KR200408900Y1 - The device for treatment to NMP gas - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체나 초박막 액정표시장치(TFT-LCD), 각종 전자제품의 생산공정 등 NMP가스 배출시설을 통해 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 저하시켜 대기에 배출시키는 NMP 가스 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an NMP gas treatment apparatus for reducing the NMP concentration of NMP gas discharged through an NMP gas discharge facility such as a semiconductor, an ultra-thin liquid crystal display (TFT-LCD), and a production process of various electronic products, to be discharged to the atmosphere.
이러한 본 고안의 NMP 가스 처리장치는, 분사노즐에 의해 분사되는 세정수를 통해 NMP가스 배출시설로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시킴과 아울러 이를 대기로 배출시키는 NMP 가스 처리용 흡수탑에 있어서;The NMP gas treatment apparatus of the present invention, in the NMP gas treatment absorption tower for reducing the concentration of NMP gas introduced from the NMP gas discharge facility through the washing water injected by the injection nozzle and discharge it to the atmosphere;
상기 흡수탑을 이용해 NMP 가스의 농도를 저하시키는 공정을 다단계의 형태로 형성할 수 있도록 상단엔 분사노즐을 구비하고 하단엔 세정수 저장조를 구비한 하나 이상의 흡수탑을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 설치하여서 된 것을 특징으로 한다.In order to form the process of reducing the concentration of NMP gas using the absorption tower in the form of a multi-stage, one or more absorption towers having a spray nozzle at the top and a washing water storage tank at the bottom are connected and installed in a series of multi-stage process conditions. It is characterized by that.
또한, 상기 직렬로 연결된 각 흡수탑 중 후(後)공정 흡수탑으로부터 하단의 세정수 저장조로 배출 저장된 세정수를 전(前)공정 흡수탑 상단의 분사노즐 측으로 역(逆) 공급하여 상기 분사노즐에 의해 분사되는 세정수를 통해 각 흡수탑으로 유입되는 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있도록 상기 전(前)공정 흡수탑 상단의 분사노즐과 후(後)공정 흡수탑 하단의 세정수 저장조 사이에 세정수 공급관이 각각 연결 설치되어 있다.In addition, the spray nozzles are supplied by supplying the washing water discharged from the post process absorber to the washing water storage tank at the lower end of each absorber connected in series to the spray nozzle at the upper end of the preprocess absorber. Between the spray nozzle at the upper end of the pre-process absorption tower and the washing water storage tank at the bottom of the post-process absorption tower so as to lower the concentration of NMP gas flowing into each absorption tower through the washing water sprayed by Washing water supply pipes are connected to each other.
따라서 본 고안에 의하면, NMP가스 배출시설로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 흡수탑이 1개의 구조인 단공정으로 이루어진 종래 NMP 가스 처 리장치에 비해 NMP 가스의 NMP 농도를 대기 배출을 위한 최종 배출 농도로 줄이는데 매우 효과적이며, 특히 대기 상에 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 대기 배출에 안전적인 최종 배출 농도로 저하시킴에 따라 이로 인한 대기환경의 오염을 방지함과 아울러 종래 대기 상에 배출된 NMP에 의해 오염된 대기환경으로부터 사람들을 보호할 수 있는 등의 탁월한 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, compared to the conventional NMP gas treatment device having a single step in which the absorption tower for reducing the concentration of the NMP gas introduced from the NMP gas discharge facility has a single structure, It is very effective in reducing the final emission concentration. In particular, by reducing the NMP concentration of NMP gas emitted to the atmosphere to the final emission concentration that is safe for atmospheric emission, it is prevented from contaminating the air environment and discharged to the conventional atmosphere. It can be used to protect people from the atmosphere contaminated by NMP.
NMP 가스 처리장치, NMP 가스, NMP가스 배출시설, NMP 농도, 흡수탑, 세정수 역(逆)공급 Supply NMP gas treatment device, NMP gas, NMP gas discharge facility, NMP concentration, absorption tower, washing water station
Description
도 1은 종래 NMP 가스 처리장치를 개략적으로 나타낸 구성도.1 is a schematic view showing a conventional NMP gas treatment apparatus.
도 2는 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 개략적으로 나타낸 구성도.2 is a schematic view showing an NMP gas treatment apparatus of the present invention.
도 3은 본 고안의 NMP 가스 처리장치의 정면도 및 평면도.3 is a front view and a plan view of the NMP gas treatment apparatus of the present invention.
도 4는 본 고안에 따른 NMP 가스 처리장치의 또 다른 실시예도.Figure 4 is another embodiment of the NMP gas treatment apparatus according to the present invention.
도 5는 본 고안에 따른 NMP 가스 처리장치의 작동과정을 나타낸 상태도.Figure 5 is a state diagram showing the operation of the NMP gas treatment apparatus according to the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1. NMP가스 배출시설 5. 블로워1. NMP
20, 30, 40, 10. 흡수탑 21, 31, 41, 11. 케이싱20, 30, 40, 10.
22, 32, 42, 12. 가스 흡입구 23, 33, 43, 13. 가스 배출구22, 32, 42, 12. Gas inlet 23, 33, 43, 13. Gas outlet
25, 35, 45, 15. 분사노즐 26, 36, 46, 16. 충전재25, 35, 45, 15.
27, 37, 47, 17. 데미스터 28, 38, 48, 18. 세정수 저장조27, 37, 47, 17. Demister 28, 38, 48, 18. Wash water reservoir
29, 29a, 39, 39a, 49, 49a. 세정수 공급관29, 29a, 39, 39a, 49, 49a. Washing water supply pipe
19. 원수 공급관 51a, 51b, 51c. 연결관19. Raw
52a, 52b, 52c. 저장조 연결관 55. 농축 세정수 저장조52a, 52b, 52c.
본 고안은 NMP 가스 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체나 초박막 액정표시장치(TFT-LCD), 각종 전자제품의 생산공정 등 NMP가스 배출시설을 통해 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 저하시키기 위한 NMP 처리공정을 다단계로 이룰 수 있도록 상단엔 분사노즐을 구비하고 하단엔 세정수 저장조를 구비한 하나 이상의 흡수탑을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 설치하여 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 구성함으로써, 상기 NMP가스 배출시설로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 흡수탑이 1개의 구조인 단공정으로 이루어진 종래 NMP 가스 처리장치에 비해 NMP 가스의 NMP 농도를 대기 배출을 위한 최종 배출 농도로 줄이는데 매우 효과적이며, 특히 대기 상에 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 대기 배출에 안전적인 최종 배출 농도로 저하시킴에 따라 이로 인한 대기환경의 오염을 방지함과 아울러 종래 대기 상에 배출된 NMP에 의해 오염된 대기환경으로부터 사람들을 보호할 수 있도록 한 엔엠피(NMP) 가스 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an NMP gas treatment device, and more particularly, to reduce the NMP concentration of NMP gas discharged through an NMP gas discharge facility such as a semiconductor, an ultra-thin liquid crystal display (TFT-LCD), and a production process of various electronic products. The NMP gas treatment apparatus of the present invention is constructed by connecting and installing one or more absorption towers having a spray nozzle at the top and a washing water storage tank at the bottom in a multi-stage process state so that the NMP treatment process can be performed in multiple stages. Compared to the conventional NMP gas treatment device having a single process in which an absorption tower for reducing the concentration of NMP gas introduced from the NMP gas discharge facility is a single step, it is very effective to reduce the NMP concentration of NMP gas to the final discharge concentration for air discharge. Effective, in particular by reducing the NMP concentration of NMP gas emitted to the atmosphere to a final emission concentration that is safe for atmospheric emissions. The present invention relates to an NMP gas treatment apparatus which prevents pollution of the air environment and protects people from the air environment contaminated by NMPs emitted on the conventional air.
일반적으로 NMP 가스 처리장치라 함은, D램 등 반도체나 초박막 액정표시장치(TFT-LCD), 각종 전자제품의 생산공정에서 세정제로 사용되는 NMP 용액을 이용해 세정이 종료된 후 이를 가열함으로써 가스 형태로 상변화된 NMP 가스 즉, NMP가스 배출시설을 통해 배출되는 NMP 가스와 분사노즐로부터 분사되는 세정수의 접촉을 통해 가스에 포함된 NMP가 세정수에 수용 흡수되면서 상기 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 장치이다.In general, NMP gas processing apparatus is a gas form by heating after the cleaning is completed using NMP solution used as a cleaning agent in the production process of semiconductors, ultra-thin liquid crystal display (TFT-LCD) such as DRAM, and various electronic products. A device for reducing the concentration of the NMP gas as the NMP contained in the gas is absorbed into the washing water through contact between the phase-changed NMP gas, that is, the NMP gas discharged through the NMP gas discharge facility and the washing water injected from the injection nozzle. to be.
여기서, NMP는 물질명이 N-메틸피롤리딘온(N-METHYL PYRROLIDINONE)인 액체상태의 용액으로서 상온 상압에서는 반응하지 않는 안정된 상태를 가지며, 특히 비린내의 악취를 유발하는 물질로서 악취방지법에 의해 규제를 받고 있다.Here, NMP is a liquid solution with a substance name of N-methylpyrrolidinone (N-METHYL PYRROLIDINONE), which has a stable state that does not react at normal temperature and normal pressure, and is a substance causing odor in fishy fish. I am getting it.
이와 같은 종래 NMP 가스 처리장치는 도 1에 도시한 바와 같이, 분사노즐(15)에 의해 분사되는 세정수를 통해 NMP가스 배출시설(1)로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시킴과 아울러 이를 대기로 배출시킬 수 있도록 1개의 흡수탑(10) 구조로 이루어져 있는데, 이에 대한 종래 흡수탑(10)의 구조는 다음과 같다.As shown in FIG. 1, the conventional NMP gas treatment apparatus reduces the concentration of NMP gas introduced from the NMP
이러한 종래 흡수탑(10)의 경우 도 1에 도시한 바와 같이, 가스 흡입구(12)와 가스 배출구(13)가 각각 형성된 중공 원통의 케이싱(11)과; 상기 케이싱(11) 상단에 설치되어 원수 공급관(19)으로부터 공급된 원수(세정수)를 분사하여 케이싱(11) 내부로 유입된 NMP 가스와의 접촉을 통해 상기 가스에 포함된 NMP가 분사되는 원수(세정수)에 수용 흡수되도록 하는 분사노즐(15)과; 상기 케이싱(11) 하단에 연통되게 형성되어 NMP가 수용 흡수된 세정수를 저장하는 세정수 저장조(18)로 구성되어 있다. 미 설명 부호 14는 배출관(14)을 나타낸 것이다.In the case of the
또한, 상기 분사노즐(15)의 상하단에는 가스 흡입구(12)를 통해 케이싱(11) 내부 즉, 흡수탑(10) 내부로 유입된 NMP 가스가 분사노즐(15)로부터 분사되는 원수(세정수)와 접촉을 이루면서 기포로 변함과 아울러 여기에 미립자 등 불순물이 수반된 상태로 상승하여 망패드 표면과의 관성충돌원리에 의해 기포의 체적이 커지면서 자중에 의거 불순물이 포함된 입자는 자연낙하하고 기체는 불순물이 제거된 순수상태로 배출되도록 필터링 역할을 하는 데미스터(17)와, 상기 분사노즐(15)을 통 해 분사되는 세정수와 상기 가스 흡입구(12)를 통해 케이싱(11) 내부 즉, 흡수탑(10) 내부로 유입된 NMP 가스 간의 접촉면적을 높이기 위한 충전재(16)가 각각 설치되어 있는데, 이 중 상기 데미스터(17)의 경우 PE, PP, 유리섬유, SUS 304, 316, 316L 등의 재질로 형성되되, 보다 바람직하게는 PE, PP가 가장 많이 사용되는 망체 구조로 이루어짐과 아울러, 상하단에 관통홀이 형성된 중공 원통체의 하우징(미도시)에 내장되어 상기 분사노즐(15)과 가스 배출구(13) 사이에 설치 고정된다.In addition, raw water (clean water) injected from the
그리고, 상기 충전재(16)의 경우 역시 PE, PP, 유리섬유, SUS 등의 재질로 형성되되, 보다 바람직하게는 PE, PP가 가장 많이 사용되는 망체 구조로 이루어짐과 아울러, 상하단에 관통홀이 형성된 중공 원통체의 하우징(미도시)에 내장되어 각 분사노즐(15)의 하단에 위치되도록 설치 고정된다.In addition, the
이와 같이 구성된 종래 NMP 가스 처리장치의 경우 NMP가스 배출시설(1)로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 흡수탑(10)이 1개의 구조인 단공정으로 이루어져 있기 때문에 여러 NMP 가스 배출시설로부터 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 보다 효과적으로 줄일 수 없게 되는 문제점과 아울러, 하나의 NMP 가스 처리공정만으로는 상기한 NMP 가스를 대기로 배출시키기 위한 NMP 가스의 최종 배출 농도로 줄이는데 한계가 있는 등의 커다란 문제점이 있었다.In the case of the conventional NMP gas treatment device configured as described above, since the
또한, 상기와 같이 종래의 NMP 가스 처리장치를 통해 대기 배출을 위한 최종 배출 농도로 저하시키기 않은 상태에서 대기 상에 배출시킬 경우 상기 가스에 포함된 NMP에 의해 악취가 나는 등 대기환경이 크게 오염되게 되는 등의 문제점 역시 있었다.In addition, when discharged to the atmosphere without lowering to the final discharge concentration for air discharge through the conventional NMP gas treatment device as described above, such that the air environment is greatly polluted such as odor generated by the NMP contained in the gas. There was also a problem.
그리고, 상기와 같이 대기에 배출된 NMP 가스에 의해 대기환경이 오염될 경우 대기 상에 배출된 NMP가 사람들에게까지 악영향을 미치게 되는 등의 문제점도 있었다.In addition, when the air environment is contaminated by the NMP gas discharged to the air as described above, there was also a problem that NMP discharged on the air adversely affects people.
상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 본 고안은, 반도체나 초박막 액정표시장치(TFT-LCD), 각종 전자제품의 생산공정 등 NMP가스 배출시설을 통해 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 저하시키기 위한 NMP 처리공정을 다단계로 이룰 수 있도록 상단엔 분사노즐을 구비하고 하단엔 세정수 저장조를 구비한 하나 이상의 흡수탑을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 설치하여 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 구성함으로써, 상기 NMP가스 배출시설로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 흡수탑이 1개의 구조인 단공정으로 이루어진 종래 NMP 가스 처리장치에 비해 NMP 가스의 NMP 농도를 효과적으로 줄일 수 있는 등 대기 상에 배출되기 위한 안정적 최종 배출 농도로 NMP 가스의 NMP 농도를 줄일 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.The present invention devised to solve the above-mentioned problems, the NMP concentration of the NMP gas discharged through the NMP gas discharge facility, such as semiconductor, ultra-thin liquid crystal display (TFT-LCD), the production process of various electronic products, such as The NMP gas treatment device of the present invention is constructed by connecting and installing one or more absorption towers having a spray nozzle at the top and a washing water storage tank at the bottom in a multistage process state so that the NMP treatment process can be achieved in multiple stages. In addition, the absorption tower for reducing the concentration of NMP gas introduced from the NMP gas discharge facility is discharged to the atmosphere such that the NMP concentration of the NMP gas can be effectively reduced as compared to the conventional NMP gas processing apparatus having a single process having a single structure. The aim is to reduce the NMP concentration of NMP gas to a stable final emission concentration.
또한, 상기와 같이 하나 이상의 흡수탑을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 구성한 본 고안의 NMP 가스 처리장치에 의해 대기 상에 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 대기 배출에 안전적인 최종 배출 농도로 저하시킴에 따라 이로 인한 대기환경의 오염을 방지함과 아울러 종래 대기 상에 배출된 NMP에 의해 오염된 대기환경으로부터 사람들을 보호할 수 있도록 하는데 또 다른 목적이 있다.In addition, by reducing the NMP concentration of the NMP gas discharged to the atmosphere by the NMP gas treatment device of the present invention configured to connect one or more absorption towers in a series of multi-stage process state as described above to the final discharge concentration safe for air discharge. Therefore, there is another purpose to prevent the pollution of the air environment due to this and to protect people from the air environment polluted by the NMP discharged on the conventional atmosphere.
본 고안의 NMP 가스 처리장치는, 분사노즐에 의해 분사되는 세정수를 통해 NMP가스 배출시설로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시킴과 아울러 이를 대기로 배출시키는 NMP 가스 처리용 흡수탑에 있어서;The NMP gas treatment device of the present invention, in the NMP gas treatment absorption tower for reducing the concentration of the NMP gas introduced from the NMP gas discharge facility through the washing water injected by the injection nozzle and discharges it to the atmosphere;
상기 흡수탑을 이용해 NMP 가스의 농도를 저하시키는 공정을 다단계의 형태로 형성할 수 있도록 상단엔 분사노즐을 구비하고 하단엔 세정수 저장조를 구비한 하나 이상의 흡수탑을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 설치하여서 된 것을 특징으로 한다.In order to form the process of reducing the concentration of NMP gas using the absorption tower in the form of a multi-stage, one or more absorption towers having a spray nozzle at the top and a washing water storage tank at the bottom are connected and installed in a series of multi-stage process conditions. It is characterized by that.
이 때, 상기 직렬로 연결된 각 흡수탑 중 후(後)공정 흡수탑으로부터 하단의 세정수 저장조로 배출 저장된 세정수를 전(前)공정 흡수탑 상단의 분사노즐 측으로 역(逆) 공급하여 상기 분사노즐에 의해 분사되는 세정수를 통해 각 흡수탑으로 유입되는 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있도록 상기 전(前)공정 흡수탑 상단의 분사노즐과 후(後)공정 흡수탑 하단의 세정수 저장조 사이에 세정수 공급관이 각각 연결 설치된 것을 특징으로 한다.At this time, the sprayed washing water discharged from the post process absorption tower to the washing water storage tank at the lower end of each absorption tower connected in series is supplied back to the spray nozzle at the upper end of the preprocess absorption tower. Between the spray nozzle at the top of the pre-process absorption tower and the wash water storage tank at the bottom of the post-process absorption tower so as to reduce the concentration of NMP gas flowing into each absorption tower through the washing water sprayed by the nozzle. It characterized in that the washing water supply pipe is connected to each.
그리고, 상기 세정수 공급관이 연결 설치된 각 흡수탑 중 최종 흡수탑의 분사노즐에는 각 흡수탑을 거쳐 농도가 순차적으로 저하된 NMP 가스를 대기로 배출시키기 위한 최종 배출 농도로 저하시킬 수 있게 원수 공급이 이루어지도록 원수 공급관이 연결된 것을 특징으로 한다.In addition, the raw water supply is supplied to the injection nozzles of the final absorption tower among the absorption towers to which the washing water supply pipe is connected, so as to reduce the final discharge concentration to discharge the NMP gas whose concentration is sequentially lowered through each absorption tower to the atmosphere. It is characterized in that the raw water supply pipe is connected to be made.
또한, 상기 각 흡수탑을 연결하고 있는 세정수 공급관에는 후(後)공정의 흡수탑으로부터 배출되어 하단의 세정수 저장조에 저장된 세정수를 전(前)공정의 흡수탑 상단의 분사노즐 측으로 원활한 역(逆) 공급이 이루어질 수 있도록 세정수 공 급펌프가 설치된 것을 특징으로 한다.In addition, the washing water supply pipe connecting the respective absorption towers discharges the washing water discharged from the absorption tower of the post process and stored in the washing water storage tank at the lower side to the injection nozzle side of the upper part of the absorption tower of the previous process. (Iii) characterized in that the washing water supply pump is installed so that the supply can be made.
이와 더불어, 상기 후(後)공정의 흡수탑으로부터 배출되어 하단의 세정수 저장조에 저장된 세정수를 전(前)공정의 흡수탑 상단의 분사노즐 측으로 역(逆) 공급시켜 분사된 세정수에 의해 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있게 직렬로 연결된 각 흡수탑 중 초기 흡수탑 하단의 세정수 저장조에 저장된 NMP 농축 세정수를 정제하여 다른 시설에서 재활용이 가능하도록 별도 저장하는 농축 세정수 저장조가 상기 초기 흡수탑 하단의 세정수 저장조와 연결 설치된 것을 특징으로 한다.In addition, the washing water discharged from the absorption tower of the post-process is discharged back to the injection nozzle side of the upper portion of the absorption tower of the previous process by the washing water sprayed. Among the absorption towers connected in series to reduce the concentration of NMP gas, the concentrated washing water storage tank for purifying NMP concentrated washing water stored in the washing water storage tank at the bottom of the initial absorption tower and storing it separately for reuse in other facilities is the initial stage. It is characterized in that it is connected to the wash water reservoir at the bottom of the absorption tower.
그리고, 본 고안에 따른 NMP 가스 처리장치의 실시예로서, 상기 직렬로 연결된 각 흡수탑 중 후(後)공정 흡수탑으로부터 하단의 세정수 저장조로 배출 저장된 세정수가 전(前)공정 흡수탑 하단의 세정수 저장조로 유입됨과 동시에 상기 저장된 세정수를 해당 공정 흡수탑 상단의 분사노즐 측으로 공급하여 상기 분사노즐에 의해 분사되는 세정수를 통해 각 흡수탑으로 유입되는 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있도록 상기 전(前)공정의 흡수탑 상단 분사노즐과 그 해당 흡수탑 하단의 세정수 저장조 사이에 세정수 공급관이 설치되고, 상기 전(前)공정 흡수탑 하단의 세정수 저장조와 후(後)공정 흡수탑 하단의 세정수 저장조 사이에 저장조 연결관이 설치된 것을 특징으로 한다.And, as an embodiment of the NMP gas treatment apparatus according to the present invention, the washing water discharged from the post-process absorption tower to the washing water storage tank of the lower stage of each absorption tower connected in series to the bottom of the pre-process absorption tower At the same time as flowing into the washing water storage tank to supply the stored washing water to the injection nozzle side of the upper end of the process absorption tower to reduce the concentration of NMP gas flowing into each absorption tower through the washing water injected by the injection nozzle. A washing water supply pipe is installed between the upper nozzle of the absorption tower of the pre-absorption tower and the washing water storage tank of the lower part of the absorption tower, and the washing water storage tank and the post-process absorption of the lower part of the absorption tower The reservoir connection pipe is installed between the washing water storage tank at the bottom of the tower.
이하, 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 도면과 대비하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the NMP gas treatment apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 2는 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 개략적으로 나타낸 구성도이고, 도 3은 본 고안의 NMP 가스 처리장치의 정면도 및 평면도를 나타낸 것이다.2 is a schematic view showing an NMP gas treating apparatus of the present invention, and FIG. 3 shows a front view and a plan view of the NMP gas treating apparatus of the present invention.
본 고안에 대한 NMP 가스 처리장치의 경우 흡수탑(10)이 적용된 종래 NMP 가스 처리장치와 동일 구조에 대해서는 동일 부호를 적용하기로 한다.In the case of the NMP gas treatment apparatus according to the present invention, the same reference numerals apply to the same structure as the conventional NMP gas treatment apparatus to which the
이에 따른 본 고안의 NMP 가스 처리장치에 대하여 상세히 설명하기에 앞서, 일반적인 NMP 가스 처리장치에 대하여 간략히 설명하면, 이는 D램 등 반도체나 초박막 액정표시장치(TFT-LCD), 각종 전자제품의 생산공정에서 세정제로 사용되는 NMP 용액을 이용해 세정이 종료된 후 이를 가열함으로써 가스 형태로 상변화된 NMP 가스 즉, NMP가스 배출시설(1)을 통해 배출되는 NMP 가스와 분사노즐(15)로부터 분사되는 세정수의 접촉을 통해 가스에 포함된 NMP가 세정수에 수용 흡수되면서 상기 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 장치이다.Accordingly, before describing the NMP gas processing apparatus of the present invention in detail, the general NMP gas processing apparatus will be briefly described, which is a production process of semiconductors such as DRAM, ultra-thin liquid crystal display (TFT-LCD), and various electronic products. NMP gas phase-changed into a gas form, ie, NMP gas discharged through the NMP gas discharge facility (1) and the washing water sprayed from the injection nozzle (15) after the cleaning is finished using the NMP solution used as a cleaning agent in It is a device for reducing the concentration of the NMP gas while the NMP contained in the gas is absorbed and absorbed in the washing water through the contact of.
이상와 같이 상기 NMP가스 배출시설(1)을 통해 배출되는 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 본 고안의 NMP 가스 처리장치는, 분사노즐(15)에 의해 분사되는 세정수를 통해 NMP가스 배출시설(1)로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시킴과 아울러 이를 대기로 배출시킬 수 있게 1개의 흡수탑(10) 구조로 이루어진 종래의 NMP 가스 처리장치 대신 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, NMP 가스의 농도를 저하시키는 NMP 처리 공정을 다단계의 형태로 형성할 수 있도록 상단엔 분사노즐(25,35,45,15)을 구비하고 하단엔 세정수 저장조(28,38,48,18)를 구비한 하나 이상의 흡수탑(20,30,40,10)을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 설치되어 있다.As described above, the NMP gas treatment apparatus of the present invention for reducing the concentration of the NMP gas discharged through the NMP
이 때, 본 고안에 따른 NMP 가스 처리장치의 경우 각각의 독립적 구조의 흡수탑(20,30,40,10)을 다단계 즉, 4단계의 순차적 처리공정으로 이루어져 있으며, 상기한 NMP 가스 처리장치 중 상기 4단계의 직렬로 연결된 각 흡수탑(20,30,40,10) 의 경우 가스 흡입구(22,32,42,12)와 가스 배출구(23,33,43,13)가 각각 형성된 중공 원통의 케이싱(21,31,41,11)과; 상기 케이싱(21,31,41,11) 상단에 설치되어 후(後)공정 흡수탑(30,40,10)의 세정수 저장조(38,48,18)로부터 역(逆) 공급된 세정수를 분사하여 케이싱(21,31,41,11) 내부로 유입된 NMP 가스와의 접촉을 통해 상기 가스에 포함된 NMP가 분사되는 세정수에 수용 흡수되도록 하는 분사노즐(15,25,35,45)과; 상기 케이싱(21,31,41,11) 하단에 연통되게 형성되어 NMP가 수용 흡수된 세정수를 전(前)공정의 NMP 가스 처리를 위한 세정수로 사용할 수 있도록 저장하는 세정수 저장조(28,38,48,18)로 구성되어 있다.In this case, in the case of the NMP gas treatment apparatus according to the present invention, the absorption towers 20, 30, 40, and 10 of each independent structure have a multi-stage, that is, four, sequential treatment process. In the case of the absorption towers 20, 30, 40, and 10 connected in series in the four stages, the hollow cylinders having the
그리고, 상기 분사노즐(25,35,45,15)의 상하단에는 가스 흡입구(22,32,42,12)를 통해 케이싱(21,31,41,11) 내부 즉, 흡수탑(20,30,40,10) 내부로 유입된 NMP 가스가 분사노즐(25,35,45,15)로부터 분사되는 세정수와 접촉을 이루면서 기포로 변함과 아울러 여기에 미립자 등 불순물이 수반된 상태로 상승하여 망패드 표면과의 관성충돌원리에 의해 기포의 체적이 커지면서 자중에 의거 불순물이 포함된 입자는 자연낙하하고 기체는 불순물이 제거된 순수상태로 배출되도록 필터링 역할을 하는 데미스터(27,37,47,17)와, 상기 분사노즐(25,35,45,15)을 통해 분사되는 세정수와 상기 가스 흡입구(22,32,42,12)를 통해 케이싱(21,31,41,11) 내부 즉, 흡수탑(20,30,40,10) 내부로 유입된 NMP 가스간의 접촉면적을 높이기 위한 충전재(26,36,46,16)가 각각 설치되어 있는데, 상기한 데미스터(27,37,47,17) 및 충전재(26,36,46,16)의 경우 종래 기술에서 기술한 NMP 가스 처리장치의 데미스터(17)와 충전재(16)와 동일 구조를 이루고 있기 때문에 이에 대한 중복 설명은 생략 하기로 한다.In addition, upper and lower ends of the
또한, 상기 분사노즐(25,35,45,15)과 그 하단에 설치되는 충전재(26,36,46,16)는 가스에 포함된 NMP가 세정수에 수용 흡수되는 양이 많아지도록 하는 2단 구조로 이루어져 있다.In addition, the
그리고, 상기 직렬로 연결된 각 흡수탑(20,30,40,10) 중 후(後)공정 흡수탑(30,40,10)으로부터 하단의 세정수 저장조(38,48,18)로 배출 저장된 세정수를 전(前)공정 흡수탑(20,30,40) 상단의 분사노즐(25,35,45) 측으로 역(逆) 공급하여 상기 분사노즐(25,35,45)에 의해 분사되는 세정수를 통해 각 흡수탑(20,30,40,10)으로 유입되는 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있도록 상기 전(前)공정 흡수탑(20,30,40) 상단의 분사노즐(25,35,45)과 후(後)공정 흡수탑(30,40,10) 하단의 세정수 저장조(38,48,18) 사이에 세정수 공급관(29,39,49)이 각각 연결 설치되어 있다.In addition, the washing is discharged from the post-process absorption tower (30, 40, 10) of each of the absorption tower (20, 30, 40, 10) connected in series to the lower washing water storage tank (38, 48, 18) Washing water sprayed by the
즉, 본 고안의 NMP 가스 처리장치의 구성요소 중 1단계 처리공정의 흡수탑(20) 상단 분사노즐(25)과 2단계 처리공정의 흡수탑(30) 하단 세정수 저장조(38) 사이와, 상기 2단계 처리공정의 흡수탑(30) 상단 분사노즐(35)과 3단계 처리공정의 흡수탑(40) 하단 세정수 저장조(48) 사이와, 상기 3단계 처리공정의 흡수탑(40) 상단 분사노즐(45)과 4단계 처리공정의 흡수탑(10) 하단 세정수 저장조(18) 사이에 각각의 세정수 공급관(29,39,49)이 각각 연결 설치되어 있으며, 특히 상기 세정수 공급관(29,39,49)이 연결 설치된 각 흡수탑(20,30,40,10) 중 4단계 처리공정인 최종 흡수탑(10)의 분사노즐(15)에는 각 흡수탑(20,30,40)을 거쳐 농도가 순차적으로 저하된 NMP 가스를 대기로 배출시키기 위한 최종 배출 농도로 저하시킬 수 있게 원수 공급이 이루어지도록 원수 공급관(19)이 설치되어 있다.That is, among the components of the NMP gas treatment device of the present invention, between the
또한, 상기 각 흡수탑(20,30,40,10)을 연결하고 있는 세정수 공급관(29,39,49)에는 후(後)공정의 흡수탑(30,40,10)으로부터 배출되어 하단의 세정수 저장조(38,48,18)에 저장된 세정수를 전(前)공정 흡수탑(20,30,40) 상단의 분사노즐(25,35,45) 측으로 원활한 역(逆) 공급이 이루어질 수 있도록 세정수 공급펌프(Pa,Pb,Pc)가 설치되어 있다.In addition, the washing
이와 더불어, 상기 후(後)공정의 흡수탑(30,40,10)으로부터 배출되어 하단의 세정수 저장조(38,48,18)에 저장된 세정수를 전(前)공정의 흡수탑(20,30,40) 상단의 분사노즐(25,35,45) 측으로 역(逆) 공급시켜 분사된 세정수에 의해 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있게 직렬로 연결된 각 흡수탑(20,30,40,10) 중 초기 흡수탑(20) 하단의 세정수 저장조(28)에 저장된 NMP 농축 세정수를 정제하여 다른 시설에서 재활용이 가능하도록 별도 저장하는 농축 세정수 저장조(55)가 상기 초기 흡수탑(20) 하단의 세정수 저장조(28)와 연결 설치되어 있다.In addition, the
한편, 도 4는 본 고안에 따른 NMP 가스 처리장치의 또 다른 실시예도로서, 상기한 또 다른 실시예의 NMP 가스 처리장치는, 도 4에 도시한 바와 같이, 직렬로 연결된 각 흡수탑(20,30,40,10) 중 후(後)공정 흡수탑(30,40,10)으로부터 하단의 세정수 저장조(38,48,18)로 배출 저장된 세정수가 전(前)공정 흡수탑(20,30,40) 하단의 세정수 저장조(28,38,48)로 유입되도록 함과 동시에 상기 저장된 세정수를 해당 공정 흡수탑(20,30,40) 상단의 분사노즐(25,35,45) 측으로 공급하여 상기 분사 노즐(25,35,45)에 의해 분사되는 세정수를 통해 각 흡수탑(20,30,40)으로 유입되는 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있도록 상기 전(前)공정의 흡수탑(20,30,40) 상단 분사노즐(25,35,45)과 그 해당 흡수탑(20,30,40) 하단의 세정수 저장조(28,38,48) 사이에 세정수 공급관(29a,39a,49a)이 설치되고, 상기 전(前)공정 흡수탑(20,30,40) 하단의 세정수 저장조(28,38,48)와 후(後)공정 흡수탑(30,40,10) 하단의 세정수 저장조(38,48,18) 사이에 저장조 연결관(52a,52b,52c)이 설치되어 있다.On the other hand, Figure 4 is another embodiment of the NMP gas treatment device according to the present invention, the NMP gas treatment device of another embodiment described above, as shown in Figure 4, each
이와 같이 구성된 본 고안의 또 다른 실시예인 NMP 가스 처리장치 중 상기 각 흡수탑(20,30,40,10)의 경우 도 2에 도시된 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 이루는 구성요소 즉, 직렬의 다단계 형태로 연결된 각 흡수탑(20,30,40,10)과 동일 구조로 이루어져 있기 때문에 이에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다.In the case of the absorption towers 20, 30, 40, and 10 of the NMP gas treatment apparatus which is another embodiment of the present invention configured as described above, the components constituting the NMP gas treatment apparatus of the present invention shown in FIG. Since the same structure as each absorption tower (20, 30, 40, 10) connected in a multi-stage form, duplicate description thereof will be omitted.
그리고, 본 고안의 또 다른 실시예인 NMP 가스 처리장치의 경우 도 2에 도시된 본 고안의 NMP 가스 처리장치에서와 마찬가지로 직렬로 연결된 각 흡수탑(20,30,40,10) 중 초기 흡수탑(20) 하단의 세정수 저장조(28)에 저장된 NMP 농축 세정수를 정제하여 다른 시설에서 재활용이 가능하도록 별도 저장하는 농축 세정수 저장조(55)가 상기 초기 흡수탑(20) 하단의 세정수 저장조(28)와 연결 설치되어 있다.In addition, in the case of the NMP gas treatment device according to another embodiment of the present invention, the same as in the NMP gas treatment device of the present invention shown in FIG. 2, the initial absorption tower (20, 30, 40, 10) of each absorption tower connected in series ( 20) A concentrated washing
이하, 본 고안의 NMP 가스 처리장치의 작동과정을 도면과 대비하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of the NMP gas treatment device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 5는 본 고안에 따른 NMP 가스 처리장치의 작동과정을 나타낸 것이다.Figure 5 shows the operation of the NMP gas treatment apparatus according to the present invention.
우선, 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 도 2에 도시한 바와 같이 NMP 가스의 농도를 저하시키는 NMP 처리 공정을 다단계의 형태로 형성할 수 있도록 상단엔 분사노즐(25,35,45,15)을 구비하고 하단엔 세정수 저장조(28,38,48,18)를 구비한 하나 이상의 흡수탑(20,30,40,10)을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 설치함과 아울러, 후(後)공정 흡수탑(30,40,10)으로부터 하단의 세정수 저장조(38,48,18)로 배출 저장된 세정수를 전(前)공정 흡수탑(20,30,40) 상단의 분사노즐(25,35,45) 측으로 역(逆) 공급하여 상기 분사노즐(25,35,45)에 의해 분사되는 세정수를 통해 각 흡수탑(20,30,40,10)으로 유입되는 NMP 가스의 농도를 저하시킬 수 있도록 상기 전(前)공정 흡수탑(20,30,40) 상단의 분사노즐(25,35,45)과 후(後)공정 흡수탑(30,40,10) 하단의 세정수 저장조(38,48,18) 사이 즉, 1단계 처리공정의 흡수탑(20) 상단 분사노즐(25)과 2단계 처리공정의 흡수탑(30) 하단 세정수 저장조(38) 사이와, 상기 2단계 처리공정의 흡수탑(30) 상단 분사노즐(35)과 3단계 처리공정의 흡수탑(40) 하단 세정수 저장조(48) 사이와, 상기 3단계 처리공정의 흡수탑(40) 상단 분사노즐(45)과 4단계 처리공정의 흡수탑(10) 하단 세정수 저장조(18) 사이에 각각의 세정수 공급관(29,39,49)을 연결 설치하고, 또한 4단계 처리공정인 최종 흡수탑(10)의 분사노즐(15)에는 각 흡수탑(20,30,40)을 거쳐 농도가 순차적으로 저하된 NMP 가스를 대기로 배출시키기 위한 최종 배출 농도로 저하시킬 수 있도록 원수 공급관(19)이 연결 설치된 상태에서 각각의 NMP가스 배출시설(1)로부터 블로워(5)를 통해 본 고안의 NMP 가스 처리장치 중 1단계 처리공정의 흡수탑(20) 내부로 NMP 가스 유입되게 되면, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 1단계 흡수탑(20) 상단에 설치된 분사 노즐(25)과 2단계 흡수탑(30) 하단에 설치된 세정수 저장조(38)를 연결하는 세정수 공급관(29)을 통해 상기 2단계 흡수탑(30)측 세정수 저장조(38)에 저장된 세정수가 상기 1단계 흡수탑(20) 상단의 분사노즐(25) 측으로 역(逆) 공급이 이루어짐과 동시에 상기 1단계 흡수탑(20) 내부로 유입된 NMP 가스 측으로 세정수의 분사가 이루어지게 된다.First, as shown in FIG. 2, the
이 때, 상기 1단계 분사노즐(25)에 의한 세정수가 1단계 흡수탑(20) 내부로 유입된 NMP 가스 측으로 분사되게 되면, 상기 1단계 흡수탑(20) 내의 NMP 가스와 분사노즐(25)로부터 분사되는 세정수의 접촉이 이루어지면서 가스에 포함된 NMP가 분사된 세정수에 수용 흡수되어 상기 NMP 가스의 농도가 초기 1단계 흡수탑(20) 내부로 유입된 NMP 가스의 농도 보다 저하된 상태로 상기 1단계 흡수탑(20)의 가스 배출구(23)와 2단계 흡수탑(30)의 가스 흡입구(32)를 연결하는 연결관(51a)을 통해 상기 2단계 흡수탑(30) 내부로 유입되게 되고, 상기 1단계 흡수탑(20) 내에서 NMP 가스와의 접촉을 통해 NMP가 수용된 세정수는 상기 1단계 흡수탑(20) 하단의 세정수 저장조(28) 측으로 낙하하여 저장되게 된다.At this time, when the washing water by the first
특히, 상기 1단계 흡수탑(20) 하단의 세정수 저장조(28) 내에 저장된 세정수는 후술되는 2단계 흡수탑(30), 3단계 흡수탑(40) 및 4단계 흡수탑(10)의 각 세정수 저장조(38,48,18)에 저장된 세정수 보다 NMP 농도가 가장 높은 농축상태를 이루고 있으며, 이와 같은 NMP 농축 세정수를 별도의 정제과정을 거쳐 다른 시설에서 재활용이 가능할 수 있도록 상기 1단계 흡수탑(20)의 세정수 저장조(28)와는 별도의 농축 세정수 저장조(55) 측에 공급 저장시키게 된다.In particular, the washing water stored in the washing
그리고, 상기 NMP 농도가 저하된 가스 즉, 1단계 흡수탑(20) 내에서 분사노즐(25)로부터 분사된 세정수와의 접촉으로 초기 NMP 가스 농도 보다 저하된 NMP 가스가 상기 1단계 흡수탑(20)으로부터 2단계 흡수탑(30) 내부로 유입되게 되면 전술한 1단계 흡수탑(20)에서와 마찬가지로, 상기 2단계 흡수탑(30) 상단의 분사노즐(35)과 3단계 흡수탑(40) 하단의 세정수 저장조(48)를 연결하는 세정수 공급관(39)을 통해 상기 3단계 흡수탑(40)측 세정수 저장조(48)에 저장된 세정수가 상기 2단계 흡수탑(30) 상단의 분사노즐(35) 측으로 역(逆) 공급이 이루어짐과 아울러, 상기 2단계 흡수탑(30) 내부로 유입된 NMP 가스 측으로 세정수가 분사되면서 상기 2단계 흡수탑(30) 내의 NMP 가스와 분사된 세정수 간의 접촉이 이루어지게 되고, 이와 동시에 상기 가스에 포함된 NMP가 분사된 세정수에 수용 흡수되면서 상기 NMP 가스의 농도가 2단계 흡수탑(30) 내부로 유입된 NMP 가스의 농도 보다 더욱 저하된 상태로 상기 2단계 흡수탑(30)의 가스 배출구(33)와 3단계 흡수탑(40)의 가스 흡입구(42)를 연결하는 연결관(51b)을 통해 상기 3단계 흡수탑(40) 내부로 유입되게 된다.In addition, the NMP gas having a lower NMP concentration than the initial NMP gas concentration due to contact with the washing water sprayed from the
또한, 상기와 같이 2단계 흡수탑(30) 내의 NMP 가스 측으로 분사되어 상기 가스에 포함된 NMP를 수용 흡수한 세정수의 경우 상기 1단계 흡수탑(20) 내에서의 NMP 가스 처리과정에 사용할 수 있도록 상기 2단계 흡수탑(30) 하단의 세정수 저장조(38)로 낙하 저장되게 되고, 이 때 상기 세정수 저장조(38)에 저장된 NMP 농축 세정수는 1단계 흡수탑(20) 하단의 세정수 저장조(28)에 저장된 NMP 농축 세정수 보다 NMP 농도가 낮은 상태를 이루게 된다.In addition, in the case of the washing water sprayed to the NMP gas side in the two-
그리고, 상기 2단계 흡수탑(30) 내에서 분사노즐(35)로부터 분사된 세정수와의 접촉으로 1단계 NMP 가스 농도 보다 더욱 저하된 NMP 가스가 상기 2단계 흡수탑(30)으로부터 3단계 흡수탑(40) 내부로 유입되게 되면 전술한 1, 2단계 흡수탑(20,30)에서와 마찬가지로, 상기 3단계 흡수탑(40) 상단의 분사노즐(45)과 4단계 흡수탑(10) 하단의 세정수 저장조(18)를 연결하는 세정수 공급관(49)을 통해 상기 4단계 흡수탑(10)측 세정수 저장조(18)에 저장된 세정수가 상기 3단계 흡수탑(40) 상단의 분사노즐(45) 측으로 역(逆) 공급이 이루어짐과 아울러, 상기 3단계 흡수탑(40) 내부로 유입된 NMP 가스 측으로 세정수가 분사되면서 상기 3단계 흡수탑(40) 내의 NMP 가스와 분사된 세정수 간의 접촉이 이루어지게 되고, 이와 동시에 상기 가스에 포함된 NMP가 분사된 세정수에 수용 흡수되면서 상기 NMP 가스의 농도가 3단계 흡수탑(40) 내부로 유입된 NMP 가스의 농도 보다 더욱 더 저하된 상태로 상기 3단계 흡수탑(40)의 가스 배출구(43)와 4단계 흡수탑(10)의 가스 흡입구(12)를 연결하는 연결관(51c)을 통해 상기 NMP 가스의 최종 처리단계인 4단계 흡수탑(10) 내부로 유입되게 된다.In addition, the NMP gas, which is further lowered than the first NMP gas concentration by contact with the washing water injected from the
또한, 상기와 같이 3단계 흡수탑(40) 내의 NMP 가스 측으로 분사되어 상기 가스에 포함된 NMP를 수용 흡수한 세정수의 경우 상기 2단계 흡수탑(30) 내에서의 NMP 가스 처리과정에 사용할 수 있도록 상기 3단계 흡수탑(40) 하단의 세정수 저장조(48)로 낙하 저장되게 되고, 이 때 상기 세정수 저장조(48)에 저장된 NMP 농축 세정수는 2단계 흡수탑(30) 하단의 세정수 저장조(38)에 저장된 NMP 농축 세정수 보다 NMP 농도가 낮은 상태를 이루게 된다.In addition, in the case of the washing water injected into the NMP gas side in the three-
그 다음 각각의 NMP가스 배출시설(1)로부터 블로워(5)를 통해 본 고안의 NMP 가스 처리장치로 배출된 NMP 가스의 최종 처리단계로서, 상기 3단계 흡수탑(40) 내에서 분사노즐(45)로부터 분사된 세정수와의 접촉으로 2단계 NMP 가스 농도 보다 더욱 더 저하된 NMP 가스가 상기 3단계 흡수탑(40)으로부터 4단계 흡수탑(10) 내부로 유입되게 되면 전술한 1, 2, 3단계 흡수탑(20,30,40)에서와 마찬가지로, 상기 4단계 흡수탑(10)의 분사노즐(15)과 연결된 원수 공급관(19)을 통해 수도로부터 원수가 상기 4단계 흡수탑(10) 상단의 분사노즐(15) 측으로 공급이 이루어짐과 아울러, 상기 4단계 흡수탑(10) 내부로 유입된 NMP 가스 측으로 원수가 분사되면서 상기 4단계 흡수탑(10) 내의 NMP 가스와 분사된 원수간의 접촉이 이루어지게 되고, 이와 동시에 상기 가스에 포함된 잔량의 NMP가 분사된 원수에 수용 흡수되면서 상기 NMP 가스의 농도가 4단계 흡수탑(10) 내부로 유입된 NMP 가스의 농도 보다 더욱 저하된 상태 즉, NMP 가스를 대기로 배출시키기 위한 최종 배출 농도로 저하된 상태로 상기 4단계 흡수탑(10)의 가스 배출구(13)와 연통된 배출관(14)을 통해 대기로 배출되면서 각각의 NMP가스 배출시설(1)로부터 배출된 NMP 가스의 처리과정이 모두 종료되게 된다.Then, as a final treatment step of the NMP gas discharged from each NMP gas discharge facility (1) through the blower (5) to the NMP gas treatment device of the present invention, the
또한, 상기와 같이 원수 공급관(19)을 통해 4단계 흡수탑(10) 내의 NMP 가스 측으로 분사되어 상기 가스에 포함된 NMP를 수용 흡수한 원수의 경우 상기 3단계 흡수탑(40) 내에서의 NMP 가스 처리과정에 사용할 수 있도록 상기 4단계 흡수탑(10) 하단의 세정수 저장조(18)로 낙하 저장되게 되고, 이 때 상기 세정수 저장조(18)에 저장된 원수 즉, NMP가 농축된 세정수는 3단계 흡수탑(40) 하단의 세정수 저장조(48)에 저장된 NMP 농축 세정수 보다 NMP 농도가 낮은 초기 상태를 이루게 된다.In addition, in the case of raw water sprayed to the NMP gas side in the fourth
이상에서와 같이 상술한 실시예는 본 고안의 가장 바람직한 예에 대하여 설명한 것이지만 상기 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 고안의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변형이 가능하다는 것은 당업자에게 있어서 명백한 것이다.As described above, the above-described embodiment is described with reference to the most preferred example of the present invention, but is not limited to the above embodiment, and it will be apparent to those skilled in the art that various modifications are possible without departing from the technical spirit of the present invention. .
본 고안의 NMP 가스 처리장치는, 반도체나 초박막 액정표시장치(TFT-LCD), 각종 전자제품의 생산공정 등 NMP가스 배출시설을 통해 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 저하시키기 위한 NMP 처리공정을 다단계로 이룰 수 있도록 상단엔 분사노즐을 구비하고 하단엔 세정수 저장조를 구비한 하나 이상의 흡수탑을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 설치하여 본 고안의 NMP 가스 처리장치를 구성함으로써, 상기 NMP가스 배출시설로부터 유입된 NMP 가스의 농도를 저하시키기 위한 흡수탑이 1개의 구조인 단공정으로 이루어진 종래 NMP 가스 처리장치에 비해 NMP 가스의 NMP 농도를 효과적으로 줄일 수 있는 등 대기 상에 배출되기 위한 안정적 최종 배출 농도로 NMP 가스의 NMP 농도를 줄일 수 있는 탁월한 효과가 있다.The NMP gas treatment apparatus of the present invention has a multi-step NMP treatment process for reducing the NMP concentration of NMP gas discharged through an NMP gas discharge facility such as a semiconductor, an ultra-thin liquid crystal display (TFT-LCD), and a production process of various electronic products. The NMP gas treatment device of the present invention is constructed by connecting and installing one or more absorption towers having a spray nozzle at the top and a washing water storage tank at the bottom in a multistage process state so as to achieve Stable final discharge concentration to be discharged to the atmosphere, such as the absorption tower for reducing the concentration of the introduced NMP gas can effectively reduce the NMP concentration of the NMP gas compared to the conventional NMP gas treatment device consisting of a single process. There is an excellent effect to reduce the NMP concentration of the NMP gas.
또한, 상기와 같이 하나 이상의 흡수탑을 직렬의 다단 공정 상태로 연결 구성한 본 고안의 NMP 가스 처리장치에 의해 대기 상에 배출되는 NMP 가스의 NMP 농도를 대기 배출에 안전적인 최종 배출 농도로 저하시킴에 따라 이로 인한 대기환경 의 오염을 방지함과 아울러 종래 대기 상에 배출된 NMP에 의해 오염된 대기환경으로부터 사람들을 보호할 수 있는 등의 효과 역시 있다.In addition, by reducing the NMP concentration of the NMP gas discharged to the atmosphere by the NMP gas treatment device of the present invention configured to connect one or more absorption towers in a series of multi-stage process state as described above to the final discharge concentration safe for air discharge. Therefore, there is also the effect of preventing the pollution of the air environment caused by this, and also to protect people from the air environment polluted by the NMP emitted on the conventional air.
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2020050034219U KR200408900Y1 (en) | 2005-12-05 | 2005-12-05 | The device for treatment to NMP gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2020050034219U KR200408900Y1 (en) | 2005-12-05 | 2005-12-05 | The device for treatment to NMP gas |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR200408900Y1 true KR200408900Y1 (en) | 2006-02-14 |
Family
ID=41759279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR2020050034219U KR200408900Y1 (en) | 2005-12-05 | 2005-12-05 | The device for treatment to NMP gas |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR200408900Y1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101106279B1 (en) * | 2009-04-13 | 2012-01-19 | (주)키이엔지니어링 | Device and method for recovering NMP from exhaust gas |
KR101565033B1 (en) | 2014-03-28 | 2015-11-03 | (주)신성이엔지 | NMP recovery purification system |
CN112933888A (en) * | 2021-01-19 | 2021-06-11 | 江西鑫嘉能装备制造有限公司 | Horizontal recovery plant of NMP |
-
2005
- 2005-12-05 KR KR2020050034219U patent/KR200408900Y1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101565033B1 (en) | 2014-03-28 | 2015-11-03 | (주)신성이엔지 | NMP recovery purification system |
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