KR20040104472A

KR20040104472A - 전극 마운팅

Info

Publication number: KR20040104472A
Application number: KR10-2004-7013642A
Authority: KR
Inventors: 쿠클라피터
Original assignee: 퍼-텍 리미티드
Priority date: 2002-03-01
Filing date: 2003-03-03
Publication date: 2004-12-10
Also published as: WO2003074184A1; EP1480753A1; US20050160908A1; JP2005518931A; CA2477405A1; AU2003216983A1

Abstract

전극용 마운팅 장치가 개시된다. 마운팅 장치는 전극(6)을 장착하기 위한 수단(4)을 가진 몸체(2)를 구비하며, 사용중에 상기 몸체(2)는 부분적으로 전극(6)을 둘러싸며, 상기 전극(6)은 몸체(2)로부터 돌출된다. 장치는 몸체(2)에 적어도 하나의 외부 돌출부(12)를 더 구비한다.

Description

전극 마운팅{Electrode mounting}

통상적으로 전극으로부터의 코로나 방전에 의하여 분진을 대전시키고, 그들을 가스 유동 스트림(gas flow stream)으로부터 분리시키는 대전된 분진의 정전기적 특성을 사용하여 가스 스트림으로부터 분진 오염 물질을 분리하는 시도가 알려져 있다. 이는 전기 집진(electrostatic precipitation)이라고 불리어진다.

그러한 시스템을 작은 규모로 적은 시간 동안 작동하는 것은 가능하나, 그러한 어떠한 장치의 성능도 시간이 감에 따라 저하된다는 것을 본 발명자는 발견하였다. 그러한 악화의 원인은 전극으로부터 어스(earth)로 흐르려는 전류(current)의 경향 때문이라고 생각된다. 통상적으로 가장 가까운 어스는 전극 지지용의 마운팅 브라켓이다.

본 발명의 바람직한 구현예는, 여기에서 인용되거나 또는 그렇지 않거나, 종래 기술의 결점을 제거하거나 극복하는 것을 목표로 한다.

본 발명은 전극을 위한 마운팅 장치와 이를 포함한 오염 물질 제거 시스템에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 그러나 제한적이지 않고, 본 발명은 오염 물질(pollutant) 특히 가스 스트림으로부터 분진(particulate)의 분리에 사용되는 전극을 위한 마운팅 장치에 관한 것이다.

이제 본 발명은, 오직 예시적인 목적으로, 다음의 도면을 참조하면서 기술될 것이다.

도 1은 본 발명의 제 1 구현예에 따른 전극을 장착하기 위한 제 1 마운팅 몸체의 평면도이다.

도 2는 본 발명의 제 2 구현예에 따른 전극을 장착하기 위한 제 2 마운팅 몸체의 평면도이다.

도 3은, 그 단면이 도 1의 몸체 축의 평면을 따라 취해진 도 1의 확대된 단면도이다.

도 4는 본 발명의 제 3 구현예에 따른 전극을 장착하기 위한 마운팅 몸체의 단면도이다.

도 5는 본 발명의 구현예에 따른 분진 분기 장치의 개략적 단면도이다.

도 6은 도 5의 장치의 부분적으로 절단된 개략적 사시도이다.

도 7 내지 도 10은, 본 발명의 제 2 내지 제 5 구현예의 도 5와 유사한 개략적 단면도이다.

도 11은 도 10 구현예의 요소들의 사시도이다.

도 12는 도 10에 나타난바와 같은 마운팅 몸체의 단면도이다.

도 13은 본 발명의 다른 구현예에 따른 장치의 (외측 벽이 절개된) 평면도이다.

도 14는 도 13의 측면도이다.

도 15는, 도 13 및 도 14의 사시도이다.

도 16은 본 발명의 또 다른 구현예에 따른 장치의 (외측 벽이 절개된) 평면도이다.

도 17은 도 16의 사시도이다.

도 18은 본 발명의 또 다른 구현예의 평면도이다.

도 19는 도 18의 측면도이다.

도 20은 도 18에 대응하는 단면의 반전된 평면도이다.

제 1의 관점에서의 본 발명에 따르면, 전극을 위한 마운팅 장치로서, 상기 마운팅 장치는 전극을 장착하기 위한 수단을 가진 몸체를 구비하며, 사용 중에 몸체는 일부 전극의 주위에 있으며 전극이 상기 몸체로부터 돌출되며, 상기 장치는 몸체상에 적어도 하나의 외측의 돌출부를 더 구비한다.

그러한 장치는 전류를 위한 전극으로부터의 몸체를 따른 굴곡된 경로를 제공하여, 따라서 전류 누설을 감소시킨다.

상기 몸체는 전체적으로 원통형이며, 돌출부는 상대적으로 전체적으로 방사형인 것이 적절하다. 몸체는 상대적으로 더 얇은 원통형의 연신된 부분을 가지는 것이 적절하다. 상대적으로 덜 얇은 원통형의 연신된 부분은 몸체의 말단 단부를 향하는 것이 적절하다. 전극상의 더 얇은 세라믹은 축적된 탄소계 오염 물질의 연소를 촉진하는 것으로 믿어진다.

적어도 하나의 돌출부는 몸체을 둘레에서 환형(예컨대, 360도)인 것이 적절하다.

몸체 및 적어도 하나의 돌출부는 일체의 구조체인 것이 적절하다.

몸체는 높은 전기 저항 재료를 적어도 부분적으로 구비하는 것이 적절하다. 전극과 접촉하는 몸체의 부분은 높은 전기 저항 재료를 구비하는 것이 적절하다. 적절한 높은 전기 저항 재료는 세라믹 재료이다.

적절하게는, 전극 마운팅 장치는 오염 물질 제거 시스템을 위한 것이 적절하다.

장치는 몸체가 장착될 수 있도록 허용하는 수단을 구비한 부분이 몸체의 일 부분이거나 몸체에 부착되어 구비되는 것이 적절하다.

몸체는 실질적으로 원형의 원통 형상인 것이 적절하다.

비보호 영역은 실질적으로 원통형인 것이 적절하다.

적어도 하나의 돌출부는 외부적으로 전체적으로 원뿔체인 것이 적절하다. 적어도 하나의 돌출부는 적어도 부분적으로 중공형인 것이 적절하다. 적어도 하나의 돌출부는 끝이 무디게 된 것이 적절하다. 돌출부는 테이퍼진 것이 적절하다.

모든 몸체는 실질적으로 동일한 재료를 구비하는 것이 적절하다. 이는 제조 원가를 절감하고 다른 재료간의 열팽창계수의 차이로 인한 문제를 최소화하는데 도움을 준다.

몸체를 따라 이격된 복수개의 돌출부가 있는 것이 적절하다. 돌출부들은 실질적으로 유사한 것이 적절하다. 돌출부는 몸체를 따라 동일하게 이격되어 있는 것이 적절하다.

몸체는 전체적으로 원통형인 것이 적절하다.

몸체는 그 안에 전극을 장착하기 위하여 그를 관통하는 홀을 구비하는 것이 적절하다. 홀은 종방향인 것이 적절하다.

제 2의 관점에서의 본 발명에 따르면, 발명의 제 1의 관점에 따른 마운팅 장치를 구비하는 전극 마운팅 장치가 제공되며, 상기 장치는 몸체가 그 둘레에 위치된 전극을 더 구비한다.

전극은 일 단부로부터만 장착되는 것이 적절하다.

제 3의 관점에서의 본 발명에 따르면, 가스 유동 스트림으로부터 적어도 하나의 오염 물질을 적어도 부분적으로 제거하기 위한 오염 물질 제거 시스템이 제공되며, 상기 시스템은 본 발명의 이전의 관점에 따른 전극 마운팅 장치를 구비한다.

상기 시스템은 오염 물질을 오염 물질 제거기로 분기시키기 위한 수단을 구비하는 것이 적절하다. 분진 오염 물질인 경우에는, 제거기는 필터가 될 수 있다.

상기 시스템은 가스 스트림내의 분진을 대전시키기 위한 수단 및 그를 통하여 가스 스트림이 적어도 부분적으로 유동하는 튜브를 구비하며, 상기 튜브는 적어도 부분적으로 가스 스트림에 대하여 투과성 있으며 상기 장치는 적어도 하나의 분진을 집진하기 위한 수단을 구비하는 것이 적절하다. 튜브가 적어도 부분적으로 대전 수단 주위에 있는 것 대전 수단은 전극을 구비하는 것이 적절하다.

튜브는 천공된 것이 적절하다. 튜브는 그를 관통하는 복수개의 홀을 구비하는 것이 적절하다. 홀들은 균일하게 이격되는 것이 적절하다. 홀들은 균일하게 크기가 정해지는 것이 적절하다. 튜브의 천공 영역은 실질적으로 환형인 것이 적절하다. 튜브의 천공된 영역은 실질적인 길이에 대하여 연장되는 것이 적절하다.

튜브는 그를 관통하는 적어도 하나의 슬롯을 구비하는 것이 적절하다. 복수개의 슬롯이 제공되는 것이 적절하다. 슬롯이 튜브 둘레에서 실질적으로 균일하게 분배되는 것이 적절하다. 적어도 하나의 슬롯이 튜브를 따라 종축방향으로 연장되는 것이 적절하다.

튜브의 대부분의 부분은 기공성인 것이 바람직하다. 또는 튜브의 적은 부분이 기공성이다.

튜브는 단면이 원형인 것이 적절하다. 튜브는 입구 및 출구를 구비하는 것이 적절하다.

튜브의 단면적은 입구로부터 출구까지 그 길이를 따라 축소되는 것이 적절하다.

전극이 그 일 단부에만 장착되는 것이 적절하다.

장치 가스 입구로부터 장치 가스 출구로의 제 1 가스 유동 경로 및 장치 가스 입구로부터 장치 가스 출구로의 제 2 가스 유동 경로가 있는 것이 적절하다. 제 1 및 제 2 가스 유동 경로는 그 일부분에 대하여 공통인 것이 적절하다. 필터가 제 2 가스 유동 경로안에 위치되는 것이 적절하다. 튜브는 제 1 및 제 2 가스 유동 경로안에 위치되는 것이 적절하다. 상기 튜브는 가스 유동을 분리시키는 작용을 하며, 후속되는 제거를 위하여 하나의 유동 경로안의 적어도 하나의 분진을 집중시킨다.

상기 배치는 제2 유동 경로를 위한 가스 유동 튜브를 구비하며, 상기 가스 유동 튜브는 제 1 가스 유동 경로가 제 2 가스 유동 경로와 합류하도록 하는 슬롯을 구비하는 것이 적절하다.

제 1 가스 유동 경로는 오염 물질을 오염 물질 제거 수단으로 분기시키기 위한 분리기에서 제 2 가스 유동 경로로부터 분리되는 것이 적절하다. 상기 분리기는 그를 관통하는 가스 유동 경로의 하나를 위한 개구와 함께 전체적으로 원뿔체의 형상인 것이 적절하다.

시스템은 장치 가스 입구와 유체 교통하는 제 1 확장 튜브를 구비하는 것이적절하다. 분기 튜브는 제 1 확장 튜브로부터 상기 튜브에 의해 한정된 제 2 확장 튜브까지 연장되는 것이 적절하다. 분기 튜브를 통하여 가스가 유동하는 분기 튜브 주위에 제 3 확장 챔버가 있는 것이 적절하다. 필터가 (가스 유동의 관점에서) 제 2 및 제 3 확장 튜브 사이에 위치되는 것이 적절하다.

필터는 전기적으로 재생 가능한 필터를 구비하는 것이 적절하다.

상기 시스템은 배출 가스 스트림, 특히 차량 배출 가스 스트림으로부터 오염 물질을 제거하기 위한 것이 적절하다.

시스템은 배출 가스 유동 스트림안의 사용을 위한 것이 적절하다. 상기 시스템은 차량 배출 가스 유동 스트림, 보다 바람직하게는 디젤 배출에의 사용을 위한 것이 적절하다.

전극은 가스 유동 스트림의 코로나 방전 이온화를 위한 것이 적절하다.

튜브는 저항성의 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅되는 것이 적절하다.

도 1을 참조하면, 세라믹, 전기적으로 실질적으로 비전도성의 재료, 여기서는 산화 알루미늄(alumina) 또는 STNTOX FF(상표)로 만들어진 전극 마운팅 몸체(2)의 평면도를 볼 수 있다. 통상적으로, 비전도성 재료는 적어도 80% 그리고 일반적으로 적어도 90%의 산화 알루미늄을 포함할 것이다. 바람직한 구현예는 95% 이상 또는 97% 이상, 가장 바람직하게는 99% 이상의 산화 알류미늄을 포함한다.

몸체(2)는 실질적으로 원형의 원통 모양이며, 그 축을 따라 원통형의 홀(4:점선)을 구비하며, 상기 홀을 통하여 전극(6)이 장착된다. 홀(4)은 전극을 장착하는 수단으로 작용한다. 전극(6)은 몸체(2)의 제1 단부(8)로부터 돌출되며, 상기 전극(6)의 돌출된 부분(도 3 참조)은 사용 중에 코로나 방전 전극을 형성한다. 몸체(2)의 (제 1단부(8)의 반대편의) 제 2 단부(10)는 전극이 전원(미도시)으로 연결되도록 허용한다. 전극(6)은 하나의 단부로부터만 장착된다는 것이 주목된다. 따라서 전극(6)은 장착 단부(제2 단부;16)와 전극 돌출 단부(제 1 단부:8)를 가진다.

제 1 단부(8)로부터, 몸체(2)는 처음에는 전체적으로 원형의 원통 모양이다. 몸체(2)는 그 다음에 실질적으로 유사한 세 개의 돌출부(12a,12b 및 12c)에 의해서 중단된다. 돌출부(12a,12b 및 12c)는 아래 도 3과의 관계에서 보다 상세하게 기술된다. 돌출부(12a,12b 및 12c)는 서로로부터 그리고 몸체(2)의 제1 단부(8)로부터 분리되어 있다.

돌출부(12a, 12b 및 12c) 다음에, 몸체(2)는 외측으로 돌출된 부분(16)으로 연결되는 쇼울더(14)에 도달하기 까지는 다시 원형의 원통 모양이며, 상기 외측으로 돌출된 부분으로부터 제1 계단(18) 및 제 2 계단(20)이 있다. 쇼울더(14)로부터제2 단부(10)까지의 부분은, 몸체(2)가 마운팅 브라켓(미도시) 등으로 지지되게 하는 구조체를 제공한다. 통상적으로, 마운팅 브라켓은 단단한 양극화된(anodised) 금속성 재료, 전형적으로 알루미늄으로 이루어질 것이다. 돌출부(12a, 12b 및 12c)는 전류 흐름을 상기 마운팅 브라켓으로 방전한다.

돌출부들(12a, 12b 및 12c)는 돌출부들로부터 제 1 단부(8)까지의 거리보다 실질적으로 큰 거리로 브라켓 마운팅 구조체로부터 분리된다. 이 경우, 거리는 가장 원거리의 돌출부까지 각각의 경우 측정된다.

도 2는 치수에 있어서 변화가 있다는 것을 제외하고는 도 1의 그것과 실질적으로 유사한 전극 마운팅 몸체이다.

이제 도 3을 참조하면, 돌출부(12a, 12b 및 12c)를 포함하는 전극(2) 단면의 확대된 그림이 보인다. 다른 돌출부(12b 및 12c)는 실질적으로 유사하기 때문에, 돌출부(12a)만이 상세하게 기술될 것이다.

제1 단부(8)에서부터 고찰하면, 돌출부(12a)는 내부적으로 절단된 중공형의 체적(24)을 가지며 제1 단부(8)를 향해 테이퍼진 반전된 원뿔체(22)를 구비하며, 이에 의하여 전극(6)의 돌출된 부분으로부터 어스까지의 경로가 실질적으로 증가되며 현저하게 더 굴곡되게 만들어진다.

원뿔체(22)는 돌출된 플랜지를 형성하며, 전극이 돌출된 몸체(2)의 제 1 단부(8)를 향해 외측으로 연장된다.

원뿔체(22)는 돌출부 쇼울더(26)를 형성한다.

본 예에서, 전극(6)을 위한 홀(4)의 직경은 (몸체(2)가 일정하게 원통형인지역에서 측정된) 몸체(2) 직경의 약 3분의 1이다. 본 예에서, 돌출부 쇼울더(26)는 (몸체(2)가 일정하게 원통형인 지역에서 측정된) 몸체(2) 직경의 2분의 1정도 돌출된다.

(일 지역에 대하여 일정한 직경을 가진) 원뿔체(22)의 몸체(2)에 대한 원뿔체(22)의 외측 각(A)은 130도이다. (면들의 사이에서) 원뿔체의 내측 각은 16도이다.

돌출부는 전류 누설을 감소시키면서 전극으로부터 굴곡진 전도성 경로를 제공한다.

여기에 기술된 마운팅 배치는 오염 물질, 바람직하게는 분진 제거 시스템을 위한 것이 바람직한데, 그 안에서 가스 스트림이 대전된 전극을 지나며, 이는 가스 스트림내의 분진을 대전시키며, 상기 분진은 정전기적 분리에 의하여 가스 스트림으로부터 분리된다. 전술된 마운팅 배치를 포함하는 그러한 시스템은 다음의 도 4를 참조하여 간략하게 기술된다.

도 4는 다른 마운팅 배치 구현예를 보여주는바, 유사한 참조 번호가 유사한 부품에 대하여 사용된다. 환형의 원뿔체(22)는 도 1 내지 도 3의 구현예보다 더 경사지고 더욱 테이퍼진다. 원뿔체(22)의 직경은 변할 수 있다. 직경이 변하는 경우, 제1 단부로부터 제 2 단부까지 직경의 증가가 있을 것이다.

돌출부의 갯수, 간격 및 형상이 변할 수 있다는 것을 이해할 것이다.

도 5를 참조하면, 가스 스트림으로부터 오염 물질, 특히 분진을 분기시키기 위한 장치(102)가 도시된다. 장치(102)는 차량 배출구(미도시)안, 통상적으로 그소음기(silencer)안에 장착되며, 이를 통해 유입되는 배출 가스가 104부분으로 들어와 106 부분에서 나간다.

상기 장치(102)는 통상적으로 박판 강철(sheet steel)로 만들어진 외부 몸체(108)를 구비한다. 상기 몸체(108)내에서는, 내부 벽(112)에 의해 한정된 제 1 확장 챔버가 한정되며, 상기 내부 벽은 천공된 연신의 관상 필드 튜브(114)로 연결되며, 상기 필드 튜브는 내부 벽(112 및 116)에 의해 외부 몸체(108)에 장착된 챔버를 한정한다.

상기 튜브(14)는 제 1 확장 챔버내의 튜브 입구(118) 그리고, 내부 벽(116)에 의하여 일부 한정된 제 2 확장 챔버(122)내의 튜브 출구(120)를 구비한다. 튜브(114)는 원형의 원통 모양이며 그 단면의 직경은 튜브 입구(118)에서 튜브 출구(120)쪽으로 일정한 비율로 감소한다. 튜브(114)는 복수개의 균일하게 크기가 정해져 이격된 원형의 홀에 의하여 튜브 입구(118)로부터 튜브(114)와 내부 벽(116)의 교차점까지 천공된다. 내부 벽(116)으로부터 튜브 출구(120)까지 튜브(114)는 천공되어 있지 않다. 그 천공된 지역에서 튜브(114)의 약 80%정도의 대부분의 비율은 홀이다. 튜브(114)는 실질적으로 가스 유동(gas flow)에 대하여 기공성이 있다.

제 3 확장 챔버는 천공된 튜브(114) 둘레에 위치된다. 제 3 확장 챔버(124)는 내부 벽(112 및 116)에 의해 한정된다. 또 다른 가스 유동 경로(gas flow path)가 제3 확장 챔버(124)의 내부 벽(116)안의 출구(128)에 결합된 필터(126)를 통하여 제3 확장 챔버로부터 제2 확장 챔버(122)까지 제공된다. 필터(126)는 부품 번호 SK-1739하에 3M으로부터 취득할 수 있는 것과 같은 전기적인 재생 필터이다. 비록,단순화를 위하여 도시되지는 않았지만, 필터는 전기적 재생을 위하여 배선되어 있다. 배출 가스는 제 2 확장 챔버(122)로, 장치 출구(106)로 지날 수 있다.

전극(6)이 세라믹 전극 지지체 몸체(2)안에 도시되어 있으며, 그 천공된 부분 길이의 일부분에 대하여 그 축을 따라 튜브(114)내로 돌출된다. 전극(6)은 제 3 확장 챔버(124)내의 튜브(114)의 일 부분 안으로 돌출된다. 전극(6)은 연결 수단(136)에 의하여 고압 전원(134)에 연결된다.

두 개의 가스 유동 경로가 가스 입구(106) 및 가스 출구(108) 사이에 제공된다는 것이 주목된다. 제 1(138) 및 제 2(140) 가스 유동 경로(138 및 140)는 각각의 선과 화살표에 의해 개별적으로 지시되어 있다. 제 1 유동 경로(138)는 다음의 경로(길:route)- 입구(104), 제 1 확장 챔버(110), 튜브(114), 제 2 확장 챔버(122)를 지나 출구(106) -를 따른다. 제 2 유동 경로(140)는 다음의 경로(길:route)- 입구(104), 제 1 확장 챔버(110), 튜브(114), 제 3 확장 챔버(124), 필터(126), 제 2 확장 챔버(122)를 지나 출구(106) -를 따른다.

도 6은 명확성을 위해 외부 몸체(8)가 일부 절개된 상태의 장치(108)를 도시한다.

사용중, 전극(2)은 18 내지 40kV의 음극의 D.C 극성(negative dc polarity)으로 대전된다. 차량 배기 가스가 튜브(114)에 들어가는 때에, 분진의 실질적인 비율은 전극(2)을 지나면서 이온화되다. 대전된 분진은 접지된 천공 챔버 벽(floating earth perforated chamber wall)(114)으로 이끌린다. 튜브(114)로의 인력으로부터 얻어진 분진의 모멘트와 가속은 일반적으로, 그들이 튜브(114)의 천공된 벽을 관통하여 지나도록 야기한다. 분진은 제 1 가스 유동 스트림으로부터 분리된 제 2 가스 유동 스트림안으로 분기된다고 말할 수 있다. 필터(126)는 가스 유동 스트림의 하나안에만, 여기서는 제 2 가스 유동 스트림안에 있다. 배기 가스의 일정량은 제1 유동 경로(138)를 따라 튜브 출구(120)를 빠져 나간다. 그러나, 배기 가스의 일정 비율은 제 2 유동 경로(140)을 따르며, 분기된 분진을 필터(126)로 운송하는 것을 돕는다. 배기 가스는, 그 후 배기 가스에 의해 운송된 분진을 집진하는 필터(126)를 통하여 지난다.

도 7 내지 도 9를 참조하면, 다음에 기술되는 것을 제외하고 도 5 및 도 6의 구현예와 유사한 본 발명의 다른 세 개의 구현예가 도시된다. 도 7 내지 도 9에서, 유사한 참조 번호는 도 5 및 도 6 구현예에 유사한 부품에 대하여 사용된다.

도 7 구현예에서, 튜브(114)는 하류로 테이퍼지는 것 대신에 실질적으로 일정한 직경을 가진다. 비록 그것이 공지된 제안들로부터 개량된 것이며 제조하기 쉽다고 믿어지지만, 도 7 구현예는 도 5 내지 도 6 구현예만큼 잘 작동하지 않을 수 있다.

도 8 구현예에서, 튜브(114)내의 천공은 네 개의 균일하게 이격된 종방향의 슬롯(slot)에 의하여 대치되고, 그 중 세 개(146a, 146b 및 146c)가 (적어도 부분적으로) 보인다. 슬롯(146)은 가스 유동에 대하여 기공성이 있으나, 그러나 작은 비율에 대하여만 튜브(114)를 통한 간극을 제공할 뿐이다. 따라서, 튜브(114)를 향하여 분기된 분진은 그를 통과할 가능성이 훨씬 적다. 결과적으로, 더 많은 오염 물질이 집중된 가스 유동이, 본 구현예에서 필터(126)가 위치된 제 1 유동 경로(138)를 따르게 된다.

또한 도 8에서, 장치(102)가 촉매 컨버터(catalytic converter:148)의 상류 및/또는 하류에서 작동할 수 있다는 것이 주목되더라도, 촉매 컨버터(148)가 제 2 유동 경로(140)안에 위치된다.

도 8은, 튜브(114)의 천공된 부분이 전극(130)의 마운팅 장치(150)로 연장되는 다른 변형을 역시 보여준다.

도 9의 구현예는, 그 적은 비율에 대하여 튜브(114)의 천공된 부분(152)이 제공된다는 점을 제외하고 도 8 구현예의 그것과 실질적으로 유사한 방식으로 작동된다.

따라서, 도 8 및 도 9 구현예의 모두는 튜브(114)의 적은 비율에 대하여만 가스 기공성 영역을 제공한다.

도 10 및 도 11을 참조하면, 오염 물질 제거 장치에 사용되기 위한 가스 유동 배치 장치(160)가 도시되어 있는데, 외측 벽은 명확성을 위하여 도시되지 않았다. 상기 장치(160)는, 전극 후드(hood:166)에 의해 부분적으로 둘러싸여진 전극 마운트(164)내에 이온화하는 전극(162)을 구비한다. 전극(162)은 외측으로 발산하는 단부(170)에서 끝나는 전극 튜브(168)안으로 연장된다. 전극 튜브(168)과 이격되어서는, 중심 개구(176)를 가지고 일반적으로 원뿔체 형상의 입구(174)를 가지는 제2 가스 유동 경로 튜브(172)가 있다. 개구(176)는 실질적으로 전극 튜브(168) 벽의 직경 내에 있다. 튜브(172)는 출구(178)내에서 끝난다. 튜브(172) 둘레에는, 그를 통과하는 가스 스트림으로부터 적어도 부분적으로 오염 물질을 제거하기 위한촉매 필터(180)가 있다.

도 10 및 도 11의 구현예의 작동은 전술된 구현예의 그것과 유사하다. 오염 물질을 나르는 배출 가스는 전극(162)의 상류에서 장치에 들어가서, 전극(162)상에 오염 물질이 쌓이는 것을 방지하는 것을 도와주는 기능을 하는 후드(166) 위를 지나간다. 전극(162)은 가스 유동의 오염 물질을 이온화시키기 위하여 대전되며, 오염 물질은 따라서 하류를 유동하는 동안 전극 튜브(168)의 벽으로 끌리게되어, 유동스트림의 중심 쪽에서는 상대적으로 정화된 가스를 남긴다.

제 2 가스 유동 경로 튜브(172)의 원뿔체의 개구는 오염 물질을 (182로 표시된 화살표에 의하여 개략적으로 지시된) 제1 가스 유동 경로로 분기시키는데 도움을 주는 기능을 하며, 제2 가스 유동 경로는 184로 표시된 화살표에 의하여 지시된다. 제 1 가스 유동 경로(182)는 약간의 오염 물질을 제거하는 필터(180)를 통과하여, 필터(100)의 하류에서 튜브(172)안의 슬롯(186)을 통하여 제2 가스 유동 경로(184)와 다시 합류한다. 슬롯(186)은 튜브(172)의 표면적에 비하여 상대적으로 작다. 슬롯(186) 양쪽의 압력차는, 필터(180)의 하류 제 1 가스 유동 경로로부터 나온 이제 상대적으로 정화된 가스가 제 2 가스 유동 경로와 다시 합류하는 것을 촉진한다고 믿어지고 있다. 제2 가스 유동 경로(104)는 상대적으로 정화된 가스를 운송하면서 제 2 가스 유동 경로 튜브(172)를 통하여 지난다. 다시 합류된 가스 스트림은 출구(178)에서 장치 밖으로 통과한다.

도 12를 참조하면, 또 다른 전극 마운팅 배치가 도시된다. 전극 마운트(164) 및 전극 후드(166) 모두는 세라믹 재료로 형성된다.

전극 마운트(164)는 제 1 부분(165)과 그로부터 연장된 제 2 부분(167)을 구비하며, 그 말단 단부(190)를 향하여 감소되는 직경의 환형의(annular) 돌출부(188)를 구비한다. 상대적으로 얇은 연신된 원통형 부분(192)이 마운트(164)의 말단 단부에 제공되며, 이는 전극이 작동할 때에 마운트(164)의 외부에서 그 지역내의 전기장을 증가시켜, 카본계 퇴적물의 번백(burn-back)을 촉진한다. 이는 스파킹(sparking)으로부터 연유한다고 알려져 있다.

후드(hood:166)는 (하나의 단부(194)를 제외하고) 전극 마운트(164)를 실질적으로 둘러싸며, 마운트(164)상의 퇴적물을 감소시키는데 도움을 준다. 후드(166)는 일반적으로 원통형이며, 일 단부(194)에서 개방되며, 다른 단부는 전극 마운트(164)를 위한 대응하는 자리(196)를 가진다. 사용 중에, 제 2 부분(167)은 후드(166)의 개방된 단부(194)로부터 돌출되며, 전극은 제 2 부분(167)의 단부로부터 돌출된다.

제 2 세라믹 마운팅 부분(167)은 제 1 세라믹 마운팅 부분(165)에 비하여 축소된 외측 직경을 가진다. 전극 마운트(164)는 단일의 세라믹으로부터 형성될 수 있다. 따라서, 전극 마운트(164)는 제 1 직경 부분과, (전극이 돌출되는) 그 말단 단부를 향한 보다 작은 직경 부분을 가진다. 제 2 직경 제 2 부분(167)은 후드(84)를 넘어 실질적인 거리만큼, 통상적으로 적어도 30mm, 연장된다.

일반적으로 원통형 형상의 돌출부(83) 각각의 최대 외측 직경이 하류 방향으로 감소된다고 하더라도, 최소한의 내측 직경은 돌출부들 사이에서 실질적으로 동일하거나 10% 내외이다. 이는, 필요한 경우, 부가적인 연소점(burn-off point)을제공하는 것으로 알려져 있다.

후드(166)는 오염 물질을 포함하는 가스의 유입으로부터 전극(164)의 실질적 부분을 보호하여, 합선(shorting)의 위험을 최소화시킨다. 그러나, 적어도 30mm 길이의 전극 마운트(164)가 후드를 넘어 돌출될 필요가 있다고 믿어진다. 가스 입구가 전극 둘레가 아니고 오히려 그것과 나란하게 있으며, 후드(84)에 의하여 그것으로부터 보호될 수 있다는 것이 주목된다.

전극 마운트와 후드는 표면의 피팅(pitting) 및 그에 따른 분진의 축적을 감소시키기 위하여 유약이 도포될 수 있다. 유약은 전극 마운트의 표면을 부드럽게 하는 수단으로서 작용한다.

도 13 내지 도 15를 참조하면, 본 발명에 따른 오염 물질을 제거하기 위한 가스 유동 배치 및 장치의 또 다른 구현예가 도시되어 있다. 도 13 내지 도 15 구현예에서, 배출 가스가 입구(200)를 통하여 천공된 배플 튜브(baffle tube:202)안으로 들어가며, 모든 유입되는 배출 가스가 상기 배플 튜브로부터 제 1 챔버(204)내로 유동한다. 챔버(204)안에는, 그 실질적인 부분 상부에 후드(208)가 위치되는 전극 마운트(206)는 전극(210)을 장착하는데, 상기 전극은 필드 튜브(214)에 의하여 한정되는 제 2 챔버(212)안으로 돌출되다. 필드 튜브(214)는 그 단부에 중간 챔버(216)로의 개구를 구비하며, 상기 중간 챔버로부터의 유일한 출구는 필터(218)안으로 향한다. 또 다른 유동 경로가 필드 튜브(214)의 벽안의 개구(220)를 통하여 제공된다. 개구(220)에는 적어도 그 상류 부분에서, 그러나 이 구현예에서는 그 전 길이를 따라, 필드 튜브(214)안 내측으로 돌출되는 직립한 립(lip:222)이 제공된다. 더욱이, 개구(220)는 그 상류 단부에 일반적으로 V자 형상의 직립된 안내 모서리(224)를 구비한다. 유체 유동 경로는 필드 튜브(214)로부터 개구(220)를 통하여 연결되며, 천공된 출구 튜브(226)로 연결된다. 출구 튜브(126)안의 천공(228)은 필터(218)를 통과한 가스가 출구(230)로 연결되는 분기된 가스 유동에 다시 들어갈 수 있도록 허용한다.

필드 튜브의 안내 모서리(232)는 그 자체에서 뒤로 굴곡진 회귀된 모서리를 구비하며, 필드 튜브(214)의 안내 모서리(232)의 외측 모서리는 전극에 대하여 상대적으로 구성되고, 그것과 전극 및/또는 전극 마운트 사이에 다른 어떤 것이 위치된다는 것이 주목된다. 이 경우, 필드 튜브의 다른 부분이 외측 모서리와 전극 마운트(206) 및 전극(210) 사이에 위치된다.

직립된 립(222) 및 안내 모서리(224)는, 그로부터 정화된 가스가 유동되도록 의도되는 개구(220)로부터 분진을 분기시키는데 도움을 준다. 직립한 립(222) 및 안내 모서리(224)는 함께 개구(220)로부터 분진을 분기시키는 수단으로 작용한다.

전극 마운트, 후드 및 전극은 도 15에서 도시되지 않았다.

도 16 및 17을 참조하면, 본 발명에 따라 오염 물질을 제거하기 위한 또 다른 가스 유동 배치 및 장치가 도시되어 있다.

도 16 및 도 17에서, 장치는, 제 1 출구 포트(first exit port:254) 및 제 2 출구 포트(second exit port:256)를 가지는 배플 챔버(252)안으로 배출 가스가 유동하는 입구(250)를 구비한다. 제 1 출구 포트(254)는 제 1 챔버(258)로 빠져나간다. 제 2 출구 포트(256)는 다시 제 1 챔버(258)안으로의 가스의 유동을 허용하는홀(262)을 가지는 중간 챔버(260)안으로 빠져나간다. 그 실질적인 부분이 후드(266)에 의하여 덮여진(도 16 참조) 전극 마운트(264)가(도 16 참조),전극(268:도 16 참조)을 필드 튜브(270)내에 장착하기 위하여 제 1 챔버(258)안에 제공된다. 그 하류 단부에서, 필드 튜브(270)는 전체적으로 원뿔 형태의 부분(274)에 인접하여 외측으로 발산하는 부분(272)안에서 끝나며, 상기 원뿔 형태의 부분내에는 출구 튜브(278)로 연장되는 튜브(276)가 있다.

출구 튜브(278)안에는 튜브(276)의 출구(282)에 선행하여 개구(280)가 제공된다.

사용 중에, 배출 가스는 입구(250)를 통하고 제 1 챔버(258)를 통하여 필드 튜브(270)안으로 유입된다. 필드 튜브내의 분진은 전극(268)에 의하여 대전되며, 필드 튜브(270)의 벽쪽으로 향한다. 따라서, 분진은 필드 튜브(270)을 통하여 가스의 중심 유동으로부터 분기된다. 가스의 중심 유동은 튜브(276)에서 출구 튜브(278)안으로 들어간다. 높은 하중의 분진을 포함하는 다른 가스는 필드 튜브(270)의 주변을 향하여 빠져나가며, 따라서 튜브(276)에 들어가지 않는 경향이 있다. 전체적으로 원뿔 형태의 부분(274)은 분진에 대하여 분기장치로서 작용하게 되며, 그들이 튜브(276)에 들어가지 못하게 촉진한다. 튜브(276)를 통하지 아니하고 필드 튜브(270)를 빠져나가는 분진을 실은 가스는 필터(286)로 연결되는 제 2 중간 챔버(284)로 들어간다. 필터(286)를 빠져나가는 가스는 개구(280)를 통하여 출구 튜브(278)를 통하여 장치를 빠져나갈 수 있을 뿐이다. 그러나, 필터(286)를 빠져나가는 가스는 튜브(276)를 빠져나가는 높은 속도의 가스에 비하여 낮은 속도를 가진다.압력차(pressure differential)는 필터(286) 부근의 제 3 챔버(288)내의 가스가 개구(280)를 통하여 출구 튜브(278) 그리고 출구(290)로 인출되도록 야기한다.

필드 튜브(270)는 도 13 내지 도 15와 관련하여 전술된 바와 같이 굴곡진 안내 모서리(292)를 구비할 수 있다.

도 18 내지 도 20은 본 발명의 또 다른 구현예를 도시한다. 도 18 내지 도 20에서, 명확성을 위하여 전극 마운트와 전극은 도시되지 않았다.

도 18 내지 도 20을 참조하면, 천공된 확장 챔버(302)안으로 향하는 가스 입구가 도시되어 있으며, 모든 입력 가스는 상기 확장 챔버로부터 제 1 챔버(304)안으로, 그곳으로부터 필터(308)로 연결된 필드 튜브(306)안으로 유입된다. 또는, 필드 튜브(306)안의 개구(310)를 통하여 가스는 출구 튜브(312)로 유동할 수 있으며, 상기 출구 튜브안에는 동심적으로 장착된 유동 튜브(314)가 있으며, 상기 출구 튜브의 외측 벽에는 튜브(314)의 출구(318)의 (가스 유동에 관하여) 뒤에 장착된 개구(316)가 있다. 출구 튜브(312)안에는, 촉매 컨버터(catalytic converter)로서 작용하는 촉매체(catalytic body:320)가 선택적으로 장착될 수 있다. 사용 중에, 가스는 입구(300)를 통하여 들어가며, 확장 튜브(302)를 통하여 제 1 챔버(304)안으로 그리고 그 후 가스 유동안의 분진이 대전되는 필드 튜브(306)안으로 통과한다. 대전된 분진은 필드 튜브(306)의 측벽쪽으로 향하며, 직립된 립이 그로부터 분진을 분기시키기 위하여 310 부재 주위에 제공될 수 있다. 필드 튜브(306)로부터 필터(308)안으로 진행하는 분진은 필터링되며, 가스 유동은 홀(316)을 통하여 출구(312)안으로 출구(322)을 향해 계속된다.

비록 제 1 및 제 2 가스 유동 스트림이 동일한 튜브 또는 장치의 영역안에 분리되어 도시되어 있지만, 이는 오직 예시적인 목적으로서이고, 이러한 영역안에서 가스 유동이 혼합된다는 것을 이해할 것이다.

SINTOX FF 재료가 30 내지 40 kV/mm 사이의 절연 강도(dielectric strength)를 가진다고 알려져 있다. SINTOX는 영국, DY12 8QR, Worcestershire, Stourport-on-Seven, Bewdley Road의 Morgan Advanced Ceramic Limited사에서 취득 가능하다.

어떠한 구현예에서도, 저항성의 유기체 차단 코팅(resistive organic barrier coating)이, 전극 시작점의 하류에서 튜브(예컨대 도 6의 114)의 내측 표면상에 제공될 수 있다. 차단 코팅은 실질적으로 튜브의 내측 표면의 전부에 걸쳐지는 것이 바람직하다. 코팅은, 영국, WA5 5LR, Warrington, Bewsey Industrial Estate, 127 Hoyle Street의 Camcoat Performance Coatings사에서 취득 가능하다. 튜브의 적어도 일부분에 코팅을 제공함에 의하여 튜브를 따라 응집된 분진의 방전률(discharge rate)을 감소시킴으로써, 분진은 튜브의 부근에 더욱 머무르게 된다는 것이 알려져 있다.

전술된 바와 같이 가스 유동 경로안에, 직렬 또는 병렬로, 복수개의 장치가 있을 수 있다는 것이 주목된다.

비록 바람직한 구현예가 배출 가스 유동 스트림으로부터의 분진의 분기에 관하여 기술되었지만, 상기 장치는 다른 가스 유동 스트림에서의 분진을 분기시키는데 사용될 수 있다. 그러나, 본 발명은 내연 기관 배출 가스 유동에 사용될 때에 특히 유익한 것으로 현재 알려져 있다.

따라서, 본 발명의 구현예는 가스 스트림으로부터 분진을 분기시킬 수 있으며, 그 효율은 기공성의 필드 튜브를 제공함에 의하여 향상되며, 여기에서 기술된 필터와 같은 분진 제거 수단에 의하여 가스 스트림으로부터 분진을 제거할 수 있다.

상기 장치(102)는 배출 촉매 컨버터(미도시)의 상류 또는 하류에 위치될 수 있다.

표준적인 D.C 전압 대신에, 고주파 중첩 A.C 가 사용될 수 있다.

독자의 관심은 본 출원과의 관계에서 본 명세서와 동시에 또는 이전에 출원되고, 본 명세서와 공고된 모든 서류 및 문서로 향해지며, 그러한 모든 서류 및 문서들의 내용은 여기에서 참조로서 포함된다.

(모든 청구범위, 요약서 및 도면을 포함하여) 본 명세서에서 공개된 모든 특징, 및/또는 어떠한 방법 또는 공정의 모든 단계는, 그러한 특징 및/또는 단계의 적어도 일부분이 상호 배타적인 조합인 경우를 제외하고, 어떠한 조합으로 조합될 수 있다.

(모든 청구범위, 요약서 및 도면을 포함하여) 본 명세서에서 개시된 각각의 특징은, 명시적으로 다르게 명시되지 않았다면, 동일하거나 균등한 또는 유사한 목적에 부응하는 다른 특징들에 의하여 대체될 수 있다. 따라서, 다르게 명시적으로 기술되지 않았다면, 개시된 특징의 각각은 균등하거나 유사한 특징의 일반군 씨리즈의 하나의 예이다.

본 발명은 전술된 구현예의 상세한 설명에 제한되는 것은 아니다. 본 발명은(어떠한 청구범위, 요약서 및 도면을 포함하여) 본 명세서에 개시된 특징의 어떠한 신규한 것, 또는 어떠한 신규한 조합, 또는 개시된 어떠한 방법이나 공정 단계의 어떠한 신규한 것, 또는 어떠한 신규한 조합으로 연장된다.

Claims

전극을 위한 마운팅 장치로서, 상기 마운팅 장치는 전극을 장착하기 위한 수단을 가진 몸체를 구비하며, 사용 중에 몸체는 부분적으로 전극의 둘레에 있으며 전극이 상기 몸체로부터 돌출되며, 상기 장치는 몸체상에 적어도 하나의 외측 돌출부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 1항에 있어서,

상기 몸체는 전체적으로 원통형이며, 돌출부는 상대적으로 전체적으로 방사형인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 1 항 또는 제 2항에 있어서,

몸체는 상대적으로 더 얇은 원통형의 연신된 부분을 가지는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 3항에 있어서,

상대적으로 덜 얇은 원통형의 연신된 부분은 몸체의 말단 단부를 향하는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
이전 항의 어느 한 항에 있어서,

적어도 하나의 돌출부는 몸체 둘레에서 환형(예컨대, 360도)인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
이전 항의 어느 한 항에 있어서,

몸체 및 적어도 하나의 돌출부는 일체의 구조체인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
이전 항의 어느 한 항에 있어서,

몸체는 높은 전기 저항 재료를 적어도 부분적으로 구비하는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 7항에 있어서,

전극과 접촉하는 몸체의 부분은 높은 전기 저항 재료를 구비하는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
이전의 항의 어느 한 항에 있어서,

몸체는 실질적으로 원형의 원통 형상인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 1항 내지 제 8항의 어느 한 항에 있어서,

비보호 영역은 실질적으로 원통형인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
이전의 어느 한 항에 있어서,

적어도 하나의 돌출부는 외부적으로 전체적으로 원뿔체인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 11 항에 있어서,

적어도 하나의 돌출부는 적어도 부분적으로 중공형인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 12 항에 있어서,

적어도 하나의 돌출부는 끝이 무디게 된(rebated) 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 11항 내지 제 13항의 어느 한 항에 있어서,

돌출부는 테이퍼진 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
이전의 항의 어느 한 항에 있어서,

모든 몸체는 실질적으로 동일한 재료를 구비하는 것을 특징으로 하는 전극을위한 마운팅 장치.
이전의 항의 어느 한 항에 있어서,

몸체를 따라 이격된 복수개의 돌출부가 있는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 16항에 있어서,

돌출부들은 실질적으로 유사한 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 16항 또는 제 17항에 있어서,

돌출부는 몸체를 따라 동일하게 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
이전의 항의 어느 한 항에 있어서,

몸체는 그 안에 전극을 장착하기 위하여 그를 관통하는 홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 19항에 있어서,

홀은 종방향인 것을 특징으로 하는 전극을 위한 마운팅 장치.
제 1항 내지 제 20항의 어느 한 항에 따른 마운팅 장치를 구비하며,

그 둘레에 몸체가 위치되는 전극을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 전극 마운팅 장치.
제 21항에 있어서,

전극은 일 단부로부터만 장착되는 것을 특징으로 하는 전극 마운팅 장치.
제 21항 또는 제 22항에 있어서,

전극이 코로나 방전을 위하여 몸체의 단부로부터 돌출되는 것을 특징으로 하는 전극 마운팅 장치.
가스 유동 스트림으로부터 적어도 하나의 오염 물질을 적어도 부분적으로 제거하기 위한 오염 물질 제거 시스템으로서, 상기 시스템은 이전의 항의 어느 한 항에 따른 전극 마운팅 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 24항에 있어서,

상기 시스템은 오염 물질을 오염 물질 제거기로 분기시키기 위한 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 24항 또는 제 25항에 있어서,

상기 시스템은 가스 스트림내의 분진을 대전시키기 위한 수단 및 그를 통하여 가스 스트림이 적어도 부분적으로 유동하는 튜브를 구비하며, 상기 튜브는 적어도 부분적으로 가스 스트림에 대하여 기공성 있으며 상기 장치는 적어도 하나의 분진을 집진하기 위한 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
27항에 있어서,

튜브가 적어도 부분적으로 대전 수단 둘레에 있는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 27항에 있어서,

대전 수단은 전극을 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 24 항 내지 제 28항의 어느 한 항에 있어서,

튜브는 천공된 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 29항에 있어서,

튜브는 그를 관통하는 복수개의 홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 30항에 있어서,

홀들은 균일하게 이격되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 30항 또는 제 31항에 있어서,

홀들은 균일하게 크기가 정해지는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 29항 내지 제 31항의 어느 한 항에 있어서,

튜브의 천공 영역은 실질적으로 환형인 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 29 내지 제 33항의 어느 한 항에 있어서,

튜브의 천공된 영역은 그 실질적인 길이에 대하여 연장되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 24항 내지 제 29항의 어느 한 항에 있어서,

튜브는 그를 관통하는 적어도 하나의 슬롯을 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 35항에 있어서,

복수개의 슬롯이 제공되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 35항 또는 제 36항에 있어서,

슬롯이 튜브 둘레에서 실질적으로 균일하게 분배되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 35 항 내지 제 37항의 어느 한 항에 있어서,

적어도 하나의 슬롯이 튜브를 따라 종방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 26항에 있어서,

튜브는 단면이 원형인 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 26항에 있어서,

튜브는 입구 및 출구를 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 40항에 있어서,

튜브의 단면적은 입구로부터 출구까지 그 길이를 따라 축소되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 24항 내지 제 41항의 어느 한 항에 있어서,

전극이 그 일 단부에만 장착되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 24항 내지 제 42항의 어느 한 항에 있어서,

장치 가스 입구로부터 장치 가스 출구로의 제 1 가스 유동 경로 및 장치 가스 입구로부터 장치 가스 출구로의 제 2 가스 유동 경로가 있는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 43항에 있어서,

제 1 및 제 2 가스 유동 경로는 그 일부분에 대하여 공통인 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 43항 또는 제 44항에 있어서,

필터가 제 2 가스 유동 경로안에 위치되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 43항 내지 제45항의 어느 한 항에 있어서,

튜브는 제 1 및 제 2 가스 유동 경로안에 위치되는 것을 특징으로 하는 오염물질 제거 시스템.
제 43항 내지 제 46항의 어느 항에 있어서,

상기 배치는 제2 유동 경로를 위한 가스 유동 튜브를 구비하며, 상기 가스 유동 튜브는 제 1 가스 유동 경로가 제 2 가스 유동 경로와 합류하도록 하는 슬롯을 구비하는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 43항 내지 제 47항의 어느 한 항에 있어서,

제 1 가스 유동 경로는 오염 물질을 오염 물질 제거 수단으로 분기시키기 위한 분리기에서 제 2 가스 유동 경로로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 48항에 있어서,

상기 분리기는 그를 관통하는 가스 유동 경로의 하나를 위한 개구와 함께 전체적으로 원뿔체의 형상인 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.
제 24 항 내지 제49항의 어느 한 항에 있어서,

튜브는 적어도 부분적으로 저항 층으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 오염 물질 제거 시스템.