과 하기 구조식 2로 표시되는 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성시키는 단계; 및
    (b) 산 용액의 존재 하에서 상기 반응물을 고리화 반응시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 하기 구조식 3으로 표시되는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 방법.
    [구조식 1]
    [구조식 2]
    [구조식 3]
  2. 제 1항에 있어서, 상기 염기는 탄산칼륨인 것을 특징으로 하는3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 방법.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 유기용매는 아세톤, 메틸에틸키톤, 메틸이소부틸키톤및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 방법.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 (a)단계의 반응 온도는 0 ℃ 내지 150 ℃ 이고, 반응 시간은 1 내지 6 시간인 것을 특징으로 하는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 방법.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 산 용액은 염산, 황산, 인산, 질산 또는 아세트산인 것을 특징으로 하는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온의 제조 방법.
  6. (a) 하기 구조식 1로 표시되는 2-클로로사이클로헥산온과 하기 구조식 2로 표시되는 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성시킨 후 산 용액으로 산성화시킴으로써 빠른 고리화 반응을 통해 하기 구조식 3으로 표시되는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 생성하는 단계; 및
    (b) 고비점 용매 및 금속촉매의 존재 하에서 상기 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 탈수소화 반응시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는하기 구조식 5로 표시되는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
    [구조식 1]
    [구조식 2]
    [구조식 3]
    [구조식 5]
  7. 제 6항에 있어서, 상기 염기는 탄산칼륨인 것을 특징으로 하는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
  8. 제 6항에 있어서, 상기 유기용매는 아세톤, 메틸에틸키톤, 메틸이소부틸키톤 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
  9. 제 6항에 있어서, 상기 탄소-탄소 결합을 위한 반응 온도는 0 ℃ 내지 150 ℃이고, 반응 시간은 1 내지 6 시간인 것을 특징으로 하는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
  10. 제 6항에 있어서, 상기 산 용액은 염산, 황산, 인산, 질산 또는 아세트산인 것을 특징으로 하는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
  11. 제 6항에 있어서, 상기 고비점 용매는 큐멘, 트리메틸벤젠, 트리클로로벤젠, 메틸나프탈렌, 디메틸나프탈렌, 디글라임, 트리글라임 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
  12. 제 6항에 있어서, 상기 금속 촉매는 팔라듐-카본, 팔라듐-알루미나, 팔라듐-실리카 또는 팔라듐-칼슘카보네이트인 것을 특징으로 하는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
  13. 제 6항에 있어서, 상기 b)단계의 탈수소화 반응은 140 ℃ 내지 350℃의 온도에서 2 내지 60 시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는 1-히드록시디벤조퓨란의 제조 방법.
  14. (a) 하기 구조식 1로 표시되는 2-클로로사이클로헥산온과 하기 구조식 2로 표시되는 1,3-사이클로헥산디온을 염기 및 유기용매 하에서 반응시켜 탄소-탄소 결합을 형성시킨 후 산 용액으로 산성화시킴으로써 빠른 고리화 반응을 통해 하기 구조식 3으로 표시되는 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온을 생성하는 단계;
    (b) 암모니아 또는 암모니아수를 이용하여 상기 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온내의 산소를 질소로 치환 반응시켜 하기 구조식 4로 표시되는 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 얻는 단계; 및
    (c) 고비점 용매 및 금속촉매의 존재 하에서 상기 1,2,3,5,6,7,8,9-옥타히드로카바졸-4-온을 탈수소화 반응시키는 단계;를 포함하는 것을 하기 구조식 6으로 표시되는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
    [구조식 1]
    [구조식 2]
    [구조식 3]
    [구조식 4]
    [구조식 6]
  15. 제 14항에 있어서, 상기 염기는 탄산칼륨인 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  16. 제 14항에 있어서, 상기 유기용매는 아세톤, 메틸에틸키톤, 메틸이소부틸키톤 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  17. 제 14항에 있어서, 상기 탄소-탄소 결합을 위한 반응 온도는 0 ℃ 내지 150 ℃이고, 반응 시간은 1 내지 6 시간인 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  18. 제 14항에 있어서, 상기 산 용액은 염산, 황산, 인산, 질산 또는 아세트산인 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  19. 제 14항에 있어서, 상기 b)단계의 3,4,5,7,8,9-헥사히드로-2H-디벤조퓨란-1-온에 대한 암모니아의 당량비는 2 내지 30 인 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  20. 제 14항에 있어서, 상기 b)단계의 반응 온도는 50 ℃ 내지 250 ℃이고, 반응 시간은 2 내지 60 시간인 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  21. 제 14항에 있어서, 상기 고비점 용매는 큐멘, 트리메틸벤젠, 트리클로로벤젠, 메틸나프탈렌, 디메틸나프탈렌, 디글라임, 트리글라임 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  22. 제 14항에 있어서, 상기 금속 촉매는 팔라듐-카본, 팔라듐-알루미나 또는 팔라듐-칼슘카보네이트인 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
  23. 제 14항에 있어서, 상기 c)단계의 탈수소화 반응은 40 ℃ 내지 350℃의 온도에서 2 내지 60 시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는 4-히드록시카바졸의 제조 방법.
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